JPH01250344A - 3―チオプロピオン酸誘導体の製造法 - Google Patents
3―チオプロピオン酸誘導体の製造法Info
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- JPH01250344A JPH01250344A JP64000819A JP81989A JPH01250344A JP H01250344 A JPH01250344 A JP H01250344A JP 64000819 A JP64000819 A JP 64000819A JP 81989 A JP81989 A JP 81989A JP H01250344 A JPH01250344 A JP H01250344A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
アンギオテンシン転換酵素(ペプチジルジペプチドヒド
ロラーゼ、以下ACEと称する)は高血圧症の生理学に
おいて中心的役割を果たす。この酵素は連鎖 ASp^roValTyrlleHisProPhel
lisLeuを有するデカベブチドアンギオテンシンエ
を、アンギオテンシンIの最後から2番目のペプチド結
合の加水分解に触媒作用を及ぼすことによってオクタペ
プチド、アンギオテンシン■に転換し、これによってカ
ルボキシル−末端11isLeuの除去を行なうことが
できる。
ロラーゼ、以下ACEと称する)は高血圧症の生理学に
おいて中心的役割を果たす。この酵素は連鎖 ASp^roValTyrlleHisProPhel
lisLeuを有するデカベブチドアンギオテンシンエ
を、アンギオテンシンIの最後から2番目のペプチド結
合の加水分解に触媒作用を及ぼすことによってオクタペ
プチド、アンギオテンシン■に転換し、これによってカ
ルボキシル−末端11isLeuの除去を行なうことが
できる。
種々の化学品に対する記号を下記の表で説明する:
AGE = アンギオテンシン転換酵素AIa
−L−アラニン Arg = L−アルギニン ASp = L−アスパラギン酸 13oc −t−ブチルオキシカルボニルBDOC−
2−(4−ビフェニル)−2−プロピルオキシカルボニ
ル 82 − ベンゾイル Cbo −ベンジルオキシカルボニルDdz −N
−α、α−ジメチルー3,5−ジメチルオキシカルボニ
ル Gly −グリシン His 干 L−ヒスチジン lie −L−インロイシン leu = l−ロイシン Phe −L−フェニルアラニン ppoc−2−フェニルイソプロピルオキシカルボニル pro − 1−プロリン ΔProーLー3.4ージヒドロプロリンSer −
L−セリン Trl) = L−トリプトファンTyr =
L−チロリン Vat − L−バリン アンギオテンシン■は強力な昇圧剤(血圧上昇剤)であ
る。その直接の昇圧効果の外に、アンギオテンシン■は
アルドステロンの放出を刺激し、これは細胞外塩及び[
1胞外液の停留を引起こすことによって血圧を上昇させ
る傾向を示す。アンギオテンシン■は正常人の血液中に
測定し得る猷で見出される。しかしながら、腎性高血圧
症を有する患者の血液には上昇した濃度で見出される。
−L−アラニン Arg = L−アルギニン ASp = L−アスパラギン酸 13oc −t−ブチルオキシカルボニルBDOC−
2−(4−ビフェニル)−2−プロピルオキシカルボニ
ル 82 − ベンゾイル Cbo −ベンジルオキシカルボニルDdz −N
−α、α−ジメチルー3,5−ジメチルオキシカルボニ
ル Gly −グリシン His 干 L−ヒスチジン lie −L−インロイシン leu = l−ロイシン Phe −L−フェニルアラニン ppoc−2−フェニルイソプロピルオキシカルボニル pro − 1−プロリン ΔProーLー3.4ージヒドロプロリンSer −
L−セリン Trl) = L−トリプトファンTyr =
L−チロリン Vat − L−バリン アンギオテンシン■は強力な昇圧剤(血圧上昇剤)であ
る。その直接の昇圧効果の外に、アンギオテンシン■は
アルドステロンの放出を刺激し、これは細胞外塩及び[
1胞外液の停留を引起こすことによって血圧を上昇させ
る傾向を示す。アンギオテンシン■は正常人の血液中に
測定し得る猷で見出される。しかしながら、腎性高血圧
症を有する患者の血液には上昇した濃度で見出される。
ACE活性のレベルは正常人及び高面圧入の両方で、ア
ンギオテンシン■の判明したレベルを保つために必要な
mより通常には過剰である。しかしながら、ACE阻害
剤での処置によって高血圧症!i者に顕著な血圧降下が
得られることが判明している[Gavras, 1 、
等, Hew Enol. J. Wed291、8
1 7 (1974)]。
ンギオテンシン■の判明したレベルを保つために必要な
mより通常には過剰である。しかしながら、ACE阻害
剤での処置によって高血圧症!i者に顕著な血圧降下が
得られることが判明している[Gavras, 1 、
等, Hew Enol. J. Wed291、8
1 7 (1974)]。
高血圧症の病原部におけるACHの役割は抗高血圧症薬
剤として作用するこの酵素の阻害剤に対する追求を促進
した。例えば米国特許第3,891、616号、第3.
947,575号、第4。
剤として作用するこの酵素の阻害剤に対する追求を促進
した。例えば米国特許第3,891、616号、第3.
947,575号、第4。
052、511号及び第4.053,651号を参照せ
よ。八〇Eの反応性は基質によって著しく異なる。アン
ギオデンシン■ヘアンギオテンシンエの酵素的転換の阻
害剤と称される多くのペプチドは実際にはアンギオテン
シンIより低いミバエリス定数(にm)を有する基質で
ある。このペプチドはより適正には招抗的基質と称され
る。
よ。八〇Eの反応性は基質によって著しく異なる。アン
ギオデンシン■ヘアンギオテンシンエの酵素的転換の阻
害剤と称される多くのペプチドは実際にはアンギオテン
シンIより低いミバエリス定数(にm)を有する基質で
ある。このペプチドはより適正には招抗的基質と称され
る。
多くの合成ペプチド誘導体が1974年8月27日に特
許されたOndetti等の米国特許第383233号
にACEI害剤であることが示されている。口腔投与し
た時に高い生物学的活性を有する極めて有効な阻害剤は
1977年9月6日に特許されたOndetti等の米
国特許第4.046.889号、D. H. Cush
man等のBiochemistry 工5。
許されたOndetti等の米国特許第383233号
にACEI害剤であることが示されている。口腔投与し
た時に高い生物学的活性を有する極めて有効な阻害剤は
1977年9月6日に特許されたOndetti等の米
国特許第4.046.889号、D. H. Cush
man等のBiochemistry 工5。
5484 (1977)及びH. OndQtti等の
Science 196.441 (1977)の科
学論文に開示され、SQ14225と指定されるD−3
−メルカプト−2−メチルプロパノイル−し−プロリン
である。この阻害剤5Q14225は報告によれば2.
3X10 Mの’50値を有する。
Science 196.441 (1977)の科
学論文に開示され、SQ14225と指定されるD−3
−メルカプト−2−メチルプロパノイル−し−プロリン
である。この阻害剤5Q14225は報告によれば2.
3X10 Mの’50値を有する。
上記のCushman等により報告された’50値は実
質上Kn+より上のレベルで基質を含有する標準分析系
の下で酵素の50%阻害を生ずるために必要な阻害剤の
濃度である。反応に影響するすべての可能な要因が一定
に保たれる時に150値が直接に比較し得ることは了解
されよう。これらの要因は酵素の起源、その純度、使用
した基質とその濃度及び分析緩衝液の組成を含む。ここ
に報告するすべての150データは同一の分析系と同一
の酵素(人の尿のACE)及び基質の約1/2に+gレ
ベルで得られ、それ故に内部的に統一している。
質上Kn+より上のレベルで基質を含有する標準分析系
の下で酵素の50%阻害を生ずるために必要な阻害剤の
濃度である。反応に影響するすべての可能な要因が一定
に保たれる時に150値が直接に比較し得ることは了解
されよう。これらの要因は酵素の起源、その純度、使用
した基質とその濃度及び分析緩衝液の組成を含む。ここ
に報告するすべての150データは同一の分析系と同一
の酵素(人の尿のACE)及び基質の約1/2に+gレ
ベルで得られ、それ故に内部的に統一している。
5Q14225の作用の方式はより良く公知の関連酵素
、カルボキシペプチダーゼAとのアトロジーにより発展
させたACEの活性位置のモデルに基づいている。この
活性位置は基質のカルボキシル末端基を結合するための
陽イオン性位置及びC−末端アミノ酸の側鎖を結合しそ
して末端プロリン残香の複素環式環を特に緊密に結合す
ることができるポケット又はクレットを有するよう仮定
された。石後から2番目のアミノ酸残基のための類似の
ポケットが仮定され、そして公開されたデータはかなり
厳格な立体要件を示唆し、その理由は阻害剤のD形はそ
の立体異性体又は3−メチル及び非置換類似体よりかな
り更に有効であるからであった。触媒中心近くの活性位
置に結合されると仮定される阻害剤上のスルフヒドリル
基は触媒活性のため必須であると知られる亜鉛部分と結
合することによって酵素の不活性化に中心的役割を果た
すと思われた。スルフヒドリル上の置換基、例えばメチ
ル基及びS−アセチル誘導体は阻害剤の有効性をかなり
減する。口、 14. Cu5tvan等の前記のBi
ochemistryを参照Vよ。
、カルボキシペプチダーゼAとのアトロジーにより発展
させたACEの活性位置のモデルに基づいている。この
活性位置は基質のカルボキシル末端基を結合するための
陽イオン性位置及びC−末端アミノ酸の側鎖を結合しそ
して末端プロリン残香の複素環式環を特に緊密に結合す
ることができるポケット又はクレットを有するよう仮定
された。石後から2番目のアミノ酸残基のための類似の
ポケットが仮定され、そして公開されたデータはかなり
厳格な立体要件を示唆し、その理由は阻害剤のD形はそ
の立体異性体又は3−メチル及び非置換類似体よりかな
り更に有効であるからであった。触媒中心近くの活性位
置に結合されると仮定される阻害剤上のスルフヒドリル
基は触媒活性のため必須であると知られる亜鉛部分と結
合することによって酵素の不活性化に中心的役割を果た
すと思われた。スルフヒドリル上の置換基、例えばメチ
ル基及びS−アセチル誘導体は阻害剤の有効性をかなり
減する。口、 14. Cu5tvan等の前記のBi
ochemistryを参照Vよ。
5Q14225及びその類似体が阻害するよう作用する
機構の1豆上研究において、ACEは周辺条件下でこの
分子の不安定性により若干妨害された。例えば、約8α
ptlでd当り1■の5Q14225の濃度の新しい水
溶液は僅か30分間放置するとかなり活性が少なくなる
こと、そしてこの活性はより長い時間溶液を放置すると
減少し続けることが判明した。活性におけるこの損失は
主としてスルフヒドリル末端基で生ずる5Q14225
の二分体化の結果であり、これによって阻害剤として大
いに不活性であるジスルフィドが形成されると思われる
。この遊離スルフヒドリル基は極めて反応性でありかつ
スルホン及びスルホキシド基のような極性酸性部分に容
易に酸化されるので、放置した5Q14225の水溶液
の活性の観察された生体外損失はACEに対する阻害剤
として有効に作用しないスルホン又はスルホキシドの形
成を伴う、一部には一つ又は複数のこの酸化反応の結果
でもある。
機構の1豆上研究において、ACEは周辺条件下でこの
分子の不安定性により若干妨害された。例えば、約8α
ptlでd当り1■の5Q14225の濃度の新しい水
溶液は僅か30分間放置するとかなり活性が少なくなる
こと、そしてこの活性はより長い時間溶液を放置すると
減少し続けることが判明した。活性におけるこの損失は
主としてスルフヒドリル末端基で生ずる5Q14225
の二分体化の結果であり、これによって阻害剤として大
いに不活性であるジスルフィドが形成されると思われる
。この遊離スルフヒドリル基は極めて反応性でありかつ
スルホン及びスルホキシド基のような極性酸性部分に容
易に酸化されるので、放置した5Q14225の水溶液
の活性の観察された生体外損失はACEに対する阻害剤
として有効に作用しないスルホン又はスルホキシドの形
成を伴う、一部には一つ又は複数のこの酸化反応の結果
でもある。
名称゛°キャブトブリル(CaDtODril )″と
してこの化合物を称する市販の5Q14225の臨床試
験の報告によればこの生成物は口腔投与された時にAC
Eに対する有効な阻害剤であるように殆どの患者の正常
な胃腸環境において十分に安定であることが示唆される
。しかしながら、5Q14225が実質上無効である患
者の一層があるか否かまだ明らかでない。遊離スルフヒ
ドリル基の高い反応性の故に、二量体形成又は酸化的劣
化反応に対する可能性の外に、5Q14225は血清、
細胞タンパク質、ペプチド又は胃腸環境中の他の1!離
スルフヒドリル基含有物質と共に混合したジスルフィド
を容易に形成できよう。タンパク質と混合したジスルフ
ィドは抗原性であり、実際に時にはアレルギー反応が臨
床上観察されている。
してこの化合物を称する市販の5Q14225の臨床試
験の報告によればこの生成物は口腔投与された時にAC
Eに対する有効な阻害剤であるように殆どの患者の正常
な胃腸環境において十分に安定であることが示唆される
。しかしながら、5Q14225が実質上無効である患
者の一層があるか否かまだ明らかでない。遊離スルフヒ
ドリル基の高い反応性の故に、二量体形成又は酸化的劣
化反応に対する可能性の外に、5Q14225は血清、
細胞タンパク質、ペプチド又は胃腸環境中の他の1!離
スルフヒドリル基含有物質と共に混合したジスルフィド
を容易に形成できよう。タンパク質と混合したジスルフ
ィドは抗原性であり、実際に時にはアレルギー反応が臨
床上観察されている。
Gavras等のNew England J、 W
ed、 298 、 991(1978)を参照せよ
。5Q14225のジスルフィド及び酸化劣化生成物は
、形成された場合には、たかだか阻害剤として主として
無効であると予期される。従って5Q14225に対す
る服用量応答は投与の条件及び個々の患者によって異な
ることが仮定されている。更に、少くとも若干の患者で
は望ましくない副効宋が起こり、そして体内で阻害剤の
有効濃度の保持を調節することが困難である。
ed、 298 、 991(1978)を参照せよ
。5Q14225のジスルフィド及び酸化劣化生成物は
、形成された場合には、たかだか阻害剤として主として
無効であると予期される。従って5Q14225に対す
る服用量応答は投与の条件及び個々の患者によって異な
ることが仮定されている。更に、少くとも若干の患者で
は望ましくない副効宋が起こり、そして体内で阻害剤の
有効濃度の保持を調節することが困難である。
チオエステル結合はスルフヒドリル部分とカルボキシル
部分に容易に加水分解できる点でチオエステル化合物は
一般に極めて反応性であると思われる。従ってチオエス
テルは温和な条件下でアシル化のための活性をエステル
中間体としてしばしば使用される。例えばアセチルチオ
のような基が前記引用した0ndetti等の特許でブ
ロッキング基として使用されている。またチオエステル
中間体はチロシジン又はグラミシジンSのような環状ペ
プチドの生合成で生ずると仮定される。F、 Lipm
anのAccounts Chew、 Res、 6.
361 (1973)を参照せよ。
部分に容易に加水分解できる点でチオエステル化合物は
一般に極めて反応性であると思われる。従ってチオエス
テルは温和な条件下でアシル化のための活性をエステル
中間体としてしばしば使用される。例えばアセチルチオ
のような基が前記引用した0ndetti等の特許でブ
ロッキング基として使用されている。またチオエステル
中間体はチロシジン又はグラミシジンSのような環状ペ
プチドの生合成で生ずると仮定される。F、 Lipm
anのAccounts Chew、 Res、 6.
361 (1973)を参照せよ。
5Q14225に関する化合物は0nde!tti等の
米国特許第4.046.889号、第4.052゜51
1号、第4.053.651号、第4,113.715
号及び第4.154.840号に開示されている。4又
は6員環によって置換されたプロリンの5員複素環式環
を有する5Q14225の類似体の開示が関連がある。
米国特許第4.046.889号、第4.052゜51
1号、第4.053.651号、第4,113.715
号及び第4.154.840号に開示されている。4又
は6員環によって置換されたプロリンの5員複素環式環
を有する5Q14225の類似体の開示が関連がある。
5Q14225に関連したこの類似体の阻害有効性は開
示されていない。L−プロリンに対するD−プロリンの
置換は3−メルカプトプロパノイルアミノ酸の阻害有効
性を徹底的に減すると報告される(前記の口、 14
. Cu5hian 等 ) 。
示されていない。L−プロリンに対するD−プロリンの
置換は3−メルカプトプロパノイルアミノ酸の阻害有効
性を徹底的に減すると報告される(前記の口、 14
. Cu5hian 等 ) 。
今日まで、チオエステル化合物中でイオウの左側に対す
るアミノ酸の効果は測定されていない。
るアミノ酸の効果は測定されていない。
このアミノ酸は醇素に対する付加的認識位置として作用
すると思われる。これが本当である場合には、ここでア
ミノ酸を有する化合物が良好な阻害剤であることが予想
される。出願人は種々のアミノ酸が有効であることそし
てヒドロキシプロリン、プロリン−L−及びり、L−3
,4−デヒドロプロリン、チアゾリジン−4−カルボン
酸及びし−5−オキソ−プロリン誘導体がすべて有効な
抗高血圧剤であること、そしてACHに対して高い阻害
有効性を有することを見出した。
すると思われる。これが本当である場合には、ここでア
ミノ酸を有する化合物が良好な阻害剤であることが予想
される。出願人は種々のアミノ酸が有効であることそし
てヒドロキシプロリン、プロリン−L−及びり、L−3
,4−デヒドロプロリン、チアゾリジン−4−カルボン
酸及びし−5−オキソ−プロリン誘導体がすべて有効な
抗高血圧剤であること、そしてACHに対して高い阻害
有効性を有することを見出した。
本発明は式:
R1式■
(式中Rはホルミル、アセチル、プロパツール、ブタツ
ル、フェニルアセチル、フェニルプロパツル、ベンゾイ
ル、シクロペンタンカルボニル、tert−ブチルオキ
シカルボニル、シクロペンタンカルボニル−し−リシル
、ビローし一グルタミルービローLーグルタミルであり
; Aはフェニルアラニル、アラニル、トリトフイル、チロ
シル、イソ0イシル、0イシル、グリシル、ヒスチジル
又はバリルであり、そのα−アミノ基がRとアミド結合
であり: R1は水素又はメチルであり; R2はし一プロリン、L−3.4−デヒドロプロリン、
D.L−3.4−デヒドロプロリン、し−3−ヒドロキ
シプロリン、L−4−ヒドロキシプロリン、し−チアゾ
リジン−4−カルボン酸又はL−5−オキソ−プロリン
であり、そのイミノnは0又は1であり、nが0である
時には、R1はメチルであり;そしてn−1かつR1が
メチルである時には る化合物を製造する方法に関する。これらの化合物はA
CEの阻害剤でありかつ口腔的に有効な抗高血圧剤とし
て有用である。
ル、フェニルアセチル、フェニルプロパツル、ベンゾイ
ル、シクロペンタンカルボニル、tert−ブチルオキ
シカルボニル、シクロペンタンカルボニル−し−リシル
、ビローし一グルタミルービローLーグルタミルであり
; Aはフェニルアラニル、アラニル、トリトフイル、チロ
シル、イソ0イシル、0イシル、グリシル、ヒスチジル
又はバリルであり、そのα−アミノ基がRとアミド結合
であり: R1は水素又はメチルであり; R2はし一プロリン、L−3.4−デヒドロプロリン、
D.L−3.4−デヒドロプロリン、し−3−ヒドロキ
シプロリン、L−4−ヒドロキシプロリン、し−チアゾ
リジン−4−カルボン酸又はL−5−オキソ−プロリン
であり、そのイミノnは0又は1であり、nが0である
時には、R1はメチルであり;そしてn−1かつR1が
メチルである時には る化合物を製造する方法に関する。これらの化合物はA
CEの阻害剤でありかつ口腔的に有効な抗高血圧剤とし
て有用である。
本発明の方法を、原料化合物の合成も含めて要約して示
すとa下のx,Xl.XIV.XV.XVI。
すとa下のx,Xl.XIV.XV.XVI。
Xxx及びXXXIの方法の通りである。
X. 咎式R4−Aを有する化合物を
式HS− (CH2)。−〇HーCーOHを有する化合
物と反応させること、ただしnが1でありかつR1がメ
チルである時には、工程■を行なうこと、 0 工程咎の生成物を分割して 合物を生ずること、 リ 工程咎又は■の生成物をR2とカップルさせること
、 (D) 工程(Qの生成物からR4保護基を照射によ
り除去すること、 ■ 工程0の生成物をRカップリング化合物と反応させ
ること、 の工程からなる方法; XI 、 (ハ)式R3−Aを有する化合物をさせる
こと、ただしnが1でありかつR1がメチルである時に
は、工程0を行なうこと、■ 工程(ハ)の生成物を分
割して 合物を生ずること、 (0工程(ハ)又は■の生成物をR2とカップルさせる
こと、 O工程(Qの生成物からR3保″:!!基を除去するこ
と、 ■ 工程(ロ)の生成物をRカップリング化合物と反応
させること、 の工程からなる方法; X IV 、 (/Q 式R−A < 式中RはR3又
はR4である)を有する化合物をN−ヒドロキシスクシ
ンイミド、p−ニトロフェノール、O−ニトロフェノー
ル、N−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ペンタクロロ
フェノール、ペンタフルオロフェノール及びN−ヒドロ
キシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド
からなる群から選択された化合物と反応させ、そして結
果の生成物をアルカリ金1硫化水素又はト(2Sと反応
させて式R−A−3Hを右する化合物を生ずること、 ■ 工程(ハ)の生成物をアクリル酸又はメタクリル酸
と反応させて式 R1は水素又はメチルである)を有する化合物を生ずる
こと、ただしnが1でありかつR1がメチルである時に
は工程(Qを行なうこと、 (Q 工程(へ)の生成物を分割して を生ずること、 (ロ) ■程■又は(Qの生成物をR2とカップルさ−
せること、 ■ ■程Oの生成物からR又はR4保ffl基を除去す
ること、 (0工程■の生成物をRカップリング化合物と反応させ
ること、 の工程からなる方法; xv、(ハ)R2をアクリル酸又はメタクリル酸とカッ
プルさせて 生ずること、 (へ)式R−A (式中RはR3又はR4である)を有
する化合物をN−ヒドロキシスクシンイミド、p−ニト
ロフェノール、O−ニトロフェノール、N−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネ
ン−2゜3−ジカルボキシイミド、ペンタクロロフェノ
ール又はペンタフルオロフェノールからなる群から選択
された化合物と反応させ、そして結果の生成物をアルカ
リ金属硫化水素又はH2Sと反応させて式R−A−3H
を有する化合物を生ずること、 (Q 工程咎の生成物を工程(ロ)の生成物と反応され
ること、 (ロ) 工程(Qの生成物からR又はR4保m基を除去
すること、 ■ 工程(ロ)の生成物をRカップリング化合物と反応
させて 中Rは水素又はメチルである)を有する化合物を生ずる
こと、ただしR1がメチルである時には、工程のを行な
うこと、 0 工程0の生成物を分割して を生ずること、 の工程からなる方法; X■、(ハ)式R3−R2を有する化合物をR3と反応
することができる固相樹脂にカップルさせそして結果の
複合体からR3保護基を除去すること、 Cbo−8−(CH,>。−CH−C−OHを有する化
合物を工程(ハ)のR2−81脂複合体にカップルさせ
そして結果の複合体からCbo基を除去すること、 (Q 式R3−Aを有する化合物を工程■の生成物にカ
ップルさせること、 (ロ) 工程(Qの複合体からR3保護基を除去するこ
と、 ORカップリング化合物を工程(ロ)の複合体にカップ
ルさせること、 (0工程■の複合体を開裂して R−A−3−(CH2>n−CH−C−R,2(式中R
1は水素又はメチルである)を有する化合物を生ずるこ
と、ただしnが1でありかつR1がメチルである時には
工程(G)を行なうこと、 (G)工程(F)の生成物を分割して 化合物を生ずること、 の工程からなる方法; XXX、(ハ)3−メルカプト−2−D−メチルプロピ
オン酸を式R3−八を有する化合物と反応させて式3−
(R3−A)チオ−2−D=メチルプロピオン酸を有
する化合物を生ずること、 ■ 工程咎の生成物をR2とカップルさせること、 (Q 工程■の生成物からR3保護基を除去すること、 O工程(Qの生成物をR又はR′カップリング化合物と
反応させること、 の工程からなる方法;及び X XX1.(ハ)式3− (R2−A)チオ−2−D
−メチルプロピオン酸を有する化合物をR2とカップル
させること、 (へ) 工程(ハ)の生成物からR3保護基を除去する
こと、 リ 工程■の生成物をR又はR′カップリング化合物と
反応させること、 の工程からなる方法、 からなる群から選択された前記の方法。
物と反応させること、ただしnが1でありかつR1がメ
チルである時には、工程■を行なうこと、 0 工程咎の生成物を分割して 合物を生ずること、 リ 工程咎又は■の生成物をR2とカップルさせること
、 (D) 工程(Qの生成物からR4保護基を照射によ
り除去すること、 ■ 工程0の生成物をRカップリング化合物と反応させ
ること、 の工程からなる方法; XI 、 (ハ)式R3−Aを有する化合物をさせる
こと、ただしnが1でありかつR1がメチルである時に
は、工程0を行なうこと、■ 工程(ハ)の生成物を分
割して 合物を生ずること、 (0工程(ハ)又は■の生成物をR2とカップルさせる
こと、 O工程(Qの生成物からR3保″:!!基を除去するこ
と、 ■ 工程(ロ)の生成物をRカップリング化合物と反応
させること、 の工程からなる方法; X IV 、 (/Q 式R−A < 式中RはR3又
はR4である)を有する化合物をN−ヒドロキシスクシ
ンイミド、p−ニトロフェノール、O−ニトロフェノー
ル、N−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ペンタクロロ
フェノール、ペンタフルオロフェノール及びN−ヒドロ
キシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド
からなる群から選択された化合物と反応させ、そして結
果の生成物をアルカリ金1硫化水素又はト(2Sと反応
させて式R−A−3Hを右する化合物を生ずること、 ■ 工程(ハ)の生成物をアクリル酸又はメタクリル酸
と反応させて式 R1は水素又はメチルである)を有する化合物を生ずる
こと、ただしnが1でありかつR1がメチルである時に
は工程(Qを行なうこと、 (Q 工程(へ)の生成物を分割して を生ずること、 (ロ) ■程■又は(Qの生成物をR2とカップルさ−
せること、 ■ ■程Oの生成物からR又はR4保ffl基を除去す
ること、 (0工程■の生成物をRカップリング化合物と反応させ
ること、 の工程からなる方法; xv、(ハ)R2をアクリル酸又はメタクリル酸とカッ
プルさせて 生ずること、 (へ)式R−A (式中RはR3又はR4である)を有
する化合物をN−ヒドロキシスクシンイミド、p−ニト
ロフェノール、O−ニトロフェノール、N−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネ
ン−2゜3−ジカルボキシイミド、ペンタクロロフェノ
ール又はペンタフルオロフェノールからなる群から選択
された化合物と反応させ、そして結果の生成物をアルカ
リ金属硫化水素又はH2Sと反応させて式R−A−3H
を有する化合物を生ずること、 (Q 工程咎の生成物を工程(ロ)の生成物と反応され
ること、 (ロ) 工程(Qの生成物からR又はR4保m基を除去
すること、 ■ 工程(ロ)の生成物をRカップリング化合物と反応
させて 中Rは水素又はメチルである)を有する化合物を生ずる
こと、ただしR1がメチルである時には、工程のを行な
うこと、 0 工程0の生成物を分割して を生ずること、 の工程からなる方法; X■、(ハ)式R3−R2を有する化合物をR3と反応
することができる固相樹脂にカップルさせそして結果の
複合体からR3保護基を除去すること、 Cbo−8−(CH,>。−CH−C−OHを有する化
合物を工程(ハ)のR2−81脂複合体にカップルさせ
そして結果の複合体からCbo基を除去すること、 (Q 式R3−Aを有する化合物を工程■の生成物にカ
ップルさせること、 (ロ) 工程(Qの複合体からR3保護基を除去するこ
と、 ORカップリング化合物を工程(ロ)の複合体にカップ
ルさせること、 (0工程■の複合体を開裂して R−A−3−(CH2>n−CH−C−R,2(式中R
1は水素又はメチルである)を有する化合物を生ずるこ
と、ただしnが1でありかつR1がメチルである時には
工程(G)を行なうこと、 (G)工程(F)の生成物を分割して 化合物を生ずること、 の工程からなる方法; XXX、(ハ)3−メルカプト−2−D−メチルプロピ
オン酸を式R3−八を有する化合物と反応させて式3−
(R3−A)チオ−2−D=メチルプロピオン酸を有
する化合物を生ずること、 ■ 工程咎の生成物をR2とカップルさせること、 (Q 工程■の生成物からR3保護基を除去すること、 O工程(Qの生成物をR又はR′カップリング化合物と
反応させること、 の工程からなる方法;及び X XX1.(ハ)式3− (R2−A)チオ−2−D
−メチルプロピオン酸を有する化合物をR2とカップル
させること、 (へ) 工程(ハ)の生成物からR3保護基を除去する
こと、 リ 工程■の生成物をR又はR′カップリング化合物と
反応させること、 の工程からなる方法、 からなる群から選択された前記の方法。
便宜上、下記のすべての方法を、Rがベンゾイルであり
、Aがフェニルアラニルであり、R1がメチルであり、
R2がL−プロリンでありそしてα nが1である化合物、即ちN −[3−Na−ベンゾ
イルフェニルアラニル−チオ)−2−D−メチルプロパ
ノイル]−L−プロリンを製造するために必要な工程に
関して記載した。しかしながら、所望の基を適切な場所
でプロセスを例示するため使用したものと取換えること
によって他の化合物を製造できることは当業者に理解さ
れよう。例えば、下記のすべての方法でし一プロリンの
代りにし−3,4−デヒドロプロリン、D、L−3,4
−デヒドロプロリン、L−3−ヒドロキシプロリン、L
−4−ヒドロキシプロリン、L−チアゾリジン−4−カ
ルボン酸又はL−5−オキソ−プロリンを置換できる。
、Aがフェニルアラニルであり、R1がメチルであり、
R2がL−プロリンでありそしてα nが1である化合物、即ちN −[3−Na−ベンゾ
イルフェニルアラニル−チオ)−2−D−メチルプロパ
ノイル]−L−プロリンを製造するために必要な工程に
関して記載した。しかしながら、所望の基を適切な場所
でプロセスを例示するため使用したものと取換えること
によって他の化合物を製造できることは当業者に理解さ
れよう。例えば、下記のすべての方法でし一プロリンの
代りにし−3,4−デヒドロプロリン、D、L−3,4
−デヒドロプロリン、L−3−ヒドロキシプロリン、L
−4−ヒドロキシプロリン、L−チアゾリジン−4−カ
ルボン酸又はL−5−オキソ−プロリンを置換できる。
Aに対して列挙したすべてのアミノ酸をこれらの方法で
フェニルアラニンの代りに同様に置換できる。他に特記
しない限り、適当に置換を行なうことによって他の所望
の化合物を製造できる。
フェニルアラニンの代りに同様に置換できる。他に特記
しない限り、適当に置換を行なうことによって他の所望
の化合物を製造できる。
ここに記載した幾つかの方法ではR3がH1α
Bz、Boc、又はQdzであるN −R3−チオフ
ェニルアラニンをメタクリル酸又はエステル又は3−ブ
ロモ−2−メチルプロピオン酸と反応α させて3−N −R3−フェニルアラニルチオ−2−
メチルプロピオン酸又はエステルを生成する。
ェニルアラニンをメタクリル酸又はエステル又は3−ブ
ロモ−2−メチルプロピオン酸と反応α させて3−N −R3−フェニルアラニルチオ−2−
メチルプロピオン酸又はエステルを生成する。
α
次にこの化合物を分割して3−N −、R3−フェニ
ルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオン酸又はエス
テルを生成してその後L−Proと反応させて所望の生
成物を生成する。別の方法ではα RがBz、Bpoc、DdzであるN −R4α 一フェニルアラニン又はN −R4−フェニルアラニ
ン活性エステルを3−メルカプト−2−メチルプロピオ
ン酸又はエステルと反応させて3−NCI−R−フェニ
ルアラニルチオ−2−メチルプロピオン酸又はエステル
を生成する。次にこのα 化合物を分割して3−N −R4−フェニルアラニル
チオ−2−D−メチルプロピオン酸又はエステルを生成
し、その後1−proと反応させて所望の生成物を形成
する。他の方法ではR5がCbo、アセチル又はアミノ
である3−R5−チオ−2−メチルプロピオン酸又はエ
ステルを分割して3−R5−チオ−2−D−メチルプロ
ピオン酸又はエステルを生成しその後にR−Aと反応さ
せる。
ルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオン酸又はエス
テルを生成してその後L−Proと反応させて所望の生
成物を生成する。別の方法ではα RがBz、Bpoc、DdzであるN −R4α 一フェニルアラニン又はN −R4−フェニルアラニ
ン活性エステルを3−メルカプト−2−メチルプロピオ
ン酸又はエステルと反応させて3−NCI−R−フェニ
ルアラニルチオ−2−メチルプロピオン酸又はエステル
を生成する。次にこのα 化合物を分割して3−N −R4−フェニルアラニル
チオ−2−D−メチルプロピオン酸又はエステルを生成
し、その後1−proと反応させて所望の生成物を形成
する。他の方法ではR5がCbo、アセチル又はアミノ
である3−R5−チオ−2−メチルプロピオン酸又はエ
ステルを分割して3−R5−チオ−2−D−メチルプロ
ピオン酸又はエステルを生成しその後にR−Aと反応さ
せる。
式■の化合物を合成するためここに記載する方法で出発
物質として使用する3−ベンゾイルチオ−2−D−メチ
ルプロピオン酸はケミカルダイナミックス社、3001
ハドレーロード、サラスプレインフィールド、ニューシ
ャーシーから市販されている。
物質として使用する3−ベンゾイルチオ−2−D−メチ
ルプロピオン酸はケミカルダイナミックス社、3001
ハドレーロード、サラスプレインフィールド、ニューシ
ャーシーから市販されている。
下記の方法で列挙したものの外にこれらを要する工程に
対して従来のカップリング法を使用できる。カップリン
グ法の例は混合無水物(MA)、ジシクロへキシルカル
ボジイミド(DCC) 、アジド、N−エチルオキシカ
ルボニル−2−エチルオキシ−1,2−ジヒドロキノリ
ン(E E、 D Q ’)、N−イソブチルオキシカ
ルボニル−2−イソブチルオキシ−1,2−ジヒドロキ
ノリン、合成無水物、ウッドワードの試薬K(N−エチ
ル−5−フェニルイソオキサゾリウム−3′−スルホネ
ート)、又はカルボジイミダゾール(CD I )法を
含む。これらの方法を調べるためにHethodcnd
erOr anischen Chele (ホーベン
−ワイル)第XV巻第■部、第1頁以下(1974)を
参照せよ。
対して従来のカップリング法を使用できる。カップリン
グ法の例は混合無水物(MA)、ジシクロへキシルカル
ボジイミド(DCC) 、アジド、N−エチルオキシカ
ルボニル−2−エチルオキシ−1,2−ジヒドロキノリ
ン(E E、 D Q ’)、N−イソブチルオキシカ
ルボニル−2−イソブチルオキシ−1,2−ジヒドロキ
ノリン、合成無水物、ウッドワードの試薬K(N−エチ
ル−5−フェニルイソオキサゾリウム−3′−スルホネ
ート)、又はカルボジイミダゾール(CD I )法を
含む。これらの方法を調べるためにHethodcnd
erOr anischen Chele (ホーベン
−ワイル)第XV巻第■部、第1頁以下(1974)を
参照せよ。
同様にt−ブチルオキシカルボニル(BOC)保護基を
使用する下記の方法では、何れかの酸敏感アミン保:I
基、例えば2−(4−ビフェニル)−2−プロピルオキ
シカルボニル(Bpoc)、2−フェニルイソプロピル
オキシカルボニル(Ppoc)ベンジルオキシカルボニ
ル又は伯の酸敏感Nーアラルキルオキシカルボニル保護
基で置換できる。脱保護、即ち保護基の除去を任意の従
来の手段、例えばアニソール中のトリフルオロ酢ffl
(TFA)、酢酸中のHCl、冷トリフルオロメタンス
ルホン酸及びメタノール性アンモニアにより行なうこと
ができる。
使用する下記の方法では、何れかの酸敏感アミン保:I
基、例えば2−(4−ビフェニル)−2−プロピルオキ
シカルボニル(Bpoc)、2−フェニルイソプロピル
オキシカルボニル(Ppoc)ベンジルオキシカルボニ
ル又は伯の酸敏感Nーアラルキルオキシカルボニル保護
基で置換できる。脱保護、即ち保護基の除去を任意の従
来の手段、例えばアニソール中のトリフルオロ酢ffl
(TFA)、酢酸中のHCl、冷トリフルオロメタンス
ルホン酸及びメタノール性アンモニアにより行なうこと
ができる。
HethOdender oroantshen Ch
eli6 (ホーベン−ワイル)第XV巻、第1部、
第376頁[F(1974)を参照せよ。
eli6 (ホーベン−ワイル)第XV巻、第1部、
第376頁[F(1974)を参照せよ。
以下に、本発明の製法及びそれに11Q連した製法につ
いて具体的に説明する。
いて具体的に説明する。
I(flll連製法)
好適方法により、従来のカップリング剤と無水媒体の存
在でN −t−ブチルオキシカルボニルフェニルアラ
ニン(Boc−phe)をチオフェノールと反応させて
N −t−ブチルオキシカルボニル−チオフェニルア
ラニンフェニルエステルを生ずる。エチルアレテート中
のMA法を使用してこれを行なう。
在でN −t−ブチルオキシカルボニルフェニルアラ
ニン(Boc−phe)をチオフェノールと反応させて
N −t−ブチルオキシカルボニル−チオフェニルア
ラニンフェニルエステルを生ずる。エチルアレテート中
のMA法を使用してこれを行なう。
第2工程では、工程1からの生成物をトリフルオロ酢酸
とアニソールに反応させることでBoc保1保合基去す
る。次にこの脱保護した生成物をエタノール中の塩化水
素と反応させてチオフェニルアラニンフェニルエステル
の塩酸塩を生ずる。
とアニソールに反応させることでBoc保1保合基去す
る。次にこの脱保護した生成物をエタノール中の塩化水
素と反応させてチオフェニルアラニンフェニルエステル
の塩酸塩を生ずる。
この保rJ基を酢酸又は有i溶媒、メタンスルホン酸又
は置換したメタンスルホン酸中の塩化水素又は臭化水素
で除去できる。この後の化合物をエチルアセテートとN
a2CO3を含有する水の混合物中の塩化ベンゾイルと
反応させてN“−ベンゾイル−チオフェニル−アラニン
フェニルエステルを生ずる。
は置換したメタンスルホン酸中の塩化水素又は臭化水素
で除去できる。この後の化合物をエチルアセテートとN
a2CO3を含有する水の混合物中の塩化ベンゾイルと
反応させてN“−ベンゾイル−チオフェニル−アラニン
フェニルエステルを生ずる。
第3工程では、工程2からの最終生成物をエタノール中
のNaSHと窒素の存在で反応させてX(X−ベンゾイ
ル−チオフェニルアラニン(BZ−Phe−SH)を生
ずる。この工程はBull。
のNaSHと窒素の存在で反応させてX(X−ベンゾイ
ル−チオフェニルアラニン(BZ−Phe−SH)を生
ずる。この工程はBull。
Chet Sac, Jap. 38. 320 (1
965)の変型である。
965)の変型である。
別法として、工程1からのフェニルエステルを工程3に
記載したようにNa5Hと反応させてB o c −P
h e −S Hを生ずる。又は混合無水物法を使用
してBoc−Pheをト12SとカップリングによりB
oc−Phe−3Hを製造できる。
記載したようにNa5Hと反応させてB o c −P
h e −S Hを生ずる。又は混合無水物法を使用
してBoc−Pheをト12SとカップリングによりB
oc−Phe−3Hを製造できる。
J、 八−、Chew、 Soc、 74. 4
726 (1952)を参照せよ。次に工程2の方法
に類似した方法に従ってベンゾイル−チオフェニルアラ
ニン(BZ−phe−8H>を生ずる。
726 (1952)を参照せよ。次に工程2の方法
に類似した方法に従ってベンゾイル−チオフェニルアラ
ニン(BZ−phe−8H>を生ずる。
第2の別法として、NaOHの存在で塩化ベンゾイルを
Pheと反応させることによってBZ−phe−8Hを
得ることができる。次に混合無水物法を使用してこの生
成物をト+2Sとカップルさせる。J、 Biol、
Chew、 138.627 (1941)を参照せ
よ。
Pheと反応させることによってBZ−phe−8Hを
得ることができる。次に混合無水物法を使用してこの生
成物をト+2Sとカップルさせる。J、 Biol、
Chew、 138.627 (1941)を参照せ
よ。
第4工程ではトルエンの存在でこのチオ酸をメタクリル
酸と共に加熱して3−(N −ベンゾイル−フェニルア
ラニルチオ)−2−メチル−プロピオン酸を生ずる。
酸と共に加熱して3−(N −ベンゾイル−フェニルア
ラニルチオ)−2−メチル−プロピオン酸を生ずる。
この工程の生成物を工程5で分割して結晶化、液体クロ
マトグラフィー、向流分配法、イオン交換又は3−ニト
ロ−D−チロシンメチルエステル又はヒドラジド、3−
ニトロ−D−チロシンメチルエステル又はヒドラジド、
d−(+)−α−メチルベンジルアミン又は1−(−)
−α−メチルベンジルアミン、キニン、(−)−エフェ
ドリン又はN、N−デシクロヘキシルアミンのような分
割剤を使用してN −(3−ベンゾイル−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる。
マトグラフィー、向流分配法、イオン交換又は3−ニト
ロ−D−チロシンメチルエステル又はヒドラジド、3−
ニトロ−D−チロシンメチルエステル又はヒドラジド、
d−(+)−α−メチルベンジルアミン又は1−(−)
−α−メチルベンジルアミン、キニン、(−)−エフェ
ドリン又はN、N−デシクロヘキシルアミンのような分
割剤を使用してN −(3−ベンゾイル−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる。
第6エ程では次にDCC又はMA法を使用してこの酸を
し一プロリンt−ブチルエステルプルさせてN −[
3−(N −ベンゾイル−フェニルアラニルチオ)−
2−D−メチルプロパノイル1−し−プロリンt−ブチ
ルエステルを生ずる。このエステルをアニソールとTF
Aの混合物に溶解させてN −[3−(N −ベン
ゾイル−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロ
パノイル]−L−プロリンを生ずる。別法として、DC
C又はMA法を使用して工程5からの生成物をヒドロキ
シスクシンイミドとカップルさせ、次にこの生成物をし
一プロリンと反応させて同一の生成物を生ずる。
し一プロリンt−ブチルエステルプルさせてN −[
3−(N −ベンゾイル−フェニルアラニルチオ)−
2−D−メチルプロパノイル1−し−プロリンt−ブチ
ルエステルを生ずる。このエステルをアニソールとTF
Aの混合物に溶解させてN −[3−(N −ベン
ゾイル−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロ
パノイル]−L−プロリンを生ずる。別法として、DC
C又はMA法を使用して工程5からの生成物をヒドロキ
シスクシンイミドとカップルさせ、次にこの生成物をし
一プロリンと反応させて同一の生成物を生ずる。
収率が一般に高くかつ生成物が容易に結晶化するのでN
(x− [3− (N”−ベンゾイル−フェニルアラニ
ルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L−プロリ
ンを製造する前記の方法が好適である。
(x− [3− (N”−ベンゾイル−フェニルアラニ
ルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L−プロリ
ンを製造する前記の方法が好適である。
更に、フェニルアラニル部分が純粋なL−、D−又はり
、L−型の何れかで得られるのでこの方法が好適である
。即ち、出発物質として3oc−L−Phe又はBoc
−D−Pheを使用することによって、N −[3−
(Na−ベンゾイルα 一Lーフェニルアラニルチオー2−D−メチルプロパノ
イル]−L−プロリン又はNcX− [3−(N′:x
−ベンゾイル−D−フェニルアラニルチオ)−2−D−
メチルプロパノイル]−L−プロリンが得られる。Bo
c−L−pheと3oc−Q−pheの混合物を使用す
ることによってり,L−型が得られる。
、L−型の何れかで得られるのでこの方法が好適である
。即ち、出発物質として3oc−L−Phe又はBoc
−D−Pheを使用することによって、N −[3−
(Na−ベンゾイルα 一Lーフェニルアラニルチオー2−D−メチルプロパノ
イル]−L−プロリン又はNcX− [3−(N′:x
−ベンゾイル−D−フェニルアラニルチオ)−2−D−
メチルプロパノイル]−L−プロリンが得られる。Bo
c−L−pheと3oc−Q−pheの混合物を使用す
ることによってり,L−型が得られる。
前記の工程4のメタクリル酸の代りにアクリル酸を置換
して3−チオプロピオン酸誘導体を生ずる。
して3−チオプロピオン酸誘導体を生ずる。
工程1の3oc−pheの代りに、1979年8月14
日出願した米国特許出願第64.897号ないし第64
.903号、1980年1月30日出願した米国特許出
願第116.950号及び第116.951号及び19
80年3月3日出願した第121.188号に記載した
方法により製造した適切なR−A化合物を置換しそして
工程1及び3〜6の方法に従って、所望のR及びAIを
有する化合物が得られる。
日出願した米国特許出願第64.897号ないし第64
.903号、1980年1月30日出願した米国特許出
願第116.950号及び第116.951号及び19
80年3月3日出願した第121.188号に記載した
方法により製造した適切なR−A化合物を置換しそして
工程1及び3〜6の方法に従って、所望のR及びAIを
有する化合物が得られる。
■(関連製法)
第2好適方法により、硫酸の存在で3−ベンゾイルチオ
−2−D−メチルプロピオン酸を2−メチルプロパンと
反応させて3−ベンゾイルチオ−2−D−メチルプロピ
オンgtーブチルエステルを生ずる。
−2−D−メチルプロピオン酸を2−メチルプロパンと
反応させて3−ベンゾイルチオ−2−D−メチルプロピ
オンgtーブチルエステルを生ずる。
第2工程では従来の脱保護法によりベンゾイル基を除去
して3−メルカプト−2−D−メチルブロビオンat−
ブチルエステルを生ずる。従来の脱保護法の例は水酸化
アンモニウム、メタノール中のアンモニア及びメタノー
ル中のナトリウムメトキシドを使用することを含む。
して3−メルカプト−2−D−メチルブロビオンat−
ブチルエステルを生ずる。従来の脱保護法の例は水酸化
アンモニウム、メタノール中のアンモニア及びメタノー
ル中のナトリウムメトキシドを使用することを含む。
第3工程では、活性エステルカップリング法を使用して
工程2の生成物をNo−ベンゾイルフェニルアラニン(
Bz−Phe)とカップルさせて3−No−ベンゾイル
フェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオン酸t
−ブチルエステルを生成する。有用な活性エステルはN
−スクシンイミジルエステル、p−ニドOフェニルエス
テル、ペンタクロロフェニルエステル及びBz−Phe
の類似物を含む。
工程2の生成物をNo−ベンゾイルフェニルアラニン(
Bz−Phe)とカップルさせて3−No−ベンゾイル
フェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオン酸t
−ブチルエステルを生成する。有用な活性エステルはN
−スクシンイミジルエステル、p−ニドOフェニルエス
テル、ペンタクロロフェニルエステル及びBz−Phe
の類似物を含む。
別法として、低ラセミ化カップリング法、例えばEED
Q法、酸アミド法又はDCC法を使用してラセミ化抑制
剤、例えば1−ヒドロキシベンゾトリアゾールと共に工
程2からの生成物をBz−Pheとカップルさせて3−
Na−ベンゾイルフェニルアラニルチオ−2−D−メチ
ルプロピオン酸t−ブチルエステルを生成する。
Q法、酸アミド法又はDCC法を使用してラセミ化抑制
剤、例えば1−ヒドロキシベンゾトリアゾールと共に工
程2からの生成物をBz−Pheとカップルさせて3−
Na−ベンゾイルフェニルアラニルチオ−2−D−メチ
ルプロピオン酸t−ブチルエステルを生成する。
工程4では従来の脱保護法を使用して工程3の生成物か
らt−ブチルエステル基を除去して3−N(Z−ベンゾ
イルフェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオン
酸を生成する。
らt−ブチルエステル基を除去して3−N(Z−ベンゾ
イルフェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオン
酸を生成する。
工程5では、DCC又はMA法を使用して工程4の生成
物をN−ヒドロキシスクシンイミドとカップルさせてN
−スクシンイミジルエステルを生成する。次にこの生成
物をし一プロリンと反応させてN −[3−(N(x
−ペンゾイルフェニルアα ラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L−プ
ロリンを生ずる。このN−ヒドロキシスクシンイミドを
他の活性エステル前駆体と置換して他の有用な活性エス
テルを生成できる。別法として、DCC又はMA法を使
用して工程4の生成物をL−プロリンt−ブチルエステ
ルとカップルさせて同一生成物のt−ブチルエステルを
生成できる。従来の脱保護法を使用してこのt−ブチル
エステル基を除去する。
物をN−ヒドロキシスクシンイミドとカップルさせてN
−スクシンイミジルエステルを生成する。次にこの生成
物をし一プロリンと反応させてN −[3−(N(x
−ペンゾイルフェニルアα ラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L−プ
ロリンを生ずる。このN−ヒドロキシスクシンイミドを
他の活性エステル前駆体と置換して他の有用な活性エス
テルを生成できる。別法として、DCC又はMA法を使
用して工程4の生成物をL−プロリンt−ブチルエステ
ルとカップルさせて同一生成物のt−ブチルエステルを
生成できる。従来の脱保護法を使用してこのt−ブチル
エステル基を除去する。
出発物質としてBz−L−Phe、Bz−L−Phe又
はBZ−D、L−Pheを使用シテ、下記の化合物が得
られる。N −[3−(N2−べ、 α ンゾイルーL−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチ
ルプロパノイル]−1−プロリン、N(X−[3−(N
−ベンゾ1゛ルーD−フェニルアラニルチオ)−2
−D−メチル−プロパノイル]−L−プロリン又はN
−[3−(N(x−ベンゾイル−D、L−フェニルア
ラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L−プ
ロリン。ここに記載する方法に従ってBz−Pheの純
粋なし一1D−又はり、L〜形が得られる。
はBZ−D、L−Pheを使用シテ、下記の化合物が得
られる。N −[3−(N2−べ、 α ンゾイルーL−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチ
ルプロパノイル]−1−プロリン、N(X−[3−(N
−ベンゾ1゛ルーD−フェニルアラニルチオ)−2
−D−メチル−プロパノイル]−L−プロリン又はN
−[3−(N(x−ベンゾイル−D、L−フェニルア
ラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L−プ
ロリン。ここに記載する方法に従ってBz−Pheの純
粋なし一1D−又はり、L〜形が得られる。
工程3の3z−pheの代りに、1979年8月14日
出願した米国特許出願筒064,897号ないし第06
4.903号及び1980年3月30出願した第121
.188号に記載した方法により製造した適切なR−A
化合物を置換することそして工程3〜5の方法に従って
所望のR及びA基を有する化合物が得られる。
出願した米国特許出願筒064,897号ないし第06
4.903号及び1980年3月30出願した第121
.188号に記載した方法により製造した適切なR−A
化合物を置換することそして工程3〜5の方法に従って
所望のR及びA基を有する化合物が得られる。
■(関連製法)
第3好適方法では1−ヒドロキシベンゾトリアゾールの
存在でDCC法又はMA法を使用して最初にNa−Bp
oc−Pheを3− メ/l/ 力7トー2−D−メチ
ルプロピオンPat−ブチルエステル(方法■、工程1
−2に記載したように製造した)にカップルさせて3−
Na−Bpoc−フェニルアラニルチオ−2−D−メチ
ルプロピオン酸t−ブチルエステルを生成する。
存在でDCC法又はMA法を使用して最初にNa−Bp
oc−Pheを3− メ/l/ 力7トー2−D−メチ
ルプロピオンPat−ブチルエステル(方法■、工程1
−2に記載したように製造した)にカップルさせて3−
Na−Bpoc−フェニルアラニルチオ−2−D−メチ
ルプロピオン酸t−ブチルエステルを生成する。
第2工程では工程1で製造したエステルを脱保護して3
−N −フェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロ
ピオン酸t−ブチルエステルを生ずる。
−N −フェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロ
ピオン酸t−ブチルエステルを生ずる。
第3工程では、工程2の生成物をハロゲン化ベンゾイル
、°例えば塩化ベンゾイル又は臭化ベンゾイル又は安息
香酸のベンゾトリアゾリル、p−二トロフェニル、0−
ニトロフェニル、5−1ルポルネンー2.3−ジカルボ
キシイミジル、ペンタクロロフェニル又はペンタフルオ
ロフェニルエステルにカップルさせて3−N(x−ベン
ゾイルフェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオ
ン酸t−ブチルエステルを生ずる。
、°例えば塩化ベンゾイル又は臭化ベンゾイル又は安息
香酸のベンゾトリアゾリル、p−二トロフェニル、0−
ニトロフェニル、5−1ルポルネンー2.3−ジカルボ
キシイミジル、ペンタクロロフェニル又はペンタフルオ
ロフェニルエステルにカップルさせて3−N(x−ベン
ゾイルフェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオ
ン酸t−ブチルエステルを生ずる。
第4工程では、方法■、工程4に記載したようにt−ブ
チルエステル塁を除去する。
チルエステル塁を除去する。
第5工程では、方法■、工程5に記載したように工程4
の生成物をL−プロリン又はL−プロリンt−ブチルエ
ステルにカップルさせてNC1−[3−<N(x−ベン
ゾイルフェニルアラニルチオ)−2−D〜メチルプロパ
ノイル]−L−プロリンを生成する。
の生成物をL−プロリン又はL−プロリンt−ブチルエ
ステルにカップルさせてNC1−[3−<N(x−ベン
ゾイルフェニルアラニルチオ)−2−D〜メチルプロパ
ノイル]−L−プロリンを生成する。
工程1のPheの代りに任意の所望のA基を置換して所
望のA基を有する化合物を得ることができる。工程3に
記載したベンゾイルカップリング化合物中のベンゾイル
部分の代りにRを置換することによって工程2の化合物
に任意の所望のR基をカップルできる。
望のA基を有する化合物を得ることができる。工程3に
記載したベンゾイルカップリング化合物中のベンゾイル
部分の代りにRを置換することによって工程2の化合物
に任意の所望のR基をカップルできる。
■(関連製法)
第5好適方法では、従来の脱保護法を使用して3−ベン
ゾイルチオ−2−D−メチルプロピオン酸からベンゾイ
ル基を除去する。
ゾイルチオ−2−D−メチルプロピオン酸からベンゾイ
ル基を除去する。
第2工程では、方法■、工程3に記載したように活性エ
ステルカップリング法を使用して工程1の生成物をNa
−Boc−Pheにカップルさせて3−N −BOC
−フェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオン酸
を生成する。
ステルカップリング法を使用して工程1の生成物をNa
−Boc−Pheにカップルさせて3−N −BOC
−フェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオン酸
を生成する。
アニソール中のトリフルオロ酢W(TFA)を使用して
工程2からの生成物を第3工程で脱保護して3−フェニ
ルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオン酸のTFA
塩を生ずる。
工程2からの生成物を第3工程で脱保護して3−フェニ
ルアラニルチオ−2−D−メチルプロピオン酸のTFA
塩を生ずる。
第4工程では、工程3からの生成物を
NaHCO3中の塩化ベンゾイルと反応させて3−Na
−ベンゾイルフェニルアラニルチオ−2−D−メチルプ
ロピオン酸を生成する。
−ベンゾイルフェニルアラニルチオ−2−D−メチルプ
ロピオン酸を生成する。
方法■、工程5に記載した方法に従ってN“−[3−(
N(x−ベンゾイルフェニルアラニルチオ)−2−D−
メチルプロパノイル]−L−プロリンを第5工程で製造
する。
N(x−ベンゾイルフェニルアラニルチオ)−2−D−
メチルプロパノイル]−L−プロリンを第5工程で製造
する。
工程2のPheの代りに任意の所望のA基を置換して所
望のA基を有する化合物を得ることができる。工程4に
記載したように塩化ベンゾイルカップリング化合物のベ
ンゾイル部分の代りにRを置換することによって任意の
所望のR基を工程3の生成物にカップルできる。
望のA基を有する化合物を得ることができる。工程4に
記載したように塩化ベンゾイルカップリング化合物のベ
ンゾイル部分の代りにRを置換することによって任意の
所望のR基を工程3の生成物にカップルできる。
■(本発明の前記xxxの製法)
第6好適方法では、方法■、工程3に記載したように活
性エステルカップリング法を使用して3−メルカプト−
2−D−メチル−プロピオン酸をN’−BDoc−Ph
eにカップルさせて3−Na−BDOC−フェニルアラ
ニルチオ−2−D−メチルプロピオン酸を生成する。
性エステルカップリング法を使用して3−メルカプト−
2−D−メチル−プロピオン酸をN’−BDoc−Ph
eにカップルさせて3−Na−BDOC−フェニルアラ
ニルチオ−2−D−メチルプロピオン酸を生成する。
第2工程では、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールの存
在でDCC法又はMA法を使用してL−prot−ブチ
ルエステルを工程1の生成物に力α ラブルさせてN −[3−(N’−Bpoc−7エ二
ルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L
−プロリンt−ブチルエステルを生成する。
在でDCC法又はMA法を使用してL−prot−ブチ
ルエステルを工程1の生成物に力α ラブルさせてN −[3−(N’−Bpoc−7エ二
ルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L
−プロリンt−ブチルエステルを生成する。
希釈TFAを使用して第3工程でBpoc保護基を除去
してNa−[3−フェニルアラニル−チオ−2−D−メ
チルプロパノイル]−シーブロリンt−ブチルエステル
のTFA塩を生ずる。
してNa−[3−フェニルアラニル−チオ−2−D−メ
チルプロパノイル]−シーブロリンt−ブチルエステル
のTFA塩を生ずる。
第4工程では、方法v1工程4に記載したように工程3
の生成物を塩化ベンゾイルと反応させてNa−[3−N
a−ベンゾイルフェニルアラニルチオ)−2−D−メチ
ルプロパノイル]−L−プロリンt−ブチルエステルを
生成する。
の生成物を塩化ベンゾイルと反応させてNa−[3−N
a−ベンゾイルフェニルアラニルチオ)−2−D−メチ
ルプロパノイル]−L−プロリンt−ブチルエステルを
生成する。
第5工程では、従来の脱保護法を使用してこのt−ブチ
ルエステルを除去してN −[3−(N(x−ベンゾ
イル−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパ
ノイル)−L−プロリンを生成する。
ルエステルを除去してN −[3−(N(x−ベンゾ
イル−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパ
ノイル)−L−プロリンを生成する。
工程1のPheの代りに所望の八を置換して所望のAI
を有する化合物を得ることができる。工程4に記載した
塩化ベンゾイルカップリング化合物のベンゾイルチオの
代りにRを置換することによって所望のR基を工程3の
生成物にカップルできる。
を有する化合物を得ることができる。工程4に記載した
塩化ベンゾイルカップリング化合物のベンゾイルチオの
代りにRを置換することによって所望のR基を工程3の
生成物にカップルできる。
■(本発明の前記xxxtの製法)
第7好適方法では、方法V、工程2に記載したように製
造した3−Na−Boc−フェニルアラニルチオ−2−
D−メチルプロピオン酸を、DCC又はMA法を使用し
てN−ヒトOキシスクシンイミドとカップルさせ、次に
この生成物を方法■、工程5に記載したようにL−Pr
oと反応させてNa−[3−(Na−BOC−フェニ/
L+7ラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−
し一プロリンを生成する。
造した3−Na−Boc−フェニルアラニルチオ−2−
D−メチルプロピオン酸を、DCC又はMA法を使用し
てN−ヒトOキシスクシンイミドとカップルさせ、次に
この生成物を方法■、工程5に記載したようにL−Pr
oと反応させてNa−[3−(Na−BOC−フェニ/
L+7ラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−
し一プロリンを生成する。
第2工程では、方法v1工程3に記載したようにN(x
−[3−フェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロパ
ノイル]、−L−プロリンのTFA塩を製造する。
−[3−フェニルアラニルチオ−2−D−メチルプロパ
ノイル]、−L−プロリンのTFA塩を製造する。
第3工程では、塩化ベンゾイルを方法v1工程4に記載
したように工程2の生成物と反応させてN −[3−
(N”−ベンゾイルフェニルアラニα ルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−り一ブロリ
ンを生成する。
したように工程2の生成物と反応させてN −[3−
(N”−ベンゾイルフェニルアラニα ルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−り一ブロリ
ンを生成する。
工程1のpheの代りに何れかの所望のAを置換して所
望のA基を有する化合物を得ることができる。工程3に
記載した塩化ベンゾイルカップリング化合物のベンゾイ
ル部分の代りにRを置換することによって何れかの所望
のR基を工程2の生成物にカップルできる。
望のA基を有する化合物を得ることができる。工程3に
記載した塩化ベンゾイルカップリング化合物のベンゾイ
ル部分の代りにRを置換することによって何れかの所望
のR基を工程2の生成物にカップルできる。
方法■、■及び■において、純粋なL−、D−。
又はり、L−形の何れかでA部分、例えばフェニルアラ
ニルを得ることも可能である。例えば、出発物質として
Bpoc−L−Phe又はBpoc−D−Pheを使用
することによって、N(2−[3−(N(x−ベンゾイ
ル−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロ
パノイル]−L−プロリン又はN −[3−(N”−
ベンゾイル−α D−フェニル−アラニルチオ)−2−D−メヂルブロパ
ノイル]−L−プロリンが得られる。
ニルを得ることも可能である。例えば、出発物質として
Bpoc−L−Phe又はBpoc−D−Pheを使用
することによって、N(2−[3−(N(x−ベンゾイ
ル−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロ
パノイル]−L−プロリン又はN −[3−(N”−
ベンゾイル−α D−フェニル−アラニルチオ)−2−D−メヂルブロパ
ノイル]−L−プロリンが得られる。
3oc−L−pheと3oc−0−pheの混合物を使
用することによって、D、L−形が得られる。
用することによって、D、L−形が得られる。
IX(III連製法)
第9好適方法では、MA法を使用してH2Sの存在でN
CR−ベンゾイル−フェニルアラニン(Bz−Phe)
を反応させてN(Z−ベンゾイル−チオフェニルアラニ
ン(Bz−Phe−3H)を生ずる。
CR−ベンゾイル−フェニルアラニン(Bz−Phe)
を反応させてN(Z−ベンゾイル−チオフェニルアラニ
ン(Bz−Phe−3H)を生ずる。
第2工程では、前記の方法■、工程4に記載したように
、Bz−Phe−8Hをメタクリル酸と反応させる。
、Bz−Phe−8Hをメタクリル酸と反応させる。
次に工程2の生成物を前記の方法■、工程5に記載した
ように第3工程で分割する。
ように第3工程で分割する。
第4工程では、分割した生成物をL−プロリンt−ブチ
ルエステルとカップルさせ、次にTFAとアニソールに
溶解させて前記の方法■、工程6に記載したような所望
の化合物を生ずる。別法として、DCC又はMA法を使
用して工程3の生成物をN−ヒドロキシスクシンイミド
とカップルさせ、次にし一プロリンと反応させて同一の
生成物を生ずる。
ルエステルとカップルさせ、次にTFAとアニソールに
溶解させて前記の方法■、工程6に記載したような所望
の化合物を生ずる。別法として、DCC又はMA法を使
用して工程3の生成物をN−ヒドロキシスクシンイミド
とカップルさせ、次にし一プロリンと反応させて同一の
生成物を生ずる。
この方法の工程1のBz−Pheの代りに方法丁に関し
て前記のように任意のR−A化合物を置換して所望のR
及びA基を有する化合物を得ることができる。工程2の
メタクリル酸の代りにアクリル酸を置換して3−チオプ
ロピオン酸誘導体を生ずることができる。
て前記のように任意のR−A化合物を置換して所望のR
及びA基を有する化合物を得ることができる。工程2の
メタクリル酸の代りにアクリル酸を置換して3−チオプ
ロピオン酸誘導体を生ずることができる。
XrV(関連製法)
この方法の第1工程では、フェニルアラニンをハロゲン
化ベンゾイル、例えば塩化ベンゾイル又は臭化ベンゾイ
ル、又は活性安息香酸エステル、例えばN−スクシンイ
ミジル、p−ニトロフェニル、0−ニトロフェニル、ベ
ンゾトリアゾロイル、5−ノルボルネン− ル、ペンタクロロフェニル又はペンタフルオロフェニル
エステル ニルアラニン(Bz−Phe)を生ずる。
化ベンゾイル、例えば塩化ベンゾイル又は臭化ベンゾイ
ル、又は活性安息香酸エステル、例えばN−スクシンイ
ミジル、p−ニトロフェニル、0−ニトロフェニル、ベ
ンゾトリアゾロイル、5−ノルボルネン− ル、ペンタクロロフェニル又はペンタフルオロフェニル
エステル ニルアラニン(Bz−Phe)を生ずる。
第2工程では、工程1からのBz−Pheを3−メルカ
プト−2−メチルプロピオン酸にカップルさせて3−
(N”−ベンゾイル−フェニルアラニルチオ)−2−メ
チルプロピオン酸を生ずる。
プト−2−メチルプロピオン酸にカップルさせて3−
(N”−ベンゾイル−フェニルアラニルチオ)−2−メ
チルプロピオン酸を生ずる。
第3工程では、前記の従来方法の何れかを使用して工程
2の生成物を分割する。
2の生成物を分割する。
第4工程では、DCC又はMA法を使用して分割生成物
をL−プロリンのt−ブチルエステルにカップルさせて
N′:x− [3−N −ベンゾイル−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L−プロリン
t−ブチルエステルを生成する。次にこのエステルをア
ニソール中にTFAで脱保護して所望の化合物を生ずる
。
をL−プロリンのt−ブチルエステルにカップルさせて
N′:x− [3−N −ベンゾイル−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L−プロリン
t−ブチルエステルを生成する。次にこのエステルをア
ニソール中にTFAで脱保護して所望の化合物を生ずる
。
工程4の3−メルカプト−2−メチルプロピオン酸の代
りに3−メルカプトプロピオン酸又は2−メルカブトブ
ロビオン酸を置換して3−チオプロピオン酸及び2−チ
オプロピオン酸誘導体を生ずることができる。本方法の
工程2でBz−Pheの代りに前記のような任意の所望
のR−A化合物を置換して所望R及びA基を有する化合
物を15ることができる。
りに3−メルカプトプロピオン酸又は2−メルカブトブ
ロビオン酸を置換して3−チオプロピオン酸及び2−チ
オプロピオン酸誘導体を生ずることができる。本方法の
工程2でBz−Pheの代りに前記のような任意の所望
のR−A化合物を置換して所望R及びA基を有する化合
物を15ることができる。
XV(本発明の前記Xの製法)
続く方法では、トリエタノールアミン(TEA)の存在
でCDI法を使用してN−α、α−ジメチル−3,5−
ジメチルオキシーベンジルオキシ力ルポニルーフェニル
アラニン([)dz−Phe)を3−メルカプト−2−
メチルプロピオン酸にカップルさせて3−(DdZ−フ
ェニル−アラニルチオ)−2−メチルプロピオン酸を生
ずる。
でCDI法を使用してN−α、α−ジメチル−3,5−
ジメチルオキシーベンジルオキシ力ルポニルーフェニル
アラニン([)dz−Phe)を3−メルカプト−2−
メチルプロピオン酸にカップルさせて3−(DdZ−フ
ェニル−アラニルチオ)−2−メチルプロピオン酸を生
ずる。
Ddz以外の感光性アミノ保護基、例えば6−二トロベ
ラトリルオキシカルボニル又は2−ニトロベンジルオキ
シカルボニルも使用できる。
ラトリルオキシカルボニル又は2−ニトロベンジルオキ
シカルボニルも使用できる。
第2工程では、前記の周知方法の何れかを使用して工程
1の生成物を分割する。
1の生成物を分割する。
第3工程では、DCC又はMA法を使用して工程2の分
割生成物をL−プロリンのt−ブチルエステルにカップ
ルさせてNa−[3−(NC1−Ddz−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチル−プロパノイル]−L−プロリ
ンt−ブチルエステルを生ずる。
割生成物をL−プロリンのt−ブチルエステルにカップ
ルさせてNa−[3−(NC1−Ddz−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチル−プロパノイル]−L−プロリ
ンt−ブチルエステルを生ずる。
第4工程では、照射により工程3の生成物を脱保護して
Na−[3−フェニルアラニルチオ−2−メチルブOバ
ノイル]−L−プロリンt=ブチルエステルを生ずる。
Na−[3−フェニルアラニルチオ−2−メチルブOバ
ノイル]−L−プロリンt=ブチルエステルを生ずる。
第5工程では、前記の方法XrV、工程1に記載したベ
ンゾイルカップリング化合物の何れかに工程4の生成物
をカップルさせてN’−[3−(Na−ベンゾイル−フ
ェニルアラニルチオ−2−メチルプロパノイル]−L−
プロリンt−ブチルエステルを生ずる。
ンゾイルカップリング化合物の何れかに工程4の生成物
をカップルさせてN’−[3−(Na−ベンゾイル−フ
ェニルアラニルチオ−2−メチルプロパノイル]−L−
プロリンt−ブチルエステルを生ずる。
第6エ程では、アニソール中のTEAを使用して工程5
で製造したエステルを脱保護して所望の化合物を生ずる
。
で製造したエステルを脱保護して所望の化合物を生ずる
。
工程1の3−メルカプト−2−メチルプロピオン酸の代
りに3−メルカプトプロとオン酸及び2−メルカブトブ
ロビオン酸を置換して3−チオプロピオン酸及び2−チ
オプロピオン酸誘導体を得ることができる。工程1のフ
ェニルアラニンの代りに任意の所望の基を置換して所望
のAllを有する化合物を得ることができる。この方法
の工程5で使用する方法■の工程1に記載するベンゾイ
ルカップリング化合物中のベンゾイル基の代りにRを置
換することによって任意の所望のRI+を工程4の生成
物にカップルできる。
りに3−メルカプトプロとオン酸及び2−メルカブトブ
ロビオン酸を置換して3−チオプロピオン酸及び2−チ
オプロピオン酸誘導体を得ることができる。工程1のフ
ェニルアラニンの代りに任意の所望の基を置換して所望
のAllを有する化合物を得ることができる。この方法
の工程5で使用する方法■の工程1に記載するベンゾイ
ルカップリング化合物中のベンゾイル基の代りにRを置
換することによって任意の所望のRI+を工程4の生成
物にカップルできる。
XVI(本発明の前記Mの製法)
続く方法では、前記の方法xv1工程1に記載したよう
にCDI法を使用した2−(4−ビフェニル)−2−プ
ロピルオキシカルボニルフェニルアラニン(BpQC−
Phe)を2−メルカプト−2−メチルプロピオン酸に
カップルさせる。
にCDI法を使用した2−(4−ビフェニル)−2−プ
ロピルオキシカルボニルフェニルアラニン(BpQC−
Phe)を2−メルカプト−2−メチルプロピオン酸に
カップルさせる。
BE)QCを2−フェニルイソプロピルオキシカルボニ
ル ラルキルオキシカルボニル保I!基により置換できる。
ル ラルキルオキシカルボニル保I!基により置換できる。
第2工程では、分割の周知方法の何れかを使用して工程
1で製造した3− (N”−Bpoc−フェニルアラニ
ルチオ)−2−メチルプロピオン酸を分割する。
1で製造した3− (N”−Bpoc−フェニルアラニ
ルチオ)−2−メチルプロピオン酸を分割する。
第3工程では、方法XIV、工程3で前記のように工程
2の分割生成物をL−プロリンt−ブチルエステルにカ
ップルさせてNa− [3− (N −Bpoc−フ
ェニルアラニルチオ)−2−メチル−プロパノイル]ー
Lープロリンtーブチルエステルを生ずる。
2の分割生成物をL−プロリンt−ブチルエステルにカ
ップルさせてNa− [3− (N −Bpoc−フ
ェニルアラニルチオ)−2−メチル−プロパノイル]ー
Lープロリンtーブチルエステルを生ずる。
第4工程では、工程3で!!i造したエステルをジクロ
ロメタン中の希釈TFAで脱保護してx (2 −[3
−(フェニルアラニルチオ)−2−メチルプロパノイル
]−L−プロリンt−ブチルエステルを生ずる。
ロメタン中の希釈TFAで脱保護してx (2 −[3
−(フェニルアラニルチオ)−2−メチルプロパノイル
]−L−プロリンt−ブチルエステルを生ずる。
第5工程では、工程4の生成物を前記の方法XrV、工
程1に記載したもののようなベンゾイル化合物にカップ
ルさせる。
程1に記載したもののようなベンゾイル化合物にカップ
ルさせる。
最後の工程では、工程5の生成物をアニソール中のTF
Aで脱保護して所望の化合物を生ずる。
Aで脱保護して所望の化合物を生ずる。
工程1の3−メルカプト−2−メチルプロピオン酸の代
りに3−メルカプトプロピオン酸及び2−メルカブトブ
ロビオン酸を買換して3−チオプロピオン酸及び2−ヂ
オプロビオン酸誘導体を得ることができる。工程1のフ
ェニルアラニンの代りに任意の所望のA基を置換して所
望のA基を有する化合物を得ることができる。本方法の
工程5で使用する方法X■の工程1に記載するベンゾイ
ルカップリング化合物中のベンゾイル基の代りにRを置
換することによって任意の所望のR基を工程4の生成物
にカップルできる。
りに3−メルカプトプロピオン酸及び2−メルカブトブ
ロビオン酸を買換して3−チオプロピオン酸及び2−ヂ
オプロビオン酸誘導体を得ることができる。工程1のフ
ェニルアラニンの代りに任意の所望のA基を置換して所
望のA基を有する化合物を得ることができる。本方法の
工程5で使用する方法X■の工程1に記載するベンゾイ
ルカップリング化合物中のベンゾイル基の代りにRを置
換することによって任意の所望のR基を工程4の生成物
にカップルできる。
XIX(本発明の前記XrVの製法)
なお別の方法では、DCC法を使用してDdz−Phe
をp−ニトロフェノールにカップルさせてNo:x−D
d z−フェニルアラニンp−ニトロフェノールエステ
ルを生ずる。BDOC,Ppoc又はBZでこの保護基
Ddzを置換できる。方法XIV、工程1に記載したも
ののような任意の他の活性エステル基でこのp−ニトロ
フェノールエステル基を置換できる。次にこのN −
Ddz−フェニルアラニンp−ニトロフェノールエステ
ルをNa5Hと反応させてDdz−チオフェニルアラニ
ンを生ずる。
をp−ニトロフェノールにカップルさせてNo:x−D
d z−フェニルアラニンp−ニトロフェノールエステ
ルを生ずる。BDOC,Ppoc又はBZでこの保護基
Ddzを置換できる。方法XIV、工程1に記載したも
ののような任意の他の活性エステル基でこのp−ニトロ
フェノールエステル基を置換できる。次にこのN −
Ddz−フェニルアラニンp−ニトロフェノールエステ
ルをNa5Hと反応させてDdz−チオフェニルアラニ
ンを生ずる。
第2工程では、工程1の生成物をメタクリル酸と反応さ
せて3−(N −Ddz−フェニルアラニルチオ)−
2−メチルプロピオン酸を生ずる。
せて3−(N −Ddz−フェニルアラニルチオ)−
2−メチルプロピオン酸を生ずる。
第3工程では、任意の従来の分割法を使用して工程2で
製造した酸を分割する。
製造した酸を分割する。
第4工程では、前記の方法Xv1工程3に記載したよう
に、工程3の分割生成物をし一プロリンt−ブチルエス
テルにカップルさせてN“−[3−(N −Ddz−
フェニルアラニルチオ−2−メチルブロパノイル]−1
−プロリンt−ブチルエステルを生ずる。
に、工程3の分割生成物をし一プロリンt−ブチルエス
テルにカップルさせてN“−[3−(N −Ddz−
フェニルアラニルチオ−2−メチルブロパノイル]−1
−プロリンt−ブチルエステルを生ずる。
第5工程では、照射により工程4のエステルを脱保護し
て方法Xv、工程4で前記のようにNo−[3−フェニ
ルアラニルチオ−2−メチルプロパノイル]−L−プロ
リンt−ブチルニスデルを生ずる。
て方法Xv、工程4で前記のようにNo−[3−フェニ
ルアラニルチオ−2−メチルプロパノイル]−L−プロ
リンt−ブチルニスデルを生ずる。
第6エ程では、工程5の生成物を前記の方法)NVの工
程1に記載したベンゾイルカップリング化合物の何れか
にカップルさせて前記の方法Xv、工程5に記載したよ
うにN −[3−(Na−ベンゾイル−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L−プロリン
t−ブチルエステルを生ずる。
程1に記載したベンゾイルカップリング化合物の何れか
にカップルさせて前記の方法Xv、工程5に記載したよ
うにN −[3−(Na−ベンゾイル−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L−プロリン
t−ブチルエステルを生ずる。
第7エ程では、工程6で製造したエステルをアニソール
中のTFAで脱保護して所望の化合物を生ずる。
中のTFAで脱保護して所望の化合物を生ずる。
本方法の工程2でメタクリル酸の代りにアクリル酸を置
換して3−チオプロピオンSX導体を得ることができる
。工程1のフェニルアラニンの代りに任意の所望のA基
を置換して所望のA基を有する化合物を得ることができ
る。工程6に使用したベンゾイルカップリング化合物中
のベンゾイル基の代りにRを置換することによって任意
の所望のR基を工程5の生成物にカップルできる。
換して3−チオプロピオンSX導体を得ることができる
。工程1のフェニルアラニンの代りに任意の所望のA基
を置換して所望のA基を有する化合物を得ることができ
る。工程6に使用したベンゾイルカップリング化合物中
のベンゾイル基の代りにRを置換することによって任意
の所望のR基を工程5の生成物にカップルできる。
XX(本発明の前記xvの製法)
続く方法では、DCC法を有してメタクリル酸をL−プ
ロリンt−ブチルエステルと反応させて2−メチルプロ
ペノイル−し−プロリンt−ブチルエステルを生ずる。
ロリンt−ブチルエステルと反応させて2−メチルプロ
ペノイル−し−プロリンt−ブチルエステルを生ずる。
第2工程では、DCC法を使用してDdz−フェニルア
ラニンをp−ニトロフェノールにカップルさせてDdz
−フェニルアラニンp−ニトロフェノールエステルを生
じ、続いてNa5Hとこのエステルを反応させて前記の
方法X IV、工程1に記載したようにDd z−チオ
フェニルアラニンを生ずる。
ラニンをp−ニトロフェノールにカップルさせてDdz
−フェニルアラニンp−ニトロフェノールエステルを生
じ、続いてNa5Hとこのエステルを反応させて前記の
方法X IV、工程1に記載したようにDd z−チオ
フェニルアラニンを生ずる。
第3工程では、工程1の生成物を工程2の生成物の反応
させてN −[3−(N −Ddz−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロパノイル】−L−プロリン
t−ブチルエステルを生ずる。
させてN −[3−(N −Ddz−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロパノイル】−L−プロリン
t−ブチルエステルを生ずる。
第4工程では、照射により工程3の生成物を脱保護して
前記の方法xv、工程4に記載したようにNa−[3−
フェニルアラニルチオ−2−メチルプロパノイル]−L
−プロリンt−ブチルエステルを生ずる。
前記の方法xv、工程4に記載したようにNa−[3−
フェニルアラニルチオ−2−メチルプロパノイル]−L
−プロリンt−ブチルエステルを生ずる。
第5工程では、工程4の生成物を前記の方法X IX、
■稈1に記載したベンゾイルカップリング化合物の何れ
かにカップルさせて前記の方法xv1工程5に記載した
ようにN −[3−(N −ベンゾイル−フェニル
アラニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L−プロ
リンt−ブチルエステルを生ずる。
■稈1に記載したベンゾイルカップリング化合物の何れ
かにカップルさせて前記の方法xv1工程5に記載した
ようにN −[3−(N −ベンゾイル−フェニル
アラニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L−プロ
リンt−ブチルエステルを生ずる。
第6エ程では、工程5で製造したエステルをアニソール
中のTFAで脱保護する。
中のTFAで脱保護する。
第7エ程では、従来方法の何れかを使用して工程6の生
成物6を分割して所望の化合物を生ずる。
成物6を分割して所望の化合物を生ずる。
別法として、工程3のDdZ−チオフェニルアラニンの
代りにN −ベンゾイル−チオフェニルアラニンを置換
でき、かくして工程4と5を不必要にする。
代りにN −ベンゾイル−チオフェニルアラニンを置換
でき、かくして工程4と5を不必要にする。
本方法の工程1でメタクリル酸の代りにアクリル酸を置
換してプロペノイル−し−プロリン誘導体を得ることが
できる。工程2のフェニルアラニンの代りに任意の所望
のAIを置換して所望のA基を有する化合物を生ずる。
換してプロペノイル−し−プロリン誘導体を得ることが
できる。工程2のフェニルアラニンの代りに任意の所望
のAIを置換して所望のA基を有する化合物を生ずる。
工程5で使用したベンゾイルカップリング化合物中のベ
ンゾイル基の代りにRを置換することによって任意の所
望のR基を工程4の生成物にカップルできる。
ンゾイル基の代りにRを置換することによって任意の所
望のR基を工程4の生成物にカップルできる。
XXI[(IIAf製法)
別の方法では、従来の固相技術を使用して所望の化合物
を合成する。^dvan、 Enz mol、止ヱ、(
1969)を参照せよ。固相として0−ニトロベンジル
樹脂又はクロロメチル化樹脂を使用できる。
を合成する。^dvan、 Enz mol、止ヱ、(
1969)を参照せよ。固相として0−ニトロベンジル
樹脂又はクロロメチル化樹脂を使用できる。
第1工程では、Boc−proを樹脂にカップルさせる
。次にTFAを使用してこのプロリンを脱保護する。
。次にTFAを使用してこのプロリンを脱保護する。
第2工程では、DCC法を使用して3−(N(x−ベン
ゾイル−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルブロ
ビオン酸を工程1で製造したプロリン樹脂錯体にカップ
ルさせる。
ゾイル−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルブロ
ビオン酸を工程1で製造したプロリン樹脂錯体にカップ
ルさせる。
第3工程では、所望の化合物を樹脂から開裂する。O−
ニトロベンジル樹脂を使用する場合には、照射により開
裂を行なう。クロロメチル化樹脂を使用する場合には、
HFを使用することによってU1裂を行なう。
ニトロベンジル樹脂を使用する場合には、照射により開
裂を行なう。クロロメチル化樹脂を使用する場合には、
HFを使用することによってU1裂を行なう。
工程2で3−(N(x−ペンゾイルーフェニルアラニル
ヂオ)−2−D−メチルプロピオン酸の代りに3−R−
A−8−2−メチルプロピオン酸、2−R−A−8−プ
ロピオン酸又は3−R−A−8−プロピオン酸を置換す
ることによって任意の所望の化合物が得られる。
ヂオ)−2−D−メチルプロピオン酸の代りに3−R−
A−8−2−メチルプロピオン酸、2−R−A−8−プ
ロピオン酸又は3−R−A−8−プロピオン酸を置換す
ることによって任意の所望の化合物が得られる。
XXII[(本発明の前記x■■の製法)固相技術を使
用する別の方法では、Boc−Proを固相、例えばO
−ニトロベンジル樹脂にカップルさせ、そして次に前記
の方法XX■の工程1に記載したよう脱保護する。
用する別の方法では、Boc−Proを固相、例えばO
−ニトロベンジル樹脂にカップルさせ、そして次に前記
の方法XX■の工程1に記載したよう脱保護する。
第2工程では、DCC法を使用して3−CbO−チオ−
2−メチルプロピオン酸を工程1のプロリン樹脂複合体
にカップルさせる。次にメタノールとアンモニアのよう
なアルカリ性溶液での処理によってこのアセチル塁を除
去する。
2−メチルプロピオン酸を工程1のプロリン樹脂複合体
にカップルさせる。次にメタノールとアンモニアのよう
なアルカリ性溶液での処理によってこのアセチル塁を除
去する。
第3工程では、保護されたフェニルアラニンを工程2の
生成物にカップルさせる。このフェニルアラニンをBo
c、8poc、Pooc又は任意の他の酸敏感保r!!
基で保護する。
生成物にカップルさせる。このフェニルアラニンをBo
c、8poc、Pooc又は任意の他の酸敏感保r!!
基で保護する。
第4工程では、TFAを使用して工程3の生成物を脱保
護する。
護する。
第5工程では、工程4の生成物を前記の方法xvの工程
3に記載したベンゾイルカップリング化合物の何れかに
カップルさせる。
3に記載したベンゾイルカップリング化合物の何れかに
カップルさせる。
α
第6エ程ではN −[3−(N(x−ベンゾイル−フ
ェニルアラニルチオ)−2−メチルプロパノイル] −
L −prolineを前記の方法XX■、工程3に記
載したように樹脂から開裂する。
ェニルアラニルチオ)−2−メチルプロパノイル] −
L −prolineを前記の方法XX■、工程3に記
載したように樹脂から開裂する。
第7エ程では、周知の方法を使用して工程6の生成物を
分割して所望の化合物を生ずる。
分割して所望の化合物を生ずる。
工程3で使用した保護されたフェニルアラニン化合物の
代りにNo−ベンゾイル−フェニルアラニンを置換でき
る。これを行なう場合には、工程4及び5を省略できる
。
代りにNo−ベンゾイル−フェニルアラニンを置換でき
る。これを行なう場合には、工程4及び5を省略できる
。
工程2で3−アセチルチオ−2−メチルプロピオン酸の
代りに3−アセチルプロピオン酸又は2−7セチルプロ
ビオン酸を置換して3−チオプロピオン酸又は2−チオ
プロピオン酸誘導体を得ることができる。工程3のフェ
ニルアラニンの代りに任意の所望のA基を置換して所望
のA基を有する化合物を得ることができる。工程5で使
用したベンゾイルカップリング化合物中のベンゾイル基
の代りに任意の所望のR基を工程4の生成物にカップル
できる。
代りに3−アセチルプロピオン酸又は2−7セチルプロ
ビオン酸を置換して3−チオプロピオン酸又は2−チオ
プロピオン酸誘導体を得ることができる。工程3のフェ
ニルアラニンの代りに任意の所望のA基を置換して所望
のA基を有する化合物を得ることができる。工程5で使
用したベンゾイルカップリング化合物中のベンゾイル基
の代りに任意の所望のR基を工程4の生成物にカップル
できる。
D構造が3−メルカプト−2−メチルプ・ロビオン酸基
のメチル側鎖に対して示される時には何時でも、これは
S構造と称するものに等価であることを了解すべきであ
る。
のメチル側鎖に対して示される時には何時でも、これは
S構造と称するものに等価であることを了解すべきであ
る。
本発明の化合物は種々の無機及び有n!!基との塩基性
塩を形成し、これらはまた本発明の範囲内である。この
塩はアンモニウム塩、ナトリウム及びカリウム塩のよう
なアルカリ金属塩(これらが好適である)、カルシウム
及びマグネシウム塩のようなアルカリ土金属塩、有機塩
基との塩、例えばジシクロヘキシルアミン塩、ベンザチ
ン、N−メチル−D−グルカミン、ヒドラパミン塩、ア
ルギニン、リジン等のアミノ酸との塩を含む。非毒性の
、生理学的に認容し得る塩が好適であるが、しかし例え
ばジシクロヘキシルアミン塩の場合に実施例で示すよう
に、生成物を分離し又は精製する際に、他の塩もまた有
用である。
塩を形成し、これらはまた本発明の範囲内である。この
塩はアンモニウム塩、ナトリウム及びカリウム塩のよう
なアルカリ金属塩(これらが好適である)、カルシウム
及びマグネシウム塩のようなアルカリ土金属塩、有機塩
基との塩、例えばジシクロヘキシルアミン塩、ベンザチ
ン、N−メチル−D−グルカミン、ヒドラパミン塩、ア
ルギニン、リジン等のアミノ酸との塩を含む。非毒性の
、生理学的に認容し得る塩が好適であるが、しかし例え
ばジシクロヘキシルアミン塩の場合に実施例で示すよう
に、生成物を分離し又は精製する際に、他の塩もまた有
用である。
この生成物の遊離酸形を、塩が殆ど又は全く不溶性であ
る溶媒又は媒体中で、又は水中で所望のカチオンを供す
る1又はそれ以上の当量の適当な塩基と反応させること
そして凍結乾燥により水を除去することによって従来の
方法でこの塩を形成する。この塩を水素形の陽イオン交
換樹脂(例えばDowex 5 Qのようなポリスチレ
ンスルホン酸樹脂)のような不溶性酸と、又は水性酸と
反応させること、そして有機溶媒、例えばエチルアセテ
ート、ジクロロメタン等で抽出することによって遊ms
形が得られ、そして所望に応じて、伯の塩を形成できる
。
る溶媒又は媒体中で、又は水中で所望のカチオンを供す
る1又はそれ以上の当量の適当な塩基と反応させること
そして凍結乾燥により水を除去することによって従来の
方法でこの塩を形成する。この塩を水素形の陽イオン交
換樹脂(例えばDowex 5 Qのようなポリスチレ
ンスルホン酸樹脂)のような不溶性酸と、又は水性酸と
反応させること、そして有機溶媒、例えばエチルアセテ
ート、ジクロロメタン等で抽出することによって遊ms
形が得られ、そして所望に応じて、伯の塩を形成できる
。
α
便宜上、N −[3−(N’−ベンゾイル−フェニル
アラニルチオ)−2−D−メチルプロパツル]−L−プ
ロリンを製造する方法の詳細を下記の実施例に記載する
。下記の例では、モル当量の反応体を使用する。
アラニルチオ)−2−D−メチルプロパツル]−L−プ
ロリンを製造する方法の詳細を下記の実施例に記載する
。下記の例では、モル当量の反応体を使用する。
■(参考例)
工程I N”−t−ブチルオキシカルボニル−L−チ
オフェニル−アラニンフェニルエステルの合成 再蒸留したエタノール約201d中のBOC−L−Ph
e3.98gの溶液をメタノール−氷−ドライアイス浴
で一20℃に冷却した。この溶液にN−エチルモルホリ
ン2.04mを加え、続いてイソブチルクロロホルメー
ト2.04dを加え、そして−15℃で3分間この溶液
をかきまぜた。
オフェニル−アラニンフェニルエステルの合成 再蒸留したエタノール約201d中のBOC−L−Ph
e3.98gの溶液をメタノール−氷−ドライアイス浴
で一20℃に冷却した。この溶液にN−エチルモルホリ
ン2.04mを加え、続いてイソブチルクロロホルメー
ト2.04dを加え、そして−15℃で3分間この溶液
をかきまぜた。
次にチオフェノール1.8altを加えそして生成すす
る反応混合物を一15℃で172時間かきまぜた。この
反応混合物を室温に徐々に加温し、次に更に2時間かき
まぜた。エチルアセテート20mを加え、そしてこの混
合物を水浴で冷却した。この有機相を冷水で3回、冷1
Nクエン酸で3回、冷飽和NaCj!で3回、冷IN
NaHCO2で3回そして最後に冷飽和NaC1で3
回洗浄した。
反応混合物を室温に徐々に加温し、次に更に2時間かき
まぜた。エチルアセテート20mを加え、そしてこの混
合物を水浴で冷却した。この有機相を冷水で3回、冷1
Nクエン酸で3回、冷飽和NaCj!で3回、冷IN
NaHCO2で3回そして最後に冷飽和NaC1で3
回洗浄した。
次に有機相を無水MgSO4で乾燥しそしてろ過した。
この溶媒を回転蒸発器で除去した。残渣をベンゼン−石
油エーテルから結晶化して113.5〜114.5℃の
融点を有する白色針状結晶3.68gを生じた。IR,
nir、元素分析、ベーパー電気泳動及び薄層クロマト
グラフィーの分析は生成物が表記の化合物であることを
示した。
油エーテルから結晶化して113.5〜114.5℃の
融点を有する白色針状結晶3.68gを生じた。IR,
nir、元素分析、ベーパー電気泳動及び薄層クロマト
グラフィーの分析は生成物が表記の化合物であることを
示した。
工程2 N −ベンゾイル−し−チオフェニルアラニン
フェニルエステル m 工程1からの生成物2gをアニソール2、Odに
加え、そして氷−アセトン浴に冷却した。30分間室温
で無水TEAndと共に混合物をかきまぜることによっ
てN −BOC基を除去した。回転蒸発器を用いて3
0℃でTFAを除去した。白色結晶が最初に現われるま
で高真空上蒸発器を用いて30℃でTFAとアニソール
を除去した。
フェニルエステル m 工程1からの生成物2gをアニソール2、Odに
加え、そして氷−アセトン浴に冷却した。30分間室温
で無水TEAndと共に混合物をかきまぜることによっ
てN −BOC基を除去した。回転蒸発器を用いて3
0℃でTFAを除去した。白色結晶が最初に現われるま
で高真空上蒸発器を用いて30℃でTFAとアニソール
を除去した。
(11)次にエタノール中の0.5M塩化水素10dを
加え、そして室温で10分間この混合物をかきまぜた。
加え、そして室温で10分間この混合物をかきまぜた。
無水エーテル15−を加えそして30分間この混合物を
水浴で冷却した。溶液をろ過し、そしてエーテルで数回
結晶を洗浄した。
水浴で冷却した。溶液をろ過し、そしてエーテルで数回
結晶を洗浄した。
NaOHベレットとP2O5上に與空デシケーター中で
夜通し結晶を乾燥して164.5−165℃の分解点を
有する白色結晶1.039を生じた。
夜通し結晶を乾燥して164.5−165℃の分解点を
有する白色結晶1.039を生じた。
(iii)この生成物、即ち、L−チオフェニルアラニ
ンフェニルエステルの塩酸塩1.12gを激しくかきま
ぜながらエチルアセテート15dに懸濁させた。次に室
温で塩化ベンゾイル0.45I11を加えた。この混合
物に水1oId中のNa2 CO31,01!Jの溶液
を滴下で加えそして生成する混合物を更に30分間激し
くかきまぜた。次にこの混合物を30分間氷浴で冷fJ
j Lそしてろ過した。残香を冷水で7回、冷エチルア
セテートで1回、そして無水エーテルで2回洗浄した。
ンフェニルエステルの塩酸塩1.12gを激しくかきま
ぜながらエチルアセテート15dに懸濁させた。次に室
温で塩化ベンゾイル0.45I11を加えた。この混合
物に水1oId中のNa2 CO31,01!Jの溶液
を滴下で加えそして生成する混合物を更に30分間激し
くかきまぜた。次にこの混合物を30分間氷浴で冷fJ
j Lそしてろ過した。残香を冷水で7回、冷エチルア
セテートで1回、そして無水エーテルで2回洗浄した。
次に残香を数時間NaOHベレットとP2O5上に真空
デシケータ−中で乾燥して182〜183℃の分解点を
有する白色結晶1.329を生じた。rR,rvr、元
素分析、紙電気泳動及び薄層クロマトグラフィーを使用
する生成物の分析は生成物が表記の化合物であることを
示した。
デシケータ−中で乾燥して182〜183℃の分解点を
有する白色結晶1.329を生じた。rR,rvr、元
素分析、紙電気泳動及び薄層クロマトグラフィーを使用
する生成物の分析は生成物が表記の化合物であることを
示した。
工程3 N(x−ベンゾイル−し−チオフェニルアラニ
ンの合成 窒素流を無水エタノール25ae中のNa581.01
gの溶液へ激しくかきまぜながらかつ35−40℃に保
った温度で起泡させた。工程2からの生成物2.17g
を15分間にわたって加えた。添加の最後には反応混合
物の温度を約20℃に下げた。この混合物を172時間
20℃で激しくかきまぜた。エタノールを32℃で回転
蒸発器で除去した。水30−を加えそして溶液を水浴で
冷Ell L、た。次に50%H8O4を使用して溶液
をEIH2に酸性化した。この混合物を30分間水浴に
放置しそして次にろ過した。残香を冷水で数回洗浄しそ
してNaOHペレットとP2O,上に真空デシケータ−
中で夜通し乾燥した。残香をベンゼン−ヘキサンから再
結晶させると108.5〜109.5℃の分解点を有す
る白色針状結晶1.459を生じた。IR,nmr、元
素分析、ペーパー電気泳動及び薄層りOマドグラフィー
を使用する生成物の分析はこの生成物が表記の化合物で
あることを示した。
ンの合成 窒素流を無水エタノール25ae中のNa581.01
gの溶液へ激しくかきまぜながらかつ35−40℃に保
った温度で起泡させた。工程2からの生成物2.17g
を15分間にわたって加えた。添加の最後には反応混合
物の温度を約20℃に下げた。この混合物を172時間
20℃で激しくかきまぜた。エタノールを32℃で回転
蒸発器で除去した。水30−を加えそして溶液を水浴で
冷Ell L、た。次に50%H8O4を使用して溶液
をEIH2に酸性化した。この混合物を30分間水浴に
放置しそして次にろ過した。残香を冷水で数回洗浄しそ
してNaOHペレットとP2O,上に真空デシケータ−
中で夜通し乾燥した。残香をベンゼン−ヘキサンから再
結晶させると108.5〜109.5℃の分解点を有す
る白色針状結晶1.459を生じた。IR,nmr、元
素分析、ペーパー電気泳動及び薄層りOマドグラフィー
を使用する生成物の分析はこの生成物が表記の化合物で
あることを示した。
工程4 3−(N(x−ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 工程3からの生成物285IIIg及びトルエン2d中
のメタクリル酸86.1aeの懸濁液を、薄層クロマト
グラフィーとペーパー電気泳動により示されるように反
応が実質上完了するまで数時間速流させた。次にこの混
合物をv温で夜通し貯蔵した。
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 工程3からの生成物285IIIg及びトルエン2d中
のメタクリル酸86.1aeの懸濁液を、薄層クロマト
グラフィーとペーパー電気泳動により示されるように反
応が実質上完了するまで数時間速流させた。次にこの混
合物をv温で夜通し貯蔵した。
35℃で高真空下回転蒸発器で溶媒を除去して油状残香
を生じた。この残香を結晶化しそしてベンゼン−n−ヘ
キサンから再結晶させて120〜122.5℃の融点を
有する白色結晶195■を生じた。IR,nlr、元素
分析、ペーパー電気泳動及び薄層クロマトグラフィーに
よる生成物の分析は生成物が表記の化合物であることを
示した。
を生じた。この残香を結晶化しそしてベンゼン−n−ヘ
キサンから再結晶させて120〜122.5℃の融点を
有する白色結晶195■を生じた。IR,nlr、元素
分析、ペーパー電気泳動及び薄層クロマトグラフィーに
よる生成物の分析は生成物が表記の化合物であることを
示した。
工程5 3−(NcI−ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 咎 工程4からの生成物をベンゼンから繰返し結晶化し
て表記の化合物を生じた。この繰返し結晶化法において
方法x x rx 1工程1−3に記載する方法によっ
て製造した種結晶を利用することによって、表記の化合
物が更に迅速にかつより高い収量で得られる。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 咎 工程4からの生成物をベンゼンから繰返し結晶化し
て表記の化合物を生じた。この繰返し結晶化法において
方法x x rx 1工程1−3に記載する方法によっ
て製造した種結晶を利用することによって、表記の化合
物が更に迅速にかつより高い収量で得られる。
(へ) 工程4からの生成物をベンゼンに溶解する。
1当吊のジシクロヘキシルアミンをこの溶液に加えそし
て数時間かきまぜる。この混合物を4℃で夜通し放置し
そして次にろ過する。この結晶を洗浄し、次に真空デシ
ケータで乾燥する。
て数時間かきまぜる。この混合物を4℃で夜通し放置し
そして次にろ過する。この結晶を洗浄し、次に真空デシ
ケータで乾燥する。
この結晶を水とエチルアセテートの混合物に溶解する。
この混合物を水浴にIAHcIでpH2に酸性化する。
次にこの混合物を飽和NaC1の溶液で洗浄しそしtM
9SO4で乾燥する。溶液をろ過しそして回転蒸発器で
溶媒を除去する。
9SO4で乾燥する。溶液をろ過しそして回転蒸発器で
溶媒を除去する。
次に表記の生成物をベンゼンから結晶化する。
工程6 N’−[3−(N”−ベンゾイル−し−フェ
ニルアラニルチオ)−2−D−メチル−プロパノイル]
−L−プロリンの合成 (ハ) (i)工程5からの生成物2.5mモルをジメ
チルホルムアミド(DMF)3aeに溶解しそして氷−
アセトン浴で0℃に冷却する。DMFl、5d中のDC
C2,5mモルを加え、モして0℃で5分間この混合物
をかきまぜる。この溶液にDMFl、5d中のL−プロ
リンt−ブチルエステル2.5dを加える。この反応混
合物を4℃で夜通しかきまぜる。反応混合物をエチルア
セテート10rdの添加とろ過により作り上げる。沈殿
物をエチルアセテート20ai!で洗浄する。組合わせ
たエチルアセテート画分をフリーザで冷却する。有機相
を飽和NaCj!で3回、冷0.1N NaHCO3
で1回、そして飽和NaC1で3回洗浄する。有機相を
無水MqSO4で乾燥しかつろ過する。溶媒を回転蒸発
器で高真空上除去して白色残香を生ずる。
ニルアラニルチオ)−2−D−メチル−プロパノイル]
−L−プロリンの合成 (ハ) (i)工程5からの生成物2.5mモルをジメ
チルホルムアミド(DMF)3aeに溶解しそして氷−
アセトン浴で0℃に冷却する。DMFl、5d中のDC
C2,5mモルを加え、モして0℃で5分間この混合物
をかきまぜる。この溶液にDMFl、5d中のL−プロ
リンt−ブチルエステル2.5dを加える。この反応混
合物を4℃で夜通しかきまぜる。反応混合物をエチルア
セテート10rdの添加とろ過により作り上げる。沈殿
物をエチルアセテート20ai!で洗浄する。組合わせ
たエチルアセテート画分をフリーザで冷却する。有機相
を飽和NaCj!で3回、冷0.1N NaHCO3
で1回、そして飽和NaC1で3回洗浄する。有機相を
無水MqSO4で乾燥しかつろ過する。溶媒を回転蒸発
器で高真空上除去して白色残香を生ずる。
(11)この残香をアニソール4dに懸濁し、そしてか
きまぜながら室温1 /2時間TFA8dで反応させる
。高真空下回転蒸発器でTFAを除去する。残香をテト
ラヒドロフラン(THF)11I!i!に溶解しそして
クロマトグラフにかけた。
きまぜながら室温1 /2時間TFA8dで反応させる
。高真空下回転蒸発器でTFAを除去する。残香をテト
ラヒドロフラン(THF)11I!i!に溶解しそして
クロマトグラフにかけた。
所望の画分を蒸発乾固し、少伍のイソプロパツールに溶
解しそして再びクロマトグラフにかけた。油を生ずる所
望の両分をTHEに溶解し、次にN2流の下でこのTH
Eを蒸発させる。高真空下回転蒸発器で残りの溶媒を除
去した後に最終生成物が得られる。
解しそして再びクロマトグラフにかけた。油を生ずる所
望の両分をTHEに溶解し、次にN2流の下でこのTH
Eを蒸発させる。高真空下回転蒸発器で残りの溶媒を除
去した後に最終生成物が得られる。
@ DMF中のDCC2,5mモルの冷却溶液を工程5
からの生成物2.5mモルとDMF中の 。
からの生成物2.5mモルとDMF中の 。
N−ヒドロキシスクシンイミド2.5mモルの混合物に
0℃で滴下で加える。この反応混合物を0℃で30分間
そして4℃で夜通しかきまぜる。ろ過により結晶性ジシ
クロヘキシル尿素を除去しそして沈殿物をエチルアセテ
ートで洗浄する。組合わせたろ液からの溶媒を減圧上除
去しモして残香をベンゼン−ヘキセンから結晶化する。
0℃で滴下で加える。この反応混合物を0℃で30分間
そして4℃で夜通しかきまぜる。ろ過により結晶性ジシ
クロヘキシル尿素を除去しそして沈殿物をエチルアセテ
ートで洗浄する。組合わせたろ液からの溶媒を減圧上除
去しモして残香をベンゼン−ヘキセンから結晶化する。
この結晶を冷THFに溶解し、次にこの溶液をTHF/
水中のL−Pro2.5mモル及びN a HCO32
、5mモルの冷溶液に加える。反応混合物を室温で夜通
しかきまぜる。35℃でこのTHEを回転蒸発器で除去
する。水をこの混合しそして固体NaHCO3を使用し
てこのpHを9に調整する。水相をエチルアセテートで
抽出する。水相を水浴で冷却し、次にエチルアセテート
の存在でIN HCIを使用して0112に酸性化す
る。この有機相を冷水で2回、次に飽和NaC1で2回
洗浄する。有機相を無水MQS04で乾燥しそしてろ過
する。溶媒を回転蒸発器で除去しそして残香をエチル−
ヘキサンから結晶化して表記の化合物を生ずる。得られ
たベンゾイル−し−フェニルアラニル−チオ−2−D−
プロパノイル−し−プロリンのNMRスペクトル値およ
びTLCのRf値を次に示す。
水中のL−Pro2.5mモル及びN a HCO32
、5mモルの冷溶液に加える。反応混合物を室温で夜通
しかきまぜる。35℃でこのTHEを回転蒸発器で除去
する。水をこの混合しそして固体NaHCO3を使用し
てこのpHを9に調整する。水相をエチルアセテートで
抽出する。水相を水浴で冷却し、次にエチルアセテート
の存在でIN HCIを使用して0112に酸性化す
る。この有機相を冷水で2回、次に飽和NaC1で2回
洗浄する。有機相を無水MQS04で乾燥しそしてろ過
する。溶媒を回転蒸発器で除去しそして残香をエチル−
ヘキサンから結晶化して表記の化合物を生ずる。得られ
たベンゾイル−し−フェニルアラニル−チオ−2−D−
プロパノイル−し−プロリンのNMRスペクトル値およ
びTLCのRf値を次に示す。
NMRスペクトル(60HIIZ)
δ(CDCj! +CD30D中):1.19(3H,
b、d、CH3)、1.5−2.4(4H,m、CH2
>、2.5−3.3 (5H1m、CHおよびCH2〉
、3.3−3.8(2H,m、CH2)、4.0 4.
4 (il」、m、CH)、4.8−5.2(1H,m
。
b、d、CH3)、1.5−2.4(4H,m、CH2
>、2.5−3.3 (5H1m、CHおよびCH2〉
、3.3−3.8(2H,m、CH2)、4.0 4.
4 (il」、m、CH)、4.8−5.2(1H,m
。
CH)、7.23 (5H,S、芳香族H)および7.
2−7.9 (5H,m、芳香族H)。
2−7.9 (5H,m、芳香族H)。
分子量468゜
TLCのRf値:0.56 (CHcJ!3:MeOH
:AcOH,2: 1 :0.003> 、0.
74 (n−BuOH:AcOH: H2O,4:1
:1) 。
:AcOH,2: 1 :0.003> 、0.
74 (n−BuOH:AcOH: H2O,4:1
:1) 。
同様な方法で、ベンゾイル−D−フェニルアラニル−チ
オ−2−D−プロパノイル−L−プロリンを合成した。
オ−2−D−プロパノイル−L−プロリンを合成した。
そのNMRスペクトル値およびRf値を次に示めす。
NMRスペクトル(60HIIZ)
δ(CDC1十CD30D中):1.19(3HSb、
CH3)、1.5−2.4 (4H1m、CH2)、2
.5−3.3 (5H,m。
CH3)、1.5−2.4 (4H1m、CH2)、2
.5−3.3 (5H,m。
CHおよびCH2)、3.3−3.8 (2H。
m10H2>、4.0−4.4 (1H,m。
CH) 、 4. 8−5. 2 (I
H,m、 CH) 、7.23 (5H,
S、芳香族H)および7.2−7.9 (5t−1,m
、芳香族H)。
H,m、 CH) 、7.23 (5H,
S、芳香族H)および7.2−7.9 (5t−1,m
、芳香族H)。
分子ff1468゜
TLCのRf値:0.56 (CHCJ3:MeOH:
Ac0)−112: 1 :0.003) 、0
.74 (n−BuO)−1:AcOH:H20,4:
1 :1) 。
Ac0)−112: 1 :0.003) 、0
.74 (n−BuO)−1:AcOH:H20,4:
1 :1) 。
No−ベンゾイル−し−チオフェニルアラニンを合成す
る別の方法 (ハ) BOC−L−チオフェニルアラニンフェニルエ
ステルを工程1に記載したように製造する。
る別の方法 (ハ) BOC−L−チオフェニルアラニンフェニルエ
ステルを工程1に記載したように製造する。
工程3に記載した方法に実質上従ってこのチオ酸、Bo
c−L−チオフェニルアラニンを製造16゜別法として
J、 Am、 Chew、 Soc、 7A、 472
6 (1952)に記載したように混合無水物カップリ
ング法を使用してモル当量の3oc−L−PheとH2
Sを反応させることによってこのチオ酸を製造する。こ
のチオ酸をエタノール中の塩化水素と反応させ、続いて
工程2に記載したように、生成物を塩化ベンゾイル又は
安息香酸の活性エステルと反応させて表記の化合物を生
ずる。
c−L−チオフェニルアラニンを製造16゜別法として
J、 Am、 Chew、 Soc、 7A、 472
6 (1952)に記載したように混合無水物カップリ
ング法を使用してモル当量の3oc−L−PheとH2
Sを反応させることによってこのチオ酸を製造する。こ
のチオ酸をエタノール中の塩化水素と反応させ、続いて
工程2に記載したように、生成物を塩化ベンゾイル又は
安息香酸の活性エステルと反応させて表記の化合物を生
ずる。
■ J、 8io、 ChcIl、 138.6
27 (1941)に記載されるように水酸化ナトリ
ウム中でモル当量の塩化ベンゾイルとL−pheを反応
させることによってNo−ベンゾイル−L−Pheを合
成する。J、 Am、 Che+++、 Soc、 7
4.4726(1952)に実質上記載されるように混
合無水物カップリング法を使用してモル当量のα N −ヘンソイ)Lt−L−PheとH2Sを反応さ
せることにより表記の生成物を合成する。
27 (1941)に記載されるように水酸化ナトリ
ウム中でモル当量の塩化ベンゾイルとL−pheを反応
させることによってNo−ベンゾイル−L−Pheを合
成する。J、 Am、 Che+++、 Soc、 7
4.4726(1952)に実質上記載されるように混
合無水物カップリング法を使用してモル当量のα N −ヘンソイ)Lt−L−PheとH2Sを反応さ
せることにより表記の生成物を合成する。
3−(N(X−ベンゾイル−L−フェニルアラニルチオ
)−2−D−メチルプロピオン酸を合成する別の方法 方法IX、■程1及び2に記載したように8oc−L−
チオフェニルアラニンを製造する。Boc−L−チオフ
ェニルアラニンを酢酸中のHClとV温でかきまぜなが
ら反応させるし一チオフェニルアラニンの塩酸塩を製造
する。次に無水エーテルを加えそしてこの混合物を水浴
で冷に1する。溶液をろ過しそしてエーテルで数回洗浄
する。この残香をNaOHペレットとP2O5上に真空
デシケータ−中で夜通し乾燥する。工程4に記載するよ
うに結果の生成物をメタクリル酸と反応させて3−し−
フェニルアラニルチオ−2−メチルプロピオン酸の塩酸
塩を生ずる。この生成物を工程5の方法に実質上従って
分割し、次に工程2 (iii)に実質上記載したよう
に塩化ベンゾイルと反応させて表記の化合物を生ずるか
、又はこの生成物を工程2(iii)に実質上記載した
ように塩化ベンゾイルと反応させ、そして次に分割させ
るかの何れかである。
)−2−D−メチルプロピオン酸を合成する別の方法 方法IX、■程1及び2に記載したように8oc−L−
チオフェニルアラニンを製造する。Boc−L−チオフ
ェニルアラニンを酢酸中のHClとV温でかきまぜなが
ら反応させるし一チオフェニルアラニンの塩酸塩を製造
する。次に無水エーテルを加えそしてこの混合物を水浴
で冷に1する。溶液をろ過しそしてエーテルで数回洗浄
する。この残香をNaOHペレットとP2O5上に真空
デシケータ−中で夜通し乾燥する。工程4に記載するよ
うに結果の生成物をメタクリル酸と反応させて3−し−
フェニルアラニルチオ−2−メチルプロピオン酸の塩酸
塩を生ずる。この生成物を工程5の方法に実質上従って
分割し、次に工程2 (iii)に実質上記載したよう
に塩化ベンゾイルと反応させて表記の化合物を生ずるか
、又はこの生成物を工程2(iii)に実質上記載した
ように塩化ベンゾイルと反応させ、そして次に分割させ
るかの何れかである。
■(参考例)
工程1.Na−BOC−L−チオフェニルアラニンフェ
ニルエステルの合成 方法11工程1に記載した方法によって表記の化合物を
製造した。
ニルエステルの合成 方法11工程1に記載した方法によって表記の化合物を
製造した。
工程2. N(x−BOC−L−チオフェニルアラニ
ンの合成 方法I、工程3でN“−ベンゾイル−し−チオフェニル
アラニンフェニルエステルの代りに工程1からの生成物
を置換すること、そして実質上ここに記載した方法によ
って表記の化合物を製造する。別法として、J、 Am
、 Chel、 Soc、 74.4726 (195
2)に記載される方法に従って表記の化合物を製造でき
る。
ンの合成 方法I、工程3でN“−ベンゾイル−し−チオフェニル
アラニンフェニルエステルの代りに工程1からの生成物
を置換すること、そして実質上ここに記載した方法によ
って表記の化合物を製造する。別法として、J、 Am
、 Chel、 Soc、 74.4726 (195
2)に記載される方法に従って表記の化合物を製造でき
る。
工程3.3− (Na−Boc−L−Vエニル7ラニル
チオ)−2−メチルプロピオン酸の合成方法■、工程4
のNo−ベンゾイル−し−チオフェニルアラニンの代り
に工程2からの生成物を置換することモしてここに記載
した方法に従って表記の化合物を製造する。
チオ)−2−メチルプロピオン酸の合成方法■、工程4
のNo−ベンゾイル−し−チオフェニルアラニンの代り
に工程2からの生成物を置換することモしてここに記載
した方法に従って表記の化合物を製造する。
工程4.3− (N”−Boc−L−フェニルアラニル
チオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法1、工程5に記載した方法に実質上従って工程3の
生成物の分割の際に表記の化合物が得られる。
チオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法1、工程5に記載した方法に実質上従って工程3の
生成物の分割の際に表記の化合物が得られる。
α
工程5. N −[3−(N(x−ヘ’yソイJLt
−L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパ
ノイル]−L−プロリンの合成 (ハ)方法■、工程2(i)に記載した方法に実質上従
ってアニソール中のTFAを使用して工程4からの生成
物を脱保護する。次に結果の生成物を方法■、工程2(
■)に記載した方法に実質F従って塩化ベンゾイルと反
応させて3−(Na−ベンゾイル−し−フェニルアラニ
ルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる。方法
■、工程6に記載した方法に従って表記の生成物が得ら
れる。
−L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパ
ノイル]−L−プロリンの合成 (ハ)方法■、工程2(i)に記載した方法に実質上従
ってアニソール中のTFAを使用して工程4からの生成
物を脱保護する。次に結果の生成物を方法■、工程2(
■)に記載した方法に実質F従って塩化ベンゾイルと反
応させて3−(Na−ベンゾイル−し−フェニルアラニ
ルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる。方法
■、工程6に記載した方法に従って表記の生成物が得ら
れる。
0 方法■、工程6咎の3− (N”−ベンゾイル−し
−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン
酸の代りに工程4の生成物を置換することそしてここに
記載した方法に実質上従ってNa−(3−L−フェニル
アラニルチオ−2−D−メチルプロパノイル)−L−プ
ロリンが得られる。次に方法■、工程2 (iii)に
記載した方法に実質上従ってこの生成物を塩化ベンゾイ
ルと反応させて表記の化合物を生ずる。
−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン
酸の代りに工程4の生成物を置換することそしてここに
記載した方法に実質上従ってNa−(3−L−フェニル
アラニルチオ−2−D−メチルプロパノイル)−L−プ
ロリンが得られる。次に方法■、工程2 (iii)に
記載した方法に実質上従ってこの生成物を塩化ベンゾイ
ルと反応させて表記の化合物を生ずる。
別法として、方法工、工程6■で3− (Ncx−ベン
ゾイル−L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチル
プロピオン酸の代りに工程4の生成物を置換すること、
そしてここに記載した方法に実質上従ッテ、N −[
3−(N′:x−Boc−L−α フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
]−2−プロリンが得られる。方法■、工程2(i)の
方法に実質上従ってこの生成物を脱保護する。方法工、
工程2 (iii)に実質上記載したように結果の生成
物を塩化ベンゾイルと反応させることによって表記の化
合物が得られる。
ゾイル−L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチル
プロピオン酸の代りに工程4の生成物を置換すること、
そしてここに記載した方法に実質上従ッテ、N −[
3−(N′:x−Boc−L−α フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
]−2−プロリンが得られる。方法■、工程2(i)の
方法に実質上従ってこの生成物を脱保護する。方法工、
工程2 (iii)に実質上記載したように結果の生成
物を塩化ベンゾイルと反応させることによって表記の化
合物が得られる。
■(参考例)
■程1.N’−Cbo−L−フェニルアラニンペンタク
ロロフェニルエステルの合成 再蒸留したエチルアセテート約60m!中のCbo−L
−Phel 5mモルの溶液をメタノール−氷−ドライ
アイス浴で一20℃に冷却する。
ロロフェニルエステルの合成 再蒸留したエチルアセテート約60m!中のCbo−L
−Phel 5mモルの溶液をメタノール−氷−ドライ
アイス浴で一20℃に冷却する。
この溶液にN−エチルモルホリン15mモル、続いてイ
ソ1チルクロロホルメート15mモルを加え、そしてこ
の溶液を一15℃で数分間かきまぜる。ペンタクロロフ
ェノール15mモルを加えそして生成する反応混合物を
一15℃で172時間かきまぜる。この反応混合物を室
温に徐々に加温し、次に更に2時間かきまぜる。エチル
アセテート100I!dlを加え、そしてこの混合物を
水浴で冷部する。有機相を冷水、冷飽和NaC1、冷1
N NaHCO3そして最後に冷飽和NaCj!で数回
洗浄する。次に有機相を無水MqS04で乾燥しそして
ろ過する。溶媒を回転蒸発器で除去する。残漬をエチル
アセテートから結晶化して153.5〜154℃の融点
を有する表記の化合物を生ずる。
ソ1チルクロロホルメート15mモルを加え、そしてこ
の溶液を一15℃で数分間かきまぜる。ペンタクロロフ
ェノール15mモルを加えそして生成する反応混合物を
一15℃で172時間かきまぜる。この反応混合物を室
温に徐々に加温し、次に更に2時間かきまぜる。エチル
アセテート100I!dlを加え、そしてこの混合物を
水浴で冷部する。有機相を冷水、冷飽和NaC1、冷1
N NaHCO3そして最後に冷飽和NaCj!で数回
洗浄する。次に有機相を無水MqS04で乾燥しそして
ろ過する。溶媒を回転蒸発器で除去する。残漬をエチル
アセテートから結晶化して153.5〜154℃の融点
を有する表記の化合物を生ずる。
工程2.1−フェニルアラニンペンタクロロフェニルエ
ステルの臭化水素塩の合成 工程1からの生成物を室温で45分間かきまぜながら酢
酸中の臭化水素と反応させる。無水エーテルを加えそし
て混合物を水浴で冷却する。溶液をろ過しそして沈殿物
をエーテルで数回洗浄した。
ステルの臭化水素塩の合成 工程1からの生成物を室温で45分間かきまぜながら酢
酸中の臭化水素と反応させる。無水エーテルを加えそし
て混合物を水浴で冷却する。溶液をろ過しそして沈殿物
をエーテルで数回洗浄した。
この沈殿物をNaOHベレットとP2O5上に真空デシ
ケータ−中で夜通し乾燥して178〜18℃の分解点を
有する表記の生成物を生ずる。
ケータ−中で夜通し乾燥して178〜18℃の分解点を
有する表記の生成物を生ずる。
■程3.N0−ベンゾイルーし一フェニルアラニンペン
タクロロフェニルエステルの合成方法工、工程2(ii
i)でL−チオフェニルアラニンの塩酸塩の代りに工程
2からの生成物を置換することそしてここに記載した方
法に実質上従って、161−162℃の融点を有する表
記の化合物が得られる。
タクロロフェニルエステルの合成方法工、工程2(ii
i)でL−チオフェニルアラニンの塩酸塩の代りに工程
2からの生成物を置換することそしてここに記載した方
法に実質上従って、161−162℃の融点を有する表
記の化合物が得られる。
工程4.3−(N(x−ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 再蒸留したジオキサン中の工程3からの生成物10mモ
ルの溶液を、N−エチルモルホリンで中和した、ジオキ
サン中の3−メルカプト−2−メチルプロピオン酸10
mモルの溶液に加える。薄層クロマトグラフィー法で判
定されるように反応が完了するまでこの反応混合物を室
温でかきまぜる。この溶媒を30℃で減圧上除去しそし
てエチルアセテートを残漬に加える。この混合物を水浴
で冷却しそして0.1N HClで、次に飽和NaC
1で数回洗浄する。無水MgSO4で乾燥した後に回転
蒸発器でこの溶媒を除去して表記の化合物を生ずる。
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 再蒸留したジオキサン中の工程3からの生成物10mモ
ルの溶液を、N−エチルモルホリンで中和した、ジオキ
サン中の3−メルカプト−2−メチルプロピオン酸10
mモルの溶液に加える。薄層クロマトグラフィー法で判
定されるように反応が完了するまでこの反応混合物を室
温でかきまぜる。この溶媒を30℃で減圧上除去しそし
てエチルアセテートを残漬に加える。この混合物を水浴
で冷却しそして0.1N HClで、次に飽和NaC
1で数回洗浄する。無水MgSO4で乾燥した後に回転
蒸発器でこの溶媒を除去して表記の化合物を生ずる。
工程5.3− (N(x−ベンゾイル−し−フエニルア
ラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分
割 方法工、工程5に記載した方法に従って表記の化合物が
得られる。
ラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分
割 方法工、工程5に記載した方法に従って表記の化合物が
得られる。
工程6.Na−[3−N”−ペンVイルーL−フェニル
アラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L−
プロリンの合成 方法11工程6(ハ)に記載した方法に従って表記の化
合物が得られる。
アラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L−
プロリンの合成 方法11工程6(ハ)に記載した方法に従って表記の化
合物が得られる。
■(参考例)
工程1.N −ベンゾイル−D、L−チオフエに実質
上記載されるように混合無水物カップリング法を使用し
てモル当■のN −ベンゾイル−D。
上記載されるように混合無水物カップリング法を使用し
てモル当■のN −ベンゾイル−D。
L−pheとH2Sを反応させることによって表記の生
成物を合成する。
成物を合成する。
工程2.3−(N −ベンゾイル−D、L−7エ二ル
アラニルチオ)−2−メチルプロピオン111え一一一
一一一一一一−−−−−−方法工、工程4のN −ベン
ゾイル−L−チオフェニルアラニンの代りに工程1の生
成物を置換することモしてこの方法に実質上従って表記
の生成物が得られる。
アラニルチオ)−2−メチルプロピオン111え一一一
一一一一一一−−−−−−方法工、工程4のN −ベン
ゾイル−L−チオフェニルアラニンの代りに工程1の生
成物を置換することモしてこの方法に実質上従って表記
の生成物が得られる。
工程3.3−(N −ベンゾイル−D、L−フェニル
アラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる
分割 方法I、工程5に記載した方法に実質上従って表記の生
成物が得られる。
アラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる
分割 方法I、工程5に記載した方法に実質上従って表記の生
成物が得られる。
工程4.N(x−[3−(Na−t<ンゾイ)Lt−D
。
。
し−フェニルアラニルチオ) −2−D−メチルプロパ
ノイル]−L−プロリンの合成 方法■、工程6に工程3からの生成物を置換することそ
してここの方法に実質上従って表記の生成物が得られる
。
ノイル]−L−プロリンの合成 方法■、工程6に工程3からの生成物を置換することそ
してここの方法に実質上従って表記の生成物が得られる
。
■(参考例)
工程1.2−メチル−プロペノイル−し−プロリンの合
成 m ジクロロメタン中のDCCの5mモルの冷部溶液
を、ジクロロメタン中のメタクリル酸5mモル及びN−
ヒドロキシスクシンイミド5mモルの混合物に0℃で滴
下で加える。この反応混合物を0℃で30分間、次に4
℃で夜通しかきまぜる。ろ過により結晶性ジシクロヘキ
シル尿素を除去しそして沈殿物をエチルアセテートで洗
浄する。
成 m ジクロロメタン中のDCCの5mモルの冷部溶液
を、ジクロロメタン中のメタクリル酸5mモル及びN−
ヒドロキシスクシンイミド5mモルの混合物に0℃で滴
下で加える。この反応混合物を0℃で30分間、次に4
℃で夜通しかきまぜる。ろ過により結晶性ジシクロヘキ
シル尿素を除去しそして沈殿物をエチルアセテートで洗
浄する。
組合わせたろ液からの溶媒を減圧上除去し、モして残漬
をベンゼン−ヘキサンから結晶化した。結晶を冷THF
に溶解し、次にこの溶液をTHEと水中の1−−pro
5mモル及びNaHCO35mモルの冷溶液に加え
る。反応混合物を室温で夜通しかきまぜる。THFを3
5℃で回転蒸発器で除去する。水を混合物に加えそして
固体NaHcO3を使用してpl+を9に調節する。水
相をエチルアセテートで抽出する。水相を水浴で冷却し
、次にエチルアセテートの存在で1NHC1を使用して
I)H2に酸性化する。有機相を冷水と飽和NaC1で
洗浄する。有機相を無水MgSO4で乾燥しそしてろ過
する。この溶媒を回転蒸発器で除去し、そして残漬をエ
ーテル−ヘキサンから結晶化して表記の生成物を生ずる
。
をベンゼン−ヘキサンから結晶化した。結晶を冷THF
に溶解し、次にこの溶液をTHEと水中の1−−pro
5mモル及びNaHCO35mモルの冷溶液に加え
る。反応混合物を室温で夜通しかきまぜる。THFを3
5℃で回転蒸発器で除去する。水を混合物に加えそして
固体NaHcO3を使用してpl+を9に調節する。水
相をエチルアセテートで抽出する。水相を水浴で冷却し
、次にエチルアセテートの存在で1NHC1を使用して
I)H2に酸性化する。有機相を冷水と飽和NaC1で
洗浄する。有機相を無水MgSO4で乾燥しそしてろ過
する。この溶媒を回転蒸発器で除去し、そして残漬をエ
ーテル−ヘキサンから結晶化して表記の生成物を生ずる
。
(11)激しくかきまぜながら水浴で冷却した、水と重
炭酸ナトリウムの混合物中のL−プロリン2.5mモル
の溶液に塩化メタクリロイル2.5dを加える。添加を
完了する時に、2時間室温で混合物をかきまぜ、次にエ
ーテルで抽出する。水相を1.ON HCj!で酸性
化し、そしてエチルアセテートで抽出する。有機相を真
空中で濃縮乾固しで表記の生成物を生ずる。
炭酸ナトリウムの混合物中のL−プロリン2.5mモル
の溶液に塩化メタクリロイル2.5dを加える。添加を
完了する時に、2時間室温で混合物をかきまぜ、次にエ
ーテルで抽出する。水相を1.ON HCj!で酸性
化し、そしてエチルアセテートで抽出する。有機相を真
空中で濃縮乾固しで表記の生成物を生ずる。
(iii)再蒸留したエチルアセテート中のメタクリル
酸2.5mモルの溶液をメタノール−氷−ドライアイス
浴で一20℃で冷却する。この溶液にN−エチルモルホ
リン2.5mモル、続いてイソブチルクロロホルムメー
ト2.5mモルを加え、そしてこの溶液を一15℃で数
分間かきまぜる。
酸2.5mモルの溶液をメタノール−氷−ドライアイス
浴で一20℃で冷却する。この溶液にN−エチルモルホ
リン2.5mモル、続いてイソブチルクロロホルムメー
ト2.5mモルを加え、そしてこの溶液を一15℃で数
分間かきまぜる。
次にL−プロリンt−ブチルエステル2.5mモルを加
えそして生成する反応混合物を一15℃で11/ 時
間かきまぜる。反応混合物を室温に徐徐に加温し、次に
更に2時間かきまぜる。エチルアセテートを加えそして
混合物を水浴で冷却する。
えそして生成する反応混合物を一15℃で11/ 時
間かきまぜる。反応混合物を室温に徐徐に加温し、次に
更に2時間かきまぜる。エチルアセテートを加えそして
混合物を水浴で冷却する。
有機相を冷水、冷1Nクエン酸、冷飽和NaCj!、冷
IN NaHCO3、そして最後に冷飽和NaCjで
数回洗浄する。有機相を無水MqSO4で乾燥しそして
ろ過する。溶媒を回転蒸発器で除去する。残漬をベンゼ
ン−石油エーテルから結晶化する。方法■、工程6(ハ
)の記載に実質上従ってt−ブチルエステル基を除去す
る。
IN NaHCO3、そして最後に冷飽和NaCjで
数回洗浄する。有機相を無水MqSO4で乾燥しそして
ろ過する。溶媒を回転蒸発器で除去する。残漬をベンゼ
ン−石油エーテルから結晶化する。方法■、工程6(ハ
)の記載に実質上従ってt−ブチルエステル基を除去す
る。
工程2.N −[3−(N −ベンゾイル−し−フ
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
−し一プロリンの1 方法■、工程4のメタクリル酸の代りに工程1の生成物
を置換し、そしてここに記載した方法に実質上従って2
−D、L−メチル−プロパノイル誘導体を生ずる。メタ
ノール−ベンゼン−エーテルから繰返し結晶化又は液体
クロマトグラフィーによりこの誘導体を分割して表記の
化合物を生ずる。別法として、工程1からの生成物の代
りにNo−2−メチル−プロペノイル−L−pr。
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
−し一プロリンの1 方法■、工程4のメタクリル酸の代りに工程1の生成物
を置換し、そしてここに記載した方法に実質上従って2
−D、L−メチル−プロパノイル誘導体を生ずる。メタ
ノール−ベンゼン−エーテルから繰返し結晶化又は液体
クロマトグラフィーによりこの誘導体を分割して表記の
化合物を生ずる。別法として、工程1からの生成物の代
りにNo−2−メチル−プロペノイル−L−pr。
t−ブチルエステルを使用できる。分割後工程1に記載
したように結果の生成物を脱保護して表記の化合物を生
ずる。
したように結果の生成物を脱保護して表記の化合物を生
ずる。
■(参考例)
工程1.Na−ベンゾイル−し−フェニルアラに実質上
記載した方法を使用してN all−(溶液中でモル5
吊の塩化ベンゾイルとL−Pheを反応させることによ
って表記の生成物を合成する。
記載した方法を使用してN all−(溶液中でモル5
吊の塩化ベンゾイルとL−Pheを反応させることによ
って表記の生成物を合成する。
工程2.3−メルカプト−2−メチルプロピオン の
A チオ酢酸(50g)とメタクリル酸<40.7g)の混
合物を1時間蒸気浴で加熱し、次に18時間室温で貯蔵
する。メタクリル酸の完全な反応が行なわれたことをn
mr分光分析によりTs認後、反応混合物を真空中蒸留
し、沸点128.5〜131℃を有する画分て所望の3
−アはデルチオ−2−メチルプロピオン酸を分離しそし
て濃縮乾固する。生成物(3,49)を水(10,5d
りと淵アンモニア(6,4d)の混合物に溶解する。
A チオ酢酸(50g)とメタクリル酸<40.7g)の混
合物を1時間蒸気浴で加熱し、次に18時間室温で貯蔵
する。メタクリル酸の完全な反応が行なわれたことをn
mr分光分析によりTs認後、反応混合物を真空中蒸留
し、沸点128.5〜131℃を有する画分て所望の3
−アはデルチオ−2−メチルプロピオン酸を分離しそし
て濃縮乾固する。生成物(3,49)を水(10,5d
りと淵アンモニア(6,4d)の混合物に溶解する。
1時間模反応混合物を水と共に希釈しそしてろ過する。
このろ液をエチルアセテートで抽出し、次にIIHCj
!で酸性化し、NaCj!で飽和させ、そしてエチルア
セテートで2回抽出する。このエチルアセテート抽出物
を飽和NaC1で洗浄しそして濃縮乾固して表記の化合
物を生ずる。
!で酸性化し、NaCj!で飽和させ、そしてエチルア
セテートで2回抽出する。このエチルアセテート抽出物
を飽和NaC1で洗浄しそして濃縮乾固して表記の化合
物を生ずる。
工程3.3−(N −ベンゾイル−L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 再蒸留したエチルアセテート中のN −ベンゾイル−L
−Phe25mモルの溶液をメタノール−氷−ドライア
イス浴に一20℃で加える。この溶液にN−エチルモル
ホリン25mモル、続いてイソブチルクロロホルメート
25mモルを加えそしてこの溶液を一15℃で数分間か
きまぜる。N−ヒドロキシスクシンイミド11150m
モルを加えそして生成する反応混合物を一15℃で1/
2時間かきまぜる。反応混合物を室温に徐々に加温し、
N−エチルモルホリンで中和した3−メルカプト−2−
メチルプロピオン111125mモルを加え、次にVs
l!!クロマトグラフィーにより判断して反応が完了す
るまでかきまぜる。エチルアセテートを加え、混合物を
水浴に冷却し、そして1N)−101で9113に酸性
化する。有機相を冷水及び冷飽和NaC1で数回洗浄す
る。次にこの有機相を無水MoSO4で乾燥しそしてろ
過する。溶媒を回転蒸発器で除去する。この残渣をベン
ゼン−石油エーテルから結晶化させて表記の化合物を生
ずる。
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 再蒸留したエチルアセテート中のN −ベンゾイル−L
−Phe25mモルの溶液をメタノール−氷−ドライア
イス浴に一20℃で加える。この溶液にN−エチルモル
ホリン25mモル、続いてイソブチルクロロホルメート
25mモルを加えそしてこの溶液を一15℃で数分間か
きまぜる。N−ヒドロキシスクシンイミド11150m
モルを加えそして生成する反応混合物を一15℃で1/
2時間かきまぜる。反応混合物を室温に徐々に加温し、
N−エチルモルホリンで中和した3−メルカプト−2−
メチルプロピオン111125mモルを加え、次にVs
l!!クロマトグラフィーにより判断して反応が完了す
るまでかきまぜる。エチルアセテートを加え、混合物を
水浴に冷却し、そして1N)−101で9113に酸性
化する。有機相を冷水及び冷飽和NaC1で数回洗浄す
る。次にこの有機相を無水MoSO4で乾燥しそしてろ
過する。溶媒を回転蒸発器で除去する。この残渣をベン
ゼン−石油エーテルから結晶化させて表記の化合物を生
ずる。
工程4.N −[3−(N −ベンゾイル−し−フ
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
−L−プロリンを生ずる分割方法I、工程5に記載した
方法に従って表記の化合物が得られる。
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
−L−プロリンを生ずる分割方法I、工程5に記載した
方法に従って表記の化合物が得られる。
■程5.N −[3−(N −ベンゾイル−L−フ
ェニルアラニルチオ)−2−0−メチルプロパノイル]
−L−プロリンの合成 再蒸留したエチルアセテート中の工程4からの生成物1
0mモルの溶液をメタノール−氷−ドライアイス浴で一
20℃に冷却する。この溶液にN−エチルモルホリン1
0mモル、続いてイソブチルクロロホルメート10mモ
ルを加え、そしてこの溶液を一15℃で数分間かきまぜ
る。次にN−ヒドロキシスクシンイミド10mモルを加
えそして生成する反応混合物を一15℃で172時間か
きまぜる。反応混合物を室温に徐々に加温し、次に更に
2時間かきまぜる。エチルアセテートを加え、この混合
物を水浴で冷却する。この有機相を冷水、冷1N N
aHCO3そして最後に冷飽和NaCj!で数回洗浄す
る。次に有機相を無水MqS04で乾燥しそしてろ過す
る。溶媒を回転蒸発器で除去する。残渣をベンゼン−石
油エーテルから結晶化して3− (Na−ベンゾイル−
し−フェニルアラニルチオ) −2−D−メチルプロピ
オン酸のN−ヒドロキシスクシンイミドエステルを生ず
る。この生成物をT)−IFに溶解し、次にN a H
003を含有するTHF:水(1:1)中のし−pro
iomモルの冷溶液に前記の溶液を加える。この混
合物を室温で夜通しかきまぜる。
ェニルアラニルチオ)−2−0−メチルプロパノイル]
−L−プロリンの合成 再蒸留したエチルアセテート中の工程4からの生成物1
0mモルの溶液をメタノール−氷−ドライアイス浴で一
20℃に冷却する。この溶液にN−エチルモルホリン1
0mモル、続いてイソブチルクロロホルメート10mモ
ルを加え、そしてこの溶液を一15℃で数分間かきまぜ
る。次にN−ヒドロキシスクシンイミド10mモルを加
えそして生成する反応混合物を一15℃で172時間か
きまぜる。反応混合物を室温に徐々に加温し、次に更に
2時間かきまぜる。エチルアセテートを加え、この混合
物を水浴で冷却する。この有機相を冷水、冷1N N
aHCO3そして最後に冷飽和NaCj!で数回洗浄す
る。次に有機相を無水MqS04で乾燥しそしてろ過す
る。溶媒を回転蒸発器で除去する。残渣をベンゼン−石
油エーテルから結晶化して3− (Na−ベンゾイル−
し−フェニルアラニルチオ) −2−D−メチルプロピ
オン酸のN−ヒドロキシスクシンイミドエステルを生ず
る。この生成物をT)−IFに溶解し、次にN a H
003を含有するTHF:水(1:1)中のし−pro
iomモルの冷溶液に前記の溶液を加える。この混
合物を室温で夜通しかきまぜる。
エチルアセテートを加えそして混合物を水浴で冷却する
。有機相を冷水、1Nクエン酸、冷飽和NaC1冷1N
NaHCO3、及び最後に冷飽和NaC1で洗浄する
。次にこの有機相を無水M Q S 04で乾燥しそし
てろ過する。溶媒を回転蒸発器で除去する。残渣をエー
テル−ヘキサンから結晶化して表記の生成物を生ずる。
。有機相を冷水、1Nクエン酸、冷飽和NaC1冷1N
NaHCO3、及び最後に冷飽和NaC1で洗浄する
。次にこの有機相を無水M Q S 04で乾燥しそし
てろ過する。溶媒を回転蒸発器で除去する。残渣をエー
テル−ヘキサンから結晶化して表記の生成物を生ずる。
■(参考例)
工程1.Na−ベンゾイル−し一チオフェニルアラニン
フェニルエステルの合成 方法■、工程1のBOC−L−Pht3(7)代りにベ
ンゾイル−し−フェニルアラニンを置換することそして
実質上ここに記載した方法に従って表記の生成物が得ら
れる。
フェニルエステルの合成 方法■、工程1のBOC−L−Pht3(7)代りにベ
ンゾイル−し−フェニルアラニンを置換することそして
実質上ここに記載した方法に従って表記の生成物が得ら
れる。
工程2.N(x−ベンゾイル−し−チオフェニル乙1三
Z血立久−−−−−一一一一−−−−−工程1の生成物
を使用して、方法I、工程3に記載した方法に従って表
記の生成物が得られる。
Z血立久−−−−−一一一一−−−−−工程1の生成物
を使用して、方法I、工程3に記載した方法に従って表
記の生成物が得られる。
工程3.3− (N”−ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 工程2の生成物を使用して方法■、工程4に記載した工
程に従って表記の生成物が得られる。
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 工程2の生成物を使用して方法■、工程4に記載した工
程に従って表記の生成物が得られる。
工程4.3−(N−ベンゾイル−し−フェニルアラニル
チオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法I、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
チオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法I、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
α
工程5. N −[3−(N(x−ヘンソイ)Lt−
L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノ
イル]−L−プロリンの合成 工程4の生成物を使用して方法M1工程5に記載した工
程に従って表記の生成物が得られる。
L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノ
イル]−L−プロリンの合成 工程4の生成物を使用して方法M1工程5に記載した工
程に従って表記の生成物が得られる。
■(参考例)
工程1.N”−[3oc−1−チオフェニルアラニンフ
ェニルエステルの合成 方法工、工程1に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
ェニルエステルの合成 方法工、工程1に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
工程2.NcX−Boc−L−チオフェニルアラニンの
合成 方法I、工程3に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
合成 方法I、工程3に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
工程3.3− (Na−Boc−L−フェニル7ラニル
チオ)−2−メチルプロピオン酸の合J方法■、工程3
に記載した工程に従って表記の生成物が得られる。
チオ)−2−メチルプロピオン酸の合J方法■、工程3
に記載した工程に従って表記の生成物が得られる。
工程4.3−(N −Boc−L−)Xニルアラニル
チオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法工、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
チオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法工、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
工程5.3− (N”−ベンゾイル−L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法工、工程2にN −Boc−L−チオ−フェニル
アラニンエステルの代りに工程4から生成物を置換する
ことそして実質上方法工、工程2の工程に従って表記の
生成物が得られる。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法工、工程2にN −Boc−L−チオ−フェニル
アラニンエステルの代りに工程4から生成物を置換する
ことそして実質上方法工、工程2の工程に従って表記の
生成物が得られる。
工程6.N −[3−(N −ベンゾイル−し−フ
ェニルアラニルチオ’)−2−D−メチルプOバノイル
−し−プロリンの合 方法M1工程5の工程に従って表記の化合物を合成する
。
ェニルアラニルチオ’)−2−D−メチルプOバノイル
−し−プロリンの合 方法M1工程5の工程に従って表記の化合物を合成する
。
IX (参考例)
工程1.N(x−ベンゾイル−し−フェニルアラニンの
合成 方法で、工程1に記載した工程に従って表記の生成物を
合成する。
合成 方法で、工程1に記載した工程に従って表記の生成物を
合成する。
工程2.3− (Ncl−ベンゾイル−し−フェニルア
ラニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 実質上方法M、工程3に記載した工程に従って表記の生
成物を合成する。この方法を使用して若干のラセミ化が
起こる。
ラニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 実質上方法M、工程3に記載した工程に従って表記の生
成物を合成する。この方法を使用して若干のラセミ化が
起こる。
工程3.3− (NcX−ベンゾイル−し−フェニルア
ラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分
割 方法■、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
ラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分
割 方法■、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
α−
工程4. N [3−<Na−ヘンソイRt−L−
フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
]−L−ブOリンの合成 方法工、工程6咎に記載した工程に従って表記の生成物
を合成する。
フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
]−L−ブOリンの合成 方法工、工程6咎に記載した工程に従って表記の生成物
を合成する。
X(実施例)
工程1.3− (N −Ddz−L−yフェニル7ラ
ニルチオ −2−メチルプロピオン酸の合成1.1eb
i s Ann、 Chem、 7旦3,162
(1972)又はc、 BirrのPeptide、
1972 、 Proc。
ニルチオ −2−メチルプロピオン酸の合成1.1eb
i s Ann、 Chem、 7旦3,162
(1972)又はc、 BirrのPeptide、
1972 、 Proc。
or the l 2 th Fur、 Pep
t、 Sy+np、 H,1lansonとtl、
D、 JaknbkcN、 North−11o11
and Publishers。
t、 Sy+np、 H,1lansonとtl、
D、 JaknbkcN、 North−11o11
and Publishers。
第72頁(1973)に記載される工程に従ってDdZ
−L−Pheを合成する。再蒸留したジオキサン中のD
dz−L−Phe 10もモルの溶液を一20℃でア
セトン−氷−ドライアイス浴で冷却する。この溶液にジ
オキサン中の1.1−ジカルボニルジイミダゾール を加える。この溶液を2時間−10℃でかきまぜ、次に
N−エチルモルホリンで中和した、ジオキサン中の3−
メルカプト−2−メチルプロピオン酸10もモルの冷溶
液に加える。薄層クロマトグラフィーにより判定して反
応が完rするまでこの反応を一10℃でかきまぜ、次に
室温に徐々に加温する。30℃減圧下溶媒を除去しそし
て残渣にエチルアセテートを加える。この混合物を水浴
で冷却し、0.1N H(、!で洗浄し、そして次に
飽和NaCj!で数回洗浄する。無水MqSO4で乾燥
後溶媒を回転蒸発器で除去して表記の生成物を生ずる。
−L−Pheを合成する。再蒸留したジオキサン中のD
dz−L−Phe 10もモルの溶液を一20℃でア
セトン−氷−ドライアイス浴で冷却する。この溶液にジ
オキサン中の1.1−ジカルボニルジイミダゾール を加える。この溶液を2時間−10℃でかきまぜ、次に
N−エチルモルホリンで中和した、ジオキサン中の3−
メルカプト−2−メチルプロピオン酸10もモルの冷溶
液に加える。薄層クロマトグラフィーにより判定して反
応が完rするまでこの反応を一10℃でかきまぜ、次に
室温に徐々に加温する。30℃減圧下溶媒を除去しそし
て残渣にエチルアセテートを加える。この混合物を水浴
で冷却し、0.1N H(、!で洗浄し、そして次に
飽和NaCj!で数回洗浄する。無水MqSO4で乾燥
後溶媒を回転蒸発器で除去して表記の生成物を生ずる。
工程2.3− (N −Ddz−L−フェニ/Lz7
ラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分
割 方法工、工程5に記載した工程に実質上従って表記の化
合物が得られる。
ラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分
割 方法工、工程5に記載した工程に実質上従って表記の化
合物が得られる。
工程3.N − [3− (N −Ddz−1−7
エ二ルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]
−L−プロリンt−ブチルエステルの合成 方法■、工程6咎(i)の3−(N −ベンゾイル−し
−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン
酸の代りに工程2からの生成物を置換すること、そして
実質上ここに記載した工程に従って表記の化合物を合成
する。
エ二ルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]
−L−プロリンt−ブチルエステルの合成 方法■、工程6咎(i)の3−(N −ベンゾイル−し
−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン
酸の代りに工程2からの生成物を置換すること、そして
実質上ここに記載した工程に従って表記の化合物を合成
する。
工程4.N”− [3− (L−フェニルアラニルチオ
)−2−D−メチルプロパノイル]−し=プロリンtー
ブチルエステルの合成 工程3からの生成物をTHFに溶解しそして20℃に冷
却する。混合物をガラス瓶に移しそして5時間350n
mの波長の光で照射する。T)−IFを回転蒸発器で除
去して表記の生成物を生ずる。
)−2−D−メチルプロパノイル]−し=プロリンtー
ブチルエステルの合成 工程3からの生成物をTHFに溶解しそして20℃に冷
却する。混合物をガラス瓶に移しそして5時間350n
mの波長の光で照射する。T)−IFを回転蒸発器で除
去して表記の生成物を生ずる。
工程5.N −[3−(N’−ベンゾイル−しα
一フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイ
ル]−L−プロリンt−ブチルエステルの合成 方法■、工程2 (iii)で工程4からの生成物を置
換することそして実質上ここに記載した工程に従って表
記の化合物を合成する。
ル]−L−プロリンt−ブチルエステルの合成 方法■、工程2 (iii)で工程4からの生成物を置
換することそして実質上ここに記載した工程に従って表
記の化合物を合成する。
工程6.N − [3− (Na−ペン’lイル−L
α 一フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイ
ル]ー1ーーブOリンの合成 方法工、工程6(/9(ii)に記載した方法に従って
工程5の生成物のt−ブチルエステル基を除去すること
によって表記の生成物が得られる。得られる生成物は方
法■の生成物と同じ物性値を示す。
α 一フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイ
ル]ー1ーーブOリンの合成 方法工、工程6(/9(ii)に記載した方法に従って
工程5の生成物のt−ブチルエステル基を除去すること
によって表記の生成物が得られる。得られる生成物は方
法■の生成物と同じ物性値を示す。
X′r(実施例)
工程1.3−(N −、Bpoc−L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合に記載された
工程に従ってN(x−BDOC−L−Pheを合成する
。方法XV1工程1のDdZ−L−Pheの代りに、N
−Bpoc−L−Pheを置換することそして実質
上ここに記載した工程に従って表記の化合物を製造する
。
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合に記載された
工程に従ってN(x−BDOC−L−Pheを合成する
。方法XV1工程1のDdZ−L−Pheの代りに、N
−Bpoc−L−Pheを置換することそして実質
上ここに記載した工程に従って表記の化合物を製造する
。
工程2.3− (N −BDOC−L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 実質上方法■、工程5に記載した方法に従って表記の化
合物が得られる。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 実質上方法■、工程5に記載した方法に従って表記の化
合物が得られる。
工程3.N −[3−(N”−Bpoc−L−フェニ
ルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L
−プロリンt−ブチルエステルの〜 方法1、工程6(ハ)(i)の3− (NCX−ベンゾ
イル−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプ
ロピオン酸の代りに工程2からの生成物を置換すること
そして実質上ここに記載した工程に従って、表記の生成
物が得られる。
ルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L
−プロリンt−ブチルエステルの〜 方法1、工程6(ハ)(i)の3− (NCX−ベンゾ
イル−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプ
ロピオン酸の代りに工程2からの生成物を置換すること
そして実質上ここに記載した工程に従って、表記の生成
物が得られる。
工程4.N(x−[3−(L−フェニルアラニルチオ)
−2−D−メチルプロパノイル]−し一プロリンt−ブ
チルエステルの合成 0.5%TFΔを含有する塩化メチレンに工程3からの
生成物を溶解しそして10分間かきまぜる。次にこのT
FAと塩化メチレンを回転蒸発器で除去して一表記の生
成物を生ずる。
−2−D−メチルプロパノイル]−し一プロリンt−ブ
チルエステルの合成 0.5%TFΔを含有する塩化メチレンに工程3からの
生成物を溶解しそして10分間かきまぜる。次にこのT
FAと塩化メチレンを回転蒸発器で除去して一表記の生
成物を生ずる。
α
工程5. N −[3−<N′:x−ペン’/−()
Lt−L−フェニルアラニルチオ) −2−D−メチル
プロパノイル]−L−プロリンt−ブチルエステルの合
成 方法■、工程2 (iii)で工程4からの生成物を置
換することそして実質上ここに記載した工程に従って表
記の生成物を製造する。
Lt−L−フェニルアラニルチオ) −2−D−メチル
プロパノイル]−L−プロリンt−ブチルエステルの合
成 方法■、工程2 (iii)で工程4からの生成物を置
換することそして実質上ここに記載した工程に従って表
記の生成物を製造する。
α
工程6. N −[3−(NcR−ヘンソイル−L−
フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
]−L−プロリンの合成 方法工、工程6 (At (i)で記載した方法に従っ
て工程5の生成物のt−ブチルエステル基を除去するこ
とによって表記の生成物が得られる。
フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
]−L−プロリンの合成 方法工、工程6 (At (i)で記載した方法に従っ
て工程5の生成物のt−ブチルエステル基を除去するこ
とによって表記の生成物が得られる。
XI(参考例)
工程1.3−メルカプト−2−メチルプロピオン1li
lIt−ブチルエステルの合成3−アセチルチオ−2−
メチルプロピオン酸0.62gを1N硫酸中の2−メチ
ルプロペン0.56!Jの溶液に一10℃で加える。こ
の混合物を30分間かきまぜ、次に室温に加温して3−
アセチルチオ−2−メチルプロピオン1lt−ブチルエ
ステルを生ずる。この生成物をアンモニアと水の混合物
に溶解する。1時間後反応混合物を水で希釈しそしてろ
過する。ろ液をエチルアセテートで抽出し、次に1)−
ICJで酸性化し、NaCJ!で飽和しそしてエチルア
セテートで2回抽出する。
lIt−ブチルエステルの合成3−アセチルチオ−2−
メチルプロピオン酸0.62gを1N硫酸中の2−メチ
ルプロペン0.56!Jの溶液に一10℃で加える。こ
の混合物を30分間かきまぜ、次に室温に加温して3−
アセチルチオ−2−メチルプロピオン1lt−ブチルエ
ステルを生ずる。この生成物をアンモニアと水の混合物
に溶解する。1時間後反応混合物を水で希釈しそしてろ
過する。ろ液をエチルアセテートで抽出し、次に1)−
ICJで酸性化し、NaCJ!で飽和しそしてエチルア
セテートで2回抽出する。
このエチルアセテート抽出物を飽和NaC!で洗浄しそ
して濃縮乾固して表記の化合物を生ずる。
して濃縮乾固して表記の化合物を生ずる。
工程2.3− (Na−ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロピオンFi!t−ブチルエ
ステルの合成 方法M1工程3で3−メルカプト−2−メチルプロピオ
ン酸の代りに工程1からの生成物を置換することそして
ここに記載した工程に従って、表記の生成物が得られる
。
ニルチオ)−2−メチルプロピオンFi!t−ブチルエ
ステルの合成 方法M1工程3で3−メルカプト−2−メチルプロピオ
ン酸の代りに工程1からの生成物を置換することそして
ここに記載した工程に従って、表記の生成物が得られる
。
工程3.3−(Ncl−ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 方法工、工程6GA)(ii)の工程に実質上従って工
程2の生成物のt−ブチルエステル基を除去することに
よって表記の生成物が得られる。
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 方法工、工程6GA)(ii)の工程に実質上従って工
程2の生成物のt−ブチルエステル基を除去することに
よって表記の生成物が得られる。
工程4.3−(N“−ベンゾイル−し−フェニルアラニ
ルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法工、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
ルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法工、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
工程5.Na−[3−(ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルブロパノル]−L−プロリ
ンの合成 方法■、工程6咎に記載した工程に従って表記の生成物
を合成する。
ニルチオ)−2−D−メチルブロパノル]−L−プロリ
ンの合成 方法■、工程6咎に記載した工程に従って表記の生成物
を合成する。
刈(参考例)
工程1,3−メルカプト−2−メチルプロピオンMt−
ブチルエステルの合成 方法X■、工程1に記載した方法に従って表記の生成物
を合成する。
ブチルエステルの合成 方法X■、工程1に記載した方法に従って表記の生成物
を合成する。
工程2.3−(N(x−PpQC−1−フェニルアラニ
ルチオ)−2−メチルプロピオンgt−ブチルエステル
の合成 N −Ddz−L−Pheの代りにX(X−α Ppoc−L−phe (Int、 J、 Pe ti
deProtein Res、6.111 (1974
)に記載される工程に従って製造される)を置換するこ
と、方法xv1工程1の3−メルカプト−2−メチルプ
ロピオン酸の代りに工程1からの生成物を置換すること
、そして実質上ここに記載した工程に従って表記の生成
物が得られる。
ルチオ)−2−メチルプロピオンgt−ブチルエステル
の合成 N −Ddz−L−Pheの代りにX(X−α Ppoc−L−phe (Int、 J、 Pe ti
deProtein Res、6.111 (1974
)に記載される工程に従って製造される)を置換するこ
と、方法xv1工程1の3−メルカプト−2−メチルプ
ロピオン酸の代りに工程1からの生成物を置換すること
、そして実質上ここに記載した工程に従って表記の生成
物が得られる。
工程3.3−L−フェニルアラニルチオ−2一メチルブ
ロビオンMt−ブチルエステルの合成0.5%TFAを
含有する塩化メチレンに工程2からの生成物を溶解しそ
して10分間かきまぜる。このTF△と塩化メチレンを
回転蒸発器で除去して表2の生成物を生ずる。
ロビオンMt−ブチルエステルの合成0.5%TFAを
含有する塩化メチレンに工程2からの生成物を溶解しそ
して10分間かきまぜる。このTF△と塩化メチレンを
回転蒸発器で除去して表2の生成物を生ずる。
工程4.3− (N”−ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロピオンIt−ブチルエステ
ルの合成 NaHCO3を含有するエチルアセテートと水の混合物
中でモル5吊の塩化ベンゾイルと工程3からの生成物を
反応させることによって表記の化合物を合成する。
ニルチオ)−2−メチルプロピオンIt−ブチルエステ
ルの合成 NaHCO3を含有するエチルアセテートと水の混合物
中でモル5吊の塩化ベンゾイルと工程3からの生成物を
反応させることによって表記の化合物を合成する。
工程5.3−(N −ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 方法■、工程6(ハ)(it)の工程に実質上従って工
程4の生成物のt−ブチルエステル基を除去することに
よって表記の生成物が得られる。
ニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成 方法■、工程6(ハ)(it)の工程に実質上従って工
程4の生成物のt−ブチルエステル基を除去することに
よって表記の生成物が得られる。
工程6.3− <Na−ベンlイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法工、工程5に記載した方法に従って表記の生成物が
得られる。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法工、工程5に記載した方法に従って表記の生成物が
得られる。
工程7.N −[3−(N(x−ベンゾイル−Lα
−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイ
ル]−L−プロリンの合成 方法11工程6(ハ)に記載した工程に従って表記の生
成物を合成する。
ル]−L−プロリンの合成 方法11工程6(ハ)に記載した工程に従って表記の生
成物を合成する。
)NV(実施例)
■程1.N −Ddz−L−チオフェニルアラニンの
合成 N(x−Ddz−L−Phe5mモルをDMFに溶解し
そして氷−アセトン浴で0℃に冷却する。
合成 N(x−Ddz−L−Phe5mモルをDMFに溶解し
そして氷−アセトン浴で0℃に冷却する。
DMF中の0005mモルを加えそしてこの混合物を0
℃で数分間かきまぜる。この溶液にDMF中のp−ニト
ロフェノール5mモルを加える。この反応混合物を4℃
で夜通しかきまぜる。溶媒を回転蒸発器により除去する
。エチルアセテートを加えそして混合物をろ過する。残
渣をエチルアセテートで洗浄する。組合わせたエチルア
セテート両分をフリーザーで冷却する。有機相を冷1N
N a I−I CO3で3回そして最後に飽和Na(
、iで3回洗浄する。この有機相を無水MqS04で乾
燥しそしてろ過する。溶媒を高真空下回転蒸発器で除去
する。方法■、工程3のベンゾイル−1−チオ−フェニ
ルアラニンフェニルエステルの代りにこの生成物を置換
することそしてここに記載した工程に従って、表記の生
成物が得られる。
℃で数分間かきまぜる。この溶液にDMF中のp−ニト
ロフェノール5mモルを加える。この反応混合物を4℃
で夜通しかきまぜる。溶媒を回転蒸発器により除去する
。エチルアセテートを加えそして混合物をろ過する。残
渣をエチルアセテートで洗浄する。組合わせたエチルア
セテート両分をフリーザーで冷却する。有機相を冷1N
N a I−I CO3で3回そして最後に飽和Na(
、iで3回洗浄する。この有機相を無水MqS04で乾
燥しそしてろ過する。溶媒を高真空下回転蒸発器で除去
する。方法■、工程3のベンゾイル−1−チオ−フェニ
ルアラニンフェニルエステルの代りにこの生成物を置換
することそしてここに記載した工程に従って、表記の生
成物が得られる。
工程2.3− (N(x−Dd z−L−フェニ/lz
7ラニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成方法■
、工程4のNo−ベンゾイル−し−チオフェニルアラニ
ンの代りに工程1からの生成物を置換することそして実
質上ここに記載した工程に従って、表記の生成物が得ら
れる。
7ラニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合成方法■
、工程4のNo−ベンゾイル−し−チオフェニルアラニ
ンの代りに工程1からの生成物を置換することそして実
質上ここに記載した工程に従って、表記の生成物が得ら
れる。
工程3.3− (Na−Ddz−L−’7xニル7ラニ
ルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法I、工程5に記載した方法に実質上従って表記の化
合物が得られる。
ルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸を生ずる分割 方法I、工程5に記載した方法に実質上従って表記の化
合物が得られる。
工程4.N−[3−(N”−Ddz−L−7工ニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプOバノイル]−シープO
リンt−ブチルエステルの合成 方法■、工程6(へ)(+)の3−(N −ベンゾイル
−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロピ
オン酸の代りに工程3からの生成物を置換することそし
てここに記載した工程に従って表記の生成物を合成する
。
ニルチオ)−2−D−メチルプOバノイル]−シープO
リンt−ブチルエステルの合成 方法■、工程6(へ)(+)の3−(N −ベンゾイル
−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロピ
オン酸の代りに工程3からの生成物を置換することそし
てここに記載した工程に従って表記の生成物を合成する
。
工程5、N −[3−(L−フェニルアラニルチオ)
−2−D−メチルア0バノイル1−L−プ0リンt−ブ
チルエステルの合成 方法x■、工程4の工程に従って表記の化合物を合成す
る。
−2−D−メチルア0バノイル1−L−プ0リンt−ブ
チルエステルの合成 方法x■、工程4の工程に従って表記の化合物を合成す
る。
工程6.N −[3−(N −ベンゾイル−L−フ
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]
−L−プロリンt−ブチルエステルのA NaHCO2を含有するエチルアセテートと水の混合物
中でモル当量の塩化ベンゾイルと工程5からの生成物を
反応させることによって表記の生成物を合成する。
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]
−L−プロリンt−ブチルエステルのA NaHCO2を含有するエチルアセテートと水の混合物
中でモル当量の塩化ベンゾイルと工程5からの生成物を
反応させることによって表記の生成物を合成する。
工程7.N −[3−(Na−ベンシイ)Lt−1−
α =フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイ
ル]−シーブロリンの合成 方法工、工程5 (A) (iii)に記載した工程に
従って工程6の生成物のt−ブチルエステル基を除去す
ることによって表記の生成物を合成する。得られる生成
物は方法■の生成物と同じ物性値を示す。
α =フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイ
ル]−シーブロリンの合成 方法工、工程5 (A) (iii)に記載した工程に
従って工程6の生成物のt−ブチルエステル基を除去す
ることによって表記の生成物を合成する。得られる生成
物は方法■の生成物と同じ物性値を示す。
XV(実施例)
工程1.2−メチル−プロペノイル−し−プロリンt−
ブチルエステルの合成 りMF中のDCC2mモルの冷却溶液をDMF中のメタ
クリル12mモルとし一プロリンt−ブヂルエステル2
mモルの混合物に0℃で滴下で加える。この反応混合物
を30分間、次に4℃で夜通しかきまぜる。ろ過により
結晶性ジシクロヘキシル尿素を除去し、そして沈殿物を
エチルアセテートで洗浄する。組合わせたろ液からの溶
媒を圧力下除去しそして残漬をベンゼン−ヘキサンから
結晶化して表記の生成物を生ずる。
ブチルエステルの合成 りMF中のDCC2mモルの冷却溶液をDMF中のメタ
クリル12mモルとし一プロリンt−ブヂルエステル2
mモルの混合物に0℃で滴下で加える。この反応混合物
を30分間、次に4℃で夜通しかきまぜる。ろ過により
結晶性ジシクロヘキシル尿素を除去し、そして沈殿物を
エチルアセテートで洗浄する。組合わせたろ液からの溶
媒を圧力下除去しそして残漬をベンゼン−ヘキサンから
結晶化して表記の生成物を生ずる。
工程2.N −Ddz−L−チオフェニルアラニンの
合成 方法XrX、工程1に記載した工程に従って表記の化合
物を製造する。
合成 方法XrX、工程1に記載した工程に従って表記の化合
物を製造する。
工程3.N”−[3−(N −Ddz−L−71ニル
アラニルチオ)−2−メチルプロパノイL二二に二1且
ユ之に1エエユ2ユユユ11方法11工程4でベンゾイ
ル−し−チオフェニルアラニンの代りに工程2の生成物
そしてメタクリル酸の代りに工程1の生成物を置換する
ことモして実質上ここに記載して工程に従って表記の生
成物が得られる。
アラニルチオ)−2−メチルプロパノイL二二に二1且
ユ之に1エエユ2ユユユ11方法11工程4でベンゾイ
ル−し−チオフェニルアラニンの代りに工程2の生成物
そしてメタクリル酸の代りに工程1の生成物を置換する
ことモして実質上ここに記載して工程に従って表記の生
成物が得られる。
工程4.N −[3−(L−フェニルアラニルチオ)
−2−メチルプロパノイル]−シーブロリンt−ブチル
エステルの合成 方法Xv、工程4の工程に従って表記の化合物を合成す
る。
−2−メチルプロパノイル]−シーブロリンt−ブチル
エステルの合成 方法Xv、工程4の工程に従って表記の化合物を合成す
る。
工程5.N −[3−(N −ベンゾイル−し−フ
ェニルアラニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L
−ブOリンt−ブチルエステルの合成 方法XIX、工程6に記載した工程に従って表記の化合
物を合成する。
ェニルアラニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L
−ブOリンt−ブチルエステルの合成 方法XIX、工程6に記載した工程に従って表記の化合
物を合成する。
α−
工程6.N [3−(N −ベンゾイル−し−フ
ェニルアラニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L
−プロリンの合成 方法I、工程6(ハ)(11)の工程に従って工程5の
生成物のt−ブチルエステル基を除去することによって
表記の化合物が得られる。
ェニルアラニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L
−プロリンの合成 方法I、工程6(ハ)(11)の工程に従って工程5の
生成物のt−ブチルエステル基を除去することによって
表記の化合物が得られる。
工程7.N −[3−(N”−ベンゾイル−し−フェ
ニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−
L−プロリンを生ずる)別方法x1工程2に記載した工
程に実質上従って表記の化合物が得られる。
ニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−
L−プロリンを生ずる)別方法x1工程2に記載した工
程に実質上従って表記の化合物が得られる。
得られる生成物は方法Iの生成物と同じ物性値を示す。
XVI(参考例)
工程1.3−アセチルチオ−2−メチルプロパノイル−
し−プロリンt−ブチルエステルの合方法XX1工稈1
のメタクリル酸の代りに3−アセチルチオ−2−メチル
プロピオン酸を置換することにより、そして実質上ここ
に記載した工程に従って、表記の化合物が得られる。
し−プロリンt−ブチルエステルの合方法XX1工稈1
のメタクリル酸の代りに3−アセチルチオ−2−メチル
プロピオン酸を置換することにより、そして実質上ここ
に記載した工程に従って、表記の化合物が得られる。
工程2.3−メルカプトー2−メチルプロパノイル−L
−プロリンt−ブチルエステルの合成工程1からの生成
物をメタノールと淵アンモニアの混合物に溶解する。1
時間後この反応混合物を水で希釈しそしてろ過する。ろ
液をエチルアセテートで抽出し、次にIIHolで酸性
化し、N a 0.1で飽和しそしてエチルアセテート
で2回抽出する。このエチルアセテート抽出物を飽和N
aCj!で洗浄しそして濃縮乾固して表記の生成物を生
ずる。
−プロリンt−ブチルエステルの合成工程1からの生成
物をメタノールと淵アンモニアの混合物に溶解する。1
時間後この反応混合物を水で希釈しそしてろ過する。ろ
液をエチルアセテートで抽出し、次にIIHolで酸性
化し、N a 0.1で飽和しそしてエチルアセテート
で2回抽出する。このエチルアセテート抽出物を飽和N
aCj!で洗浄しそして濃縮乾固して表記の生成物を生
ずる。
工程3.3−メルカプト−2−D−メチルプロパノイル
−L−プロリンt−ブチルエステルを生ずる分割 液体クロマトグラフィーを使用して又は金属キレート錯
体を形成することによって工程2からの生成物を分割し
て表記の生成物を生ずる。
−L−プロリンt−ブチルエステルを生ずる分割 液体クロマトグラフィーを使用して又は金属キレート錯
体を形成することによって工程2からの生成物を分割し
て表記の生成物を生ずる。
■程4.N −[3−(N’−ベンゾイル−し−フェ
ニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−
L−プロリンt−ブチルエステルの合成 方法M1工程3の3−メルカプト−2−メチルプロピオ
ン酸の代りに工程3からの生成物を置換することにより
そして実質上ここに記載した工程に従って表記の化合物
を合成する。
ニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−
L−プロリンt−ブチルエステルの合成 方法M1工程3の3−メルカプト−2−メチルプロピオ
ン酸の代りに工程3からの生成物を置換することにより
そして実質上ここに記載した工程に従って表記の化合物
を合成する。
α
工程5.N −[3−(N”−ベンゾイル−L−フェ
ニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−
L−プロリンの合成 方法■、工程6]ii)に記載した工程に従って工程4
の生成物のt−ブチルエステル基を除去することによっ
て表記の生成物を合成する。
ニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−
L−プロリンの合成 方法■、工程6]ii)に記載した工程に従って工程4
の生成物のt−ブチルエステル基を除去することによっ
て表記の生成物を合成する。
XVI(参考例)
本方法はペプチド合成のための従来の固相技術の使用を
含む。この技術に対する一般参照文献としてAdvan
、 Enzymol、 其、 221 (1969)
を見よ。
含む。この技術に対する一般参照文献としてAdvan
、 Enzymol、 其、 221 (1969)
を見よ。
■程1.固相樹脂にL−proをカップルさせること
標準の方法論を使用して、エチルアセテート中のN(x
−Boc−L−Proの1液を、3−ニトロ−4−ブロ
モメチルベンジルアミド基を結合させた固相樹脂とジイ
ソプロピルエチルアミンの存在で混合する。エチルアセ
テート、メタノール次にジクロロメタンで洗浄すること
によって過剰のNa−Boc−L−Proを除去スル。
−Boc−L−Proの1液を、3−ニトロ−4−ブロ
モメチルベンジルアミド基を結合させた固相樹脂とジイ
ソプロピルエチルアミンの存在で混合する。エチルアセ
テート、メタノール次にジクロロメタンで洗浄すること
によって過剰のNa−Boc−L−Proを除去スル。
次ニインドール1mg/−を含有するジクロロメタン中
の25%TFAの溶液を、Na−Boc−L−Pr。
の25%TFAの溶液を、Na−Boc−L−Pr。
を結合させた樹脂に加えて3oc保護塁の除去を生ずる
。この樹脂をジクロロメタンで洗浄する。
。この樹脂をジクロロメタンで洗浄する。
工程2.工程1の生成物へ3− (Na−ベンゾイル−
L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロピオ
ン酸のカップリング DMFとジクロロメタン(1:1)中の表記の化合物と
DCCの溶液を工程1からの樹脂と混合した。表記の化
合物をこの工程でプロリンに結合させて樹脂の0−ニト
ロベンジル基に結合した生α 酸物N −[3−(Na−ベンゾイル−し−フェニル
アラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L−
プロリンを生ずる。エタノール、そして次にジクロロメ
タンで洗浄することによって過剰の反応体を除去する。
L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロピオ
ン酸のカップリング DMFとジクロロメタン(1:1)中の表記の化合物と
DCCの溶液を工程1からの樹脂と混合した。表記の化
合物をこの工程でプロリンに結合させて樹脂の0−ニト
ロベンジル基に結合した生α 酸物N −[3−(Na−ベンゾイル−し−フェニル
アラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L−
プロリンを生ずる。エタノール、そして次にジクロロメ
タンで洗浄することによって過剰の反応体を除去する。
生成物を乾燥窒素流下で乾燥する。
工程3.樹脂からN −[3−(N(x−ベンゾα
イル−し一フェニルアラニルチオ)−2−D−に記載さ
れるように35001の波長を有する光を用いてメタク
リル酸の工程2からの物質に照射する。エチルアセテー
トを使用して樹脂から表記の生成物を洗浄する。溶媒を
回転蒸発器により除去して表記の生成物を生ずる。
れるように35001の波長を有する光を用いてメタク
リル酸の工程2からの物質に照射する。エチルアセテー
トを使用して樹脂から表記の生成物を洗浄する。溶媒を
回転蒸発器により除去して表記の生成物を生ずる。
X■(実施例)
工程1.固相樹脂へL−Proのカップリング方法Xx
[、工程1に記載したようにL−PrOを樹脂にカップ
ルさせる。
[、工程1に記載したようにL−PrOを樹脂にカップ
ルさせる。
工程2.■程1の生成物へ3−メルカプト−2−メチル
プロピオン酸のカップリング 方法XM、工程2で3−(N“−ベンゾイル−し−フェ
ニルアラニルチオ”)−2−D−メチルプロピオン酸の
代りに3−Cbo−2−メチルプロピオン酸を置換する
こと及び工程2の工程に従って、この化合物を樹脂に結
合したL−Proにカップルさせる。TFAの溶液を樹
脂と混合してCboを除去して表記の化合物を生ずる。
プロピオン酸のカップリング 方法XM、工程2で3−(N“−ベンゾイル−し−フェ
ニルアラニルチオ”)−2−D−メチルプロピオン酸の
代りに3−Cbo−2−メチルプロピオン酸を置換する
こと及び工程2の工程に従って、この化合物を樹脂に結
合したL−Proにカップルさせる。TFAの溶液を樹
脂と混合してCboを除去して表記の化合物を生ずる。
この樹脂をエタノール、そして次にジクロロメタンで洗
浄する。
浄する。
工程3.工程2の生成物にL−Pheのカップリング
DMFとジクロロメタン(1:1)中のNCR−Boa
−L−PheとDCCの溶液を工程2の樹脂と混合する
。この生成物を樹脂に結合した化合物のメルカプト基に
カップルさせる。エタノールそして次にジクロロメタン
で洗浄することによって過剰の反応体を除去する。ジク
ロロメタン中の25%TFAの溶液(I III/s!
インドール)を樹脂と混合して13oc保護基を除去し
て樹脂に結合されているN”−(3−L−フェニルアラ
ニルチオ−2−メチルプロパノイル)−L−プロリンを
生ずる。ジクロロメタンで洗浄することによって過剰の
TEAを除去する。
−L−PheとDCCの溶液を工程2の樹脂と混合する
。この生成物を樹脂に結合した化合物のメルカプト基に
カップルさせる。エタノールそして次にジクロロメタン
で洗浄することによって過剰の反応体を除去する。ジク
ロロメタン中の25%TFAの溶液(I III/s!
インドール)を樹脂と混合して13oc保護基を除去し
て樹脂に結合されているN”−(3−L−フェニルアラ
ニルチオ−2−メチルプロパノイル)−L−プロリンを
生ずる。ジクロロメタンで洗浄することによって過剰の
TEAを除去する。
工程4.工程3の生成物へベンゾイル基のカップリング
1当量のTEAを含有するDMF中の塩化ベンゾイルの
溶液を工程3の樹脂と混合する。ベンゾイル基をPhe
の7ミノ基にカップルさせる。エタノールとジクロロメ
タンで洗浄によって過剰の反応体を除去して樹脂に結合
したN(x−[3−(Na−ベンゾイル−し−フェニル
アラニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L−プロ
リンを生ずる。
溶液を工程3の樹脂と混合する。ベンゾイル基をPhe
の7ミノ基にカップルさせる。エタノールとジクロロメ
タンで洗浄によって過剰の反応体を除去して樹脂に結合
したN(x−[3−(Na−ベンゾイル−し−フェニル
アラニルチオ)−2−メチルプロパノイル]−L−プロ
リンを生ずる。
工程5.樹脂からN −[3−(Na−ベンゾα
イル−し一フェニルアラニルチオ)−2−メチルプOバ
ノイル]−L−プロリンの開裂方法X刈、工程3に記載
した工程に従って表記の生成物を樹脂から開裂する。
ノイル]−L−プロリンの開裂方法X刈、工程3に記載
した工程に従って表記の生成物を樹脂から開裂する。
工程6.N“−[3−(ベンゾイル−し−〕工ニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]=1−−ブ
ロリンを生ずる開裂 方法X、工程2の工程に実質上従って表記の生成物が得
られる。得られる生成物は方法Iの生成物と同じ物性値
を示す。
ニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]=1−−ブ
ロリンを生ずる開裂 方法X、工程2の工程に実質上従って表記の生成物が得
られる。得られる生成物は方法Iの生成物と同じ物性値
を示す。
XIX(参考例)
工程1.1−チオフェニルアラニン塩酸塩の合成
tiebiQs ^nn、 Chew、 57
6. 104 (1952)に記載される工程に実質
上従って表記の生成物を製造する。
6. 104 (1952)に記載される工程に実質
上従って表記の生成物を製造する。
Chegi、 Ber、 87.1093 (195
4)及びNaturwissenschafteu 4
0 、242 (1953)に記載される工程に実質上
従って表記の生成物を製造する。
4)及びNaturwissenschafteu 4
0 、242 (1953)に記載される工程に実質上
従って表記の生成物を製造する。
工程2.3−(L−フェニルアラニルチオ)−2−メチ
ルア0ピオン酸塩酸塩の合成 方法工、工程4の、N−ベンゾイル−し−チオフェニル
アラニンの代りにし−チオフェニルアラニン塩酸塩を置
換することモしてここに記載した工程に実質上従って、
表記の生成物が得られる。
ルア0ピオン酸塩酸塩の合成 方法工、工程4の、N−ベンゾイル−し−チオフェニル
アラニンの代りにし−チオフェニルアラニン塩酸塩を置
換することモしてここに記載した工程に実質上従って、
表記の生成物が得られる。
工程3.3−L−フェニルアラニルチオ−2−〇−メチ
ルプOピオン酸を生ずる分割 方法■、工程5に記載した工程に実質上従って又はイオ
ン交換りOマドグラフィーによって工程2からの生成物
を分割する。
ルプOピオン酸を生ずる分割 方法■、工程5に記載した工程に実質上従って又はイオ
ン交換りOマドグラフィーによって工程2からの生成物
を分割する。
工程4.3− (N’−ベンゾイル−L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 安息香酸のN−スクシンイミジルエステル10mモルを
冷THEに溶解し、次にこの溶液をTHEと水中の工程
3からの生成物10mモルとNaH,00310mモル
の冷溶液に加える。この反応混合物を室温で夜通しかき
まぜる。このTHEを35℃で回転蒸発器で除去する。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 安息香酸のN−スクシンイミジルエステル10mモルを
冷THEに溶解し、次にこの溶液をTHEと水中の工程
3からの生成物10mモルとNaH,00310mモル
の冷溶液に加える。この反応混合物を室温で夜通しかき
まぜる。このTHEを35℃で回転蒸発器で除去する。
水を混合物に加えそして固体N a HCO3を使用し
てjullを調節する。水相をエチルアセテートで抽出
する。
てjullを調節する。水相をエチルアセテートで抽出
する。
水相を水浴で冷却し、次にエチルアセテートの存在でI
NHCj!を使用してpH2に酸性化する。有機相を
冷水で2回洗浄し、次に飽和NaC!で2回洗浄する。
NHCj!を使用してpH2に酸性化する。有機相を
冷水で2回洗浄し、次に飽和NaC!で2回洗浄する。
有機相を無水MaSO4で乾燥しそしてろ過する。溶媒
を回転蒸発器で除去しそして残渣をエーテル−ヘキサン
から結晶化して表2の生成物を生ずる。
を回転蒸発器で除去しそして残渣をエーテル−ヘキサン
から結晶化して表2の生成物を生ずる。
工程5.N −[3−(N−ベンゾイル−し−フェニ
ルアラニルチオ)−2−D−メチル]−L−プロリンの
合成 方法工、工程6(ハ)に記載した工程に従って表記の生
成物を合成のする。
ルアラニルチオ)−2−D−メチル]−L−プロリンの
合成 方法工、工程6(ハ)に記載した工程に従って表記の生
成物を合成のする。
XX(参考例)
工程1.3−(N −ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 3−ブロモ−2−メチルプロピオンI[lfl 5mモ
ルを水性IN NaOHに溶解し、そしてこの溶液を
水浴で冷却する。水中のN −ベンゾイル−し−チオフ
ェニルアラニン15mモルとK CO3の混合物を加え
そしてこの混合物を室温で夜通しかきまぜる。濃HC1
で酸性化後、この水溶液をエチルアセテートで抽出し、
そして有機相を水で洗浄し、乾燥しかつ濃縮乾固する。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 3−ブロモ−2−メチルプロピオンI[lfl 5mモ
ルを水性IN NaOHに溶解し、そしてこの溶液を
水浴で冷却する。水中のN −ベンゾイル−し−チオフ
ェニルアラニン15mモルとK CO3の混合物を加え
そしてこの混合物を室温で夜通しかきまぜる。濃HC1
で酸性化後、この水溶液をエチルアセテートで抽出し、
そして有機相を水で洗浄し、乾燥しかつ濃縮乾固する。
次に方法■、工程5の工程に従ってこの生成物を分割し
て表記の生成物を生ずる。別法として、出発物質として
3−ブロモ−2−D−メチルプロピオン酸を使用でき、
かくして分割工程を省略できる。
て表記の生成物を生ずる。別法として、出発物質として
3−ブロモ−2−D−メチルプロピオン酸を使用でき、
かくして分割工程を省略できる。
工程2.Na−[3−(N’−ペン”Iイ)Lt−L−
フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
]−1−プロリンの合成 方法工、工程6(ハ)に記載した工程に従って表記の生
成物が得られる。
フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
]−1−プロリンの合成 方法工、工程6(ハ)に記載した工程に従って表記の生
成物が得られる。
XXI(参考例)
工程1.3−ベンジルオキシカルボニルチオ−2−メチ
ルプロピオン酸の合成 方法I、工程4のN(Z−ベンゾイル−L−チオフェニ
ルアラニンの代りにベンジルチオホルメートを置換する
ことそしてここに記載した工程に実質上従って表記の生
成物が得られる。
ルプロピオン酸の合成 方法I、工程4のN(Z−ベンゾイル−L−チオフェニ
ルアラニンの代りにベンジルチオホルメートを置換する
ことそしてここに記載した工程に実質上従って表記の生
成物が得られる。
工程2.3−ベンジルオキシカルボニルチオ−2−D−
メチルプロピオン酸を生ずる分割塩として結晶化により
、又は液体クロマトグラフィーにより工程1の生成物を
分割することで表記の生成物が得られる。
メチルプロピオン酸を生ずる分割塩として結晶化により
、又は液体クロマトグラフィーにより工程1の生成物を
分割することで表記の生成物が得られる。
工程3.N −[3−(ベンジルオキシカルボニルチ
オ L−プロリンt−ブチルエステルのA 方法I、工程6W(i)(7)3− (Na−ベンゾイ
ル−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロ
ピオン酸の代りに工程2の生成物を置換すること、そし
てここに記載した工程に実質上従って表記の生成物が得
られる。
オ L−プロリンt−ブチルエステルのA 方法I、工程6W(i)(7)3− (Na−ベンゾイ
ル−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロ
ピオン酸の代りに工程2の生成物を置換すること、そし
てここに記載した工程に実質上従って表記の生成物が得
られる。
工程4.N’−(3−メルカプト−2−D−メチルプロ
パノイル)−1−プロリンの合成工程3からの生成物を
アニソールに懸濁させそして酢酸中のHBrとかきまぜ
ながら室温で1/2時間反応させる。エチルエーテルを
混合物に加えそして1時間O℃に冷却する。沈殿物をろ
過により回収しそして無水エーテルで数回洗浄する。N
aOHペレットとP2O3上に真空デシケータ中で所望
の生成物を乾燥する。
パノイル)−1−プロリンの合成工程3からの生成物を
アニソールに懸濁させそして酢酸中のHBrとかきまぜ
ながら室温で1/2時間反応させる。エチルエーテルを
混合物に加えそして1時間O℃に冷却する。沈殿物をろ
過により回収しそして無水エーテルで数回洗浄する。N
aOHペレットとP2O3上に真空デシケータ中で所望
の生成物を乾燥する。
工程5.NCl− [3−N − (ベンゾイル−し
−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイ
ル]−L−プロリンの合 方法■、工程3の3−メルカプト−2−メチルプロピオ
ン酸の代りに工程4からの生成物を置換することによっ
てそしてここに記載した工程に実質上従って表記の生成
物が得られる。
−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイ
ル]−L−プロリンの合 方法■、工程3の3−メルカプト−2−メチルプロピオ
ン酸の代りに工程4からの生成物を置換することによっ
てそしてここに記載した工程に実質上従って表記の生成
物が得られる。
XXI(参考例)
工程1.3−L−フェニルアラニルチオ−2−に記載さ
れるように混合無水物カップリング法を使用してモル当
量のN −Boc−L−PheとH2Sを反応させて
N −BOC−L−チオフェニルアラニンを生ずる。
れるように混合無水物カップリング法を使用してモル当
量のN −Boc−L−PheとH2Sを反応させて
N −BOC−L−チオフェニルアラニンを生ずる。
方法11工程(21 ( i )に記載した工程に従っ
てこのBOC保護基を除去する。
てこのBOC保護基を除去する。
この工程では進行前にこのTFAとアニソールを完全に
除去する。方法■、工程4のN−ベンゾイル−し−チオ
フェニルアラニンの代りに生成するし一チオフェニルア
ラニンを置換することによって、そしてここに記載した
工程に実質上従って、表記の生成物が得られる。
除去する。方法■、工程4のN−ベンゾイル−し−チオ
フェニルアラニンの代りに生成するし一チオフェニルア
ラニンを置換することによって、そしてここに記載した
工程に実質上従って、表記の生成物が得られる。
工程2.3− (N −ベンゾイル−し−フェニルア
ラニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合 工程1からの生成物2mモルを、N a HC034m
モルを含有するTHEと水(7:3)に激しくかぎまぜ
ながら懸濁させる。次に室温で塩化ベンゾイル2mモル
を加えそして生成する混合物を1時間激しくかきまぜる
。エチルアセテートを加えそしてこの混合物を0℃で1
N HCIでpH2に調節する。有機相を飽和NaC
jで洗浄し、MqSO4で乾燥しそしてろ過Jる。溶媒
を回転蒸発器で除去する。残渣をベンゼンn−ヘキサン
から結晶化しかつ再結晶して白色結晶を生ずる。
ラニルチオ)−2−メチルプロピオン酸の合 工程1からの生成物2mモルを、N a HC034m
モルを含有するTHEと水(7:3)に激しくかぎまぜ
ながら懸濁させる。次に室温で塩化ベンゾイル2mモル
を加えそして生成する混合物を1時間激しくかきまぜる
。エチルアセテートを加えそしてこの混合物を0℃で1
N HCIでpH2に調節する。有機相を飽和NaC
jで洗浄し、MqSO4で乾燥しそしてろ過Jる。溶媒
を回転蒸発器で除去する。残渣をベンゼンn−ヘキサン
から結晶化しかつ再結晶して白色結晶を生ずる。
工程3.3−(N −ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオンを生ずる 割 方法工、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオンを生ずる 割 方法工、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
工程4.Na−[3−(N −t<ン’/イ)It−
L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノ
イル −L−プロリンの合成 方法■、工程6咎に記載した方法に従って表記の生成物
が得られる。
L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノ
イル −L−プロリンの合成 方法■、工程6咎に記載した方法に従って表記の生成物
が得られる。
XXI(参考例)
工程1.3−アセチルチオ−2−メチシブ0ピオン酸O
−ニトロベンジルエステルの合成2−フルオ0−1.3
.5−トリニトロベンゼン(FTNB)中の3−アセチ
ルチオ−2−メチルプロピオンM10mモルをFTNB
中の0−二トロベンジルアルコール10mモルの溶液に
室温でかきまぜながら加える。この反応混合物を1 /
2F11間かきまぜ、そして次に回転蒸発器により溶媒
を除去して表記の化合物を生ずる。
−ニトロベンジルエステルの合成2−フルオ0−1.3
.5−トリニトロベンゼン(FTNB)中の3−アセチ
ルチオ−2−メチルプロピオンM10mモルをFTNB
中の0−二トロベンジルアルコール10mモルの溶液に
室温でかきまぜながら加える。この反応混合物を1 /
2F11間かきまぜ、そして次に回転蒸発器により溶媒
を除去して表記の化合物を生ずる。
工程2.3−アセチルチオ−2−D−メチルプロピオン
SO−ニトロベンジルエステルを生ずる 負1 液体クロマトグラフィーを使用して工程1からの生成物
を分割して表記の生成物を生ずる。
SO−ニトロベンジルエステルを生ずる 負1 液体クロマトグラフィーを使用して工程1からの生成物
を分割して表記の生成物を生ずる。
工程3.3−アセチルチオ−2−D−メチルプロピオン
酸の合成 J、 /v、 Chew、 Soc、 97.1575
(1975)に記載されるように350rvの波長を
有する光を使用して工程2からの生成物に照射する。
酸の合成 J、 /v、 Chew、 Soc、 97.1575
(1975)に記載されるように350rvの波長を
有する光を使用して工程2からの生成物に照射する。
工程4.Na−(3−7tチルチt−2−D−メチルプ
ロパノイル)−L−プロリンt−ブチルエステルの合成 方法■、工程6(ハ)(i)で3− (Na−ベンゾイ
ル−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロ
ピオン酸の代りに工程3からの生成物を置換することに
よりそしてここに記載した工程に従って実質上従って、
表記の生成物が得られる。
ロパノイル)−L−プロリンt−ブチルエステルの合成 方法■、工程6(ハ)(i)で3− (Na−ベンゾイ
ル−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロ
ピオン酸の代りに工程3からの生成物を置換することに
よりそしてここに記載した工程に従って実質上従って、
表記の生成物が得られる。
■程5.N−(3−メルカプト−2−D−メチルプロパ
ノイル)−1−プロリンt−ブチルエステルの合成 工程4からの生成物を濃アンモニア、メタノール及びア
ニソールの混合物に溶解する。1時間後溶媒を圧力下除
去しそして残渣をベンゼン−ヘキサンから結晶化して表
記の生成物を生ずる。
ノイル)−1−プロリンt−ブチルエステルの合成 工程4からの生成物を濃アンモニア、メタノール及びア
ニソールの混合物に溶解する。1時間後溶媒を圧力下除
去しそして残渣をベンゼン−ヘキサンから結晶化して表
記の生成物を生ずる。
工程6. N −[3−(Na−ペン/イル−Lα
一フェニルアラニルチオー2−D−メチルプロパノイル
]−シープロリンt−ブチルエステルの合成 方法M、工程3の3−メルカプト−2−D−メチルプロ
パノイル−し−プロリンの代りに工程5からの生成物を
置換することによってそしてここに記載した工程に従っ
て、表記の生成物が得られる。
]−シープロリンt−ブチルエステルの合成 方法M、工程3の3−メルカプト−2−D−メチルプロ
パノイル−し−プロリンの代りに工程5からの生成物を
置換することによってそしてここに記載した工程に従っ
て、表記の生成物が得られる。
工程7.Na−[3−(Na−ベンゾイル−し=フェニ
ルアラニルチオ”)−2−D−メチルプロパノイル −
L−プロリンの合成 方法工、工程6咎(ii)に記載した工程に従って工程
6の生成物からt−ブチルエステルを除去して表記の生
成物を生ずる。
ルアラニルチオ”)−2−D−メチルプロパノイル −
L−プロリンの合成 方法工、工程6咎(ii)に記載した工程に従って工程
6の生成物からt−ブチルエステルを除去して表記の生
成物を生ずる。
XXIV(参考例)
工程1゜3−アミノ−2−D−メチルプロピオに記載さ
れる工程に従って2−アミノ−2−メチルプロピオン酸
を分割して表記の化合物を生ずる。
れる工程に従って2−アミノ−2−メチルプロピオン酸
を分割して表記の化合物を生ずる。
工程2.3−ブロモ−2−D−メチルプロピオン酸の合
成 工程1からの生成物を水に溶解しそして生成する溶液を
一5℃に冷却する。この溶液に少しのN a N O2
と水中の48%HBrを加える。この混合物を30分間
かきまぜ、次に室温に徐々に加温する。溶媒を回転蒸発
器により除去して表記の生成物を生ずる。
成 工程1からの生成物を水に溶解しそして生成する溶液を
一5℃に冷却する。この溶液に少しのN a N O2
と水中の48%HBrを加える。この混合物を30分間
かきまぜ、次に室温に徐々に加温する。溶媒を回転蒸発
器により除去して表記の生成物を生ずる。
工程3.3− (N(x−ベンゾイル−し−フェニルア
ラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法XXV、工程1に記載した工程に従って表記の生成
物が得られる。
ラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法XXV、工程1に記載した工程に従って表記の生成
物が得られる。
工程4.Na−[3−(N −ベンシイ)Lt−L−
フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
]−し一プロリンの合成 方法1、■程6咎に記載した工程に従って表記の生成物
が得られる。
フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル
]−し一プロリンの合成 方法1、■程6咎に記載した工程に従って表記の生成物
が得られる。
XXV(参考例)
工程1.3−アミノ−2−D−メチルプロピオン酸を生
ずる分割 に記載した工程に従って3−アミノ−2−メチルプロピ
オン酸を分割して表記の化合物を生ずる。
ずる分割 に記載した工程に従って3−アミノ−2−メチルプロピ
オン酸を分割して表記の化合物を生ずる。
工程2.3−ブロモ−2−D−メチルプロピオン酸の合
成 方法Xx■、工程2に記載した方法に従って表記の生成
物が得られる。
成 方法Xx■、工程2に記載した方法に従って表記の生成
物が得られる。
工程3.3−ベンゾイルチオ−2−D−メチルプロピオ
ン酸の合成 方法XXV、工程1のN−ベンゾイル−L−チオフェニ
ルアラニンの代りにチオ安息香酸を置換すること、工程
2からの生成物を使用することそしてここに記載した工
程に従うことによって、表記の生成物が得られる。
ン酸の合成 方法XXV、工程1のN−ベンゾイル−L−チオフェニ
ルアラニンの代りにチオ安息香酸を置換すること、工程
2からの生成物を使用することそしてここに記載した工
程に従うことによって、表記の生成物が得られる。
工程4.3−メルカプト−2−D−メチルプロピオン酸
のA 方法M、工程2に記載した工程に従ってベンゾイル基を
除去して表記の生成物を生ずる。
のA 方法M、工程2に記載した工程に従ってベンゾイル基を
除去して表記の生成物を生ずる。
工程5.3−(N −ベンゾイル−L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 反応体の一つとして工程4からの生成物を利用して方法
M1工程3に記載した工程に従って表記の生成物を製造
する。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 反応体の一つとして工程4からの生成物を利用して方法
M1工程3に記載した工程に従って表記の生成物を製造
する。
工程6.N“−[3−(N”−ベンゾイル−L−フェニ
ルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L
−プロリンの合成 方法M1工程5に記載した工程に従って表記の生成物を
合成する。
ルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]−L
−プロリンの合成 方法M1工程5に記載した工程に従って表記の生成物を
合成する。
XXVI (参考例)
工程1.3−ベンゾイルチオ−2−D−メチルプロピオ
27%lt−ブチルエステルの合3−ベンゾイルチオー
2−D−メチルプロピオン!25mモルをジクロロメタ
ンプラス濃硫酸0’、5mに溶解する。イソブチレン流
をこの溶液に60分間かきまぜながら通過させる。反応
容器を閏じそして溶液を16時間かきまぜる。表記の生
成物をエーテルで水から抽出する。溶媒を回転蒸発器で
除去し、そして次に高真空下で除去する。
27%lt−ブチルエステルの合3−ベンゾイルチオー
2−D−メチルプロピオン!25mモルをジクロロメタ
ンプラス濃硫酸0’、5mに溶解する。イソブチレン流
をこの溶液に60分間かきまぜながら通過させる。反応
容器を閏じそして溶液を16時間かきまぜる。表記の生
成物をエーテルで水から抽出する。溶媒を回転蒸発器で
除去し、そして次に高真空下で除去する。
工程2.3−メルカプト−2−D−メチルプロピオンg
t−ブチルエステルの合成 工程1からの生成物を窒素ガス下メタノール性アンモニ
アに溶解する。1時間後に、溶媒を除去する。残渣をエ
ーテルに溶解し、水浴で冷却し、次に0.1NHCj!
で、そして飽和NaC!で洗浄する。有機相を無水Mq
SO4で乾燥しそして次にろ過する。溶媒を回転蒸発器
で除去する。真空蒸留により表記の生成物が得られる。
t−ブチルエステルの合成 工程1からの生成物を窒素ガス下メタノール性アンモニ
アに溶解する。1時間後に、溶媒を除去する。残渣をエ
ーテルに溶解し、水浴で冷却し、次に0.1NHCj!
で、そして飽和NaC!で洗浄する。有機相を無水Mq
SO4で乾燥しそして次にろ過する。溶媒を回転蒸発器
で除去する。真空蒸留により表記の生成物が得られる。
工程3.3− (N“−ベンゾイル−L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオンat−ブチルエ
ステルの合成 (ハ)(i)活性エステルの製造。再蒸留したエチルア
セテート中のN(2−ベンゾイル−L−Phe25mモ
ルの溶液をメタノール−氷−ドライアイス浴で一20℃
に冷却する。このx(X−ベンゾイル−L−Pheを5
erial No、 128.953に記載されるよう
に、例えばカーター等のJ、 Biol。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオンat−ブチルエ
ステルの合成 (ハ)(i)活性エステルの製造。再蒸留したエチルア
セテート中のN(2−ベンゾイル−L−Phe25mモ
ルの溶液をメタノール−氷−ドライアイス浴で一20℃
に冷却する。このx(X−ベンゾイル−L−Pheを5
erial No、 128.953に記載されるよう
に、例えばカーター等のJ、 Biol。
到り、138,627 (1941)の工程に従って製
造する。この溶液にN−エチルモルホリン25mモル、
続いてイソブチルクロロホルメート25mモルを加え、
そしてこの溶液を一15℃で数分間かきまぜる。N−ヒ
ドロキシスフシイミド59mモルを加えそして生成する
反応混合物を一15℃で172時間かきまぜる。(ii
)活性エステル法。この反応混合物を室温に徐々に加温
し、3−メルカプト−2−D−メチルプロピオンalt
−ブチルエステル(工程2から)25mモルを加え、そ
して次に薄層クロマトグラフィーにより判定して反応が
完了するまでかきまぜる。エチルアセテートを加え、こ
の混合物を水浴で冷却しそしてI NHCJでpH3に
酸性化する。有機相を冷水と冷飽和NaCj!で数回洗
浄する。次に有機相を無水MqS04で乾燥しそしてろ
過する。溶媒を回転蒸発器で除去する。この残渣をベン
ゼン−石油エーテルから結晶化して表記の生成物を生ず
る。
造する。この溶液にN−エチルモルホリン25mモル、
続いてイソブチルクロロホルメート25mモルを加え、
そしてこの溶液を一15℃で数分間かきまぜる。N−ヒ
ドロキシスフシイミド59mモルを加えそして生成する
反応混合物を一15℃で172時間かきまぜる。(ii
)活性エステル法。この反応混合物を室温に徐々に加温
し、3−メルカプト−2−D−メチルプロピオンalt
−ブチルエステル(工程2から)25mモルを加え、そ
して次に薄層クロマトグラフィーにより判定して反応が
完了するまでかきまぜる。エチルアセテートを加え、こ
の混合物を水浴で冷却しそしてI NHCJでpH3に
酸性化する。有機相を冷水と冷飽和NaCj!で数回洗
浄する。次に有機相を無水MqS04で乾燥しそしてろ
過する。溶媒を回転蒸発器で除去する。この残渣をベン
ゼン−石油エーテルから結晶化して表記の生成物を生ず
る。
(へ) テトラヒドロフラン中のNa−ベンゾイル−L
−Phe25mモルの溶液をEDDQ25.1mモルに
かきまぜながら加える。3−メルカプト−2−D−メチ
ルプロピオンIt−ブチルエステル25mモルを加える
。次に薄層クロマ1〜グラフイーにより判定して、反応
が完了するまで生成する混合物をかきまぜる。溶媒を回
転蒸発器で除去する。生成物をベンゼン−石油エーテル
から結晶化する。
−Phe25mモルの溶液をEDDQ25.1mモルに
かきまぜながら加える。3−メルカプト−2−D−メチ
ルプロピオンIt−ブチルエステル25mモルを加える
。次に薄層クロマ1〜グラフイーにより判定して、反応
が完了するまで生成する混合物をかきまぜる。溶媒を回
転蒸発器で除去する。生成物をベンゼン−石油エーテル
から結晶化する。
工程4.3− (Na−ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合 工程3からの生成物をアニソール4dに懸濁させそして
TFA8dとかきまぜながら室温で1 /2時間反応さ
せる。TEAとアニソールを回転蒸発器を用いて、次に
NaOHとP2O5で高真空下で除去して表記生成物を
生ずる。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合 工程3からの生成物をアニソール4dに懸濁させそして
TFA8dとかきまぜながら室温で1 /2時間反応さ
せる。TEAとアニソールを回転蒸発器を用いて、次に
NaOHとP2O5で高真空下で除去して表記生成物を
生ずる。
工程5.N −[3−<N −ベンゾイル−し−フ
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]
−L−プロリンの合成 ジメチルホルムアミド(DMF)中のDCC25mモル
の冷却溶液をDMF中の工程4からの生成物25mモル
とN−ヒドロキシスクシンイミド25mモルの混合物に
滴下で加える。この反応混合物を0℃で30分間、次に
4℃で夜通しかきまぜる。ろ過により結晶性ジンク0ヘ
キシル尿素を除去しそして沈殿物をエチルアセテートで
洗浄する。組合わせたろ液から溶媒を減圧上除去しそし
て残漬をベンゼン−ヘキサンから結晶化する。
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル]
−L−プロリンの合成 ジメチルホルムアミド(DMF)中のDCC25mモル
の冷却溶液をDMF中の工程4からの生成物25mモル
とN−ヒドロキシスクシンイミド25mモルの混合物に
滴下で加える。この反応混合物を0℃で30分間、次に
4℃で夜通しかきまぜる。ろ過により結晶性ジンク0ヘ
キシル尿素を除去しそして沈殿物をエチルアセテートで
洗浄する。組合わせたろ液から溶媒を減圧上除去しそし
て残漬をベンゼン−ヘキサンから結晶化する。
この結晶を冷THEに溶解し、そして次にこの溶液をT
HE/水中のL−Pro 25mモルとN a HC
0325mモルの冷溶液に加える。反応混合物を室温で
夜通しかきまぜる。THFを35℃で回転蒸発器で除去
する。水をこの混合物に加えそして固体NaHCO3を
使用してpHを9に調節する。水相をエチルアセテート
で抽出する。水相を水浴で冷却しそして次にエチルアセ
テートの存在でI NHCJを使用して0112に酸性
化する。
HE/水中のL−Pro 25mモルとN a HC
0325mモルの冷溶液に加える。反応混合物を室温で
夜通しかきまぜる。THFを35℃で回転蒸発器で除去
する。水をこの混合物に加えそして固体NaHCO3を
使用してpHを9に調節する。水相をエチルアセテート
で抽出する。水相を水浴で冷却しそして次にエチルアセ
テートの存在でI NHCJを使用して0112に酸性
化する。
有機相を冷水で2回、次に飽和NaCfで2回洗浄する
。この有機相を無水MaSO4で乾燥しそしてろ過する
。溶媒を回転蒸発器で除去しモして残渣をエーテル−ヘ
キサンから結晶化して表記の生成物を生ずる。
。この有機相を無水MaSO4で乾燥しそしてろ過する
。溶媒を回転蒸発器で除去しモして残渣をエーテル−ヘ
キサンから結晶化して表記の生成物を生ずる。
0C;)工程4からの生成物25mモルをエチルアセテ
ートに溶解しそして氷−アセトン浴で0℃に冷却する。
ートに溶解しそして氷−アセトン浴で0℃に冷却する。
エチルアセテート中の00025mモルを加えそしてこ
の混合物を0℃で5分間かきまぜる。この溶液にエチル
アセテート中のし一プロリンt−ブチルエステル25m
モルを加える。
の混合物を0℃で5分間かきまぜる。この溶液にエチル
アセテート中のし一プロリンt−ブチルエステル25m
モルを加える。
反応混合物を4℃で夜通しかきまぜる。この反応混合物
をエチルアセテート10mの添加とろ過により仕上げる
。沈殿物をエチルアセテート20tdで洗浄する。組合
わせたエチルアセテート画分をフリーザーで冷却する。
をエチルアセテート10mの添加とろ過により仕上げる
。沈殿物をエチルアセテート20tdで洗浄する。組合
わせたエチルアセテート画分をフリーザーで冷却する。
有機相を飽和NaC!で3回、冷0.1N NaHC
O3r−1回そして飽和NaC1で3回洗浄する。この
有機相を無水MgSO4で乾燥しそしてろ過する。溶媒
を高真空下回転蒸発器で除去して白色残渣を生ずる。
O3r−1回そして飽和NaC1で3回洗浄する。この
有機相を無水MgSO4で乾燥しそしてろ過する。溶媒
を高真空下回転蒸発器で除去して白色残渣を生ずる。
(11)残渣をアニソール4mに懸濁させそしてTFA
8altとかきまぜながら室温で1 /2時間反応させ
る。TEAを高真空下回転蒸発器で除去する。残渣をテ
トラヒドロフラン(THF)1mに溶解しそしてり0マ
ドグラフにかける。所望の画分を蒸発乾固し、少量のイ
ソブOパノールに溶解しそして再びクロマトグラフにか
ける。油を生ずる所望の両分をTHEに溶解し、次にT
HFをN2流下で蒸発させる。高真空下回転蒸発器で残
りの溶媒を除去した後に生成物が得られる。
8altとかきまぜながら室温で1 /2時間反応させ
る。TEAを高真空下回転蒸発器で除去する。残渣をテ
トラヒドロフラン(THF)1mに溶解しそしてり0マ
ドグラフにかける。所望の画分を蒸発乾固し、少量のイ
ソブOパノールに溶解しそして再びクロマトグラフにか
ける。油を生ずる所望の両分をTHEに溶解し、次にT
HFをN2流下で蒸発させる。高真空下回転蒸発器で残
りの溶媒を除去した後に生成物が得られる。
XXVI(参考例)
工程1.3− (N −8poc−L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸t−ブチルエ
ステルの合成 シーバー等のHe1v、 Chel、 Acta、
51 、614 (1968)に記載される工程に従っ
てN (Z −5poc−L−P、heを合成する。方
法■、工程1及び2に記載したように3−メルカプト−
2−D−メチルプロピオンIt−ブチルエステルを製造
する。方法■、工程3(ハ)のN −BZ−L−Ph
eの代りにN −Bpoc−L−Pheを置換するこ
とによってそしてここに記載した工程に従って表記の生
成物を製造する。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸t−ブチルエ
ステルの合成 シーバー等のHe1v、 Chel、 Acta、
51 、614 (1968)に記載される工程に従っ
てN (Z −5poc−L−P、heを合成する。方
法■、工程1及び2に記載したように3−メルカプト−
2−D−メチルプロピオンIt−ブチルエステルを製造
する。方法■、工程3(ハ)のN −BZ−L−Ph
eの代りにN −Bpoc−L−Pheを置換するこ
とによってそしてここに記載した工程に従って表記の生
成物を製造する。
工程2.3−(L−フェニルアラニルチオ)−2−D−
メチルプロピオンlt−ブチルエステルのトリフルオロ
アセテート塩のA o、5%TFAを含有する塩化メチレンに工程1からの
生成物を溶解しそして10分間かきまぜる。塩化メチレ
ンと過剰のTEAを回転蒸発器で除去して表記の生成物
を生ずる。
メチルプロピオンlt−ブチルエステルのトリフルオロ
アセテート塩のA o、5%TFAを含有する塩化メチレンに工程1からの
生成物を溶解しそして10分間かきまぜる。塩化メチレ
ンと過剰のTEAを回転蒸発器で除去して表記の生成物
を生ずる。
工程3.3− (N”−ベンゾイル−L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオンlt−ブチルエ
ステルの合成 工程2からの生成物15mモルをエチルアセテートに激
しくかきまぜながら懸濁させる。次に塩化ベンゾイル1
5mモルを激しくかきまぜながら加える。この溶液に水
中のNaHCO332mモルの溶液を滴下で加えそして
生成する混合物を更に30分間激しくかきまぜる。次に
この混合物を更に30分間水浴で冷却する。エチルアセ
テートを混合物に加える。この混合物を水浴で冷却し、
水で、1Nクエン酸で、次に飽和NaC1で数回洗浄す
る。無水MqS04で乾燥後に溶媒を回転蒸発器で除去
して表記の生成物を生ずる。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオンlt−ブチルエ
ステルの合成 工程2からの生成物15mモルをエチルアセテートに激
しくかきまぜながら懸濁させる。次に塩化ベンゾイル1
5mモルを激しくかきまぜながら加える。この溶液に水
中のNaHCO332mモルの溶液を滴下で加えそして
生成する混合物を更に30分間激しくかきまぜる。次に
この混合物を更に30分間水浴で冷却する。エチルアセ
テートを混合物に加える。この混合物を水浴で冷却し、
水で、1Nクエン酸で、次に飽和NaC1で数回洗浄す
る。無水MqS04で乾燥後に溶媒を回転蒸発器で除去
して表記の生成物を生ずる。
工程4.3− (Na−ベンゾイル−し−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法■、工程4に記載した工程に従って工程3の生成物
からt−ブチル基を除去する。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法■、工程4に記載した工程に従って工程3の生成物
からt−ブチル基を除去する。
■N5.N −[3−(N(x−べ>’lイルーLα
一フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイ
ル]−L−プロリンの合成 方法■、工程5に記載した工程に従って表記の生成物を
製造する。
ル]−L−プロリンの合成 方法■、工程5に記載した工程に従って表記の生成物を
製造する。
XX■(参考例)
工程1,3−メルカプト−2−D−メチルプロピオン酸
の合成 方法■、工程2に記載した工程に従い、かつそこでt−
ブチルエステルの代りに3−ベンゾイルチオ−2−〇−
メチルプOピオン酸を置換することによって表記の生成
物が得られる。
の合成 方法■、工程2に記載した工程に従い、かつそこでt−
ブチルエステルの代りに3−ベンゾイルチオ−2−〇−
メチルプOピオン酸を置換することによって表記の生成
物が得られる。
工程2.3−(N“−Bo ’c −L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法■、工程3(ハ)でNa−Bz−L−Pheの代り
にNC1−BOC−L−Pheを、そして3−メルカプ
ト−2−D−メチルプロピオンlt−ブチルエステルの
代りに工程1からの生成物を置換することにより、そし
て実質上そこに記載した工程に従って、表記の生成物が
得られる。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法■、工程3(ハ)でNa−Bz−L−Pheの代り
にNC1−BOC−L−Pheを、そして3−メルカプ
ト−2−D−メチルプロピオンlt−ブチルエステルの
代りに工程1からの生成物を置換することにより、そし
て実質上そこに記載した工程に従って、表記の生成物が
得られる。
工程3.3−L−フェニルアラニルチオ−2−D−メチ
ルプロピオン酸のトリフルオロアセテート塩の合成 工程2からの生成物をアニソール4IIIeに懸濁させ
そしてTFA8dとかきまぜながら室温で11/ 時間
反応させる。アニソールと過剰のTEAを回転蒸発器で
除去して表記の生成物を生する。
ルプロピオン酸のトリフルオロアセテート塩の合成 工程2からの生成物をアニソール4IIIeに懸濁させ
そしてTFA8dとかきまぜながら室温で11/ 時間
反応させる。アニソールと過剰のTEAを回転蒸発器で
除去して表記の生成物を生する。
工程4.3− (N(x−ベンゾイル−し−フェニルア
ラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法■、工程3の3−L−フェニルアラニルチオ−2−
D−メチルプロピオンIt−ブチルエステルのTEA塩
の代りに工程3からの生成物を置換することモして実質
上そこに記載した工程に従って、表記の生成物が得られ
る。
ラニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法■、工程3の3−L−フェニルアラニルチオ−2−
D−メチルプロピオンIt−ブチルエステルのTEA塩
の代りに工程3からの生成物を置換することモして実質
上そこに記載した工程に従って、表記の生成物が得られ
る。
工程5、N −[3−(N −ベンゾイル−し−フ
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルブOパノイル]
−L−プロリンの合 方法■、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルブOパノイル]
−L−プロリンの合 方法■、工程5に記載した工程に従って表記の生成物が
得られる。
XXIX(実施例)
工程1.3− (N −BDoc−L−フェニルアラ
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法■、工程1に記載した方法に従いかつそこでt−ブ
チルエステルの代りに3−メルカプト−2−D−メチル
プロピオン酸(方法v1工程1に記載したように製造す
る)を置換することによって表記の化合物を製造する。
ニルチオ)−2−D−メチルプロピオン酸の合成 方法■、工程1に記載した方法に従いかつそこでt−ブ
チルエステルの代りに3−メルカプト−2−D−メチル
プロピオン酸(方法v1工程1に記載したように製造す
る)を置換することによって表記の化合物を製造する。
工程2.N −[3−(N −Bpoc−L−フェ
ニルアラニル)2−D−メチルプロパノイル]−L−プ
ロリンt−ブチルエステルのA1−ヒトOキシベンゾト
リアゾール10mモルを含有する、DMF中のDC01
0mモルの冷却溶液を、DMF中の工程1からの生成物
10mモルとL−プロリンt−ブチルエステル10mモ
ルの混合物に滴下で加える。この反応混合物を0℃で3
0分間、そして次に4℃で夜通しかきまぜる。
ニルアラニル)2−D−メチルプロパノイル]−L−プ
ロリンt−ブチルエステルのA1−ヒトOキシベンゾト
リアゾール10mモルを含有する、DMF中のDC01
0mモルの冷却溶液を、DMF中の工程1からの生成物
10mモルとL−プロリンt−ブチルエステル10mモ
ルの混合物に滴下で加える。この反応混合物を0℃で3
0分間、そして次に4℃で夜通しかきまぜる。
結晶性ジシクロヘキシル尿素をろ過により除去しそして
沈殿物をエチルアセテートで洗浄する。組合わせたろ液
からの溶媒を圧力下除去しモして残渣をエーテル−ヘキ
サンから結晶化して表記の生成物を生ずる。
沈殿物をエチルアセテートで洗浄する。組合わせたろ液
からの溶媒を圧力下除去しモして残渣をエーテル−ヘキ
サンから結晶化して表記の生成物を生ずる。
工程3.N“−[3−L−フェニルアラニルチオ−2−
D−メチルプOパノイル]−L−プロリンt−ブチルエ
ステルのトリフルオロアセテート塩の合成 方法■、工程2に記載した工程に従ってそしてそこr3
− (Na−Bpoc−L−7に/L+77ニルチオ)
−2−D−メチルプロピオンmt−ブチルエステルの代
りに工程1の生成物を置換することによって、表記の生
成物が得られる。
D−メチルプOパノイル]−L−プロリンt−ブチルエ
ステルのトリフルオロアセテート塩の合成 方法■、工程2に記載した工程に従ってそしてそこr3
− (Na−Bpoc−L−7に/L+77ニルチオ)
−2−D−メチルプロピオンmt−ブチルエステルの代
りに工程1の生成物を置換することによって、表記の生
成物が得られる。
α
工程4.N −[3−(Na−ベンゾイル−し−フェ
ニルアラニルチオ)−2−D−メチルブOバノイル]−
L−プロリンt−ブチルエステルの合成 方法■、工程3の3−L−フェニルアラニルチオ−2−
D−メチルプロピオン酸t−ブチルエステルのTEA塩
の代りに工程3からの生成物を置換することモして実質
上そこに記載した工程に従って、表記の生成物を製造す
る。
ニルアラニルチオ)−2−D−メチルブOバノイル]−
L−プロリンt−ブチルエステルの合成 方法■、工程3の3−L−フェニルアラニルチオ−2−
D−メチルプロピオン酸t−ブチルエステルのTEA塩
の代りに工程3からの生成物を置換することモして実質
上そこに記載した工程に従って、表記の生成物を製造す
る。
工程5.N −[3−(N −ベンゾイル−L−フ
ェニルアラニル)−2−D−メチルプロパノイル −L
−プロリンの合成 方法■、工程5 @ (i i)に記載した工程に従っ
て表記の生成物を製造する。得られる生成物は方法工の
生成物と同じ物性値を示す。
ェニルアラニル)−2−D−メチルプロパノイル −L
−プロリンの合成 方法■、工程5 @ (i i)に記載した工程に従っ
て表記の生成物を製造する。得られる生成物は方法工の
生成物と同じ物性値を示す。
XXX (実施例)
工程1.N、−[3−(N −Boc−1−フェニル
アラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル −し一
プ0リンのA 方法V、工程2に記載したように3− (Na−Boc
7L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロピ
オン酸を製造する。方法■、工程5咎の3−(N −ベ
ンゾイル−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチ
ルプロピオン酸の代りにこの生成物を置換しそしてそこ
に記載した工程に実質上従って表記の化合物を生ずる。
アラニルチオ)−2−D−メチルプロパノイル −し一
プ0リンのA 方法V、工程2に記載したように3− (Na−Boc
7L−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプロピ
オン酸を製造する。方法■、工程5咎の3−(N −ベ
ンゾイル−し−フェニルアラニルチオ)−2−D−メチ
ルプロピオン酸の代りにこの生成物を置換しそしてそこ
に記載した工程に実質上従って表記の化合物を生ずる。
工程2.N −[3−L−フェニルアラニルチオ−2
−D−メチルプロパノイル]−L−プロリンのトリフル
オロアセテート塩の合成方法v1工程3に記載した工程
に従って表記の生成物を製造する。
−D−メチルプロパノイル]−L−プロリンのトリフル
オロアセテート塩の合成方法v1工程3に記載した工程
に従って表記の生成物を製造する。
工程3.N −[3−(N −ベンゾイル−し−フ
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプOパノイル]
−1−プロリンの 成 力法■、工程3の3−L−フェニルアラニルチオ−2−
D−メチルプロピオンmt−ブチルエステルのTFA塩
の代りに工程2からの生成物を置換することにより、そ
してそこに記載した工程に実質上従って表記の生成物が
得られる。得られる生成物は方法Iの生成物と同じ物性
値を示す。
ェニルアラニルチオ)−2−D−メチルプOパノイル]
−1−プロリンの 成 力法■、工程3の3−L−フェニルアラニルチオ−2−
D−メチルプロピオンmt−ブチルエステルのTFA塩
の代りに工程2からの生成物を置換することにより、そ
してそこに記載した工程に実質上従って表記の生成物が
得られる。得られる生成物は方法Iの生成物と同じ物性
値を示す。
本発明を特定の具体例に関連して記載したが、別の変型
が可能であること、そして本出願は一般に本発明の原叩
に従って本発明の任意の変型、用途又は応用をカバーす
るものであり、本発明が属する技術分野で公知の又は習
慣のプラクチス内に入り、前記の必須の特徴に適合でき
そして特許請求の範囲内に入るような本発明から展開し
たものを含むものであることは了解されにう。
が可能であること、そして本出願は一般に本発明の原叩
に従って本発明の任意の変型、用途又は応用をカバーす
るものであり、本発明が属する技術分野で公知の又は習
慣のプラクチス内に入り、前記の必須の特徴に適合でき
そして特許請求の範囲内に入るような本発明から展開し
たものを含むものであることは了解されにう。
Claims (2)
- (1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rはt−ブチルオキシカルボニル、シクロペンタ
ンカルボニル−L−リシル、ピロ−L−グルタミル−L
−リシル、L−リシル、L−アルギニル、ピロ−L−グ
ルタミル又はR′であり、ここでR′はホルミル、アセ
チル、プロパノイル、ブタノイル、フェニルアセチル、
フェニルプロパノイル、ベンゾイル又はシクロペンタン
カルボニルであり;Aはフエニルアラニル、アラニル、
トリプトフイル、チロシル、グリシル、イソロイシル、
ロイシル、ヒスチジル又はバリルであり、そのα−アミ
ノ基はRとアミド結合している;R_1は水素又はメチ
ルであり; R_2はL−プロリン、L−3,4−デヒドロプロリン
、D,L−3,4−デヒドロプロリン、L−3−ヒドロ
キシプロリン、L−4−ヒドロキシプロリン、L−チア
ゾリジン−4−カルボン酸又はL−5−オキソ−プロリ
ンであり、そのイミノ基は隣接の▲数式、化学式、表等
があります▼とイミド結合している;そしてnは0又は
1であり、nが0である時R_1はメチルであり;そし
てn=1及びR_1がメチルである時、▲数式、化学式
、表等があります▼部分はD構造である) を有する化合物の製法において; 式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中A、R_1、R_2及びnは上記定義に同じであ
る)を有する化合物をRカップリング化合物と反応させ
ること、次いで必要に応じて ▲数式、化学式、表等があります▼部分はD構造である
生成物を分 割すること、からなる上記の製法。 - (2)Rがベンゾイルであり、Aがフエニルアラニルで
あり、R_1がメチルであり、R_2がL−プロリンで
ありそしてnが1である特許請求の範囲第1項の方法。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US12895380A | 1980-03-10 | 1980-03-10 | |
| US128953 | 1980-03-10 | ||
| US15827880A | 1980-06-10 | 1980-06-10 | |
| US158278 | 1980-06-10 | ||
| AU73631/81A AU7363181A (en) | 1980-03-10 | 1981-07-31 | Anti-ace peptide preparative methods |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3445781A Division JPS56164154A (en) | 1980-03-10 | 1981-03-10 | Manufacture of antihypertensive |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01250344A true JPH01250344A (ja) | 1989-10-05 |
| JPH0667901B2 JPH0667901B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=27156035
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP64000819A Expired - Lifetime JPH0667901B2 (ja) | 1980-03-10 | 1989-01-05 | 3―チオプロピオン酸誘導体の製造法 |
| JP64000820A Expired - Lifetime JPH0667902B2 (ja) | 1980-03-10 | 1989-01-05 | 3―チオプロピオン酸誘導体の製造法 |
| JP64000821A Expired - Lifetime JPH0667903B2 (ja) | 1980-03-10 | 1989-01-05 | 3―チオプロピオン酸誘導体の製造法 |
Family Applications After (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP64000820A Expired - Lifetime JPH0667902B2 (ja) | 1980-03-10 | 1989-01-05 | 3―チオプロピオン酸誘導体の製造法 |
| JP64000821A Expired - Lifetime JPH0667903B2 (ja) | 1980-03-10 | 1989-01-05 | 3―チオプロピオン酸誘導体の製造法 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (3) | JPH0667901B2 (ja) |
| KR (1) | KR850001629B1 (ja) |
| AU (1) | AU7363181A (ja) |
| CS (1) | CS174581A2 (ja) |
| DD (1) | DD156805A5 (ja) |
| DK (1) | DK105981A (ja) |
| ES (5) | ES8305698A1 (ja) |
| FI (1) | FI810725L (ja) |
| GR (1) | GR74795B (ja) |
| NO (5) | NO156695C (ja) |
| PL (1) | PL230076A1 (ja) |
| PT (1) | PT72635B (ja) |
| SU (1) | SU1567125A3 (ja) |
Families Citing this family (3)
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|---|---|---|---|---|
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| US5801187A (en) | 1996-09-25 | 1998-09-01 | Gpi-Nil Holdings, Inc. | Heterocyclic esters and amides |
| CN111039838B (zh) * | 2019-12-31 | 2022-04-05 | 杭州乐敦科技有限公司 | 一种3-乙酰巯基-2-甲基丙酸的制备方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA802420B (en) * | 1979-05-18 | 1981-04-29 | Squibb & Sons Inc | Aminoacyl derivatives of mercaptoacyl amino acids |
-
1981
- 1981-03-06 EP EP81300941A patent/EP0038117A1/en not_active Withdrawn
- 1981-03-09 FI FI810725A patent/FI810725L/fi not_active Application Discontinuation
- 1981-03-09 NO NO810795A patent/NO156695C/no unknown
- 1981-03-09 PT PT72635A patent/PT72635B/pt unknown
- 1981-03-09 DK DK105981A patent/DK105981A/da not_active Application Discontinuation
- 1981-03-10 DD DD81228170A patent/DD156805A5/de not_active IP Right Cessation
- 1981-03-10 CS CS811745A patent/CS174581A2/cs unknown
- 1981-03-10 GR GR64350A patent/GR74795B/el unknown
- 1981-03-10 ES ES500254A patent/ES8305698A1/es not_active Expired
- 1981-03-10 PL PL23007681A patent/PL230076A1/xx unknown
- 1981-03-11 KR KR1019810000779A patent/KR850001629B1/ko not_active Expired
- 1981-07-31 AU AU73631/81A patent/AU7363181A/en not_active Abandoned
-
1983
- 1983-02-04 ES ES519567A patent/ES519567A0/es active Granted
- 1983-02-04 ES ES519564A patent/ES519564A0/es active Granted
- 1983-02-04 ES ES519565A patent/ES8403448A1/es not_active Expired
- 1983-02-04 ES ES519566A patent/ES519566A0/es active Granted
- 1983-03-28 NO NO831114A patent/NO831114L/no unknown
- 1983-03-28 NO NO831111A patent/NO831111L/no unknown
- 1983-03-28 NO NO831112A patent/NO831112L/no unknown
- 1983-03-28 NO NO831113A patent/NO831113L/no unknown
-
1986
- 1986-01-28 SU SU864015500A patent/SU1567125A3/ru active
-
1989
- 1989-01-05 JP JP64000819A patent/JPH0667901B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-01-05 JP JP64000820A patent/JPH0667902B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-01-05 JP JP64000821A patent/JPH0667903B2/ja not_active Expired - Lifetime
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