JPH01251765A - エキシマレーザ装置 - Google Patents

エキシマレーザ装置

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JPH01251765A
JPH01251765A JP7952488A JP7952488A JPH01251765A JP H01251765 A JPH01251765 A JP H01251765A JP 7952488 A JP7952488 A JP 7952488A JP 7952488 A JP7952488 A JP 7952488A JP H01251765 A JPH01251765 A JP H01251765A
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thyratron
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oscillation
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JP7952488A
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Osamu Wakabayashi
理 若林
Yoshio Amada
天田 芳穂
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Komatsu Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本光明は、エキシマレーザ装置の改良に関する。
〔従来の技術〕
エキシマレーザ装置は、レーザチャンバ内にKrF等の
レーザガスを満たし、これをサイラトロンによって、放
電、励起してレーザ発振を行なう。この際、サイラトロ
ンの耐久性を向上させるために空冷、油冷または水冷の
冷2J]装置にてサイプ1−ロンを冷却することが通常
行なわれる。
さらにレーザチャンバ内のレーザガスがlJ!l電1i
i1ノ起されると、これにより各種のガス不純物がn1
ずる。この際、レーザガス内の不純物がレーザ光を吸収
したり、不純物がチャンバのレーザ窓(ウィンド)に付
着した不純物がレーザ光を吸収したり、散乱することに
よって、レーザ出力を低下さゼる。これは、結局ウィン
ドの耐久性を低下させることにもなる。
そこで、こうした不都合を解消すべく、たとえばラムダ
・フィシツク社(西ドイツ国)の特開昭58−1869
85号公報に記載される1キシマレーザ装置では、これ
ら不純物を第3図に示すようにチャンバ内から除去させ
るようにしている。
つまり同図に示すエキシマレーザ装置では、レーザチャ
ンバ100の気体出口200と、ウィンド300に近接
する位置に設けられた気体入口400とを管路500に
よって連通して、この管路500の途中に、レーザガス
循環用のポンプ600、と循環されたレーザガスに含ま
れる不純物をトラップする静電除塵器700と、ガスの
流れを休止させるための休止ゾーン800を設ける。
こうした構成を備えているので、チャンバ100内でレ
ーザ発振が行なわれ、不純物が発生したとしても、ポン
プ600によって気体出口200からガスが吸い出され
、静電除塵器700によって不純物が除去される。そし
て、休止ゾーン800にてガスは再生され、再生された
ガスがウィンド300に吹き付けられて、ウィンドに付
着した不純物を除去する。
また、同様にチャンバ内から不純物を除去することを目
的として、管路にダストをトラップするためのフィルタ
およびガスを新鮮にするための純化装置を設けて、新鮮
なガスをウィンドに吹き何けるように構成したものもあ
る。
(発明が解決しようとする課題) ところで、従来においては、オペレータがレーザの運転
を停止する場合には、運転停止の操作によって、エキシ
マレーザ装置の全−Cの部分の動作が停止する。
このため、次回の運転時までレーザチャンバ内に前回の
レーザ発振の終了時にR1じた不純物がそのまま残留す
るとともに、ウィンドに不純物が付着したままとなり、
次回の運転時、とりわけ運転初めの間は充分なレーザ出
力が得られないということがある。また、このようなこ
とが度重なると、ウィンドの耐久性を著しく損なうこと
にもなる。さらに、サイラトロンが充分に冷却されない
で高温のまま停止されるので、これもπ型なるとサイラ
トロンの耐久四を著しく損なうことになっていた。
本発明は、こうした実情に2みてなされたもので、サイ
ラトロンおよびウィンドの耐久性を向上させるとともに
、再発振時には充分なレーザ出力を得ることができるエ
キシマレーザ装置を提供することを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
そこで、本発明の第1発明では、レーザ発振が停止して
も、サイラトロンの冷却装置を動作させるようにして、
所定時間が経過した後、同装置を停止させるようにする
。また、本発明の第2光明では、レーザ発振が停止して
も不純物をレーザガスから除去する装置を動作させるよ
うにして、所定時間が経過した後、同装置を停止させる
ようにする。
〔作用〕
すなわち、上記第1発明によればレーザ光振停止後、サ
イラトロンは充分に冷却される。これによってサイラト
ロンの耐久性が著しく向上する。
また、上記第2発明によればチャンバ内の不純物および
ウィンドに付着した不純物が除去されるので、再発振時
のスタートの際、最初から安定なレーザ出力が得られる
。これとともに、ウィンドの耐久性が著しく向上する。
〔実施例〕
以下、図面を参照して、本発明の実施例について説明す
る。
第1図は、本発明に係るエキシマレーザ装置の一実施例
を概念的に示している。
同図においてレーザチャンバ1内には、レーザガス(た
とえばKrFが使用される)が満たされていて、チャン
バ1内の図示していない電極間で放電が行なわれると、
レーザガスが励起してζこれによってエキシマレーザ光
が発生ずる。エキシマレーザ光は、ウィンド2.3を介
してチャンバ1の両側に配置されたりアミラー4とフロ
ントミラー5により」(振される。このようにレーザ発
振が生起されると、光振光は、この共振回路中のレーザ
チャンバ1とリアミラー4との間に挿入された図示して
いない波長選択素子によって狭帯域化された後、フロン
トミラー5から有効なレーザ光として出力される。
レーザチャンバ1内には、ブロアモータ6によって回転
作動するブロア7が配設されていて、同ブロア7は、チ
ャンバ1中のレーザガスに所定の流速を与えるものとし
て作用する。
サイラトロン8は、レーザ発振のための電気回路の一部
を憫成し、上記電極間で放電を行なうためのスイッチ素
子として機能する。
冷却装置9は、冷却用のオイルの配管9aをサイラトロ
ン8に連通して、サイラトロン8を油冷入0するもので
ある。すなわち、配管9aには、タンク9b、オイルポ
ンプ9c、オイルクーラ9dがそれぞれ設けられていて
、オイルポンプ9Cは、タンク9b内に溜められている
オイルを吸い出し、配管9aを介してサイラトロン8に
送出し、これを油冷却する。一方、オイルクーラ9dは
、サイラトロン8を通過し、高温となった配管9a内の
オイルを冷却して、サイラトロン8が常に低温のオイル
によって冷却されるようにするものである。
不純物除去装′a10の管路10aは、レーザチャンバ
1の略中央部の気体出口1aと、チャンバ1の両端部で
ウィンド2.3に近接する位置の気体人口1b、ICと
を連通ずるものであり、その管路10aの途中には、フ
ィルタ10b、不純物トラップ10cおよびガスポンプ
10dがそれぞれ設けられている。すなわち、ガスポン
プ10dが駆動すると、レーザチャンバ1内のレーザガ
スがレーザ発振によって光生した不純物とともに気体出
口1aから管路10aに吸引される。この際、レーザガ
ス中の不純物のうち、主に固体状のものは、フィルタ1
0bによって吸着され、また、主に気体状のものは、不
純物トラップ内に満たされた液体窒素によって液化され
吸収される。こうして、フィルタ10b1トラツプ10
Gを通過したレーザガスは気体人口1b、1cからチャ
ンバ1内に流入する。この際、ウィンド2,3にガスが
吹き付けられて、ウィンド2.3に付着した不純物が吹
き飛ばされる。これは再び上記フィルタ10bおよびト
ラップ10Gによって除去されることになるから、レー
ザチャンバ1内は常に新鮮なガスで満たされる。
CPU11は、上記オイルポンプ9c、ブロアモータ6
およびガスポンプ10dを駆動制御するとともに、エキ
シマレーザ装置全体の電源12をON、0FFflII
I御するものである。
いま、エキシマレーザ装置の運転を開始すべく、オペレ
ータが操作スイッチをON側に投入すると、cpuli
から電源12に対してON信号が出力される。これと同
時に、上記レーザ発振のための電気回路、ブロア7、冷
却装置9および不純物除去装置10のすべてに対してO
N信号が出力されるので、これらブロア7、冷却装置9
、および不純物除去装置10は、上記述べたような動作
を行なう。しかして、オペレータがレーザ発振の運転を
停止すべく、上記操作スイッチをOFFに投入すると、
上記CPU11では、第2図に示すような処理が行なわ
れる。
以下、同図を参照してCPLlllで実行される処理に
ついて説明する。
オペレータが装置の運転を停止すべく、上記操作スイッ
チをOFFに投入すると、レーザ発振のための電気回路
のみに対して停止信号が出力される。これによってレー
ザ発振が停止する(ステップ101.102>。これと
同時に、タイマが動作し、以降予設定時間T(たとえば
5分間)経過したか否かが随時判断される(ステップ1
03)。
ステップ103の判断結果がYESの場合、つまリレー
ザ発振の停止から時間■経過した場合には、手順はステ
ップ104に移行して、オイルポンプ9c、ブロアモー
タ6およびガスポンプ10dのそれぞれに対して停止信
号が出力されて、これらオイルポンプ9c、ブロアモー
タ6およびガスポンプ10dの各動作が停止する(ステ
ップ104)。そして、電源12に対して電源OFF信
号が出力されて、エキシマレーザ装置と電源12は遮断
されて、運転が終了する(ステップ105)。
このようにcpuiiは、レーザ発振が停止したとして
も、オイルポンプ9C、ブロアモータ6およびガスポン
プ10dをa続して所定時間だけ動作させるように制御
する。これによってレーザ発振の停止時にチャンバ1内
に残留している不純物およびウィンド2,3に付着した
不純物が除去されるとともに、サイラトロン8が継続し
て冷却される。したがって、次回の運転時には、とりわ
けスタート時において前回の運転終了時に残留した不純
物に起因したレーザ出力の損失もなくなり、常に安定し
たレーザ出力を得ることができる。加えて、毎回運転時
にこうしたウィンド2.3の何着物の除去およびサイラ
トロン8の冷却がなされると、これらウィンド2.3お
よびサイラトロン8の寿命を長くすることができる。特
にウィンド2.3については交換のインターバルを従来
に較べて長くできることから、運転に伴うコストを低減
できるという効果がある。
なお、実施例では、レーザ発振の停止後、オイルポンプ
9c、ブロアモータ6およびガスポンプ10dをそれぞ
れ作動さゼるようにしているが、ブロアモータ6につい
ては、必ずしも作動させる必要はなく、オイルポンプ9
Cおよびガスポンプ10dのみを作動させるような実施
も可能であり、この場合も実施例と同等の効果が得られ
る。
また、実施例では、オイルポンプ9C,ブロアモータ6
およびガスポンプ10dをそれぞれ同じ時間だけ作動さ
せるようにしているが、それぞれ作動させる時間を異な
らせるようにする実施も当然可能である。
なおまた、レーザ発振後の作動時間は、不純物の除去能
力およびサイラトロンに対する冷却能力を勘案して、も
っとも効率のよい時間を決定するようにすればよい。
なお、実施例では、サイラトロンの冷却装置および不純
物除去装置の両方を備えたエキシマレーザ装置において
、これら装置をレーザ発振停止後も継続して作動ざゼる
ようにしたが、上記2つの装置のうちいずれか一方の装
置を有する工:1シマレーザ装置に対しても本発明の適
用実施は当然可能である。
また、上記2つの装置を有しているエキシマレーザ装置
であっても、レーザ発振停止後にこれら装置の両方を必
ずしも継続作動させる必要はない。
たとえば、不純物除去装置のみを継続作動させ、サイラ
トロンの冷却装置は上記発振停止と同時に停止させる実
施も可能であることはもちろんである。
〔光間の効果〕
以上説明したように本発明によれば、レーザ発振停止後
も、継続してサイラトロンの冷却または、不純物の除去
を行なってから運転を停止するようにしたので、サイラ
トロンまたは、1ンインドの耐久性が大幅に向上する。
さらに、不純物の除去を行なってから運転を停止する場
合には、レーザチャンバ内に不純物が残留していない状
態で、次回の運転を開始できるので、常に安定したレー
ザ出力が得られるという効果が冑られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係るエキシマレーザ装置の一実施例
を概念的に示すブロック図、第2図は、第1図に示すC
PUで行なわれる処理手順を示すフローチャート、第3
図は、従来のエキシマレーザ装置の構成の例示した図で
ある。 1・・・レーザチャンバ、2.3・・・ウィンド、4・
・・リアミラー、5・・・フロントミラー、7・・・ブ
ロア、8・・・勺イラトロン、9・・・冷却装置、9a
・・・配管、9b・・・タンク、9C・・・オイルポン
プ、9d・・・オイルクーラ、10・・・不純物除去装
置、10a・・・管路、−10b・・・フィルタ、10
c・・・不純物トラップ、10d・・・ガスポンプ、1
1・・・cpu、。 12・・・電源。 第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) レーザチャンバ内のレーザガスを放電励起する
    ために用いられるサイラトロンと、 上記サイラトロンを冷却する冷却手段と、 レーザ発振の停止の際、所定時間が経過した後に、上記
    冷却装置の動作を停止させる手段 とを具えたことを特徴とするエキシマレーザ装置。
  2. (2) レーザ発振によって発生したレーザガス中の不
    純物を除去する除去手段と、 レーザ発振の停止の際、所定時間が経過した後に、上記
    除去手段の動作を停止させる手段 とを具えたことを特徴とするエキシマレーザ装置。
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