JPH01283400A - 亜鉛−ニッケル合金電気めっき液 - Google Patents
亜鉛−ニッケル合金電気めっき液Info
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- JPH01283400A JPH01283400A JP63312840A JP31284088A JPH01283400A JP H01283400 A JPH01283400 A JP H01283400A JP 63312840 A JP63312840 A JP 63312840A JP 31284088 A JP31284088 A JP 31284088A JP H01283400 A JPH01283400 A JP H01283400A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、亜鉛−ニッケル合金電気めっき用のめつき液
に関するものであり、更にくわしくは、電気めっき皮膜
の延性を向上させるための新規な添加剤を含有する、硫
酸塩タイプの改良された水溶液を酸性亜鉛−ニッケル合
金電気めっき液に関するものである。
に関するものであり、更にくわしくは、電気めっき皮膜
の延性を向上させるための新規な添加剤を含有する、硫
酸塩タイプの改良された水溶液を酸性亜鉛−ニッケル合
金電気めっき液に関するものである。
耐食性向上、外観の改良および/または摩耗部分の寸法
を復元する再仕上げを可能にするための肉盛りの目的で
装飾めっき型または機能めっき型の亜鉛−ニッケル合金
皮膜を鉄、鋼など種々の素地上に電着するための、一定
量の亜鉛イオンおよびニッケルイオンを含有するめっき
液が従来から使われ、また提案されている(特開昭58
−34189号等)。このような亜鉛−ニッケル合金電
気めっき液は、ストリップ、コンジット、ワイヤ、ロッ
ド、管、カッブリングなどの工業めっきまたは機能めっ
きに広く使われている。
を復元する再仕上げを可能にするための肉盛りの目的で
装飾めっき型または機能めっき型の亜鉛−ニッケル合金
皮膜を鉄、鋼など種々の素地上に電着するための、一定
量の亜鉛イオンおよびニッケルイオンを含有するめっき
液が従来から使われ、また提案されている(特開昭58
−34189号等)。このような亜鉛−ニッケル合金電
気めっき液は、ストリップ、コンジット、ワイヤ、ロッ
ド、管、カッブリングなどの工業めっきまたは機能めっ
きに広く使われている。
好ましい半光沢外観や、よりすぐれた密着性を得る上で
必要なめっき皮膜の微粒子化を達成するために、亜鉛−
ニッケル合金電気めっき液については従来多くの改良が
なされてきたが、硫酸塩タイプのものの場合、亜鉛−ニ
ッケル合金皮膜が延性に欠けるため微細な亀裂が発生し
て素地上の亜鉛−ニッケル合金皮膜の防食効果が低下す
るという問題が残されている。
必要なめっき皮膜の微粒子化を達成するために、亜鉛−
ニッケル合金電気めっき液については従来多くの改良が
なされてきたが、硫酸塩タイプのものの場合、亜鉛−ニ
ッケル合金皮膜が延性に欠けるため微細な亀裂が発生し
て素地上の亜鉛−ニッケル合金皮膜の防食効果が低下す
るという問題が残されている。
本発明の目的は、従来の硫酸塩タイプ亜鉛−二ッケル合
金電気めっきにおける上記問題点を解決することにある
。
金電気めっきにおける上記問題点を解決することにある
。
上記目的は、所望の合金組成の亜鉛−ニッケル合金を電
着するのに充分な量の亜鉛イオンおよび二・ンケルイオ
ンを含有する硫酸塩タイプの本発明による水溶液型酸性
亜鉛−ニッケル合金電気めっき液を用いることにより達
成される。このめっき液は、電気めっき皮膜の微粒子化
に有効な量のポリオキシアルキレン化合物またはその末
端基置換誘導体であって浴に可溶なものをさらに含んで
いてもよい。
着するのに充分な量の亜鉛イオンおよび二・ンケルイオ
ンを含有する硫酸塩タイプの本発明による水溶液型酸性
亜鉛−ニッケル合金電気めっき液を用いることにより達
成される。このめっき液は、電気めっき皮膜の微粒子化
に有効な量のポリオキシアルキレン化合物またはその末
端基置換誘導体であって浴に可溶なものをさらに含んで
いてもよい。
このめっき液は、
(a)芳香族スルホンアミド
(その塩であって浴に可溶かつ共存可能なもの、および
それらの混合物を含む) (b)アセチレンアルコール からなる群から選ばれた添加剤のいずれかを含有する。
それらの混合物を含む) (b)アセチレンアルコール からなる群から選ばれた添加剤のいずれかを含有する。
添加剤(a)および(b)は、電気めっき皮膜に延性を
与えるのに有効な量だけ、硫酸塩タイプのめつき液中に
添加される。典型的には、添加剤(りおよび(b)の量
が約o.oooiモル/l以上であるとき、硫酸塩タイ
プのめっき液による電気めっき皮膜の延性向上が達成さ
れる。
与えるのに有効な量だけ、硫酸塩タイプのめつき液中に
添加される。典型的には、添加剤(りおよび(b)の量
が約o.oooiモル/l以上であるとき、硫酸塩タイ
プのめっき液による電気めっき皮膜の延性向上が達成さ
れる。
上記成分のほかに、本発明のめっき液は、装飾的な光沢
外観を有する亜鉛−ニッケル合金皮膜を電着するのに有
効な二次光沢剤や補助光沢剤を含んでいてもよい。また
、めっき液のp)(を約0からほぼ中性、望ましくは約
2〜6の範囲で安定させるため、周知の緩衝剤を含有さ
せてもよい。
外観を有する亜鉛−ニッケル合金皮膜を電着するのに有
効な二次光沢剤や補助光沢剤を含んでいてもよい。また
、めっき液のp)(を約0からほぼ中性、望ましくは約
2〜6の範囲で安定させるため、周知の緩衝剤を含有さ
せてもよい。
以下、本発明によるめっき液について更に具体的に説明
する。
する。
本発明による水溶液型酸性亜鉛−ニッケル合金電気めっ
き液は、亜鉛電着に有効な量の亜鉛イオンを含有する水
溶液からなり、亜鉛濃度は通常lOg/lから飽和まで
、より普通には約15〜225g/lである。
き液は、亜鉛電着に有効な量の亜鉛イオンを含有する水
溶液からなり、亜鉛濃度は通常lOg/lから飽和まで
、より普通には約15〜225g/lである。
はとんどの場合、亜鉛イオンの濃度は約20〜200g
/ (tの範囲に調節される。亜鉛イオンの最高濃度
は、めっき液の温度によって異なり、温度が高ければ高
い濃度を採用することができる。
/ (tの範囲に調節される。亜鉛イオンの最高濃度
は、めっき液の温度によって異なり、温度が高ければ高
い濃度を採用することができる。
亜鉛イオンは可溶性硫酸塩の形で、硫酸と共に、めっき
液中に導入される。通常、亜鉛−ニッケル合金電気めっ
き液のpHは約0〜7の範囲に調節され、好ましいpH
は2〜6である。
液中に導入される。通常、亜鉛−ニッケル合金電気めっ
き液のpHは約0〜7の範囲に調節され、好ましいpH
は2〜6である。
本発明のめっき液は、亜鉛イオンとともに一定量のニッ
ケルイオンを含有する。ニッケルイオンは、浴可溶硫酸
塩の形でめっき液中に導入される。約0.1〜約30重
量%のニッケルを含有する亜鉛−ニッケル合金皮膜を得
るためには、ニッケルイオン濃度を通常約0.5g/l
〜120 g/lとする。亜鉛−ニッケル合金皮膜の好
ましいニッケル含有量は、約3〜約15重量%である。
ケルイオンを含有する。ニッケルイオンは、浴可溶硫酸
塩の形でめっき液中に導入される。約0.1〜約30重
量%のニッケルを含有する亜鉛−ニッケル合金皮膜を得
るためには、ニッケルイオン濃度を通常約0.5g/l
〜120 g/lとする。亜鉛−ニッケル合金皮膜の好
ましいニッケル含有量は、約3〜約15重量%である。
装飾亜鉛−ニッケル合金皮膜の場合、めっき液中のニッ
ケルイオンに対する亜鉛イオンの重量比を約2.5より
も低く保つことが望ましい。亜鉛−ニッケル合金電気め
っき液使用中に亜鉛イオンおよびニッケルイオンを補充
するには、電解中にめっき液に徐々に溶解する亜鉛金属
陽極、ニッケル金属陽極または亜鉛−ニッケル合金陽極
を用いればよい。作業中の濃度調整は、前記めっき液建
浴用の亜鉛塩およびニッケル塩を補充添加して行うこ七
もできる。
ケルイオンに対する亜鉛イオンの重量比を約2.5より
も低く保つことが望ましい。亜鉛−ニッケル合金電気め
っき液使用中に亜鉛イオンおよびニッケルイオンを補充
するには、電解中にめっき液に徐々に溶解する亜鉛金属
陽極、ニッケル金属陽極または亜鉛−ニッケル合金陽極
を用いればよい。作業中の濃度調整は、前記めっき液建
浴用の亜鉛塩およびニッケル塩を補充添加して行うこ七
もできる。
本発明の亜鉛−ニッケル合金電気めっき液は、亜鉛イオ
ンおよびニッケルイオンのほかに、添加剤として芳香族
スルホンアミドまたは(および)アセチレンアルコール
を含む。その好ましい具体例は次のとおりである。
ンおよびニッケルイオンのほかに、添加剤として芳香族
スルホンアミドまたは(および)アセチレンアルコール
を含む。その好ましい具体例は次のとおりである。
(a)芳香族スルホンアミド
式中、XはH1炭素数1〜6のアルキル、炭素数6〜1
0のアリール(フェニル環に隣接していてもよい)、炭
素数7〜22のアルキルアリール、OH1ハロケン、C
HO1炭素数1〜4のアルコキシ、炭素数1〜6のカル
ボキシ、炭素数1〜6のヒドロキシアルキルまたは炭素
数1〜6のスルホアルキル;YはH1炭素数1〜6のア
ルキル、OH,SO3M。
0のアリール(フェニル環に隣接していてもよい)、炭
素数7〜22のアルキルアリール、OH1ハロケン、C
HO1炭素数1〜4のアルコキシ、炭素数1〜6のカル
ボキシ、炭素数1〜6のヒドロキシアルキルまたは炭素
数1〜6のスルホアルキル;YはH1炭素数1〜6のア
ルキル、OH,SO3M。
またはフェニル;QはH1炭素数1〜3のアルキル、炭
素数1〜6のスルホアルキルまたは炭素数1〜6のヒド
ロキシアルキル;MはHSNH,、亜鉛、ニッケルまた
はIA族および■族の金属:ZはHまたはQを表す。
素数1〜6のスルホアルキルまたは炭素数1〜6のヒド
ロキシアルキル;MはHSNH,、亜鉛、ニッケルまた
はIA族および■族の金属:ZはHまたはQを表す。
1l−
(b)アセチレンアルコール
R2R2
R,−(C)m−C=C−(C)n−0−Rt
(II)R3R3 式中、 mはO〜4の整数: nは1〜4の整数: R1は、mがOのときHまたは炭素数1〜6のアルキル
、mが0よりも大きいとき一〇−R,;R2およびR3
は、H1炭素数1〜4のアルキルまたはスルホアルキル
; R2はHまたは−(CHz CHO)p H;■ ただし、pは1〜4の整数;R5はHまたは炭素数1〜
2のアルキル。
(II)R3R3 式中、 mはO〜4の整数: nは1〜4の整数: R1は、mがOのときHまたは炭素数1〜6のアルキル
、mが0よりも大きいとき一〇−R,;R2およびR3
は、H1炭素数1〜4のアルキルまたはスルホアルキル
; R2はHまたは−(CHz CHO)p H;■ ただし、pは1〜4の整数;R5はHまたは炭素数1〜
2のアルキル。
使用可能な添加剤の代表的なものを第1表に示す。
第1表 添加剤
(a)芳香族スルホンアミド
ベンゼンスルホンアミド
トルエンスルホンアミド
(b)アセチレンアルコール
3−メチルl−ブチン−3−アール
HC三CC(CH3)20(CH2CH,0)2H(3
−メチル1−ブチン−3−アールのエチレンオキサイド
付加物) ブチンジオール HOCH2CH20CH2C−CCH20CH2CH2
OH(ブチンジオールのエチレンオキサイド付加物)H
OCH,C=CCR20CH2CH2OHプロパルギル
アルコール HC−CCH20CH,CH2OH (フロパルギルアルコールのエチレンオキサイド付加物
) HCi≡CCH2OCH2CH(CH3)OH(プロパ
ルギルアルコールのプロピレンオキサイド付加物) ヘキシンジオール (a)群添加剤としては、上記のものほかに、代表的な
ものとして、ベンゼンジスルホンアミド、ナフタレンス
ルホンアミド(アルファ、ベータ)、p−トルエンスル
ホフロラミド、p−ブロモベンゼンスルホンアミド、p
−安息香酸スルホンアミド、安息香酸スルホンジクロル
アミド(o、p)、p−1−ルエンスルホンクロルアミ
ド、p、p−ジフェニルジスルホンアミド、ベンゼンm
−ジスルホンアミド、m−7オルミルベンゼンスルホン
アミドスルホメチルベンゼンスルホンアミド、メトキシ
ベンゼンスルホンアミド、ヒドロキシメチルベンゼンス
ルホンアミド、p−クロロベンゼンスルホンアミドなど
がある。
−メチル1−ブチン−3−アールのエチレンオキサイド
付加物) ブチンジオール HOCH2CH20CH2C−CCH20CH2CH2
OH(ブチンジオールのエチレンオキサイド付加物)H
OCH,C=CCR20CH2CH2OHプロパルギル
アルコール HC−CCH20CH,CH2OH (フロパルギルアルコールのエチレンオキサイド付加物
) HCi≡CCH2OCH2CH(CH3)OH(プロパ
ルギルアルコールのプロピレンオキサイド付加物) ヘキシンジオール (a)群添加剤としては、上記のものほかに、代表的な
ものとして、ベンゼンジスルホンアミド、ナフタレンス
ルホンアミド(アルファ、ベータ)、p−トルエンスル
ホフロラミド、p−ブロモベンゼンスルホンアミド、p
−安息香酸スルホンアミド、安息香酸スルホンジクロル
アミド(o、p)、p−1−ルエンスルホンクロルアミ
ド、p、p−ジフェニルジスルホンアミド、ベンゼンm
−ジスルホンアミド、m−7オルミルベンゼンスルホン
アミドスルホメチルベンゼンスルホンアミド、メトキシ
ベンゼンスルホンアミド、ヒドロキシメチルベンゼンス
ルホンアミド、p−クロロベンゼンスルホンアミドなど
がある。
(a)群および(b)群の化合物は、硫酸塩タイプのめ
っき液において電気めっき皮膜の延性を向上させるのに
有効であり、それにより鋼等の素地上のめっき皮膜の微
細なりラックを実質的に無くし、耐食性を向上させる。
っき液において電気めっき皮膜の延性を向上させるのに
有効であり、それにより鋼等の素地上のめっき皮膜の微
細なりラックを実質的に無くし、耐食性を向上させる。
この目的のためには、(a)群および(b)群の化合物
は約0.0001モル/iの低濃度でも有効なことが観
察された。0.1モル/lもの高濃度にしても差支えな
いが、もっと低い濃度で充分な延性向上が達成されるの
で、経済性を考慮すると、通常は約0、001〜約0.
01モル/lの範囲の濃度にすることが望ましい。
は約0.0001モル/iの低濃度でも有効なことが観
察された。0.1モル/lもの高濃度にしても差支えな
いが、もっと低い濃度で充分な延性向上が達成されるの
で、経済性を考慮すると、通常は約0、001〜約0.
01モル/lの範囲の濃度にすることが望ましい。
本発明のめっき液は、上述の必須成分のほかにキャリヤ
ー光沢剤としてポリオキシアルキレン化合物を、亜鉛−
ニッケル合金電気めっき皮膜の粒子を細かくし補助的光
沢剤がない状態において少なくとも半光沢外観のめっき
皮膜を得るのに充分な量だけ含有してもよい。この目的
のためには、ポリオキシアルキレン化合物は約0.OO
5g/lという微量から飽和量までを用いることができ
るが、約0.1〜2 0 0 g/Lの濃度で用いるこ
とが望ましい。典型的には、ポリオキシアルキレン化合
物の濃度は約0.02〜約2 0 g/IIの範囲にあ
り、濃度約0.02〜約5g/lが多くの用途において
望ましい。
ー光沢剤としてポリオキシアルキレン化合物を、亜鉛−
ニッケル合金電気めっき皮膜の粒子を細かくし補助的光
沢剤がない状態において少なくとも半光沢外観のめっき
皮膜を得るのに充分な量だけ含有してもよい。この目的
のためには、ポリオキシアルキレン化合物は約0.OO
5g/lという微量から飽和量までを用いることができ
るが、約0.1〜2 0 0 g/Lの濃度で用いるこ
とが望ましい。典型的には、ポリオキシアルキレン化合
物の濃度は約0.02〜約2 0 g/IIの範囲にあ
り、濃度約0.02〜約5g/lが多くの用途において
望ましい。
ポリオキシアルキレン化合物は、非イオン性のものに限
らず、イオン性のものでもよい。さらに、めっき液に可
溶の末端置換誘導体およびそれらの混合物からなるもの
であってもよい。本発明の実施に使用可能な代表的非イ
オン性ポリオキシアルキレン化合物は、−またはそれ以
上のアルキレンオキサイド(炭素数1〜4のもの)と他
の化合物との縮合共重合体(上記他の化合物1モル当り
約10〜約70モルのアルキレンオキサイドを含む)で
ある。上記他の化合物(アルコキシル化されていてもよ
い)の例としては、直鎖アルコール、脂肪族−価アルコ
ール、脂肪族多価アルコール、アセチレン七ノまたはポ
リオール、フェノールアルコール等のアルコール類;脂
肪酸:脂肪族アミド:アルキルフェノール;アルキルナ
フトール:脂肪族アミン(モノアミンおよびポリアミン
のいずれでもよい)などがある。
らず、イオン性のものでもよい。さらに、めっき液に可
溶の末端置換誘導体およびそれらの混合物からなるもの
であってもよい。本発明の実施に使用可能な代表的非イ
オン性ポリオキシアルキレン化合物は、−またはそれ以
上のアルキレンオキサイド(炭素数1〜4のもの)と他
の化合物との縮合共重合体(上記他の化合物1モル当り
約10〜約70モルのアルキレンオキサイドを含む)で
ある。上記他の化合物(アルコキシル化されていてもよ
い)の例としては、直鎖アルコール、脂肪族−価アルコ
ール、脂肪族多価アルコール、アセチレン七ノまたはポ
リオール、フェノールアルコール等のアルコール類;脂
肪酸:脂肪族アミド:アルキルフェノール;アルキルナ
フトール:脂肪族アミン(モノアミンおよびポリアミン
のいずれでもよい)などがある。
このタイプのポリオキシアルキレン化合物で好ましいも
のの代表例には、次のようなものがある。
のの代表例には、次のようなものがある。
A.下記構造式を有する、アルキレンオキサイドと直鎖
アルコールどの非イオン性共重合体:C H 3 (
C H z)X C H s0、−(CH2−CI(
20)n−H 式中、Xは9〜15の整数、nは10〜50の整数であ
る。
アルコールどの非イオン性共重合体:C H 3 (
C H z)X C H s0、−(CH2−CI(
20)n−H 式中、Xは9〜15の整数、nは10〜50の整数であ
る。
B.下記構造式を有する、アルキレンオキサイドとフェ
ノールアルコールとの非イオン性共重合体:H (C
H2)X A r−0 (C H 2C H2O)nC
H 2C H 20 H式中、Arはベンゼン環、X
は6〜15の整数、nは10〜50の整数である。
ノールアルコールとの非イオン性共重合体:H (C
H2)X A r−0 (C H 2C H2O)nC
H 2C H 20 H式中、Arはベンゼン環、X
は6〜15の整数、nは10〜50の整数である。
C.エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、グリ
シドール、ブチレンオキサイ下およびそれらの混合物か
らなる群から選ばれたアルキレンオキサイドの非イオン
性ホモポリマー。
シドール、ブチレンオキサイ下およびそれらの混合物か
らなる群から選ばれたアルキレンオキサイドの非イオン
性ホモポリマー。
D.本発明において使用可能な非イオン性ポリオキシア
ルキレン化合物の具体例としては、アルキルフェノール
(たとえばノニルフェノール)、アルキルナフトール、
脂肪族−価アルコール、ヘキシンジオールおよびデシン
ジオール、エチレンジアミン、テトラエタノール、脂肪
酸、脂肪族アルカノールアミド(たとえばココナツツ脂
肪酸のアミド)、またはエステル(たとえばソルヒタン
モノバルミテート)の、各アルコキシル化物がある。
ルキレン化合物の具体例としては、アルキルフェノール
(たとえばノニルフェノール)、アルキルナフトール、
脂肪族−価アルコール、ヘキシンジオールおよびデシン
ジオール、エチレンジアミン、テトラエタノール、脂肪
酸、脂肪族アルカノールアミド(たとえばココナツツ脂
肪酸のアミド)、またはエステル(たとえばソルヒタン
モノバルミテート)の、各アルコキシル化物がある。
上述の非イオン性ポリオキシアルキレン化合物の代わり
に、浴に可溶の末端置換ポリオキシアルキレン化合物す
なわち (1)エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、グ
リシドール、ブチレンオキサイドおよびこれらの混合物
からなる群から選はれたアルキレンオキサイドの重合物
; および (2)水酸基を有するアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アリールおよびこれらの混合物からなる群から選ば
れたモノおよびポリヒドロキシ化合物のアルコキシル化
物: の硫酸化、アミノ化、リン酸処理、塩素化、臭素化、ホ
スホン化、スルホン化、カルボキシル化、およびこれら
の組合せにより得られるものを用いることもできる。
に、浴に可溶の末端置換ポリオキシアルキレン化合物す
なわち (1)エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、グ
リシドール、ブチレンオキサイドおよびこれらの混合物
からなる群から選はれたアルキレンオキサイドの重合物
; および (2)水酸基を有するアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アリールおよびこれらの混合物からなる群から選ば
れたモノおよびポリヒドロキシ化合物のアルコキシル化
物: の硫酸化、アミノ化、リン酸処理、塩素化、臭素化、ホ
スホン化、スルホン化、カルボキシル化、およびこれら
の組合せにより得られるものを用いることもできる。
ポリオキシアルキレン化合物の分子量は、添加剤をめっ
き液中に所望の濃度で溶解させることができるように調
節する。また末端置換化合物は、置換度および分子中の
反応性水酸基の数に応じて、分子上に1個の末端置換基
を有していてもよく、2以上の末端置換基を有していて
もよい。
き液中に所望の濃度で溶解させることができるように調
節する。また末端置換化合物は、置換度および分子中の
反応性水酸基の数に応じて、分子上に1個の末端置換基
を有していてもよく、2以上の末端置換基を有していて
もよい。
上述のポリオキシアルキレンキャリヤー光沢剤と共に、
あるいはその代わりに、他の高分子キャリヤー光沢剤を
本発明の亜鉛−ニッケル合金電気めっき液に含有させる
ことができる。使用可能な高分子キャリヤー光沢剤は、
米国特許第4,401,526号、同4,425.19
8号および同4,488,942号に開示されており、
その教示は参考文献としてここに引用する。
あるいはその代わりに、他の高分子キャリヤー光沢剤を
本発明の亜鉛−ニッケル合金電気めっき液に含有させる
ことができる。使用可能な高分子キャリヤー光沢剤は、
米国特許第4,401,526号、同4,425.19
8号および同4,488,942号に開示されており、
その教示は参考文献としてここに引用する。
上述の成分のほかに、本発明のめっき液には、緩衝剤の
ような補助的添加物および浴改質剤(たとえばホウ酸、
酢酸、クエン酸、安息香酸、サリチル酸、これらの酸の
浴に可溶かつ共存可能な塩)を、必要に応じて含有させ
ることができる。さらに、めっき液の電導度を高めるた
め、電導性塩を含有させることができ、その適当な濃度
は約20〜約450 g/lである。その場合に用いる
ことができる電導性塩は、用いるめっき液のタイプに応
して、塩化物または硫酸塩の形のアルカリ金属塩および
アンモニウム塩が代表的なものである。その具体例とし
ては、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、臭化アン
モニウム、硫酸マクネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カ
リウム、塩化ナトリウム、塩化カリウムなとがある。
ような補助的添加物および浴改質剤(たとえばホウ酸、
酢酸、クエン酸、安息香酸、サリチル酸、これらの酸の
浴に可溶かつ共存可能な塩)を、必要に応じて含有させ
ることができる。さらに、めっき液の電導度を高めるた
め、電導性塩を含有させることができ、その適当な濃度
は約20〜約450 g/lである。その場合に用いる
ことができる電導性塩は、用いるめっき液のタイプに応
して、塩化物または硫酸塩の形のアルカリ金属塩および
アンモニウム塩が代表的なものである。その具体例とし
ては、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、臭化アン
モニウム、硫酸マクネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カ
リウム、塩化ナトリウム、塩化カリウムなとがある。
前述の必須成分を含有する亜鉛−ニッケル合金電気めっ
き液は、半光沢外観のめつき皮膜を与える。半光沢外観
は、通常、機能めっきまたは工業用めっき皮膜には充分
なものである。完全光沢すなわち鏡面外観の装飾めっき
を必要とする場合は、めっき液中に二次光沢剤および/
ままたは補助光沢剤も含有させることが望ましい。二次
光沢剤は、めっき皮膜に鏡面光沢を与えるのに充分な量
から浴に対するその最大溶解度まで添加することができ
る。望ましくは、これらの二次光沢剤はめっき液中に約
0.01〜約2g/11含有させる。
き液は、半光沢外観のめつき皮膜を与える。半光沢外観
は、通常、機能めっきまたは工業用めっき皮膜には充分
なものである。完全光沢すなわち鏡面外観の装飾めっき
を必要とする場合は、めっき液中に二次光沢剤および/
ままたは補助光沢剤も含有させることが望ましい。二次
光沢剤は、めっき皮膜に鏡面光沢を与えるのに充分な量
から浴に対するその最大溶解度まで添加することができ
る。望ましくは、これらの二次光沢剤はめっき液中に約
0.01〜約2g/11含有させる。
二次光沢剤として使用可能な芳香族アルデヒドまたは芳
香族ケトンの代表的な例としては、アリールアルデヒド
およびアリールケトン、環ハロゲン化アリールアルデヒ
ドおよびアリールケトン、複素環式アルデヒドおよびケ
トンがある。使用可能なものの具体例としては、0−ク
ロロベンズアルデヒド、p−クロロベンズアルデヒド、
ベンジルメチルケトン、フェニルエチルケトン、シンナ
ムアルデヒド、ベンザルアセトン、チオフェンアルデヒ
ド、フルフラール−5−ヒドロキシメチルフルフラール
、フルフリリデンアセトン、フルフルアルデヒド、4−
(2−フルル)−3−ブテン−2−オン等がある。
香族ケトンの代表的な例としては、アリールアルデヒド
およびアリールケトン、環ハロゲン化アリールアルデヒ
ドおよびアリールケトン、複素環式アルデヒドおよびケ
トンがある。使用可能なものの具体例としては、0−ク
ロロベンズアルデヒド、p−クロロベンズアルデヒド、
ベンジルメチルケトン、フェニルエチルケトン、シンナ
ムアルデヒド、ベンザルアセトン、チオフェンアルデヒ
ド、フルフラール−5−ヒドロキシメチルフルフラール
、フルフリリデンアセトン、フルフルアルデヒド、4−
(2−フルル)−3−ブテン−2−オン等がある。
本発明のめっき液は、上述の二次光沢剤使用の有無にか
かわらず、低電流密度部用の補助光沢剤を含有させても
よい。適当な補助光沢剤は、炭素、数約1〜約6のアル
キル基を有する低級アルキルカルボン酸およびその浴可
溶性塩である。酸そのものも浴可溶性塩も使用可能では
あるが、多くの場合、ナトリウム塩、カリウム塩または
アンモニウム塩が好ましい。本発明において特に好まし
い補助光沢剤は、酢酸ナトリウムである。典型的には、
補助光沢剤は約0.5〜20g/IIの範囲で用いるが
、約1〜10g/fiが特に好ましい。
かわらず、低電流密度部用の補助光沢剤を含有させても
よい。適当な補助光沢剤は、炭素、数約1〜約6のアル
キル基を有する低級アルキルカルボン酸およびその浴可
溶性塩である。酸そのものも浴可溶性塩も使用可能では
あるが、多くの場合、ナトリウム塩、カリウム塩または
アンモニウム塩が好ましい。本発明において特に好まし
い補助光沢剤は、酢酸ナトリウムである。典型的には、
補助光沢剤は約0.5〜20g/IIの範囲で用いるが
、約1〜10g/fiが特に好ましい。
本発明のめっき液をpt+範囲の上限たとえばpH約7
〜約8で使用する場合は、亜鉛および/またはニッケル
の沈殿を防ぐため、適当な錯化剤を浴に含有させたほう
がよい場合がある。亜鉛および/またはニッケルに適当
な錯化剤は、いずれも、浴から亜鉛よび/またはニッケ
ルが沈殿するのを防止するのに充分な量だけ用いること
ができる。使用可能な錯化剤の代表例は、エチレンジア
ミン四酢酸、ジエチレンテトラミン五酢酸およびQ u
a’drol (N 、N 、N 、N−テトラキス(
2−ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン)でアル。
〜約8で使用する場合は、亜鉛および/またはニッケル
の沈殿を防ぐため、適当な錯化剤を浴に含有させたほう
がよい場合がある。亜鉛および/またはニッケルに適当
な錯化剤は、いずれも、浴から亜鉛よび/またはニッケ
ルが沈殿するのを防止するのに充分な量だけ用いること
ができる。使用可能な錯化剤の代表例は、エチレンジア
ミン四酢酸、ジエチレンテトラミン五酢酸およびQ u
a’drol (N 、N 、N 、N−テトラキス(
2−ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン)でアル。
本発明の亜鉛−ニッケル合金電気めっきは、室温(15
°C)から約82°Cまで、典型的には約21℃から約
60°Cまでの温度範囲で、導電性素地に亜鉛−ニッケ
ル合金電気めっきを施すのに使われる。亜鉛−ニッケル
合金の電気めっきは、約0.1〜約220A/dm2ま
たはそれ以上の平均陰極電流密度で行われる。機能性硫
酸塩タイプめっき液の場合は、平均陰極電流密度を約2
〜220A/dm2とする。めっきの間じゅう、浴すな
わちめっき液を機械的に、または液循環により、あるい
は被処理物を移動させることによって、攪拌することが
望ましい。本発明のめっき液は、ラックめっきおよびバ
レルめっきの両方に使用することができる。
°C)から約82°Cまで、典型的には約21℃から約
60°Cまでの温度範囲で、導電性素地に亜鉛−ニッケ
ル合金電気めっきを施すのに使われる。亜鉛−ニッケル
合金の電気めっきは、約0.1〜約220A/dm2ま
たはそれ以上の平均陰極電流密度で行われる。機能性硫
酸塩タイプめっき液の場合は、平均陰極電流密度を約2
〜220A/dm2とする。めっきの間じゅう、浴すな
わちめっき液を機械的に、または液循環により、あるい
は被処理物を移動させることによって、攪拌することが
望ましい。本発明のめっき液は、ラックめっきおよびバ
レルめっきの両方に使用することができる。
亜鉛およびニッケルを陽極として用いる場合、使用中の
めっき液に含まれている亜鉛イオンおよびニッケルイオ
ンを所望量だけ置換するために、それらの陽極の表面積
比を変えることができる。一般に、亜鉛陽極対ニッケル
陽極表面積比を約9対1にすることが、めっき液中の亜
鉛イオンおよびニッケルイオンを好ましい濃度に保つの
に有効なことがわかっている。
めっき液に含まれている亜鉛イオンおよびニッケルイオ
ンを所望量だけ置換するために、それらの陽極の表面積
比を変えることができる。一般に、亜鉛陽極対ニッケル
陽極表面積比を約9対1にすることが、めっき液中の亜
鉛イオンおよびニッケルイオンを好ましい濃度に保つの
に有効なことがわかっている。
本発明によれば、硫酸塩タイプ亜鉛−ニッケル合金めっ
きにおけるめっき皮膜の延性が改善され、従来のめっき
液による場合よりも耐食性のよいめっき皮膜が得られる
。
きにおけるめっき皮膜の延性が改善され、従来のめっき
液による場合よりも耐食性のよいめっき皮膜が得られる
。
本発明のめっき液組成およびそれを用いるめっき法を更
に説明するため、以下に実施例を示す。しかしながら、
これは単なる例示であって、上述のような本発明の範囲
を限定しようとするものではない。
に説明するため、以下に実施例を示す。しかしながら、
これは単なる例示であって、上述のような本発明の範囲
を限定しようとするものではない。
実施例 1
硫酸塩タイプの水性めっき液を調製した。組成は、硫酸
ニッケル六水和物60g/l、硫酸亜鉛−水和物64
g/l 、緩衝剤としてのホウ酸32 g/l 、硫酸
アンモニウム30g/υ、任意添加物質であるキャリヤ
ー光沢剤としてのポリアクリルアミド(亜鉛−ニッケル
合金機能めっき用硫酸塩タイプめっき液に好んで使われ
る) 0.06 g/i 、および添加剤としてのベン
ゼンスルホンアミドo、3g/lである。
ニッケル六水和物60g/l、硫酸亜鉛−水和物64
g/l 、緩衝剤としてのホウ酸32 g/l 、硫酸
アンモニウム30g/υ、任意添加物質であるキャリヤ
ー光沢剤としてのポリアクリルアミド(亜鉛−ニッケル
合金機能めっき用硫酸塩タイプめっき液に好んで使われ
る) 0.06 g/i 、および添加剤としてのベン
ゼンスルホンアミドo、3g/lである。
上記めっき液中で、空気吹込みによる攪拌下、pi−1
を4.5、温度を約28°Cに調節しながら、亜鉛陽極
を用いて鋼鉄製J−パネルをめっきした。平均電流布度
は4.3A/dm”とした。
を4.5、温度を約28°Cに調節しながら、亜鉛陽極
を用いて鋼鉄製J−パネルをめっきした。平均電流布度
は4.3A/dm”とした。
得られためっき済パネルは、高電流密度部において、全
光沢かつ延性のよい亜鉛−ニッケル合金皮膜を有し、3
.2wk%のニッケルを含有していた。
光沢かつ延性のよい亜鉛−ニッケル合金皮膜を有し、3
.2wk%のニッケルを含有していた。
実施例 2
硫酸塩タイプの水性亜鉛−ニッケル合金めっき液を調製
した。組成は硫酸ニッケル六水和物255g/II。
した。組成は硫酸ニッケル六水和物255g/II。
硫酸亜鉛−水和物175g/fi、ホウ酸28g/l。
硫酸アンモニウム11 g/II 、ポリアクリルアミ
ド0.025 g/l 、および添加剤としてのp−ト
ルエンスルホンアミド1.0 g/lである。
ド0.025 g/l 、および添加剤としてのp−ト
ルエンスルホンアミド1.0 g/lである。
上記めっき液中で、空気吹込みによる攪拌下、pHを4
.5、温度を28°Cに調節しながら、亜鉛陽極を用い
て鋼鉄製J−パネルをめっきした。平均電流密度は4.
3A/dm2とした。得られた亜鉛−ニッケル合金皮膜
は全光沢かつ延性を有し、4.5w1%のニッケルを含
有していた。
.5、温度を28°Cに調節しながら、亜鉛陽極を用い
て鋼鉄製J−パネルをめっきした。平均電流密度は4.
3A/dm2とした。得られた亜鉛−ニッケル合金皮膜
は全光沢かつ延性を有し、4.5w1%のニッケルを含
有していた。
比較のため、p−トルエンスルホンアミドを含まないほ
かは全く同様の浴組成、作業条件で試験をした結果、4
.31FL%のニッケルを含有し光沢のあるめっき皮膜
が得られたが、折曲げ試験で多くのクランクを生じ、延
性の劣るものであった。
かは全く同様の浴組成、作業条件で試験をした結果、4
.31FL%のニッケルを含有し光沢のあるめっき皮膜
が得られたが、折曲げ試験で多くのクランクを生じ、延
性の劣るものであった。
実施例 3
硫酸亜鉛−水和物59g/II、硫酸ニッケル七水和物
271g八、および添加剤としてのブチンジオールo、
osg/Aの、硫酸塩タイプ水性めっき液を調製した。
271g八、および添加剤としてのブチンジオールo、
osg/Aの、硫酸塩タイプ水性めっき液を調製した。
このめっき液を、pH約1、温度的49〜54℃に調節
した。
した。
直径0.635cmの鋼棒を陰極にして、回転数460
Orpm、表面速度的91.4m/winで回転させ
ながら、平均電流密度108A/dm2でめっきした。
Orpm、表面速度的91.4m/winで回転させ
ながら、平均電流密度108A/dm2でめっきした。
めっき槽′には鉛陽極を使用した。光沢、延性、共に良
好でニッケルを18.1vj%含有する亜鉛−ニッケル
合金皮膜が得られた。めっき液に添加剤・ブチンジオー
ルを含有させないほかは同じ条件で、試験を繰返した。
好でニッケルを18.1vj%含有する亜鉛−ニッケル
合金皮膜が得られた。めっき液に添加剤・ブチンジオー
ルを含有させないほかは同じ条件で、試験を繰返した。
ニッケルを15.5vt%含有する光沢良好な皮膜が得
られたが、延性の劣るものであった。
られたが、延性の劣るものであった。
実施例 4
添加剤がo、o5g/lのプロパルギルアルコールであ
るほかは実施例3と同様のめっき液を調製した。
るほかは実施例3と同様のめっき液を調製した。
実施例3と同様の条件で、回転する鋼棒陰極をめっきし
、同様の亜鉛−ニッケル合金皮膜にッケル含量24.7
wt%)を得た。比較のため、同様の、但し添加剤・プ
ロパルギルアルコールを含まないめっき液を用いて第二
の試験を行なったところ、同様の光沢を有する皮膜にッ
ケル含有量17.1wL%)が得られたが、延性の劣る
ものであった。
、同様の亜鉛−ニッケル合金皮膜にッケル含量24.7
wt%)を得た。比較のため、同様の、但し添加剤・プ
ロパルギルアルコールを含まないめっき液を用いて第二
の試験を行なったところ、同様の光沢を有する皮膜にッ
ケル含有量17.1wL%)が得られたが、延性の劣る
ものであった。
以上開示した本発明の好ましい態様がさきに述べた本発
明の目的を十分達成するものであることは明白であるが
、本発明には、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で種々
の改変が有り得ること、いうまでもない。
明の目的を十分達成するものであることは明白であるが
、本発明には、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で種々
の改変が有り得ること、いうまでもない。
Claims (28)
- (1)亜鉛−ニッケル合金を電着するのに充分な量の亜
鉛イオンおよびニッケルイオンを含有する、素地上に亜
鉛−ニッケル合金電気めっきを施すための硫酸塩タイプ
の水性電気めっき液において、添加剤として、電気めっ
き皮膜に延性を与えるのに有効な量の下記(a)および
(b)からなる群より選ばれた化合物の一種以上を含有
することを特徴とする亜鉛−ニッケル合金電気めっき液
: (a)芳香族スルホンアミド (b)アセチレンアルコール。 - (2)亜鉛イオン含有量が約10g/lから飽和までで
ある特許請求の範囲第1項記載のめっき液。 - (3)亜鉛イオン含有量が約15〜約225g/lであ
る特許請求の範囲第1項記載のめっき液。 - (4)亜鉛イオン含有量が約20〜約200g/lであ
る特許請求の範囲第1項記載のめっき液。 - (5)ニッケルイオン含有量が約0.5〜約120g/
lである特許請求の範囲第1項記載のめっき液。 - (6)亜鉛イオン含有量およびニッケルイオン含有量が
、ニッケル含有率約3〜約15重量%の亜鉛−ニッケル
合金電気めっきを与える量である特許請求の範囲第1項
記載のめっき液。 - (7)電気めっき皮膜の粒子を微細化するのに有効な量
のキャリヤー光沢剤を含有する特許請求の範囲第1項記
載のめっき液。 - (8)添加剤(a)および(b)の含有量が約0.00
01モル/l以上である特許請求の範囲第1項記載のめ
つき液。 - (9)添加剤(a)および(b)の含有量が約0.00
1〜約0.01モル/lである特許請求の範囲第8項記
載のめっき液。 - (10)添加剤(a)および(b)の含有量が約0.0
01〜約0.1モル/lである特許請求の範囲第1項記
載のめっき液。 - (11)添加剤(a)および(b)の含有量が約0.0
1モル/l以上である特許請求の範囲第10項記載のめ
っき液。 - (12)キャリヤー光沢剤が含有量約0.005g/l
から飽和までのポリオキシアルキレン化合物からなる特
許請求の範囲第7項記載のめっき液。 - (13)キャリヤー光沢剤が含有量約0.1〜約200
g/lのポリオキシアルキレン化合物からなる特許請求
の範囲第7項記載のめっき液 - (14)キャリヤー光沢剤が含有量約0.001g/l
以上めっき液中における溶解度限界までのポリアクリル
アミド化合物およびそのN−置換誘導体からなる特許請
求の範囲第7項記載のめっき液。 - (15)キャリヤー光沢剤が含有量約0.1〜約5g/
lのポリアクリルアミド化合物およびそのN−置換誘導
体からなる特許請求の範囲第7項記載のめっき液。 - (16)pHを約0から中性にする水素イオンを含有す
る特許請求の範囲第1項記載のめっき液。 - (17)pHを約2から約6にする水素イオンを含有す
る特許請求の範囲第1項記載のめっき液。 - (18)緩衝剤を含有する特許請求の範囲第1項記載の
めっき液。 - (19)電気めっき皮膜に光沢を与えるのに有効な量の
二次光沢剤を含有する特許請求の範囲第1項記載のめっ
き液。 - (20)約0.01〜約2g/lの二次光沢剤を含有す
る特許請求の範囲第1項記載のめっき液。 - (21)低電流密度領域の電気めっき皮膜に光沢を与え
るのに有効な量の補助光沢剤を含有する特許請求の範囲
第1項記載のめっき液。 - (22)補助光沢剤含有量が約0.5〜約20g/lで
ある特許請求の範囲第21項記載のめっき液。 - (23)補助光沢剤含有量が約1〜約10g/lである
特許請求の範囲第21項記載のめっき液。 - (24)めっき液に可溶かつ共存可能な電導性塩約45
0g/lまでを含有する特許請求の範囲第1項記載のめ
っき液。 - (25)溶液中に亜鉛イオンおよびニッケルイオンの有
効量を維持するのに充分な量の錯化剤を含有する特許請
求の範囲第1項記載のめっき液。 - (26)添加剤(a)が下記一般式 I で表わされる化
合物、浴に可溶かつ共存可能な該化合物の塩およびそれ
らの混合物からなるものである特許請求の範囲第1項記
載のめっき液: ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・( I
) 式中、XはH、炭素数1〜6のアルキル、炭素数6〜1
0のアリール(フエニル環に隣接していてもよい)、炭
素数7〜22のアルキルアリール、OH、ハロゲン、C
HO、炭素数1〜4のアルコキシ、炭素数1〜6のカル
ボキシ、炭素数1〜6のヒドロキシアルキルまたは炭素
数1〜6のスルホアルキル;YはH、炭素数1〜6のア
ルキル、OH、SO_3M、またはフェニル;QはH、
炭素数1〜3のアルキル、炭素数1〜6のスルホアルキ
ルまたは炭素数1〜6のヒドロキシアルキル;MはH、
NH_4、亜鉛、ニッケルまたは I A族およびII族の
金属;ZはHまたはQを表す。 - (27)添加剤(b)が下記一般式IIで表わされる化合
物からなるものである特許請求の範囲第1項記載のめっ
き液: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、 mは0〜4の整数; nは1〜4の整数; R_1は、mが0のときHまたは炭素数1〜6のアルキ
ル、mが0よりも大きいとき−O−R_4;R_2およ
びR_3は、H、炭素数1〜4のアルキルまたはスルホ
アルキル;R_4はHまたは▲数式、化学式、表等があ
ります▼; ただし、pは1〜4の整数、R_5はHまたは炭素数1
〜2のアルキル。 - (28)添加剤(b)が下記の化合物群から選ばれた化
合物からなる特許請求の範囲第1項記載のめっき液:3
−メチル−1−ブチン−3−アール 3−メチル1−ブチン−3−アールのエチレンオキサイ
ド付加物である HC≡CC(CH_3)_2O(CH_2CH_2O)
_2H;ブチンジオール; ブチンジオールのエチレンオキサイド付加物であるHO
CH_2CH_2OCH_2C≡CCH_2OCH_2
CH_2OH; HOCH_2C≡CCH_2OCH_2CH_2OH;
プロパルギルアルコール; プロパルギルアルコールのエチレンオキサイド付加物で
あるHC≡CCH_2OCH_2CH_2OH;プロパ
ルギルアルコールのプロピレンオキサイド付加物である
HC≡CCH_2OCH_2CH(CH_3)OH;ヘ
キシンジオール; およびこれらの混合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/850,465 US4699696A (en) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | Zinc-nickel alloy electrolyte and process |
| US850465 | 1986-04-15 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62085874A Division JPS62253793A (ja) | 1986-04-15 | 1987-04-09 | 亜鉛・ニツケル合金電気めつき液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01283400A true JPH01283400A (ja) | 1989-11-14 |
| JPH0322478B2 JPH0322478B2 (ja) | 1991-03-26 |
Family
ID=25308186
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62085874A Granted JPS62253793A (ja) | 1986-04-15 | 1987-04-09 | 亜鉛・ニツケル合金電気めつき液 |
| JP63312840A Granted JPH01283400A (ja) | 1986-04-15 | 1988-12-13 | 亜鉛−ニッケル合金電気めっき液 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62085874A Granted JPS62253793A (ja) | 1986-04-15 | 1987-04-09 | 亜鉛・ニツケル合金電気めつき液 |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (2) | JPS62253793A (ja) |
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| CN (1) | CN87103500A (ja) |
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| CA (1) | CA1314513C (ja) |
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| GB (1) | GB2189258B (ja) |
| IT (1) | IT1205807B (ja) |
| MX (1) | MX165678B (ja) |
| SE (1) | SE465375B (ja) |
| SG (1) | SG78891G (ja) |
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| US4832802A (en) * | 1988-06-10 | 1989-05-23 | Mcgean-Rohco, Inc. | Acid zinc-nickel plating baths and methods for electrodepositing bright and ductile zinc-nickel alloys and additive composition therefor |
| JPH04224692A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-13 | Nippon Steel Corp | 高耐食性Zn系電気めっき鋼板の製造方法 |
| DE4394869T1 (de) * | 1992-09-25 | 1994-10-20 | Nippon Piston Ring Co Ltd | Verfahren zur Herstellung eines magnetischen Materials in Form eines Mehrschichtfilms, durch Plattieren |
| US5435898A (en) * | 1994-10-25 | 1995-07-25 | Enthone-Omi Inc. | Alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths and processes |
| GB2312438A (en) * | 1996-04-26 | 1997-10-29 | Ibm | Electrodeposition bath containing zinc salt |
| US6328873B1 (en) * | 2000-03-30 | 2001-12-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Cathodic electrodeposition coating compositions and process for using same |
| WO2003016593A2 (en) * | 2001-08-14 | 2003-02-27 | Magpower Systems Inc. | Hydrogen evolution inhibiting additives for zinc electrowinning |
| DE10223622B4 (de) * | 2002-05-28 | 2005-12-08 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik | Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute |
| US20050133376A1 (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-23 | Opaskar Vincent C. | Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom |
| BRPI0612981A2 (pt) * | 2005-06-20 | 2010-12-14 | Pavco Inc | composiÇço aquosa de galvanizaÇço com liga de zinco-nÍquel e mÉtodo para a deposiÇço de uma liga de zinco-nÍquel sobre um substrato |
| EP2096193B1 (en) | 2008-02-21 | 2013-04-03 | Atotech Deutschland GmbH | Process for the preparation of corrosion resistant zinc and zinc-nickel plated linear or complex shaped parts |
| US20100096274A1 (en) * | 2008-10-17 | 2010-04-22 | Rowan Anthony J | Zinc alloy electroplating baths and processes |
| JP2012508322A (ja) * | 2008-11-07 | 2012-04-05 | エクスタリック コーポレイション | 電着浴、電着システム、及び電着方法 |
| CN102383155A (zh) * | 2011-11-16 | 2012-03-21 | 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 | 一种锌镍合金电解液及其镀层的制备方法 |
| CN106435670A (zh) * | 2016-11-29 | 2017-02-22 | 江苏澳光电子有限公司 | 一种锌镍合金渡液及其应用 |
| CN107488866A (zh) * | 2017-07-12 | 2017-12-19 | 娄如祥 | 水性氯化物镀锌光亮剂用中间载体 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2191813A (en) * | 1939-12-01 | 1940-02-27 | Udylite Corp | Electrodeposition of nickel from an acid bath |
| US2840517A (en) * | 1957-07-10 | 1958-06-24 | Rockwell Spring & Axle Co | Nickel-iron-zinc alloy electroplating |
| FR16632E (fr) * | 1969-05-07 | 1913-03-18 | Pestourie & Quentin Soc | Soupape d'échappement libre |
| GB1485665A (en) * | 1975-03-27 | 1977-09-14 | Permalite Chem Ltd | Nickel electroplating |
| CA1134317A (en) * | 1978-01-16 | 1982-10-26 | Sylvia Martin | Zinc electroplating bath |
| SU718502A1 (ru) * | 1978-05-03 | 1980-02-29 | Предприятие П/Я В-8173 | Электролит дл нанесени покрытий сплавом цинк-никель |
| DE3067275D1 (en) * | 1979-09-13 | 1984-05-03 | M & T Chemicals Inc | Bright nickel plating bath and process and composition therefor |
| US4425198A (en) * | 1981-06-16 | 1984-01-10 | Omi International Corporation | Brightening composition for zinc alloy electroplating bath and its method of use |
| WO1983002290A1 (en) * | 1981-12-28 | 1983-07-07 | Hsu, Grace, Feng | Zinc-nickel electroplated article and method for producing the same |
| US4441969A (en) * | 1982-03-29 | 1984-04-10 | Omi International Corporation | Coumarin process and nickel electroplating bath |
| US4401526A (en) * | 1982-05-24 | 1983-08-30 | Occidental Chemical Corporation | Zinc alloy plating baths with condensation polymer brighteners |
| US4488942A (en) * | 1983-08-05 | 1984-12-18 | Omi International Corporation | Zinc and zinc alloy electroplating bath and process |
| US4515663A (en) * | 1984-01-09 | 1985-05-07 | Omi International Corporation | Acid zinc and zinc alloy electroplating solution and process |
| US4514267A (en) * | 1984-05-07 | 1985-04-30 | Omi International Corporation | Zinc electroplating additive concentrate |
| JPS6130695A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-12 | Kawasaki Steel Corp | 外観色調にすぐれたZn−Fe系合金電気めつき鋼板の製造方法 |
| US4543166A (en) * | 1984-10-01 | 1985-09-24 | Omi International Corporation | Zinc-alloy electrolyte and process |
| US4592809A (en) * | 1985-08-06 | 1986-06-03 | Macdermid, Incorporated | Electroplating composition and process and surfactant compound for use therein |
| JPS6296691A (ja) * | 1985-10-24 | 1987-05-06 | Nippon Steel Corp | Zn−Ni系合金メツキ法 |
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