JPH01259301A - 光学素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、−ｔＣには光学素子に関する。さらに詳細に
は、本発明は、光学素子の衝撃保護用および反射防止用
被覆に関する。

（従来の技術） 当技術者には公知となっているように、光学的画像シス
テムには通常、画像システムのりメイングー（ｒｅｍａ
　１ｎｄｅｒ）を外部環境から保護する１つ以上の外部
据え付けされた光学素子が組み込まれている。例えば、
赤外線（ＩＲ）空中画像システムの場合、−ｍにはウィ
ンドーや１゛−ムのようなＩＲ透過性の光学素子が据え
付けられていて、これによってＩＲ画像システムのりメ
イングーが、湿気を帯びた環境、腐食性の環境、および
摩耗作用が起こるような環境にさらされるのを防止して
いる。このような環境に長時間さらされると、一般には
外部光学素子の物質の光学的および物理的特性が低下す
る。しかしながら、外部光学素子が受ける最も過酷な環
境暴露は、空中画像システムが山域を飛行する際に起こ
る高速水？ｍ　ｊｉ　！！であると思われる。

この水滴衝撃の問題は、当技術者らによりレイン・エロ
ージョン（ｒａｉｎ　ｅｒｏｓｉｏｎ）と呼ばれること
が多い、山域を飛行中、山域からの水滴が外部光学素子
の表面に当たり、これによって亜音速でも表面下破壊（
ｓｕｂｓｕｒｆａｃｅ　ｆｒａｃｔｕｒｅｓ）が起こる
。がなり脆い物質の場合、こうした表面下破壊は、光学
素子の表面またはその近くに先在する微細亀裂箇所にて
最初に起こる。光学素子に対するレイン・エロージョン
によるｔｎ傷は、物質がかなり除去される前に起こる。

これらの先在する微細亀裂が単に広がるだけで、光学素
子の損傷が十分に起こりうる。特に、これらの微細亀裂
は、水滴による衝撃時において生じる表面応力波の引張
応力成分により、光学素子を通して広がる。いったん微
細亀裂が形成されると、光学素子を通して表面下破壊が
継続的に起こり、従って光学素子中に大きな亀裂が形成
されるようになることが多い。亀裂の部分において、入
射するＩｌｉエネルギーの散乱と屈折が起こることによ
り内部反射が増大し、ＩＲエネルギーが失われる。こう
した亀裂が相当数存在すると、光学素子のｙｉ週率がか
なり減少する。さらに、光学素子を通して亀裂が広がる
につれて、光学素子の全体的な破壊が起こる場合もある
。ある光学素子がわ）々に砕けると、ＩＲ画像システム
の残りの光学素子は外部環境にさらされ、その結果画像
システムの全体的な損傷が起こり易くなる。

通常、赤外線画像システムに対して最良の機械的耐久性
と光学的性能（例えば、特に８．０〜１２．０ミクロン
の赤外線帯域における長波長の赤外線エネルギー（ＬＷ
ＩＲ））を与える物質の種類は、比較的限られている。

好適な物質としては、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、ゲルマ
ニウム、砒化ガリウム、リン化ガリウム、テルル化カド
ミウム水銀、およびテルル化カドミウム等がある。　　
ＭＬｎｚＳ４　という弐を有する三元硫化物（式中、Ｈ
は第１族元素のカチオン、Ｌｎはランタニド希土類系列
元素のカチオン、そしてＳはＳトイオウアニオンであり
、例えば硫化ランタンカルシウム等がある）も、特に８
〜１２μ糟帯域におけるｌＲ４１ＳＨ３用として現在開
発中である。これらの三元硫化物は、耐久性の点である
程度の改良が得られるものの、これらの物質は前述した
ような環境上の暴露による影響を受は易い、一般に、上
記の物質はいずれも比較的脆く、耐損傷性（特に、高速
水滴衝撃時に受けるｔｎ　（ｊＪに対する耐損傷性）が
比較的低い。

光学素子からなる物質の屈折率がエネルギーの発生する
媒体の屈折率とかなり異なる場合には、光学素子の表面
に入射する光学的エネルギーが当該表面において反射す
る、ということも当技術者には公知である。空中画像シ
ステムに対しては、通常、発生媒体は屈折率が約１の空
気である。従って、光学素子の入射表面上に適切な屈折
率を有する物質の被覆物を与えて、このような反射損失
を少なくする、というのが光学業界における標準的な対
応策である。−船釣に光学的波長の分数関係にある接着
厚さにて、これらの被覆物はＩＲ帯域に対し透過性であ
る。しかしながら、従来、このような光学的被覆物は屈
折率の不適切な組合せによって引き起こされる反射ｔｎ
失を少なくするよう作用しているだけであって、光学素
子の耐衝撃性を増大させる作用はしていない。

硬質炭素の層（すなわち、準ダイヤモンド結合とかなり
高い光学的透過性を有する炭素層）をゲルマニウム上に
施すと、し・イン・エロージョンによって引き起こされ
る衝撃１員傷からゲルマニウム光学素子をある程度保１
Ｗすることができる、ということも当技術打には公知で
ある。ゲルマニウム上の硬質炭素被覆物については、°
゛液体衝撃腐食機構と透過性物質″’　　（Ｊ、　Ｅ、
フィールズら、ファイナルレポート、　１９２８年９月
３０日〜１９８３年３月３１０１　コントラクトＮｏ、
　ＡＦＯＳＲ−７８−３７０５−Ｄ、　　レボ−）　Ｎ
ｏ、　ＡＦＷ糺−ＴＲ，８３−４１０１）と題する文献
に説明されている。硬質炭素物質は、硫化亜鉛やセレン
化亜鉛のような他のＩＲ′４５Ａ質に直接にはうまく接
着しない、さらに、硬質炭素被覆物は、前記文献に記載
されているようなゲルマニウム上でさえも、高速水滴衝
撃時において接着開裂を受は易い、水滴術？時における
放射状流出物から生じる剪断力によって、ゲルマニウム
層からの硬質炭素被覆物の接着開裂が引き起こされる、
ということは当技術者には理論付けされている。この接
着開裂という現象は、硬質炭素層の厚さが増大するにつ
れてその程度がかなり大きくなると考えられている。従
って、硬質炭素被覆層が厚くなるほど光学素子に対する
衝撃保護が十分に行われるようになるけれども、実際上
、上記の接着開裂という問題のために、層を厚くするこ
とは好ましくない、硬質炭素に対するさらなる問題は、
硬質炭素の屈折率が約２．４５であって、例えば硫化亜
鉛やセレン化亜鉛のような種々の前記光学素子の屈折率
より相当高いという点にある。従って、光学素子に硬質
炭素被覆が施された場合、光学素子の入射表面における
反射１員失は、光学素子を被覆しなかった場合より大き
くなる。

従って、高度の耐久性と耐環境′ａ露性（特に高速水滴
衝撃に対する）を有し、しかも８〜１２μ鶴の波長帯域
内で増強された光学的特性を有するような光学素子を提
供することが望ましい。

少なくとも８〜１２μ…にわたって、硫化亜鉛やセレン
化亜鉛のような特に脆い物質を保護するための衝撃保護
・反射防止層を提供することが特に望ましい。

本発明によれば、少なくとも８〜１２μｍの帯域にて赤
外線光学エネルギーに対して透過性でかつ耐高速水滴衝
撃性の赤外線光学素子は、所定の第１の弾性率、上記の
光学的波長範囲に対して所定の光学的透過率、および所
定の第１の屈折率（ｎ、）を有する第１の物質のベース
居からなる。前記ベース層上に複合被覆層が配置され、
この複合被覆層は、前記第１物質の弾性率より実質的に
高い第２の弾性率および所定の第２の屈折率（ｎｏ）を
有する第２の物質の第１の層を含む。複合被覆層の前記
第１層は、　（。・（２Ｎ　）　Ｉ）λ／２　という式
（式中、λは前記波長範囲内における選定された波長で
あり、Ｎは０．１．２．３．　、、、である）によって
与えられる光学的厚さ（ｔｏ）に堆積される。

前記複合層は、高い弾性率および前記第１層の物質の屈
折率と空気の屈折率との間の屈折率を有する第３の物質
の第２の層を含む。こうした特定の配置にすると、高弾
性率物質からなる第１層は、奇数×λ／２　という関係
の厚さとなる。波長は、光学的エネルギーが最大状態で
光学素子を透過しなければならないような波長に選定さ
れる。従って、第１層の屈折率はベースの屈折率とかな
り異なり、このとき少なくとも前記選定波長において光
学素子の光学的特性に対し大きな衝撃は生じない、さら
に、奇数×λ／２の関係の光学的厚さを選定すると、選
定波長付近ではあるが選定波長に等しくない波長におけ
る屈折率の組合せに対する要件が緩和される。従って、
実質的に高い弾性率を有する第２物質の比較的厚い第１
層が得られ、これによって光学素子に対する保護も同時
に達成される。高い弾性率および第１層の屈折率と空気
の屈折率との中間の屈折率を有する第３の物質の第２層
を設けることによって、第２層が最大状態で透過しなけ
ればならない波長にて Ｌｏ・（２Ｎ　＋１）λ／４に等しい光学的厚さを有す
るとき、光学素子に対する衝撃保護と適切な反射防止補
正が得られる。

本発明のさらなる！Ｉ３様によれば、光学素子のベース
層は硫化亜鉛およびセレン化亜鉛からなる群から選ばれ
る。前記ベース層上に前記複合被覆層が配置され、この
複合被覆層は、酸化セリウム、１ｍ化チタン、酸化ジル
コニウム、およびこれらの混合物からなる群から選ばれ
る第２の物質の第１の層、並びに酸化イツトリウム、酸
化スカンジウム、およびこれらの混合物および酸化マグ
ネシウムからなる群から選ばれる第３の物質の第２の層
を含んでなる。複合被覆層の前記第１層は、最大状態で
透過させなければならない光学的エネルギーの波長にて
、実質的に奇数×λ／２の関係の光学的厚さに堆積され
る。複合被覆層の前記第２層は、高い弾性率、（λ／４
）という関係の光学的厚さ、および前記ベース層と前記
第１層の物質の屈折率と空気の屈折率との間の屈折率を
有する。こうした特定の配置をとることによって、硫化
亜鉛やセレン化亜鉛のような特に脆い１ｊｌｌＲ物質か
ら作製した光学素子は水滴衝７から保護され、しかも耐
水滴衝窄性を付与する反射防止被覆が得られる。

本発明のさらに他の態様によれば、ベース層と第１被覆
層との間に接着層が配置される０本接着層は、約１０人
〜１０００人の光学的厚さを有する酸化イツトリウムの
光学的に薄い層である。前記第１被覆層の物質は、硬質
炭素またはダイヤモンド、酸化セリウム、酸化チタン、
酸化ジルコニウム、およびこれらのン昆合物からなる群
から選ばれる。

第１被覆層には、最大状態で透過さ一部なければならな
い波長にて奇数×λ／２に等しい光学的厚さが与えられ
る０次いで、第１被覆層上に第２被覆層を配置して被覆
物を反射防止補正する。こうした配置にすれば、酸化イ
ツトリウムの薄い接着層を使用して、硬質炭素層のよう
な極めてモジュラスの高い物質を、硫化亜鉛、セレン化
亜鉛、ゲルマニウム、テルル化カドミウム水銀、テルル
化カドミウム、およびシリコン、並びに硫化ランタンカ
ルシウムのような三元硫化物などのベース物質に付着さ
せることができる。

赤外線光学素子を環境ＳＲから保護し、問題としている
通過帯域に対して光学素子に適切な反射防止組合せを付
与するような、厚めの光学的反射防止被覆物について以
下に説明する。

第１図を参照すると、光学素子（ここではプレート１０
）が、所定の光学的特性を有する物質からなるベース層
１２を含んだ形で示されている。第１図では光学素子が
特にプレート４にのものとして閘かれているけれども、
平面状以外の形状を有するウィンドー、ドーム、レンズ
等のような他のタイプの光学素子を前記プレート１０の
代わりに使用してもよい。通常、プレート１０のベース
１２は少なくとも０．０５インチ、−ｍ的には約０．１
〜０．５インチまたはそれ以上の厚さを有する。さらに
、プレート１０のベース１２は選定された光学的特性を
有することができる。例えばベース１２は、通常赤外線
スペクトル、可視光線スペクトル、および／または紫外
線スペクトルの形の光学的エネルギーに対して透過性の
物質からなっていてもよい。この物質は誘電体物質であ
っても半導体物質であってもよい。特に、８〜１２μｍ
の波長範囲において赤外線画像システムに使用される光
学素子に対して、好ましい物質としは、シリコン、ゲル
マニウム、砒化ガリウム、リン化ガリウム、テルル化カ
ドミウム水銀、テルル化カドミウム、硫化亜鉛、セレン
化亜鉛、および硫化ランタンカルシウムのような三元硫
化物などがある。ＷＪ１２からなる選定物質は、粉末圧
縮法や化学蒸着法のような公知の方法によって作製する
ことができる。特に赤外線画像システムに使用する場合
、ＪＷ１２用に選定された物質は、通常５Ｘ１０’〜２
０Ｘ１０’ｐｓｉの範囲の比較的低い弾性率、２〜３０
μ端の赤外線波長帯域の少なくとも一部に関して通常少
なくとも５０〜７５％の範囲での赤外線エネルギーに対
する高い透過性、および１０μ曙において通常２．２〜
４の範囲の屈折率を有することを特徴とする。上記物質
のいくつかに対する関連した機械的特性および光学的特
性を第１表に示す。

第１表 ベース１２上に配置されているのは、耐衝撃性の複合反
射防止波ｒｒＩ層１１である。複合被覆層１１は、以下
に説明する構造のうちのいずれもとることができる。

第２図を参照すると、被覆層１１は、ベース１２からな
る物質上に配置された第１の保護層１４を含む形で示さ
れている。保護層１４は、ベース１２の物質の弾性率よ
りかなり高い弾性率と、光学素子の選定波長帯域に関し
て層１４の堆積厚さにて高度の透過性とを有する物質か
らなる。被覆層１４は、プレート１０に対する光学的通
過帯域内の問題としている特定の波長において、光学的
波長の１７２に相当する物理的厚さを有する。一般に、
このような層の光学的厚さ（も。）は、被覆層１４の物
理的厚さ（１ｐ）と？＆覆層１４の物質の屈折率（ｎ、
）との積（ｔｏ・ｔ、・　ｎｃ）　　として定義される
。プレート１０には、む。・　λ／２の光学的厚さを存
する層１４が設けられ、この光学的厚さはｔ２・　λ／
　２　ｎ　ｃの物理的厚さに相当していて、このときλ
はプレー目０に対する問題としている波長であり、ｎｃ
は問題としている波長における被覆層の屈折率である。

さらに、堆積された物質は、層１２の物質に対して高度
の接着性を有し、また高速水滴衝撃時に放射状流出物に
より誘起される剪断応力によって引き起こされる接着開
裂に対して特に高い抵抗性を有する。層１４は、イオン
ビーム・スパンクリング、夕゛イオード・スパンクリン
グ、またはエバポレーションのようないかなる公知の方
法で堆積形成させてもよい。さらに、別の方法として、
有機ビヒクルと高弾性率物質からなる溶液中にプレート
１２を’ｆｔンＨすることによって、ブレート１２上に
層１４を形成させることもできる。このような物質の溶
液中にプレートを浸漬した後、プレートを溶液から取り
出し、オープン中に入れて有機ビヒクルを揮発除去する
。またこれとは別に、所定の温度に加熱されたベース層
上にて、ビヒクルと被覆物質の混合物を噴霧乾燥するこ
とによって、被ｒｇＩ層を堆積形成させることもできる
。上記したような特定の被覆配置とする場合、比較的安
価な方法を利用して、ベース層１２上に均一な被覆層１
４が形成することができる。

ベース居物質に対し、好適な被覆用物質としては、硬質
炭素もしくはダイヤモンド、酸化セリウム、酸化チタン
、酸化ジルコニウム、並びに酸化セリウム−酸化チタン
、酸化セリウム−酸化ジルコニウム、および酸化チタン
−酸化ジルコニウムのようなこれらの混合物等がある。

被覆層１４に使用される物質の関連特性を第■表に示す
。

被覆Ｔ！ＪｌＪ上に配置されているのは、被覆層１４の
物質の屈折率とプレーＮＯが暴露される物質の屈折率と
の中間の屈折率を有する高弾性率物質からなる反射防止
衝撃保護Ｆｉ１６である。前記のλ／２層物質に関し、
光学素子を適切に反射防止被覆する好適な被覆用物質と
しては、酸化イットリウム（ｙｚｏｚ）、酸化マグネシ
ウム（ＭｇＯ）　、酸化スカンジウム（Ｓ＋４０ｉ）　
、およびこれらの物質の均一混合物などがある。しかし
ながら、水と反応する酸化マグネシウムは、水滴衝撃や
湿気に関係した環境暴露の場合にはそれ自体では適切で
ないことを指摘しておかなければならない、これらの物
質に対する関連した物理的・光学的特性を第■表に示す
。

上記した配置にすると、層１４の厚さは、最大状態で透
過されなければならない放射線の波長にてλ／２である
ので、層の屈折率は基材の屈折率と異なってもよく、こ
のとき“設定（ｄｅｓｉｇｎｅｄ　ｆｏｒ）″波長にお
いて光学素子の光学的特性はいかなる影響も受けない、
さらに、硬質炭素、ダイヤモンド、酸化セリウム、酸化
チタン、および酸化ジルコニウムのような高い弾性率を
有する物質のλ／２被覆層を設けると、光学素子のベー
ス物質に対する衝撃保護がより確実に行われることにな
る。さらに、酸化イツトリウム、酸化マグネシウム、お
よび酸化スカンジウムのような物質を選定すると、光学
素子に対する衝撃保護がなされるだけでなく、光学素子
を反射防止補正するための設定波長において適切な屈折
率も付与するような高弾性率を有する反射防止被覆層が
得られる。層１６の厚さは、最大状態で透過されなけれ
ばならない波長においてλ／４となるように選定される
。

第３図を参照すると、前述したベース層１２、前述した
反射防止波１１７１１６、および前述した好ましい厚め
の保護層１４′　を含んだ形で、本発明の別の実施態様
が示されている。但し、保３１！Ｊ！１ｊ１４’　は（
。−（２ｎ　＋　１）λ／２　（式中、ｎ　＝　０．１
，２，３．、、ｉ）という弐によって与えられる光学的
厚さ（ｔｏ）を有し、物理的厚さは （２ｎ　＋　１）λ／２ ｔｐ＝ｔｏ／ｎｃ・ （式中、ｎ、はλにおける屈折率である）という関係に
ある点が異なる。従って、多数のλ／２被覆層さの層が
選ばれるので、光学素子１０におけるベース層１２の物
質の屈折率と、保護波Ｉ′１層１４の物質の屈折率との
組合せが不適切で゛あっても、最大状態で透過させなけ
ればならない波長（λ）において光学素子の光学的特性
に対していかなる影響も及ぼさない、従って、前述した
ような奇数×λ／２という関係の任意の大きな厚さを有
するＩ？Ｊ　１４’　を得ることができる。

第４図を参照すると、本発明のさらに他の実施態様が、
第３図に関して説明した反射防止保護被覆層１５とベー
ス層１２との間に配置された接着層１７を含んだ形で示
されている。クスティソンらにより１９８６年６月１８
日付けで提出された同時係属中の出願筒８７５，８９３
号に記載されているように、そして硫化！ＩＩＩ！鉛や
セレン化亜鉛のような物質上に配置されている硬質炭素
のような物質に対して本発明の誼受入に譲渡されている
ように、酸化イツトリウム（ＹｚＯｓ）の接着層を介在
させて、硬質炭素層をＺｎＳやＺｎ５ｅ等のベース物質
に接合させるのが好ましい。しかしながら、酸化イツト
リウムの接着層は実質的にはλ／４以下の厚さを有し、
好ましくは１０〜１００人（Ｒ簡約１０００人まで）の
厚さを有し、そして被覆層１４゛　として使用される場
合は単に硬質炭素（およびダイヤモンド）に対する接合
層を形成しているだけにすぎない、従って、言うまでも
ないことだが、層１７の厚さはベースＩ’Ｗ１２の光学
的特性に殆ど影響を与えることはなく、単に硬質炭素層
またはダイヤモンド層１４°をプレート１０のベース［
１２に物理的に保持するよう作用しているにすぎない。

さらに、酸化チタン、酸化ジルコニウム、および酸化セ
リウム等のような他の物質は、層１７がなくてもベース
層１２上に直接堆積させることができる、という点も指
摘しておかなければならない、しかしながら、ベースＩ
’！１２からなる物質のうちのある１種を含有した層１
７を組み込むことが好ましい。

第５〜７図には、反射率％対波長のプロットを示す。

第５図は、ベース層の物質の屈折率より小さい屈折率を
有する光学物質のλ／４被覆物を使用したときの理論的
プロットを示す０例えば、前記の同時係属中の出願に記
載されているように、ベース［１２上に奇数×λ／４を
有する酸化イツトリウムのλ／４１″７さの酸化イツト
リウム被覆物の場合（曲線５１）、反射率はかなり低く
、また８〜１２μｍのような比較的広い範囲の波長にわ
たって、反射率は約５％以下である。しかしながら、厚
くなるに従って、酸化イツトリウムの奇数×λ／４被覆
物（曲線５２．３λ／４、および曲線５３．５λ／４）
は、物質に対する保護の程度は増大するけれども、反射
率も増大して、８〜１２μｍに関してλ／４厚さの被覆
物の反射率からかなりずれるという事実も観察されてい
る。このことは、−１’ＩＱ的には多くの用途に対して
望ましくないことである。

第６図は、３種の異なる複合被覆物に対し、６〜１２μ
ｍ帯域に関して理論的反射率をプロットした図である０
曲線６１は、層１４としてλ／２厚さの酸化セリウム（
ｃｅＯ□）層を、また層１６としてλ／４１’７さの酸
化イツトリウム（Ｙｚ（ｈ）Ｉ？Ｊを使用したときの反
射率を示す１曲線６２の場合、ＣｅＯ□の層１４は３λ
／２の厚さを、Ｙ２Ｏ３のＩ：３１６はλ／４の厚さを
有し、また曲線６３の場合、ＣａＯ２の居１４は５λ／
２の厚さを、Ｙ２Ｏ，の５１６はλ／４の厚さを有する
。酸化セリウムの極めて薄い層に対しても、約８〜１２
μｍの光学的波長帯域に関して反射率は約７．５％であ
る。層１４に対し、ＣｃＯ□の奇数×λ／２′ｄ１．覆
物を単一のλ／４被覆物と組合わせた場合、反射率にお
いて特徴のある波が得られることに留意すべきである。

平均（ｌ！！（図示せず）の近傍のこの波は、所定の振
幅と振動数を有する。波の振幅は、光学素子の屈折率と
保護波ｒａ層１４の屈折率との間の不適切な組合せの程
度に関係する。波の振動数（すなわち、波のピーク間の
間隔）は、高い振動数または波のピークのより短い間隔
を有するより厚い複数層からなる層の厚さに関係する０
問題としている光学的波長範囲にわたって基材の物質の
屈折率に適合した屈折率を有する物質の場合、波は消失
し、従って図示されているように、λ／２Ｆ７−さの酸
化セリウム層に等しくなる。さらに、ベース層１２と保
護層１４゜の物質に対する反射率の分散が、ある波長帯
域にわたって波長の関数として適合されている場合、当
該波長帯域にわたって、反射率は波長が１０ｔＩｍのと
きの値と実質的に同じになる。

光学的設計方法を使用して、反射防止５被覆Ｊｉ１６と
保護層１４または１４゛　の厚さを、公称λ／４１￥さ
およびλ／２厚さかられずかに調整して、８〜１２μ鄭
範囲の間の最大通過帯域を得ることができる。第７図に
示されているように、このとき当該範囲にわたって反射
率はほんのわずか増大するだけである。従って、第７図
における２Ｎ複合構造体は、第７表に示されているよう
な厚さを有する。

本発明にお４Ｊる好ましい実施態様について説明してき
たので、本発明の概念を組み込んだ他の種々の実施態様
も使用できることは、５技術者にとって明らかであろう
。

【図面の簡単な説明】 第１図は、本発明に従った光学素子（ここでは、ベース
層と複合保護層からなるプレート）の等角図である。 第２図は、本発明のある態様に従って複合保護層を示し
ている、第１図の線２−２に沿って切り込んだ分解断面
図である。 第３図は、本発明の他の態様に従って複合保護層を示し
ている、第１図の線３−３に沿って切り込んだ分解断面
図である。 第４図は、本発明のさらに他の８４１に従って複合保護
層を示している、第１図の線４−４に沿って切り込んだ
分解断面図である。 第５図は、保護層の奇数×単一層被覆物に対する波長と
反射率との関係をプロットした図である。 第６図は、本発明に従った複合保護被覆物に対する波長
と反射率との関係をプロ７トした図である。 第７図は、本発明に従った最適化複合保護層に対する波
長と反射率との関係をブロンドした図である。 （外４名） 区＝の１子ご（内容に変Ｔｚヒ） 第２図 第３図 ン３己＋ｔｎｒｎノ 第５図 一叉　＋　　　（ｎｍ） 第６図 第７区 ト　続　ン市　＋１−　古　（）３式）１．Ｊｉ件の表
示 昭和６３年持重１′１願第２９４４７４月２、発明の名
称 光学素子 ′３．浦１１−をする呑 ・１１件との関係　　　特１１′「出願人住所 乙　称　　（７８’４）レイセオンφカンパニー４、代
理人 住　所　　東京都モ代ＩＩＪ区大千町二旧−１２番１号
新人手町ビル　２０６区 ５、浦＋１−命令の［ｌ付　　甲−成１年　３月　７日
　（発送日）６、捕＋Ｌの灼象 タイプ印書により浄書した明細書 適ＩＦ！五図面 ７、補正の内ｉ（ （別紙） 手　　続　　補　　ｉｆ　　　書 特許庁長官　　　吉　　１０　　文　　毅　　　殿１、
事件の表示 昭和６３年持重願第２９４４７４号 ２、発明の名称 光学素子 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所 ｆｓ　　称（７８３）レイセオン・カンパニー４、代理
人 テルル化カドミウムからなる群から選ばれるもの特許請
求の範囲を下記に訂正する。 ｒｌ、（ａ）　　所定の第１の弾性率および所定の範囲
の光学的波長に関して所定の第１の光学的透過率を有す
る第１の物質全４１９ｍベース；および（ｂ）ｉ）前記
第１の物質の弾性率より実質的に高い第２の弾性率を有
する別の第２の物質を含む第１の層で、（２Ｎ＋１）λ
／２という関係の光学的厚さを有し、このときλは前記
ベースの（前記第１の物質の光学的波長の所定の範囲内
の波長であり、Ｎは整数である；および ｉｉ）光学素子を反射防止補正するよう選定された波長
においてある屈折率を、そして（λ／４）という関係の
光学的厚さを有する別の第３の物質を含む第２の層； を含む前記ベースｐ！１．ｌ：に配ｒｆｉされた複合層
；を含む光学素子。 ２、　前記ベースの前記第１の物質が硫化亜鉛、セレン
化亜鉛、デルマニウム、砒化〃リウム、リン化がリウム
、テルル化カドミウム水銀、およびであり、三元硫化物
がＭＮ２Ｓ４という一般化学式を有し、このときＭが１
式族元素から選ばれるカチオンであり、Ｎがランタニド
系列の希土類元素から選ばれるカチオンであり、そして
ＳがイオウアニオンＳ２″である、請求項第１項に記載
の光″′ｒ素子。 ３、　前記ｔｌＳｉの層の＋Ｗ記ｆ５２の物質が、硬質
炭素、ダイヤモンド、酸化セリウム、酸化チタン、酸化
ジルコニウム、およびこれらの’ｔＪ１合物からなる群
から選ばれるものである、請求項ｆ５２項に記載の光学
素ｒ。 ４、　前記第２の層の前記第３の物質が、酸化イットリ
ウム、酸化スカンジウム、酸化マグネシウム、並びに酸
化イットリツム、酸化スカンジウム、およゾ酸化マグネ
シウムの混合物からなる群から選ばれるものである、請
求項第３項に記載の光学素子。 ５、（ａ）　　硫化亜鉛とセレン化亜鉛からなる群から
選ばれる物質のベース層で、少なくとも８ミクロ２〜１
２ミクロンの光字的波１ｔｌ囲に関して所定の光学的透
過率を有するベース層：および（ｂ）ｉ）　　硬質炭素
、酸化セリウム、酸化チタン、酸化ノルコニツム、およ
びこれらの混合物からなる群から選ばれる物質を含むｆ
ｊｓ］の層で、（２Ｎ＋１）λ／２という関係の光学的
厚さを有し、このとき人は前記ベースの所定の波長範囲
内の波長であり、Ｎは整数である；および ｉｉ）酸化イツトリウム、酸化スカンジウム、及びこれ
らの混合物、並びに酸化マグネシウム、と＝ｈｂａ入尻
ゴＥ吻−からなる群から選ばれる物質を含むｆｊＳ２の
層で、（λ／４）という関係の光学的厚さを有する； を合む、光学素子用の耐衝撃性反射防止被覆を形成する
前記ベース層−１−に配置された複合層；を含む、光学
素子用の耐衝撃性反射防止被覆を形成する前記ベース層
上に配置されｒこ複合層；を含む、耐高速水滴ｆＪｌｉ
撃性の少なくとも１つの表面上に配置された耐衝撃性反
射防止被ｍ層を有する光学素子。 ６、　前記複合層の前記第１の層が酸化セリウムであり
、前記複合層の前記第２の層が酸化イツトリウムである
、請求項第５項に記載の光′Ｔ素子。 ７、　萌記複今層のｉ？ｊ記第１の層に含まれるｉｉｒ
記第２の物質が、硬質炭素、酸化セリウム、酸化チタン
、酸化ジルコニウム、およびこれらの混合物からなる群
かＣ）選ばれるものである、請求項第５項に記載の光学
素子。 と３．　前記！ＹＸ２の層の＋ｉｆｆ記物質が、酸化イ
ットリウム、酸化スカンジウム、酸化マグネシウム、お
よびこれらの）１９合物からなる群から選ばれるもので
ある、請求項！ｆｓ　７項に記載の光学素子。 ９、（ａ）　　硫化亜鉛とセレン化亜鉛からなる群から
選ばれる物質のベース層で、少なくとも８ミクロン〜１
２ミクロンの光学的波長範囲に関して所定の光学的透過
率を有するベース層； （１〕）約１０〜１０００　Ａ’の光学的厚さを有する
前記ベース層上に配置された接着層；および（ｃ）ｉ）
　　硬質炭素、酸化セリウム、酸化チタン、酸化ジルコ
ニウム、およびこれらの混合物からなる群から選ばれる
物質り主丸第１の層で、（２Ｎ＋１）λ／２という関係
の光学的厚さを有し、このときλは前記ベースの所定、
Ｄ波長範囲内の波長であり、Ｎ１．を整数である；およ
びｉｉ）酸化イツトリウム、酸化スカンジウム、および
これらの混合物、並びに酸化マグネシウムとこれらの混
合物からなる肝から選ばれる物質Ｌ１グｆｊＳ２の層で
、（λ／４）という関係の光字的／’７さを有する； を含む、光学素子用の耐衝撃性反射防止被覆を形成する
前記接着層上に配置された複合層；を含む、耐高速水滴
衝撃性の少なくとも１つの表面上に配置された耐衝撃性
反射防止被ｍ層を有する光学素子。 １０、　前記接着層が酸化イツトリウムであり、前記第
１の層が硬質炭素の層であり、そして前記ｔｔＳ２の層
が酸化イツトリウムである、請求項第９項に記載の光学
素子。 １１、　前記複合層の前記物質が、硬質炭素、酸化セリ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、およびこれらの
混合物からなる群から選ばれるものである、請求項第９
項に記載の光′″ｆ、ｆ、素子、　前記第３の物質が、
酸化イツトリウム、酸化スカンジウム、酸化マグネシウ
ム、およびこれらの混合物からなる群から選ばれるもの
である、請求項第１１項に記載の光学素子。 １３、（ａ）　　所定の光学的波長範囲に関して所定の
第１の光字的透過率を有するｆｊＳｌの物質を含むベー
スを有する光？素子を与える工程； （ｂ）　　前記第１の物質の弾性率より実質的に高いｆ
５２の弾性率を有する第２の物質からなる第１の層で、
（２Ｎ＋１）λ／２という関係の光学的厚さを有するよ
うな層をりえる工程、このとき人は前記ベースの前記第
１の物質の光学的波長の所定の範囲内の波長であり、Ｎ
は整数である；および （ｃ）（入／４）という関係の光学的Ｊ７さを有する光
学素子を反射防止補正するよう選定されたある屈折率を
有する！￥Ｓ３の物質からなる第２の層を法える工程； からなる、水滴衝撃による損傷を受けないよう光学素子
を保護する方法。」 以　　　　−ヒ 手　　続　　補　　正　　書 １、事件の表示 昭和６３年特許願第　２９４４７４　　号２、発明の名
称 光学素子 ６、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住所 名　称　　（７８３）レイセオン・カンパニー４代理人 ５、補正の対象 （別紙） １、特許請求の範囲を下記に訂正する。 ｆ　１．（ａ）　　所定の第１の弾性率および所定の範
囲の光学的波長に関して所定の第１の光学的透過率を有
する第１の物質を含むベース；および（ｂ）　ｉ）　　
前記第１の物質の弾性率より実質的に高い第２の弾性率
を有する別の第２の物質を含む第１の層で、（２Ｎ＋１
）λ／２という関係の光学的厚さを有し、このときλは
前記ベースの前記第１の物質の光学的波長の所定の範囲
内の波長であり、Ｎは整数である；および ）１）光学素子を反射防止補正するよう選定された波長
においてある屈折率を、そして（λ７／４）という関係
の光学的厚さを有する別の第３の物質を含む第２の層； を含む前記ベース層上に配置された複合層；を含む光学
的素子４ ２、　（ａ＞硫化亜鉛と七しン化亜鉛からなる群から選
ばれる物質のベース層で、少なくとも８ミクロン〜１２
ミクロンの光学的波長範囲に関して所定の光学的透過率
を有するベース層：および（ｂ）ｉ）硬質炭素、ダニ仁
ｊ−旦ユ二上、酸化セリウム、酸化チタン、酸化ジルコ
ニウム、およびこれらの混合物からなる群から選ばれる
物質を含む第】の層で、（２Ｎ＋１）λ／２という関係
の光学的厚さを有し、このときλは前記ベースの所定の
波長範囲内の波長であり、Ｎは整数である；および １ｉ）１１Ｒ化イツトリウム、酸化スカンジウム、及び
これらの混合物、並びに酸化マグネシウムとこれらの混
合物からなる群から選ばれる物質を含む第２の層で、（
λ／′４）という関係の光学的厚さを有する； を含む、光学素子用の耐衝撃性反射防止被覆を形１て 成する前記ベース贋上書配置された複合層；を古む、光
学素子用の耐衝撃性反射防止被覆を形成する前記ベース
層上に配置された複合層；を含む、耐高速水滴衝撃性の
少なくとも１つの表面−りに配置された耐衝撃性反射防
止被覆層を有する光学素子。 ３、（ａ）　Ｑ化亜釦とセレン化亜鉛からなる群から選
ばれる物質のベース層で、少なくとも８ミクロン〜１２
ミクロンの光学的波長範囲に関して所定の光学的透過率
を有するベース層； （ｂ）　　約１０〜１０００Ａの光学的厚さを有する前
記ベース層上に配置された接着層；およびｆｃ）ｉ）硬
質炭素、乙エヱｌ之上工酸化セリウム、酸化チタン、酸
化ジルコニウム、およびこれらの混合物からなる群から
選ばれる物質を含む第１の層で、（２Ｎ＋１）λ７′２
という関係の光学的厚さを有し、このときλは前記ベー
スの所定の波長範囲内の波長であり、Ｎは整数である；
および ｉｉ　）　Ｂ化イツトリウム、酸化スカンジウム、およ
びこれらの混合物、並びに酸化マグネシウムとこれらの
混合物からなる群から選ばれる物質を含む第２の層で、
（λ７′４）という関係の光学的厚さを有する； を含む、光学素子用の耐衝撃性反射防止被覆を形成する
前記接着層上に配置された複合層；を含む、耐高速水滴
衝撃性の少なくとも１つの表面上に配置された耐衝撃性
反射防止被覆層を有する光学素子。 ４、　（ａ）所定の光学的波長範囲に関して所定の第１
の光学的透過率を有する第１の物質を含むベースを有す
る光学素子を与える工程； （ｂ）前記第１の物質の弾性率より実質的に高い第２の
弾性率を有する第２の物質からなる第１の判で、（２Ｎ
＋１）λ／２という関係の光学的１ブさを有するような
層を与える工程、このときλは前記ベースの前記第１の
物質の光学的波長の所定の範囲内の波長であり、Ｎは整
数である：および（ｃ）（λ７′４）という関係の光学
的厚さを有する光学素子を反射防止補正するよう選定さ
れたある屈折率を有する第３の物質からなる第２の層企
与える工程； からなる、水滴衝撃による損傷を受けないよう光学素子
を保護する方法。ｊ ２、明細書第２９真下から第５行の次に新行にて以下を
挿入する。 ｒ　＊発明の実施の態様は次の通りである。 １、　（ａ）　　所定の第１の弾性率および所定の範囲
の光学的波長に関して所定の第１の光学的透過率を有す
る第１の物質を含むベース；および（ｂ）ｉ）前記第１
の物質の弾性率より実質的に高い第２の弾性率を有する
別の第２の物質を含む第１の層で、（２Ｎ　＋　ｌ　）
λ／２という関係の光学的厚さを有し、このときλは前
記ベースの前記第１の物質の光学的波長の所定の範囲内
の波長であり、Ｎは整数である；および ｉｉ）光学素子を反射防止補正するよう選定された波長
においてある屈折率を、そして（λ／４）という関係の
光学的厚さを有する別の第３の物質を含む第２の層； を含む前記ベース層上に配置された複合層；を含む光学
素子。 ２、前記ベースの前記第１の物質が硫化亜鉛、セレン化
亜鉛、ゲルマニウム、砒化ガリウム、リン化ガリウム、
テルル化カドミウム水銀、およびテルル化カドミウムか
らなる群から選ばれるらのであり、三元硫化物がＭＮ２
Ｓ４という一般化学式を有し、このときＭがＩＡ族元素
から選ばれるカチオンであり、Ｎがランタニド系列の希
土類元素から選ばれるカチオンであり、そしてＳがイオ
ウアニオンＳ２−である、上記第１項に記載の光学素子
。 ３、前記第１の層の前記第２の物質が、硬質炭素、ダイ
ヤモンド、酸化セリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、およびこれらの混合物からなる群から選ばれるもの
である、上記第２項に記載の光学素子。 ４、前記第２の層の前記第３の物質が、酸化イットリウ
ム、酸化スカンジウム、酸化マグネシウム、並びに酸化
イツトリウム、酸化スカンジウム、および酸化マグネシ
ウムの混合物からなる群がら選ばれるものである、上記
第３項に記載の光学素子。 ５、（ａ）　Ｔａ化亜鉛とセレン化亜鉛からなる群から
選ばれる物質のベース層で、少なくとも８ミクロン〜１
２ミクロンの光学的波長範囲に関して所定の光学的透過
率を有ずろベース層；および（ｂ）ｉ）硬質炭素、ダイ
ヤモンド、酸化セリウム、酸化チタン、酸イヒジルコニ
ウノ１、およびこれらの混合物からなる群から選ばれる
物質を含む第１の層で、（２Ｎ＋１）λ／２という関係
の光学的厚さ？有し、このときλは前記ベースの所定の
波長範囲内の波長であり、Ｎは整数である；および ｉｉ）酸化イ・Ｉトリウム、酸（ヒスカンジウム、及び
これらの混な！ｌ！ＩＪ、並びに酸化マグネシウムとこ
れらの混合物からなる群から選ばれる物質を含む第２の
層で、（λ／・４）という関係の光学的厚さを有する： を含む、光学素子用の耐衝撃性反射防止被覆を形成する
前記ベース層−Ｆに配置された複合層；を含む、光学素
子用の耐衝撃性反射防止被覆を形成する前記ベース層上
に配置された複合Ｎ：を含む、耐高速水滴衝撃性の少な
くとも１つの表面上に配置された耐衝撃性反射防止被覆
層を有する光学素子。 ６、前記複合層の前記第１の層か酸化セリウムであり、
前記複合層の前記第２の層が酸化イツトリウムである、
上記第５項に記載の光学素子。 ７、前記複合層の前記第１の層に含まれる前記第２の物
質が、硬質炭素、ダイヤモンド、酸化セリウム、酸化チ
タン、酸化ジルコニウム、およびこれらの混合物からな
る群から選ばれるものである、上記第５項に記載の光学
素子。 ８、前記第２の層の前記物質が、酸化−イントリウム、
酸（ヒスカンジウム、酸化マグネシウム、およびこれら
の混合物からなる群から選ばれるものである、上記第７
項に記載の光学素子。 Ｑ、（ａ）硫化亜鉛とセレン化亜鉛からなる群から選ば
れる物質のベース層で、少なくとも８ミクロン〜１２ミ
クロンの光学的波長節り用に関して所定の光学的透過率
を有するベース層； （ｂ）約１０〜１０００Ａの光学的厚さを有する前記ベ
ース層上に配置された接着層；および（ｃ）ｉ）硬質炭
素、ダイヤモンド、酸化セリウム、酸ｆヒチクン、酸化
ジルコニウム、およびこれらの混合物からなる群から選
ばれる物質を含む第１の層で、（２Ｎ＋１）λ／２とい
う関係の光学的厚さを有し、このときλは前記ベースの
所定の波長範囲内の波長であり、Ｎは整数である；およ
び ｉｉ）酸化イ・ソトリウム、酸化スカンジウム、および
これらの混合物、並びに酸化マグネシウムとこれらの混
合物からなる群から選ばれる物質を含む第２の屑で、（
λ／４）という関係の光学的厚さを有する： を含む、光学素子用の耐衝撃性反射防止被覆を形成する
前記接着層上に配置された複合層；を含む、耐高速水滴
衝撃性の少なくとも１つ、の表面上に配置された耐衝撃
性反射防止被覆層を有する光学素子。 １０、前記接＠層が酸化イツトリウムであり、前記第１
の層か硬質炭素の層であり、そして前記第２の層が酸化
イツトリウムである、上記第９項に記載の光学素子。 １１、前記複合層の前記物質が、硬質炭素、ダイヤモン
ド、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、お
よびこれらの混合物からなる群から選ばれるらのである
、上記第９項に記載の光学素子。 １２、前記第３の物質が、酸化イツトリウム、酸化スカ
ンジウム、酸（ヒマグネシウム、およびこれらの混合物
からなる群から選ばれるものである、−Ｆ記第１１項に
記載の光学素子。 １３、　（ａ）　　所定の光学的波長範囲に関して所定
の第１の光学的透過率を有する第１の物質を含むベース
を有する光学素子を４える工程； （ｂ）前記第１の物質の弾性率より実質的に高い第２の
弾性率を有する第２の物質からなる第１の層で、（２Ｎ
＋１）λ／２という関係の光学的厚さを有するような層
を与える工程、このときλは前記ベースの前記第１の物
質の光学的波長の所定の範囲内の波長であり、）町は整
数である；および′ （ｃ）（六／′４）という関係の光学的厚さを有する光
学素子を反射防止補正するようｊπ定されたある屈折率
を有する第３の物質からなる第２の層を与える工程； からなる、水滴衝撃によるｔｌ）傷を受けないよう光学
素子を保護する方法。」 以　　上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）所定の第１の弾性率および所定の範囲の光学
   的波長に関して所定の第１の光学的透過率を有する第１
   の物質からなるベース； および（ｂ）ｉ）前記第１の物質の弾性率より実質的に
   高い第２の弾性率を有する別の第２の物質を含む第１の
   層で、（２Ｎ＋１）λ／２という関係の光学的厚さを有
   し、このときλは前記ベースの前記第１の物質の光学的
   波長の所定の範囲内の波長であり、Ｎは整数である；お
   よび ｉｉ）光学素子を反射防止補正するよう選定された波長
   においてある屈折率を、そして（λ／４）という関係の
   光学的厚さを有する別の第３の物質を含む第２の層； を含む前記ベース層上に配置された複合層；を含む光学
   素子。 ２、前記ベースの前記第１の物質が硫化亜鉛、セレン化
   亜鉛、ゲルマニウム、砒化ガリウム、リン化ガリウム、
   テルル化カドミウム水銀、およびテルル化カドミウムか
   らなる群から選ばれるものであり、三元硫化物がＭＮ＿
   ２Ｓ＿４という一般化学式を有し、このときＭが I Ａ
   族元素から選ばれるカチオンであり、Ｎがランタニド系
   列の希土類元素から選ばれるカチオンであり、そしてＳ
   がイオウアニオンＳ＾２＾−である、請求項第１項に記
   載の光学素子。 ３、前記第１の層の前記第２の物質が、硬質炭素、ダイ
   ヤモンド、酸化セリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウ
   ム、およびこれらの混合物からなる群から選ばれるもの
   である、請求項第２項に記載の光学素子。 ４、前記第２の層の前記第３の物質が、酸化イットリウ
   ム、酸化スカンジウム、酸化マグネシウム、並びに酸化
   イットリウム、酸化スカンジウム、および酸化マグネシ
   ウムの混合物からなる群から選ばれるものである、請求
   項第３項に記載の光学素子。 ５、（ａ）硫化亜鉛とセレン化亜鉛からなる群から選ば
   れる物質のベース層で、少なくとも８ミクロン〜１２ミ
   クロンの光学的波長範囲に関して所定の光学的透過率を
   有するベース層； および（ｂ）ｉ）硬質炭素、酸化セリウム、酸化チタン
   、酸化ジルコニウム、およびこれらの混合物からなる群
   から選ばれる物質を含む第１の層で、（２Ｎ＋１）λ／
   ２という関係の光学的厚さを有し、このときλは前記ベ
   ースの所定の波長範囲内の波長であり、Ｎは整数である
   ； およびｉｉ）酸化イットリウム、酸化スカンジウム、お
   よび及びこれらの混合物、並びに酸化マグネシウムから
   なる群から選ばれる物質を含む第２の層で、（λ／４）
   という関係の光学的厚さを有する； を含む、光学素子用の耐衝撃性反射防止被覆を形成する
   前記ベース層上に配置された複合層；を含む、耐高速水
   滴衝撃性の少なくとも１つの表面上に配置された耐衝撃
   性反射防止被覆層を有する光学素子。 ６、前記複合層の前記第１の層が酸化セリウムであり、
   前記複合層の前記第２の層が酸化イットリウムである、
   請求項第５項に記載の光学素子。 ７、前記複合層の前記第１の層に含まれる前記第２の物
   質が、硬質炭素、酸化セリウム、酸化チタン、酸化ジル
   コニウム、およびこれらの混合物からなる群から選ばれ
   るものである、請求項第５項に記載の光学素子。 ８、前記第２の層の前記物質が、酸化イットリウム、酸
   化スカンジウム、酸化マグネシウム、およびこれらの混
   合物からなる群から選ばれるものである、請求項第７項
   に記載の光学素子。 ９、（ａ）硫化亜鉛とセレン化亜鉛からなる群から選ば
   れる物質のベース層で、少なくとも８ミクロン〜１２ミ
   クロンの光学的波長範囲に関して所定の光学的透過率を
   有するベース層： （ｂ）約１０〜１０００Åの光学的厚さを有する前記ベ
   ース層上に配置された接着層；および （ｃ）ｉ）硬質炭素、酸化セリウム、酸化チタン、酸化
   ジルコニウム、およびこれらの混合物からなる群から選
   ばれる物質からなる第１の層で、（２Ｎ＋１）λ／２と
   いう関係の光学的厚さを有し、このときλは前記ベース
   の所定の波長範囲内の波長であり、Ｎは整数である； およびｉｉ）酸化イットリウム、酸化スカンジウム、お
   よびこれらの混合物、並びに酸化マグネシウムとこれら
   の混合物からなる群から選ばれる物質からなる第２の層
   で、（λ／４）という関係の光学的厚さを有する； を含む、光学素子用の耐衝撃性反射防止被覆を形成する
   前記接着層上に配置された複合層； を含む、耐高速水滴衝撃性の少なくとも１つの表面上に
   配置された耐衝撃性反射防止被覆層を有する光学素子。 １０、前記接着層が酸化イットリウムであり、前記第１
   の層が硬質炭素の層であり、そして前記第２の層が酸化
   イットリウムである、請求項第９項に記載の光学素子。 １１、前記複合層の前記物質が、硬質炭素、酸化セリウ
   ム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、およびこれらの混
   合物からなる群から選ばれるものである、請求項第９項
   に記載の光学素子。 １２、前記第３の物質が、酸化イットリウム、酸化スカ
   ンジウム、酸化マグネシウム、およびこれらの混合物か
   らなる群から選ばれるものである、請求項第１１項に記
   載の光学素子。 １３、（ａ）所定の光学的波長範囲に関して所定の第１
   の光学的透過率を有する第１の物質を含むベースを有す
   る光学素子を与える工程； （ｂ）前記第１の物質の弾性率より実質的に高い第２の
   弾性率を有する第２の物質からなる第１の層で、（２Ｎ
   ＋１）λ／２という関係の光学的厚さを有するような層
   を与える工程、このときλは前記ベースの前記第１の物
   質の光学的波長の所定の範囲内の波長であり、Ｎは整数
   である； および（ｃ）（λ／４）という関係の光学的厚さを有す
   る光学素子を反射防止補正するよう選定されたある屈折
   率を有する第３の物質からなる第２の層を与える工程； からなる、水滴衝撃による損傷を受けないよう光学素子
   を保護する方法。