JPH0124874B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0124874B2
JPH0124874B2 JP3983185A JP3983185A JPH0124874B2 JP H0124874 B2 JPH0124874 B2 JP H0124874B2 JP 3983185 A JP3983185 A JP 3983185A JP 3983185 A JP3983185 A JP 3983185A JP H0124874 B2 JPH0124874 B2 JP H0124874B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filler
layer
thin film
film layer
electroforming
Prior art date
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Expired
Application number
JP3983185A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61199093A (ja
Inventor
Keiji Aihara
Hirotoshi Uchida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Azbil Corp
Original Assignee
Azbil Corp
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Publication date
Application filed by Azbil Corp filed Critical Azbil Corp
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Publication of JPS61199093A publication Critical patent/JPS61199093A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 「対象技術分野」 この発明は電鋳型およびその製造方法に関す
る。
「従来装置およびその問題点」 従来、表面に凹部を有する母型から電鋳型を製
造するばあい、通常の電流密度で電着を行うと、
第2図に示すように、局部的、とくに凸部2に電
着層が厚く形成され、そのために凹部3における
電着層の成長が阻害される。したがつてその電鋳
工程における電流密度を通常の電流密度より低く
設定しているが、反面電着層の形成に多くの日数
を要する欠点がある。また電流密度を低くしても
なお凹凸部2,3の電着層が不均一となることは
避けられず、このため電鋳工程の後に機械加工を
施す必要があり、いきおい多くの日時を必要とす
る。
また電着層の不均一を補正する目的で、第3図
に示すように補助電極8を用いることもなされて
いるが、歯型などの複雑な凹凸形状を有する電鋳
型の製造においては母型を回転させて電着を行う
ため、補助電極の作成ならびに取付装置にかえつ
て多くの時間を費す欠点がある。
「目的」 この発明は歯型のように複雑な凹凸部を有する
電鋳型の製造において、電着層の形成が遅い凹部
にも高速で電着を施すことを目的とするものであ
る。
「実施例」 以下図によつてこの発明の一実施例について説
明する。
すなわち第1図において電鋳型の母型1はたと
えばギア等の歯型用のもので、その表面には複数
の凸部2および凹部3が形成されている。そして
その母型1の表面にはまず厚さが0.2〜1mmの電
着薄膜層4が形成され、その厚さは母型1の形状
あるいはその大きさで異なり、またその電着薄膜
層4を形成するばあい、母型1が電気メツキを施
すことが可能な形状であるならば、電気メツキの
方が能率的に有利であるが、電気メツキを施すこ
とが困難なばあい、あるいはそのメツキ工程に比
較的長い時間を要するものにあつては、無電解メ
ツキにより形成することができる。次に電着薄膜
層4の表面において凹部3内には充填剤5が充填
され、これによつて母型1の表面はほぼ均一に整
形される。ここで充填剤5の主剤はエポキシ樹脂
に金属粉末たとえばニツケル、銅、アルミニウム
等の粉末を重量比にして5〜50%混合することに
より組成される。なおエポキシ樹脂は母型1の材
質がたとえば金属により構成され、かつ高温加熱
が可能なばあいには熱硬化性のエポキシ樹脂が適
す。またエポキシ樹脂中に混入される金属粉末は
熱伝導性が高く、かつ導電性を有するため、活性
化を容易にするとともに、充填剤5の熱膨張をこ
の表面に施されるメツキ層に近づける効果を有す
る。次に凹部3に充填した充填剤5を硬化させる
が、この際充填剤に導電性を与えるために、その
表面を塩化パラジウム(Pdcl2)、塩化錫(Sncl2
等で表面を活性化し、その表面に厚さが約0.01〜
0.1mm程度のメツキ層6を形成する。なおこのメ
ツキ層は無電解メツキにより行うことが望まし
い。そしてこのメツキ層を形成した状態において
は母型1の表面には凹凸がなくなるため、次にス
ルフアミン酸ニツケル浴のような高電流の流せる
メツキ浴を使用して電着加工を行うことによりそ
の表面に電着層7を形成する。これによつて表面
の均一な電鋳母型が完成する。
「効果」 この発明は上述のように母型の凹部内にエポキ
シ樹脂に金属粉末を重量比にして5〜50%混合し
た充填剤を充填するとともに、この充填剤の表面
に電着層を施すようにしているので、導電性がよ
く、充填剤とこの表面に施されるメツキ層との熱
膨張をたがいに近づけることができ、したがつて
電鋳時間が著るしく短縮される。とくにこの発明
によるとその工程時間は従来の3分の1ないし2
分の1に短縮することができる。また従来のよう
に電鋳加工の後、別に機械加工を行う必要もない
ため、電鋳設備の回転性が良く、しかも電気代お
よびメツキ薬品の節約と相まつて電鋳加工能率が
大幅に向上する利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明における電鋳加工方法の一実
施例を示す正断面図、第2図および第3図は従来
の加工方法を示す正断面図である。 1……母型、2……凸部、3……凹部、4……
電着薄膜層、5……充填剤、6……メツキ層、7
……電着層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 凹凸部を有する母型の表面に電着薄膜層を形
    成し、この電着薄膜層の表面において、上記凹部
    内にエポキシ樹脂に金属粉末を重量比にして5〜
    50%混合した充填剤を充填し、かつこの充填剤の
    表面を活性化し、さらにこの充填剤の表面に電着
    層を施すことを特徴とする電鋳型の製造方法。 2 凹凸部を有する母型の表面に電着薄膜層を形
    成し、この電着薄膜層の表面において、上記凹部
    内にエポキシ樹脂に金属粉末を重量比にして5〜
    50%混合した充填剤を充填し、かつこの充填剤の
    表面に電着層を施すことを特徴とする電鋳型。
JP3983185A 1985-02-28 1985-02-28 電鋳型およびその製造方法 Granted JPS61199093A (ja)

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JPS61199093A JPS61199093A (ja) 1986-09-03
JPH0124874B2 true JPH0124874B2 (ja) 1989-05-15

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