JPH01248146A - エッチング用保護膜及びエッチング方法 - Google Patents
エッチング用保護膜及びエッチング方法Info
- Publication number
- JPH01248146A JPH01248146A JP63074404A JP7440488A JPH01248146A JP H01248146 A JPH01248146 A JP H01248146A JP 63074404 A JP63074404 A JP 63074404A JP 7440488 A JP7440488 A JP 7440488A JP H01248146 A JPH01248146 A JP H01248146A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist film
- etching
- protective
- film part
- protection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、例えばガラス、シリコン（Ｓｔ）等のセラミ
ックス部材に対して剥離自在な粘着性を有するエツチン
グ用保護膜及びこのような保護膜を用いるエツチング方
法に関する。
ックス部材に対して剥離自在な粘着性を有するエツチン
グ用保護膜及びこのような保護膜を用いるエツチング方
法に関する。
（従来の技術）
従来、ガラス板に所望のパターンをぶつ酸（ＨＦ）によ
りエツチングにより形成する場合には、形成しようとす
るパターン穴が設けられたマスク材が用いられている。
りエツチングにより形成する場合には、形成しようとす
るパターン穴が設けられたマスク材が用いられている。
このマスク材としては、パラフィン、樹脂、アスファル
ト、アラビアゴム等、あるいは、銀めっき膜、金蒸着膜
等が用いられている。そうして、前者のパラフィンなど
のマスク材を使う方法は、このマスク材をガラス板表面
上に塗着させた後、スチールカッタ等で上記パターン穴
を形成し、このパターン穴部のみのガラス部位をエツチ
ングするものである。他方、後者の銀めっき膜などを用
いる方法は、まず銀めっき膜をガラス板上に接着させた
のち、その出番こ感光膜を塗布し、その上に写真原板を
密着焼付ける。ついで、水洗により写真原板の未感光部
を洗い去り、露出した銀めっき膜をエツチングして保護
マスクを完成し、この保護膜を利用してガラス板に所望
のパターンをエツチングする。
ト、アラビアゴム等、あるいは、銀めっき膜、金蒸着膜
等が用いられている。そうして、前者のパラフィンなど
のマスク材を使う方法は、このマスク材をガラス板表面
上に塗着させた後、スチールカッタ等で上記パターン穴
を形成し、このパターン穴部のみのガラス部位をエツチ
ングするものである。他方、後者の銀めっき膜などを用
いる方法は、まず銀めっき膜をガラス板上に接着させた
のち、その出番こ感光膜を塗布し、その上に写真原板を
密着焼付ける。ついで、水洗により写真原板の未感光部
を洗い去り、露出した銀めっき膜をエツチングして保護
マスクを完成し、この保護膜を利用してガラス板に所望
のパターンをエツチングする。
しかしながら、前者の方法は、簡単なパターン形成には
適しているが、複雑なパターン形成や線幅が細いものに
対しては適用できない難点をもっている。また、後者の
方法は、複雑なパターン膜形成装置、レジスト塗布装置
、露光装置などの複雑で高価な装置が必要であるととも
に、工程数が増加し、生産性が著しく低くなる不具合を
もっている。また、後者の方法は、深く長時間エツチン
グすると銀がＨＦに浸されパターン形成ができない。
適しているが、複雑なパターン形成や線幅が細いものに
対しては適用できない難点をもっている。また、後者の
方法は、複雑なパターン膜形成装置、レジスト塗布装置
、露光装置などの複雑で高価な装置が必要であるととも
に、工程数が増加し、生産性が著しく低くなる不具合を
もっている。また、後者の方法は、深く長時間エツチン
グすると銀がＨＦに浸されパターン形成ができない。
ところで、近時、サンドブラスト加工において、粒着性
及び感光性を有するグラスチック製のテープを被加工物
に貼着した後、露光・現象により所望のパターンの穴あ
けを行い、パターン部分のみのプラスト加工を行う手法
が開発されている。しかしながら、このようなテープは
、サンドブラスト中のマスク材として用いられているに
すぎない。
及び感光性を有するグラスチック製のテープを被加工物
に貼着した後、露光・現象により所望のパターンの穴あ
けを行い、パターン部分のみのプラスト加工を行う手法
が開発されている。しかしながら、このようなテープは
、サンドブラスト中のマスク材として用いられているに
すぎない。
（発明が解決しようとするＬＰ、題）
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、例えば
ガラス板などのセラミックス製の被加工物に複雑なパタ
ーンをエツチングにより高精度かつ高能率で形成するこ
とのできる剥離自在な粘着性を有するエツチング用保護
膜及びこの保護膜を用いるエツチング方法を提供するこ
とを目的とする。
ガラス板などのセラミックス製の被加工物に複雑なパタ
ーンをエツチングにより高精度かつ高能率で形成するこ
とのできる剥離自在な粘着性を有するエツチング用保護
膜及びこの保護膜を用いるエツチング方法を提供するこ
とを目的とする。
（課題を解決するための手段と作用）
感光性及び剥離自在な粘着性を有する薄膜状のレジスト
膜部と、このレジスト膜部の両面に着脱自在に接着され
た保護シートとからなる保護膜を用いて、所定のパター
ンを高能率かつ高精度でエツチングするようにしたもの
である。
膜部と、このレジスト膜部の両面に着脱自在に接着され
た保護シートとからなる保護膜を用いて、所定のパター
ンを高能率かつ高精度でエツチングするようにしたもの
である。
（実施例）
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
第１図及び第２図は、この実施例のエツチング用保護膜
（１）を示している。この保護膜（１）は、例えば５〜
１００厚さ μｍ、縦横３０ｗＸ３０ｍ＋の感光性と粘
着性を兼備し光透過性を有するレジスト膜部（２）と、
このレジスト膜部（２）の表裏両面にレジスト膜部（２
）を完全に覆うように着脱自在に接着された厚さが例え
ば５〜１００μ溝の透明な一対の保護シー） （３Ｌ
（４）とからなっているしかして、レジスト膜部（２）
は、ネガ型の場合、環化ゴム系樹脂とビスジアジド系化
合物との混合物からなっている。
（１）を示している。この保護膜（１）は、例えば５〜
１００厚さ μｍ、縦横３０ｗＸ３０ｍ＋の感光性と粘
着性を兼備し光透過性を有するレジスト膜部（２）と、
このレジスト膜部（２）の表裏両面にレジスト膜部（２
）を完全に覆うように着脱自在に接着された厚さが例え
ば５〜１００μ溝の透明な一対の保護シー） （３Ｌ
（４）とからなっているしかして、レジスト膜部（２）
は、ネガ型の場合、環化ゴム系樹脂とビスジアジド系化
合物との混合物からなっている。
また、ポジ型の場合、キノンジアジド系感光剤とアルカ
リ可溶のフェノール系樹脂と有機溶剤とからなっている
。前者は、光照射部分が架橋剤としてのビスジアジド系
化合物により網目構造になって硬化し、未照射部分との
間に現像液に対する溶解度の差を生ずる点を利用してパ
ターンを形成するようになっている。一方、後者は、混
合物そのものはアルカリｉこけ不溶であるが、光照射に
よりアルカリ可溶となる。４！た、ポジ型、ネガ型いず
れの場合も、粘着性を有し、例えばエツチング対象であ
るガラス板に容易に接着するようになっている。ｔた、
保護シー） ＋３） 、 （４）は、非粘着性の例えハ
ポリエチレンなどからなっていて、レジスト膜部（２）
を保護する役割を果している。
リ可溶のフェノール系樹脂と有機溶剤とからなっている
。前者は、光照射部分が架橋剤としてのビスジアジド系
化合物により網目構造になって硬化し、未照射部分との
間に現像液に対する溶解度の差を生ずる点を利用してパ
ターンを形成するようになっている。一方、後者は、混
合物そのものはアルカリｉこけ不溶であるが、光照射に
よりアルカリ可溶となる。４！た、ポジ型、ネガ型いず
れの場合も、粘着性を有し、例えばエツチング対象であ
るガラス板に容易に接着するようになっている。ｔた、
保護シー） ＋３） 、 （４）は、非粘着性の例えハ
ポリエチレンなどからなっていて、レジスト膜部（２）
を保護する役割を果している。
つぎに、上記構成のエツチング用保瞳膜（１）を用いた
本実施例のエツチング方法について述べる。
本実施例のエツチング方法について述べる。
まず、保護膜（１）から保護シート（４）を剥離し、エ
ツチング処理すべきガラス板（５）上にレジスト膜部（
２）を粘着する（第３図参照）、つぎに第４図に示すよ
うに、保護膜（１）の上にホトマスク（６）を密着して
重ね合わせ、紫外線（力をホトマスク（６）及び保護シ
ート（３）を介してレジスト膜部（２）に照射するし、
露光部（８）・・・を形成する。つぎに、保護シート（
３）を剥離しく第５図参照）、キシレン等の有機酸やア
ルカリ水溶液により現像処理を行う。このとき、レジス
ト膜部（２）が、ネガ型の場合は、非露光部（９Ｊ・・
・が除去され、反対に、ポジ皺の場合は、露光部（７）
・・・が除去される（第６図参照）。なお、第６図は、
レジスト膜部（２）がネガ型の場合を示している。つぎ
に、第７図に示すように、ガラス板（５）のレジスト膜
部（２）露出部をぶつ酸によりエツチングし、所期のエ
ツチング部ａ＠・・・を形成する。最後に、所定のレジ
スト除去液によりレジスト膜部（２）を除去する（第８
図参照）。
ツチング処理すべきガラス板（５）上にレジスト膜部（
２）を粘着する（第３図参照）、つぎに第４図に示すよ
うに、保護膜（１）の上にホトマスク（６）を密着して
重ね合わせ、紫外線（力をホトマスク（６）及び保護シ
ート（３）を介してレジスト膜部（２）に照射するし、
露光部（８）・・・を形成する。つぎに、保護シート（
３）を剥離しく第５図参照）、キシレン等の有機酸やア
ルカリ水溶液により現像処理を行う。このとき、レジス
ト膜部（２）が、ネガ型の場合は、非露光部（９Ｊ・・
・が除去され、反対に、ポジ皺の場合は、露光部（７）
・・・が除去される（第６図参照）。なお、第６図は、
レジスト膜部（２）がネガ型の場合を示している。つぎ
に、第７図に示すように、ガラス板（５）のレジスト膜
部（２）露出部をぶつ酸によりエツチングし、所期のエ
ツチング部ａ＠・・・を形成する。最後に、所定のレジ
スト除去液によりレジスト膜部（２）を除去する（第８
図参照）。
以上のように、この実施例のエツチング用保護膜は、レ
ジストｆｆ１部（２）を容易かつ簡便にガラス板（５）
上に粘着することができ、かつ露光処理も簡便となるの
で、取扱いが極めて単純化し、高能率かつ高精度のエツ
チング加工が可能となる。
ジストｆｆ１部（２）を容易かつ簡便にガラス板（５）
上に粘着することができ、かつ露光処理も簡便となるの
で、取扱いが極めて単純化し、高能率かつ高精度のエツ
チング加工が可能となる。
また、この実施例のエツチング方法は、レジスト膜部（
２）をガラス板（５）上に粘着するだけでよくレジスト
塗布工程が不要となり、かつ、被着したレジスト膜部（
２）の露光処理前後のベーク処理の必要がなくなるので
、工程の数が大幅に減少するので、生産性が顕著に向上
するとともに、生産コストの低減、歩留の向上を実現で
きる。
２）をガラス板（５）上に粘着するだけでよくレジスト
塗布工程が不要となり、かつ、被着したレジスト膜部（
２）の露光処理前後のベーク処理の必要がなくなるので
、工程の数が大幅に減少するので、生産性が顕著に向上
するとともに、生産コストの低減、歩留の向上を実現で
きる。
なお、上記保護膜＋１）のレジスト膜部（２）の材質と
しては、感光性と粘着性の両者を具有するものであるな
らば、上記実施例に限定されるものではない。さらに、
保護シート（３）、 （４）に、あらかじめ位置合せ用
のマークを印刷しておけば、ガラス板（５）上における
保護膜（１）の位置決めを正確かつ迅速に行うことがで
きる。
しては、感光性と粘着性の両者を具有するものであるな
らば、上記実施例に限定されるものではない。さらに、
保護シート（３）、 （４）に、あらかじめ位置合せ用
のマークを印刷しておけば、ガラス板（５）上における
保護膜（１）の位置決めを正確かつ迅速に行うことがで
きる。
さらに、エツチング対象としては、ガラスに限ることな
く例えばシリコン（Ｓｉ）ウェハ、アルミナ（Ａ４０ｍ
）基板など、エツチング可能なセラミックスであれば何
でもよい。
く例えばシリコン（Ｓｉ）ウェハ、アルミナ（Ａ４０ｍ
）基板など、エツチング可能なセラミックスであれば何
でもよい。
以上のように、本発明は、感光性及び剥離自在な粘着性
を有するレジスト膜部と、このレジスト膜部に対して着
脱自在に粘着された一対の保護シートとからなるエツチ
ング用保護膜を用いているので、エツチング加工を高能
率かつ高精度に行うことができ、生産コストの低減及び
歩留の向上に寄与するところ大である。
を有するレジスト膜部と、このレジスト膜部に対して着
脱自在に粘着された一対の保護シートとからなるエツチ
ング用保護膜を用いているので、エツチング加工を高能
率かつ高精度に行うことができ、生産コストの低減及び
歩留の向上に寄与するところ大である。
第１図は本発明の一実施例のエツチング用保護膜の平面
図、第２図は同じ＜ｕ−ｎ線矢視断面図、第３図乃至第
８図は本発明の一実施例のエツチング方法の説明図であ
る。 （１）・・・エツチング用保護膜、 （２）・・・レジスト膜部、 ＋３）、 （４）・・・保護シート、 （６）・・・ガラス板（被加工物）、 （８）・・・露光部、 α〔・・・エツチング部。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松 山 光 之 １エヅナノク用保１１膜 ど′− 第 １ 図 第３ｉｉ（１ と 第 ４ 図
図、第２図は同じ＜ｕ−ｎ線矢視断面図、第３図乃至第
８図は本発明の一実施例のエツチング方法の説明図であ
る。 （１）・・・エツチング用保護膜、 （２）・・・レジスト膜部、 ＋３）、 （４）・・・保護シート、 （６）・・・ガラス板（被加工物）、 （８）・・・露光部、 α〔・・・エツチング部。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松 山 光 之 １エヅナノク用保１１膜 ど′− 第 １ 図 第３ｉｉ（１ と 第 ４ 図
Claims (3)
- （１）セラミックスからなる被加工物のエッチング加工
に用いられるエッチング用保護膜において、感光性及び
上記被加工物に対して剥離自在な粘着性を有する薄膜状
のレジスト膜部を具備することを特徴とするエッチング
用保護膜。 - （２）レジスト膜部の両方の主面には透光性の保護シー
トが粘着されていることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のエッチング用保護膜。 - （３）剥離自在な粘着性及び感光性を有する薄膜状のレ
ジスト膜部と、このレジスト膜部の両方の主面に着脱自
在に粘着された一対の保護シートとからなる保護膜を用
いてセラミックスからなる被加工物に所定のパターンを
エッチングするエッチング方法において、上記一対の保
護シートが接着されているレジスト膜部からいずれか一
方の保護シートを剥離し上記被加工物に粘着する第１工
程と、上記他方の保護シートを介して上記レジスト膜部
に対して上記パターンを露光する第２工程と、上記第２
工程後に上記他方の保護シートを剥離し上記レジスト膜
部の現像処理を行い上記パターンに対応する部分の被加
工物表面を露出させる第３工程と、この第３工程後に上
記レジスト膜部を介して、上記被加工物を所定のパター
ンにエッチングする第４工程と、この第４工程後に上記
レジスト膜部を除去する第５工程とを具備することを特
徴とするエッチング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63074404A JPH01248146A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | エッチング用保護膜及びエッチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63074404A JPH01248146A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | エッチング用保護膜及びエッチング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01248146A true JPH01248146A (ja) | 1989-10-03 |
Family
ID=13546216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63074404A Pending JPH01248146A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | エッチング用保護膜及びエッチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01248146A (ja) |
-
1988
- 1988-03-30 JP JP63074404A patent/JPH01248146A/ja active Pending
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