JPH01254277A - スピナー回転処理装置 - Google Patents
スピナー回転処理装置Info
- Publication number
- JPH01254277A JPH01254277A JP63080886A JP8088688A JPH01254277A JP H01254277 A JPH01254277 A JP H01254277A JP 63080886 A JP63080886 A JP 63080886A JP 8088688 A JP8088688 A JP 8088688A JP H01254277 A JPH01254277 A JP H01254277A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- scattering
- scattering prevention
- shatterproof
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/18—Stationary reactors having moving elements inside
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Centrifugal Separators (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は液体の塗布及び液体を使用した化学反応、乾燥
を回転によって処理するスピナー回転処理装置に関する
ものである。
を回転によって処理するスピナー回転処理装置に関する
ものである。
従来の技術
従来のスピナー回転処理装置は第２図に示すように構成
されている。即ち、飛散防止容器１の上Ｍ２を開け、処
理物３をスピンチャック４に保持する。その後上蓋２を
閉じ１．駆動モータ６によってスピンチャック４を回転
し、飛散防止容器１の横に取り付けた液滴下ノズル６を
処理物３の上方に移動する。液滴下ノズル６よシ出た液
体は低速回転している処理物３の表面に滴下され、処理
を行なう。液滴下抜液滴下ノズル６は、飛散防止容器１
の外部へ移動し飛散防止容器１を液滴下ノズル６が通過
する窓７がシャッタ８によって閉じられる。滴下された
使用済の液体は処理物３の外周へ遠心力で広がり、処理
物３の外周より振り切られ雁れる。その後、高速回転及
び排気口９より排気を行ない、処理物３表面の乾燥を行
なうようになっている。
されている。即ち、飛散防止容器１の上Ｍ２を開け、処
理物３をスピンチャック４に保持する。その後上蓋２を
閉じ１．駆動モータ６によってスピンチャック４を回転
し、飛散防止容器１の横に取り付けた液滴下ノズル６を
処理物３の上方に移動する。液滴下ノズル６よシ出た液
体は低速回転している処理物３の表面に滴下され、処理
を行なう。液滴下抜液滴下ノズル６は、飛散防止容器１
の外部へ移動し飛散防止容器１を液滴下ノズル６が通過
する窓７がシャッタ８によって閉じられる。滴下された
使用済の液体は処理物３の外周へ遠心力で広がり、処理
物３の外周より振り切られ雁れる。その後、高速回転及
び排気口９より排気を行ない、処理物３表面の乾燥を行
なうようになっている。
発明が解決しようとする課題
ところが、このような従来のスピナー回転処理装置では
、処理物３の表面に液滴下ノズル６より滴下した液体が
高速回転により飛散防止容器１の側壁に高速で衝突し飛
散する。その飛散した微小の液体は処理物３が高速回転
によって生ずる乱気流により飛散防止容器１全体に広が
り、その一部は処理物３０表面に再度付着し処理物３表
面を汚染する問題があった。
、処理物３の表面に液滴下ノズル６より滴下した液体が
高速回転により飛散防止容器１の側壁に高速で衝突し飛
散する。その飛散した微小の液体は処理物３が高速回転
によって生ずる乱気流により飛散防止容器１全体に広が
り、その一部は処理物３０表面に再度付着し処理物３表
面を汚染する問題があった。
本発明はこのような問題を解決するもので、高速回転に
よって発生した微小の飛散物を気流の流れと飛散防止板
によって完全に排気口へ排出し、処理物表面に微小の飛
散物が付着せず、安定したスピナー処理を行うと共に、
処理物の着脱を容易にすることを目的とする。
よって発生した微小の飛散物を気流の流れと飛散防止板
によって完全に排気口へ排出し、処理物表面に微小の飛
散物が付着せず、安定したスピナー処理を行うと共に、
処理物の着脱を容易にすることを目的とする。
課題を解決するための手段
この問題点を解決するために本発明は、飛散防止容器内
を円盤状の基板処理表面と処理液飛散部とに分離するよ
うに上記飛散防止容器内に円盤状の飛散防止板を設置し
、処理物表面側に吸気口、飛散部側に排気口を設は念も
のである。
を円盤状の基板処理表面と処理液飛散部とに分離するよ
うに上記飛散防止容器内に円盤状の飛散防止板を設置し
、処理物表面側に吸気口、飛散部側に排気口を設は念も
のである。
作 用
この構成により、高速回転で生じた微小の飛散物は排気
によって生ずる気流の流れにより、処理物表面と飛散防
止板との小さな間隙を通過することなく排気口へ排出さ
れる。
によって生ずる気流の流れにより、処理物表面と飛散防
止板との小さな間隙を通過することなく排気口へ排出さ
れる。
実施例
以下、本発明の実施例について、図面に基づいて説明す
る。
る。
第１図に本発明の一実施例を示す。第１図において、飛
散防止外周リング板１０はスプリング固定台１４に固定
されたスプリング１５によって上方向の力が作用してお
シ、飛散防止外周リング板１０の外周部と飛散防止容器
の側壁の摺動部は飛散防止外周リング板１０に取シ付け
たシール材１１によってシールを行なっている。飛散防
止内周リング１２は上蓋２へ飛散防止内周リング固定金
具１３によって固定されておシ、飛散防止内周リング板
１２の外径は飛散防止外周リング板１ｏの内径より大き
く、外径より小さくすると共に飛散防止内周リング板１
２の内径は、駆動モータ５で回転させるスピンチャック
４に保持された処理物３の外径より小さく形成し、飛散
防止内周リング板１２は処理物３表面より、１ｆｉ〜６
Ｉｌ！ＩＩ＋高くなるように上蓋２へ固定されている。
散防止外周リング板１０はスプリング固定台１４に固定
されたスプリング１５によって上方向の力が作用してお
シ、飛散防止外周リング板１０の外周部と飛散防止容器
の側壁の摺動部は飛散防止外周リング板１０に取シ付け
たシール材１１によってシールを行なっている。飛散防
止内周リング１２は上蓋２へ飛散防止内周リング固定金
具１３によって固定されておシ、飛散防止内周リング板
１２の外径は飛散防止外周リング板１ｏの内径より大き
く、外径より小さくすると共に飛散防止内周リング板１
２の内径は、駆動モータ５で回転させるスピンチャック
４に保持された処理物３の外径より小さく形成し、飛散
防止内周リング板１２は処理物３表面より、１ｆｉ〜６
Ｉｌ！ＩＩ＋高くなるように上蓋２へ固定されている。
即ち、上蓋２を閉じた場合、飛散防止内周リング板１２
と飛散防止外周リング板１ｏはスプリング１６の作用に
よう、互いに密着し、かつ飛散防止外周リング板１０と
飛散防止容器１の側壁の摺動部はシール材１１によって
シールしているため、処理物３の表面部と飛散室１８は
、飛散防止容器リング板１２の内周側と処理物３の外周
表面部との間に設けｆｃ１ｒｔｓ〜５ｍｓ＋の間隙によ
ってつながっている。また、飛散防止内周リング板１２
は上蓋２に取り付は固定されているため、上蓋２を開け
て処理物３を着脱する際は、飛散防止内周リング板１２
が防げにならず、容易に行うことができる。
と飛散防止外周リング板１ｏはスプリング１６の作用に
よう、互いに密着し、かつ飛散防止外周リング板１０と
飛散防止容器１の側壁の摺動部はシール材１１によって
シールしているため、処理物３の表面部と飛散室１８は
、飛散防止容器リング板１２の内周側と処理物３の外周
表面部との間に設けｆｃ１ｒｔｓ〜５ｍｓ＋の間隙によ
ってつながっている。また、飛散防止内周リング板１２
は上蓋２に取り付は固定されているため、上蓋２を開け
て処理物３を着脱する際は、飛散防止内周リング板１２
が防げにならず、容易に行うことができる。
以上の構成において、飛散防止容器１の上蓋２を開け、
処理物３をスピンチャック４に保持する。
処理物３をスピンチャック４に保持する。
その後、上蓋２を閉じ、駆動モータ５によってスピンチ
ャック４を回転し、飛散防止容器１の横に取り付けた液
滴下ノズル６を処理物３の上方に移動する。液滴下ノズ
ル６より出た液体は低速回転している処理物３の表面に
滴下され、処理を行なう。液滴下稜液滴下ノズル６は、
飛散防止容器１の外部へ移動し、飛散防止容ａ１を液滴
下ノズル６が通過する窓７がシャッタ８によって閉じら
れる。滴下された使用済の液体は処理物３の外周へ遠心
力で広が９、処理物３の外周より振り切られ、飛散室１
８へと離れる。
ャック４を回転し、飛散防止容器１の横に取り付けた液
滴下ノズル６を処理物３の上方に移動する。液滴下ノズ
ル６より出た液体は低速回転している処理物３の表面に
滴下され、処理を行なう。液滴下稜液滴下ノズル６は、
飛散防止容器１の外部へ移動し、飛散防止容ａ１を液滴
下ノズル６が通過する窓７がシャッタ８によって閉じら
れる。滴下された使用済の液体は処理物３の外周へ遠心
力で広が９、処理物３の外周より振り切られ、飛散室１
８へと離れる。
その後、高速回転及び排気口９からの排気を行ない処理
物３表面の乾燥を行なう。ここで、発生した微小の飛散
物は、高速回転する処理物３及びスピンチャック４によ
って発生する乱気流により飛散室１８全体に広がる。こ
こで排気口９からの排気作用により、飛散防止容器１内
の圧力が外部に比べ負圧となり、外部気体がフィルタ７
を通して吸気口１６より飛散防止容器内１に入る。吸気
口１６より入った気体は処理物３の表面を内周から外周
へ広が９、飛散防止内周リング板１２と処理物３の間に
設けた間隙を通シ、飛散室１８に入る。
物３表面の乾燥を行なう。ここで、発生した微小の飛散
物は、高速回転する処理物３及びスピンチャック４によ
って発生する乱気流により飛散室１８全体に広がる。こ
こで排気口９からの排気作用により、飛散防止容器１内
の圧力が外部に比べ負圧となり、外部気体がフィルタ７
を通して吸気口１６より飛散防止容器内１に入る。吸気
口１６より入った気体は処理物３の表面を内周から外周
へ広が９、飛散防止内周リング板１２と処理物３の間に
設けた間隙を通シ、飛散室１８に入る。
飛散室１８に入った気体は飛散室１８に広がった戎小の
飛散物と共に排気口９より排呂される。このようにして
飛散室１８で発生した微小の飛散物は、処理物３表面か
ら飛散室へ流れる空気流体の作用により、飛散室１８か
ら処理物３表面へ回り込んで処理物３表面を汚すことな
く排気口９よシ排出される。
飛散物と共に排気口９より排呂される。このようにして
飛散室１８で発生した微小の飛散物は、処理物３表面か
ら飛散室へ流れる空気流体の作用により、飛散室１８か
ら処理物３表面へ回り込んで処理物３表面を汚すことな
く排気口９よシ排出される。
発明の効果
以上のように本発明によれば、飛散防止容器内を処理物
表面と処理液飛散部とに分離するように上記飛散防止容
器内に円盤状の飛散防止板を設け、処理物表面側に吸気
口、飛散部飛散室側に排気口を設けることにより、排気
による空気流体の作用によシ、微小飛散物が処理物表面
に回り込んで処理物表面を汚すことなく安定したスピナ
ー処理ができる。
表面と処理液飛散部とに分離するように上記飛散防止容
器内に円盤状の飛散防止板を設け、処理物表面側に吸気
口、飛散部飛散室側に排気口を設けることにより、排気
による空気流体の作用によシ、微小飛散物が処理物表面
に回り込んで処理物表面を汚すことなく安定したスピナ
ー処理ができる。
第１図は本発明の一実施例におけるスピナー回転処理装
置の断面図、第２図は従来のスピナー回転処理装置の断
面図である。 １・・・・・・飛散防止容器、２・・・用上蓋、３・・
・・・・処理物、４・・・・・スピンチャック、６・・
・・・・駆動モータ、６・・・・・・液滴下ノズル、７
・・・・・窓、８・・・・・・シャッタ、９・・・・・
・排気口、１ｏ・・・・・・飛散防止外周リング板、１
１・・・・・・シール材、１２・・・・・・飛散防止内
周リング板、１３・・・・・飛散防止内周リング板固定
金具、１４・・・・・・スプリング固定金具、１５・・
・・・・スプリング、１６・・・・・・吸気口、１７・
・川・フィルタ、１８・・・・・・飛散室。
置の断面図、第２図は従来のスピナー回転処理装置の断
面図である。 １・・・・・・飛散防止容器、２・・・用上蓋、３・・
・・・・処理物、４・・・・・スピンチャック、６・・
・・・・駆動モータ、６・・・・・・液滴下ノズル、７
・・・・・窓、８・・・・・・シャッタ、９・・・・・
・排気口、１ｏ・・・・・・飛散防止外周リング板、１
１・・・・・・シール材、１２・・・・・・飛散防止内
周リング板、１３・・・・・飛散防止内周リング板固定
金具、１４・・・・・・スプリング固定金具、１５・・
・・・・スプリング、１６・・・・・・吸気口、１７・
・川・フィルタ、１８・・・・・・飛散室。
Claims (2)
- （１）密閉型の飛散防止容器と、この容器内に配設され
、円盤状の基板を保持して回転するスピンチャックと、
上記容器内に出入自在で上記スピンチャックに保持され
た基板上に処理液を供給するノズルと、上記飛散防止容
器内を円盤状の基板処理表面と処理液飛散部とに分離す
るように上記容器内に設置した円盤状の飛散防止板とを
備え、上記飛散防止板にて分離された上記容器の基板処
理表面側に吸気口を設け、処理液飛散部に排気口を設け
たスピナー回転処理装置。 - （２）円盤状の飛散防止板は、飛散防止容器内の外周部
に上下動可能に設けた飛散防止外周リング板と、飛散防
止容器を密閉すべき上蓋に取り付け固定された飛散防止
内周リング板からなり、飛散防止容器内の側面と飛散防
止外周リング板の摺動部にシール材を設けた請求項１記
載のスピナー回転処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63080886A JPH01254277A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | スピナー回転処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63080886A JPH01254277A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | スピナー回転処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01254277A true JPH01254277A (ja) | 1989-10-11 |
Family
ID=13730827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63080886A Pending JPH01254277A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | スピナー回転処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01254277A (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS549919A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-25 | Hitachi Ltd | Photoresist coating device |
| JPS5472973A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-11 | Hitachi Ltd | Rotary applying unit |
| JPS5952563A (ja) * | 1982-09-20 | 1984-03-27 | Fujitsu Ltd | コ−テイング装置 |
| JPS61257266A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | はねかえり防止装置 |
| JPS6261670A (ja) * | 1985-09-10 | 1987-03-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スピナのはねかえり防止装置 |
| JPS62136265A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 処理液塗布装置 |
-
1988
- 1988-03-31 JP JP63080886A patent/JPH01254277A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS549919A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-25 | Hitachi Ltd | Photoresist coating device |
| JPS5472973A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-11 | Hitachi Ltd | Rotary applying unit |
| JPS5952563A (ja) * | 1982-09-20 | 1984-03-27 | Fujitsu Ltd | コ−テイング装置 |
| JPS61257266A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | はねかえり防止装置 |
| JPS6261670A (ja) * | 1985-09-10 | 1987-03-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スピナのはねかえり防止装置 |
| JPS62136265A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 処理液塗布装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI543822B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
| JP4953472B2 (ja) | ディスク状物品を液体処理する装置及び方法 | |
| JP3574790B2 (ja) | 基板を処理するための方法および装置 | |
| KR20050013119A (ko) | 디스크형 물체의 액체 처리 장치 | |
| JPH01254277A (ja) | スピナー回転処理装置 | |
| US4735000A (en) | Apparatus for drying substrates | |
| US5803968A (en) | Compact disc spin coater | |
| JP3461068B2 (ja) | 回転カップ式液体供給装置 | |
| JPH03238819A (ja) | 半導体材料の乾燥方法および装置 | |
| JPH07263324A (ja) | 吸引チャック式基板回転処理装置 | |
| JP4727080B2 (ja) | スピン処理装置 | |
| JP6310752B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH11314063A (ja) | 回転式塗布装置 | |
| JP2012061387A (ja) | スピンコータ | |
| JP4447673B2 (ja) | スピン処理装置 | |
| JP4410331B2 (ja) | スピン処理装置 | |
| JPS61176120A (ja) | フオトレジストの現像装置 | |
| JP2849539B2 (ja) | 回転式塗布装置 | |
| JPH0513008Y2 (ja) | ||
| JP3019785U (ja) | 乾燥機 | |
| JPS63310655A (ja) | 遠心乾燥装置 | |
| JPS633234B2 (ja) | ||
| JPS5818927A (ja) | 水切乾燥装置 | |
| JPS62291926A (ja) | 半導体乾燥装置 | |
| JPH01228575A (ja) | スピンコーター |