JPH01283400A - 亜鉛−ニッケル合金電気めっき液 - Google Patents

亜鉛−ニッケル合金電気めっき液

Info

Publication number
JPH01283400A
JPH01283400A JP63312840A JP31284088A JPH01283400A JP H01283400 A JPH01283400 A JP H01283400A JP 63312840 A JP63312840 A JP 63312840A JP 31284088 A JP31284088 A JP 31284088A JP H01283400 A JPH01283400 A JP H01283400A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating solution
solution according
zinc
content
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63312840A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0322478B2 (ja
Inventor
Takaaki Koga
古賀 孝昭
Masaaki Kamiya
上谷 正明
Ryoichi Kimizuka
亮一 君塚
Daniel J Combs
ダニエル・ジェー・コムズ
Sylvia Martin
シルビア・マーチン
Robert A Tremmel
ロバート・エー・トレメル
Kenneth D Snell
ケネス・ディー・スネル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JCU Corp
OMI International Corp
Original Assignee
Ebara Udylite Co Ltd
OMI International Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Udylite Co Ltd, OMI International Corp filed Critical Ebara Udylite Co Ltd
Publication of JPH01283400A publication Critical patent/JPH01283400A/ja
Publication of JPH0322478B2 publication Critical patent/JPH0322478B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/565Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、亜鉛−ニッケル合金電気めっき用のめつき液
に関するものであり、更にくわしくは、電気めっき皮膜
の延性を向上させるための新規な添加剤を含有する、硫
酸塩タイプの改良された水溶液を酸性亜鉛−ニッケル合
金電気めっき液に関するものである。
〔従来の技術〕
耐食性向上、外観の改良および/または摩耗部分の寸法
を復元する再仕上げを可能にするための肉盛りの目的で
装飾めっき型または機能めっき型の亜鉛−ニッケル合金
皮膜を鉄、鋼など種々の素地上に電着するための、一定
量の亜鉛イオンおよびニッケルイオンを含有するめっき
液が従来から使われ、また提案されている(特開昭58
−34189号等)。このような亜鉛−ニッケル合金電
気めっき液は、ストリップ、コンジット、ワイヤ、ロッ
ド、管、カッブリングなどの工業めっきまたは機能めっ
きに広く使われている。
〔発明が解決しようとする課題〕
好ましい半光沢外観や、よりすぐれた密着性を得る上で
必要なめっき皮膜の微粒子化を達成するために、亜鉛−
ニッケル合金電気めっき液については従来多くの改良が
なされてきたが、硫酸塩タイプのものの場合、亜鉛−ニ
ッケル合金皮膜が延性に欠けるため微細な亀裂が発生し
て素地上の亜鉛−ニッケル合金皮膜の防食効果が低下す
るという問題が残されている。
本発明の目的は、従来の硫酸塩タイプ亜鉛−二ッケル合
金電気めっきにおける上記問題点を解決することにある
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、所望の合金組成の亜鉛−ニッケル合金を電
着するのに充分な量の亜鉛イオンおよび二・ンケルイオ
ンを含有する硫酸塩タイプの本発明による水溶液型酸性
亜鉛−ニッケル合金電気めっき液を用いることにより達
成される。このめっき液は、電気めっき皮膜の微粒子化
に有効な量のポリオキシアルキレン化合物またはその末
端基置換誘導体であって浴に可溶なものをさらに含んで
いてもよい。
このめっき液は、 (a)芳香族スルホンアミド (その塩であって浴に可溶かつ共存可能なもの、および
それらの混合物を含む) (b)アセチレンアルコール からなる群から選ばれた添加剤のいずれかを含有する。
添加剤(a)および(b)は、電気めっき皮膜に延性を
与えるのに有効な量だけ、硫酸塩タイプのめつき液中に
添加される。典型的には、添加剤(りおよび(b)の量
が約o.oooiモル/l以上であるとき、硫酸塩タイ
プのめっき液による電気めっき皮膜の延性向上が達成さ
れる。
上記成分のほかに、本発明のめっき液は、装飾的な光沢
外観を有する亜鉛−ニッケル合金皮膜を電着するのに有
効な二次光沢剤や補助光沢剤を含んでいてもよい。また
、めっき液のp)(を約0からほぼ中性、望ましくは約
2〜6の範囲で安定させるため、周知の緩衝剤を含有さ
せてもよい。
以下、本発明によるめっき液について更に具体的に説明
する。
本発明による水溶液型酸性亜鉛−ニッケル合金電気めっ
き液は、亜鉛電着に有効な量の亜鉛イオンを含有する水
溶液からなり、亜鉛濃度は通常lOg/lから飽和まで
、より普通には約15〜225g/lである。
はとんどの場合、亜鉛イオンの濃度は約20〜200g
 / (tの範囲に調節される。亜鉛イオンの最高濃度
は、めっき液の温度によって異なり、温度が高ければ高
い濃度を採用することができる。
亜鉛イオンは可溶性硫酸塩の形で、硫酸と共に、めっき
液中に導入される。通常、亜鉛−ニッケル合金電気めっ
き液のpHは約0〜7の範囲に調節され、好ましいpH
は2〜6である。
本発明のめっき液は、亜鉛イオンとともに一定量のニッ
ケルイオンを含有する。ニッケルイオンは、浴可溶硫酸
塩の形でめっき液中に導入される。約0.1〜約30重
量%のニッケルを含有する亜鉛−ニッケル合金皮膜を得
るためには、ニッケルイオン濃度を通常約0.5g/l
〜120 g/lとする。亜鉛−ニッケル合金皮膜の好
ましいニッケル含有量は、約3〜約15重量%である。
装飾亜鉛−ニッケル合金皮膜の場合、めっき液中のニッ
ケルイオンに対する亜鉛イオンの重量比を約2.5より
も低く保つことが望ましい。亜鉛−ニッケル合金電気め
っき液使用中に亜鉛イオンおよびニッケルイオンを補充
するには、電解中にめっき液に徐々に溶解する亜鉛金属
陽極、ニッケル金属陽極または亜鉛−ニッケル合金陽極
を用いればよい。作業中の濃度調整は、前記めっき液建
浴用の亜鉛塩およびニッケル塩を補充添加して行うこ七
もできる。
本発明の亜鉛−ニッケル合金電気めっき液は、亜鉛イオ
ンおよびニッケルイオンのほかに、添加剤として芳香族
スルホンアミドまたは(および)アセチレンアルコール
を含む。その好ましい具体例は次のとおりである。
(a)芳香族スルホンアミド 式中、XはH1炭素数1〜6のアルキル、炭素数6〜1
0のアリール(フェニル環に隣接していてもよい)、炭
素数7〜22のアルキルアリール、OH1ハロケン、C
HO1炭素数1〜4のアルコキシ、炭素数1〜6のカル
ボキシ、炭素数1〜6のヒドロキシアルキルまたは炭素
数1〜6のスルホアルキル;YはH1炭素数1〜6のア
ルキル、OH,SO3M。
またはフェニル;QはH1炭素数1〜3のアルキル、炭
素数1〜6のスルホアルキルまたは炭素数1〜6のヒド
ロキシアルキル;MはHSNH,、亜鉛、ニッケルまた
はIA族および■族の金属:ZはHまたはQを表す。
1l− (b)アセチレンアルコール R2R2 R,−(C)m−C=C−(C)n−0−Rt    
(II)R3R3 式中、 mはO〜4の整数: nは1〜4の整数: R1は、mがOのときHまたは炭素数1〜6のアルキル
、mが0よりも大きいとき一〇−R,;R2およびR3
は、H1炭素数1〜4のアルキルまたはスルホアルキル
; R2はHまたは−(CHz  CHO)p  H;■ ただし、pは1〜4の整数;R5はHまたは炭素数1〜
2のアルキル。
使用可能な添加剤の代表的なものを第1表に示す。
第1表 添加剤 (a)芳香族スルホンアミド ベンゼンスルホンアミド トルエンスルホンアミド (b)アセチレンアルコール 3−メチルl−ブチン−3−アール HC三CC(CH3)20(CH2CH,0)2H(3
−メチル1−ブチン−3−アールのエチレンオキサイド
付加物) ブチンジオール HOCH2CH20CH2C−CCH20CH2CH2
OH(ブチンジオールのエチレンオキサイド付加物)H
OCH,C=CCR20CH2CH2OHプロパルギル
アルコール HC−CCH20CH,CH2OH (フロパルギルアルコールのエチレンオキサイド付加物
) HCi≡CCH2OCH2CH(CH3)OH(プロパ
ルギルアルコールのプロピレンオキサイド付加物) ヘキシンジオール (a)群添加剤としては、上記のものほかに、代表的な
ものとして、ベンゼンジスルホンアミド、ナフタレンス
ルホンアミド(アルファ、ベータ)、p−トルエンスル
ホフロラミド、p−ブロモベンゼンスルホンアミド、p
−安息香酸スルホンアミド、安息香酸スルホンジクロル
アミド(o、p)、p−1−ルエンスルホンクロルアミ
ド、p、p−ジフェニルジスルホンアミド、ベンゼンm
−ジスルホンアミド、m−7オルミルベンゼンスルホン
アミドスルホメチルベンゼンスルホンアミド、メトキシ
ベンゼンスルホンアミド、ヒドロキシメチルベンゼンス
ルホンアミド、p−クロロベンゼンスルホンアミドなど
がある。
(a)群および(b)群の化合物は、硫酸塩タイプのめ
っき液において電気めっき皮膜の延性を向上させるのに
有効であり、それにより鋼等の素地上のめっき皮膜の微
細なりラックを実質的に無くし、耐食性を向上させる。
この目的のためには、(a)群および(b)群の化合物
は約0.0001モル/iの低濃度でも有効なことが観
察された。0.1モル/lもの高濃度にしても差支えな
いが、もっと低い濃度で充分な延性向上が達成されるの
で、経済性を考慮すると、通常は約0、001〜約0.
01モル/lの範囲の濃度にすることが望ましい。
本発明のめっき液は、上述の必須成分のほかにキャリヤ
ー光沢剤としてポリオキシアルキレン化合物を、亜鉛−
ニッケル合金電気めっき皮膜の粒子を細かくし補助的光
沢剤がない状態において少なくとも半光沢外観のめっき
皮膜を得るのに充分な量だけ含有してもよい。この目的
のためには、ポリオキシアルキレン化合物は約0.OO
5g/lという微量から飽和量までを用いることができ
るが、約0.1〜2 0 0 g/Lの濃度で用いるこ
とが望ましい。典型的には、ポリオキシアルキレン化合
物の濃度は約0.02〜約2 0 g/IIの範囲にあ
り、濃度約0.02〜約5g/lが多くの用途において
望ましい。
ポリオキシアルキレン化合物は、非イオン性のものに限
らず、イオン性のものでもよい。さらに、めっき液に可
溶の末端置換誘導体およびそれらの混合物からなるもの
であってもよい。本発明の実施に使用可能な代表的非イ
オン性ポリオキシアルキレン化合物は、−またはそれ以
上のアルキレンオキサイド(炭素数1〜4のもの)と他
の化合物との縮合共重合体(上記他の化合物1モル当り
約10〜約70モルのアルキレンオキサイドを含む)で
ある。上記他の化合物(アルコキシル化されていてもよ
い)の例としては、直鎖アルコール、脂肪族−価アルコ
ール、脂肪族多価アルコール、アセチレン七ノまたはポ
リオール、フェノールアルコール等のアルコール類;脂
肪酸:脂肪族アミド:アルキルフェノール;アルキルナ
フトール:脂肪族アミン(モノアミンおよびポリアミン
のいずれでもよい)などがある。
このタイプのポリオキシアルキレン化合物で好ましいも
のの代表例には、次のようなものがある。
A.下記構造式を有する、アルキレンオキサイドと直鎖
アルコールどの非イオン性共重合体:C H 3  (
C H z)X  C H s0、−(CH2−CI(
20)n−H 式中、Xは9〜15の整数、nは10〜50の整数であ
る。
B.下記構造式を有する、アルキレンオキサイドとフェ
ノールアルコールとの非イオン性共重合体:H (C 
H2)X A r−0 (C H 2C H2O)nC
 H 2C H 20 H式中、Arはベンゼン環、X
は6〜15の整数、nは10〜50の整数である。
C.エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、グリ
シドール、ブチレンオキサイ下およびそれらの混合物か
らなる群から選ばれたアルキレンオキサイドの非イオン
性ホモポリマー。
D.本発明において使用可能な非イオン性ポリオキシア
ルキレン化合物の具体例としては、アルキルフェノール
(たとえばノニルフェノール)、アルキルナフトール、
脂肪族−価アルコール、ヘキシンジオールおよびデシン
ジオール、エチレンジアミン、テトラエタノール、脂肪
酸、脂肪族アルカノールアミド(たとえばココナツツ脂
肪酸のアミド)、またはエステル(たとえばソルヒタン
モノバルミテート)の、各アルコキシル化物がある。
上述の非イオン性ポリオキシアルキレン化合物の代わり
に、浴に可溶の末端置換ポリオキシアルキレン化合物す
なわち (1)エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、グ
リシドール、ブチレンオキサイドおよびこれらの混合物
からなる群から選はれたアルキレンオキサイドの重合物
; および (2)水酸基を有するアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アリールおよびこれらの混合物からなる群から選ば
れたモノおよびポリヒドロキシ化合物のアルコキシル化
物: の硫酸化、アミノ化、リン酸処理、塩素化、臭素化、ホ
スホン化、スルホン化、カルボキシル化、およびこれら
の組合せにより得られるものを用いることもできる。
ポリオキシアルキレン化合物の分子量は、添加剤をめっ
き液中に所望の濃度で溶解させることができるように調
節する。また末端置換化合物は、置換度および分子中の
反応性水酸基の数に応じて、分子上に1個の末端置換基
を有していてもよく、2以上の末端置換基を有していて
もよい。
上述のポリオキシアルキレンキャリヤー光沢剤と共に、
あるいはその代わりに、他の高分子キャリヤー光沢剤を
本発明の亜鉛−ニッケル合金電気めっき液に含有させる
ことができる。使用可能な高分子キャリヤー光沢剤は、
米国特許第4,401,526号、同4,425.19
8号および同4,488,942号に開示されており、
その教示は参考文献としてここに引用する。
上述の成分のほかに、本発明のめっき液には、緩衝剤の
ような補助的添加物および浴改質剤(たとえばホウ酸、
酢酸、クエン酸、安息香酸、サリチル酸、これらの酸の
浴に可溶かつ共存可能な塩)を、必要に応じて含有させ
ることができる。さらに、めっき液の電導度を高めるた
め、電導性塩を含有させることができ、その適当な濃度
は約20〜約450 g/lである。その場合に用いる
ことができる電導性塩は、用いるめっき液のタイプに応
して、塩化物または硫酸塩の形のアルカリ金属塩および
アンモニウム塩が代表的なものである。その具体例とし
ては、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、臭化アン
モニウム、硫酸マクネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カ
リウム、塩化ナトリウム、塩化カリウムなとがある。
前述の必須成分を含有する亜鉛−ニッケル合金電気めっ
き液は、半光沢外観のめつき皮膜を与える。半光沢外観
は、通常、機能めっきまたは工業用めっき皮膜には充分
なものである。完全光沢すなわち鏡面外観の装飾めっき
を必要とする場合は、めっき液中に二次光沢剤および/
ままたは補助光沢剤も含有させることが望ましい。二次
光沢剤は、めっき皮膜に鏡面光沢を与えるのに充分な量
から浴に対するその最大溶解度まで添加することができ
る。望ましくは、これらの二次光沢剤はめっき液中に約
0.01〜約2g/11含有させる。
二次光沢剤として使用可能な芳香族アルデヒドまたは芳
香族ケトンの代表的な例としては、アリールアルデヒド
およびアリールケトン、環ハロゲン化アリールアルデヒ
ドおよびアリールケトン、複素環式アルデヒドおよびケ
トンがある。使用可能なものの具体例としては、0−ク
ロロベンズアルデヒド、p−クロロベンズアルデヒド、
ベンジルメチルケトン、フェニルエチルケトン、シンナ
ムアルデヒド、ベンザルアセトン、チオフェンアルデヒ
ド、フルフラール−5−ヒドロキシメチルフルフラール
、フルフリリデンアセトン、フルフルアルデヒド、4−
(2−フルル)−3−ブテン−2−オン等がある。
本発明のめっき液は、上述の二次光沢剤使用の有無にか
かわらず、低電流密度部用の補助光沢剤を含有させても
よい。適当な補助光沢剤は、炭素、数約1〜約6のアル
キル基を有する低級アルキルカルボン酸およびその浴可
溶性塩である。酸そのものも浴可溶性塩も使用可能では
あるが、多くの場合、ナトリウム塩、カリウム塩または
アンモニウム塩が好ましい。本発明において特に好まし
い補助光沢剤は、酢酸ナトリウムである。典型的には、
補助光沢剤は約0.5〜20g/IIの範囲で用いるが
、約1〜10g/fiが特に好ましい。
本発明のめっき液をpt+範囲の上限たとえばpH約7
〜約8で使用する場合は、亜鉛および/またはニッケル
の沈殿を防ぐため、適当な錯化剤を浴に含有させたほう
がよい場合がある。亜鉛および/またはニッケルに適当
な錯化剤は、いずれも、浴から亜鉛よび/またはニッケ
ルが沈殿するのを防止するのに充分な量だけ用いること
ができる。使用可能な錯化剤の代表例は、エチレンジア
ミン四酢酸、ジエチレンテトラミン五酢酸およびQ u
a’drol (N 、N 、N 、N−テトラキス(
2−ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン)でアル。
本発明の亜鉛−ニッケル合金電気めっきは、室温(15
°C)から約82°Cまで、典型的には約21℃から約
60°Cまでの温度範囲で、導電性素地に亜鉛−ニッケ
ル合金電気めっきを施すのに使われる。亜鉛−ニッケル
合金の電気めっきは、約0.1〜約220A/dm2ま
たはそれ以上の平均陰極電流密度で行われる。機能性硫
酸塩タイプめっき液の場合は、平均陰極電流密度を約2
〜220A/dm2とする。めっきの間じゅう、浴すな
わちめっき液を機械的に、または液循環により、あるい
は被処理物を移動させることによって、攪拌することが
望ましい。本発明のめっき液は、ラックめっきおよびバ
レルめっきの両方に使用することができる。
亜鉛およびニッケルを陽極として用いる場合、使用中の
めっき液に含まれている亜鉛イオンおよびニッケルイオ
ンを所望量だけ置換するために、それらの陽極の表面積
比を変えることができる。一般に、亜鉛陽極対ニッケル
陽極表面積比を約9対1にすることが、めっき液中の亜
鉛イオンおよびニッケルイオンを好ましい濃度に保つの
に有効なことがわかっている。
〔発明の効果〕
本発明によれば、硫酸塩タイプ亜鉛−ニッケル合金めっ
きにおけるめっき皮膜の延性が改善され、従来のめっき
液による場合よりも耐食性のよいめっき皮膜が得られる
〔実施例〕
本発明のめっき液組成およびそれを用いるめっき法を更
に説明するため、以下に実施例を示す。しかしながら、
これは単なる例示であって、上述のような本発明の範囲
を限定しようとするものではない。
実施例 1 硫酸塩タイプの水性めっき液を調製した。組成は、硫酸
ニッケル六水和物60g/l、硫酸亜鉛−水和物64 
g/l 、緩衝剤としてのホウ酸32 g/l 、硫酸
アンモニウム30g/υ、任意添加物質であるキャリヤ
ー光沢剤としてのポリアクリルアミド(亜鉛−ニッケル
合金機能めっき用硫酸塩タイプめっき液に好んで使われ
る) 0.06 g/i 、および添加剤としてのベン
ゼンスルホンアミドo、3g/lである。
上記めっき液中で、空気吹込みによる攪拌下、pi−1
を4.5、温度を約28°Cに調節しながら、亜鉛陽極
を用いて鋼鉄製J−パネルをめっきした。平均電流布度
は4.3A/dm”とした。
得られためっき済パネルは、高電流密度部において、全
光沢かつ延性のよい亜鉛−ニッケル合金皮膜を有し、3
.2wk%のニッケルを含有していた。
実施例 2 硫酸塩タイプの水性亜鉛−ニッケル合金めっき液を調製
した。組成は硫酸ニッケル六水和物255g/II。
硫酸亜鉛−水和物175g/fi、ホウ酸28g/l。
硫酸アンモニウム11 g/II 、ポリアクリルアミ
ド0.025 g/l 、および添加剤としてのp−ト
ルエンスルホンアミド1.0 g/lである。
上記めっき液中で、空気吹込みによる攪拌下、pHを4
.5、温度を28°Cに調節しながら、亜鉛陽極を用い
て鋼鉄製J−パネルをめっきした。平均電流密度は4.
3A/dm2とした。得られた亜鉛−ニッケル合金皮膜
は全光沢かつ延性を有し、4.5w1%のニッケルを含
有していた。
比較のため、p−トルエンスルホンアミドを含まないほ
かは全く同様の浴組成、作業条件で試験をした結果、4
.31FL%のニッケルを含有し光沢のあるめっき皮膜
が得られたが、折曲げ試験で多くのクランクを生じ、延
性の劣るものであった。
実施例 3 硫酸亜鉛−水和物59g/II、硫酸ニッケル七水和物
271g八、および添加剤としてのブチンジオールo、
osg/Aの、硫酸塩タイプ水性めっき液を調製した。
このめっき液を、pH約1、温度的49〜54℃に調節
した。
直径0.635cmの鋼棒を陰極にして、回転数460
 Orpm、表面速度的91.4m/winで回転させ
ながら、平均電流密度108A/dm2でめっきした。
めっき槽′には鉛陽極を使用した。光沢、延性、共に良
好でニッケルを18.1vj%含有する亜鉛−ニッケル
合金皮膜が得られた。めっき液に添加剤・ブチンジオー
ルを含有させないほかは同じ条件で、試験を繰返した。
ニッケルを15.5vt%含有する光沢良好な皮膜が得
られたが、延性の劣るものであった。
実施例 4 添加剤がo、o5g/lのプロパルギルアルコールであ
るほかは実施例3と同様のめっき液を調製した。
実施例3と同様の条件で、回転する鋼棒陰極をめっきし
、同様の亜鉛−ニッケル合金皮膜にッケル含量24.7
wt%)を得た。比較のため、同様の、但し添加剤・プ
ロパルギルアルコールを含まないめっき液を用いて第二
の試験を行なったところ、同様の光沢を有する皮膜にッ
ケル含有量17.1wL%)が得られたが、延性の劣る
ものであった。
以上開示した本発明の好ましい態様がさきに述べた本発
明の目的を十分達成するものであることは明白であるが
、本発明には、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で種々
の改変が有り得ること、いうまでもない。

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)亜鉛−ニッケル合金を電着するのに充分な量の亜
    鉛イオンおよびニッケルイオンを含有する、素地上に亜
    鉛−ニッケル合金電気めっきを施すための硫酸塩タイプ
    の水性電気めっき液において、添加剤として、電気めっ
    き皮膜に延性を与えるのに有効な量の下記(a)および
    (b)からなる群より選ばれた化合物の一種以上を含有
    することを特徴とする亜鉛−ニッケル合金電気めっき液
    : (a)芳香族スルホンアミド (b)アセチレンアルコール。
  2. (2)亜鉛イオン含有量が約10g/lから飽和までで
    ある特許請求の範囲第1項記載のめっき液。
  3. (3)亜鉛イオン含有量が約15〜約225g/lであ
    る特許請求の範囲第1項記載のめっき液。
  4. (4)亜鉛イオン含有量が約20〜約200g/lであ
    る特許請求の範囲第1項記載のめっき液。
  5. (5)ニッケルイオン含有量が約0.5〜約120g/
    lである特許請求の範囲第1項記載のめっき液。
  6. (6)亜鉛イオン含有量およびニッケルイオン含有量が
    、ニッケル含有率約3〜約15重量%の亜鉛−ニッケル
    合金電気めっきを与える量である特許請求の範囲第1項
    記載のめっき液。
  7. (7)電気めっき皮膜の粒子を微細化するのに有効な量
    のキャリヤー光沢剤を含有する特許請求の範囲第1項記
    載のめっき液。
  8. (8)添加剤(a)および(b)の含有量が約0.00
    01モル/l以上である特許請求の範囲第1項記載のめ
    つき液。
  9. (9)添加剤(a)および(b)の含有量が約0.00
    1〜約0.01モル/lである特許請求の範囲第8項記
    載のめっき液。
  10. (10)添加剤(a)および(b)の含有量が約0.0
    01〜約0.1モル/lである特許請求の範囲第1項記
    載のめっき液。
  11. (11)添加剤(a)および(b)の含有量が約0.0
    1モル/l以上である特許請求の範囲第10項記載のめ
    っき液。
  12. (12)キャリヤー光沢剤が含有量約0.005g/l
    から飽和までのポリオキシアルキレン化合物からなる特
    許請求の範囲第7項記載のめっき液。
  13. (13)キャリヤー光沢剤が含有量約0.1〜約200
    g/lのポリオキシアルキレン化合物からなる特許請求
    の範囲第7項記載のめっき液
  14. (14)キャリヤー光沢剤が含有量約0.001g/l
    以上めっき液中における溶解度限界までのポリアクリル
    アミド化合物およびそのN−置換誘導体からなる特許請
    求の範囲第7項記載のめっき液。
  15. (15)キャリヤー光沢剤が含有量約0.1〜約5g/
    lのポリアクリルアミド化合物およびそのN−置換誘導
    体からなる特許請求の範囲第7項記載のめっき液。
  16. (16)pHを約0から中性にする水素イオンを含有す
    る特許請求の範囲第1項記載のめっき液。
  17. (17)pHを約2から約6にする水素イオンを含有す
    る特許請求の範囲第1項記載のめっき液。
  18. (18)緩衝剤を含有する特許請求の範囲第1項記載の
    めっき液。
  19. (19)電気めっき皮膜に光沢を与えるのに有効な量の
    二次光沢剤を含有する特許請求の範囲第1項記載のめっ
    き液。
  20. (20)約0.01〜約2g/lの二次光沢剤を含有す
    る特許請求の範囲第1項記載のめっき液。
  21. (21)低電流密度領域の電気めっき皮膜に光沢を与え
    るのに有効な量の補助光沢剤を含有する特許請求の範囲
    第1項記載のめっき液。
  22. (22)補助光沢剤含有量が約0.5〜約20g/lで
    ある特許請求の範囲第21項記載のめっき液。
  23. (23)補助光沢剤含有量が約1〜約10g/lである
    特許請求の範囲第21項記載のめっき液。
  24. (24)めっき液に可溶かつ共存可能な電導性塩約45
    0g/lまでを含有する特許請求の範囲第1項記載のめ
    っき液。
  25. (25)溶液中に亜鉛イオンおよびニッケルイオンの有
    効量を維持するのに充分な量の錯化剤を含有する特許請
    求の範囲第1項記載のめっき液。
  26. (26)添加剤(a)が下記一般式 I で表わされる化
    合物、浴に可溶かつ共存可能な該化合物の塩およびそれ
    らの混合物からなるものである特許請求の範囲第1項記
    載のめっき液: ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・( I
    ) 式中、XはH、炭素数1〜6のアルキル、炭素数6〜1
    0のアリール(フエニル環に隣接していてもよい)、炭
    素数7〜22のアルキルアリール、OH、ハロゲン、C
    HO、炭素数1〜4のアルコキシ、炭素数1〜6のカル
    ボキシ、炭素数1〜6のヒドロキシアルキルまたは炭素
    数1〜6のスルホアルキル;YはH、炭素数1〜6のア
    ルキル、OH、SO_3M、またはフェニル;QはH、
    炭素数1〜3のアルキル、炭素数1〜6のスルホアルキ
    ルまたは炭素数1〜6のヒドロキシアルキル;MはH、
    NH_4、亜鉛、ニッケルまたは I A族およびII族の
    金属;ZはHまたはQを表す。
  27. (27)添加剤(b)が下記一般式IIで表わされる化合
    物からなるものである特許請求の範囲第1項記載のめっ
    き液: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、 mは0〜4の整数; nは1〜4の整数; R_1は、mが0のときHまたは炭素数1〜6のアルキ
    ル、mが0よりも大きいとき−O−R_4;R_2およ
    びR_3は、H、炭素数1〜4のアルキルまたはスルホ
    アルキル;R_4はHまたは▲数式、化学式、表等があ
    ります▼; ただし、pは1〜4の整数、R_5はHまたは炭素数1
    〜2のアルキル。
  28. (28)添加剤(b)が下記の化合物群から選ばれた化
    合物からなる特許請求の範囲第1項記載のめっき液:3
    −メチル−1−ブチン−3−アール 3−メチル1−ブチン−3−アールのエチレンオキサイ
    ド付加物である HC≡CC(CH_3)_2O(CH_2CH_2O)
    _2H;ブチンジオール; ブチンジオールのエチレンオキサイド付加物であるHO
    CH_2CH_2OCH_2C≡CCH_2OCH_2
    CH_2OH; HOCH_2C≡CCH_2OCH_2CH_2OH;
    プロパルギルアルコール; プロパルギルアルコールのエチレンオキサイド付加物で
    あるHC≡CCH_2OCH_2CH_2OH;プロパ
    ルギルアルコールのプロピレンオキサイド付加物である
    HC≡CCH_2OCH_2CH(CH_3)OH;ヘ
    キシンジオール; およびこれらの混合物。
JP63312840A 1986-04-15 1988-12-13 亜鉛−ニッケル合金電気めっき液 Granted JPH01283400A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/850,465 US4699696A (en) 1986-04-15 1986-04-15 Zinc-nickel alloy electrolyte and process
US850465 1986-04-15

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62085874A Division JPS62253793A (ja) 1986-04-15 1987-04-09 亜鉛・ニツケル合金電気めつき液

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01283400A true JPH01283400A (ja) 1989-11-14
JPH0322478B2 JPH0322478B2 (ja) 1991-03-26

Family

ID=25308186

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62085874A Granted JPS62253793A (ja) 1986-04-15 1987-04-09 亜鉛・ニツケル合金電気めつき液
JP63312840A Granted JPH01283400A (ja) 1986-04-15 1988-12-13 亜鉛−ニッケル合金電気めっき液

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62085874A Granted JPS62253793A (ja) 1986-04-15 1987-04-09 亜鉛・ニツケル合金電気めつき液

Country Status (15)

Country Link
US (1) US4699696A (ja)
JP (2) JPS62253793A (ja)
KR (1) KR900005845B1 (ja)
CN (1) CN87103500A (ja)
AU (1) AU587689B2 (ja)
BR (1) BR8701789A (ja)
CA (1) CA1314513C (ja)
DE (1) DE3710368A1 (ja)
ES (1) ES2002680A6 (ja)
FR (1) FR2597118B1 (ja)
GB (1) GB2189258B (ja)
IT (1) IT1205807B (ja)
MX (1) MX165678B (ja)
SE (1) SE465375B (ja)
SG (1) SG78891G (ja)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3619386A1 (de) * 1986-06-09 1987-12-10 Elektro Brite Gmbh Sulfathaltiges bad zur galvanischen abscheidung einer zink-nickel-legierung auf eisen
US4832802A (en) * 1988-06-10 1989-05-23 Mcgean-Rohco, Inc. Acid zinc-nickel plating baths and methods for electrodepositing bright and ductile zinc-nickel alloys and additive composition therefor
JPH04224692A (ja) * 1990-12-26 1992-08-13 Nippon Steel Corp 高耐食性Zn系電気めっき鋼板の製造方法
DE4394869T1 (de) * 1992-09-25 1994-10-20 Nippon Piston Ring Co Ltd Verfahren zur Herstellung eines magnetischen Materials in Form eines Mehrschichtfilms, durch Plattieren
US5435898A (en) * 1994-10-25 1995-07-25 Enthone-Omi Inc. Alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths and processes
GB2312438A (en) * 1996-04-26 1997-10-29 Ibm Electrodeposition bath containing zinc salt
US6328873B1 (en) * 2000-03-30 2001-12-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Cathodic electrodeposition coating compositions and process for using same
WO2003016593A2 (en) * 2001-08-14 2003-02-27 Magpower Systems Inc. Hydrogen evolution inhibiting additives for zinc electrowinning
DE10223622B4 (de) * 2002-05-28 2005-12-08 Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute
US20050133376A1 (en) * 2003-12-19 2005-06-23 Opaskar Vincent C. Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom
BRPI0612981A2 (pt) * 2005-06-20 2010-12-14 Pavco Inc composiÇço aquosa de galvanizaÇço com liga de zinco-nÍquel e mÉtodo para a deposiÇço de uma liga de zinco-nÍquel sobre um substrato
EP2096193B1 (en) 2008-02-21 2013-04-03 Atotech Deutschland GmbH Process for the preparation of corrosion resistant zinc and zinc-nickel plated linear or complex shaped parts
US20100096274A1 (en) * 2008-10-17 2010-04-22 Rowan Anthony J Zinc alloy electroplating baths and processes
JP2012508322A (ja) * 2008-11-07 2012-04-05 エクスタリック コーポレイション 電着浴、電着システム、及び電着方法
CN102383155A (zh) * 2011-11-16 2012-03-21 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 一种锌镍合金电解液及其镀层的制备方法
CN106435670A (zh) * 2016-11-29 2017-02-22 江苏澳光电子有限公司 一种锌镍合金渡液及其应用
CN107488866A (zh) * 2017-07-12 2017-12-19 娄如祥 水性氯化物镀锌光亮剂用中间载体

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2191813A (en) * 1939-12-01 1940-02-27 Udylite Corp Electrodeposition of nickel from an acid bath
US2840517A (en) * 1957-07-10 1958-06-24 Rockwell Spring & Axle Co Nickel-iron-zinc alloy electroplating
FR16632E (fr) * 1969-05-07 1913-03-18 Pestourie & Quentin Soc Soupape d'échappement libre
GB1485665A (en) * 1975-03-27 1977-09-14 Permalite Chem Ltd Nickel electroplating
CA1134317A (en) * 1978-01-16 1982-10-26 Sylvia Martin Zinc electroplating bath
SU718502A1 (ru) * 1978-05-03 1980-02-29 Предприятие П/Я В-8173 Электролит дл нанесени покрытий сплавом цинк-никель
DE3067275D1 (en) * 1979-09-13 1984-05-03 M & T Chemicals Inc Bright nickel plating bath and process and composition therefor
US4425198A (en) * 1981-06-16 1984-01-10 Omi International Corporation Brightening composition for zinc alloy electroplating bath and its method of use
WO1983002290A1 (en) * 1981-12-28 1983-07-07 Hsu, Grace, Feng Zinc-nickel electroplated article and method for producing the same
US4441969A (en) * 1982-03-29 1984-04-10 Omi International Corporation Coumarin process and nickel electroplating bath
US4401526A (en) * 1982-05-24 1983-08-30 Occidental Chemical Corporation Zinc alloy plating baths with condensation polymer brighteners
US4488942A (en) * 1983-08-05 1984-12-18 Omi International Corporation Zinc and zinc alloy electroplating bath and process
US4515663A (en) * 1984-01-09 1985-05-07 Omi International Corporation Acid zinc and zinc alloy electroplating solution and process
US4514267A (en) * 1984-05-07 1985-04-30 Omi International Corporation Zinc electroplating additive concentrate
JPS6130695A (ja) * 1984-07-20 1986-02-12 Kawasaki Steel Corp 外観色調にすぐれたZn−Fe系合金電気めつき鋼板の製造方法
US4543166A (en) * 1984-10-01 1985-09-24 Omi International Corporation Zinc-alloy electrolyte and process
US4592809A (en) * 1985-08-06 1986-06-03 Macdermid, Incorporated Electroplating composition and process and surfactant compound for use therein
JPS6296691A (ja) * 1985-10-24 1987-05-06 Nippon Steel Corp Zn−Ni系合金メツキ法

Also Published As

Publication number Publication date
US4699696A (en) 1987-10-13
BR8701789A (pt) 1988-02-02
AU587689B2 (en) 1989-08-24
KR900005845B1 (ko) 1990-08-13
ES2002680A6 (es) 1988-09-16
DE3710368A1 (de) 1987-10-22
SE8701035L (sv) 1987-10-16
IT8747842A0 (it) 1987-04-13
MX165678B (es) 1992-11-27
CA1314513C (en) 1993-03-16
IT1205807B (it) 1989-03-31
FR2597118A1 (fr) 1987-10-16
JPH0322478B2 (ja) 1991-03-26
GB2189258B (en) 1991-01-16
GB2189258A (en) 1987-10-21
SE8701035D0 (sv) 1987-03-12
SE465375B (sv) 1991-09-02
AU7018987A (en) 1987-11-12
FR2597118B1 (fr) 1991-05-03
DE3710368C2 (ja) 1990-04-19
SG78891G (en) 1991-11-15
GB8708685D0 (en) 1987-05-13
JPH0246676B2 (ja) 1990-10-16
JPS62253793A (ja) 1987-11-05
CN87103500A (zh) 1987-12-09
KR870010221A (ko) 1987-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01283400A (ja) 亜鉛−ニッケル合金電気めっき液
US3785939A (en) Tin/lead plating bath and method
US4388160A (en) Zinc-nickel alloy electroplating process
JPS6362595B2 (ja)
US4444629A (en) Zinc-iron alloy electroplating baths and process
US5169514A (en) Plating compositions and processes
CA1209087A (en) Zinc-nickel alloy electroplating bath
US4515663A (en) Acid zinc and zinc alloy electroplating solution and process
KR880001584B1 (ko) 아연-니켈합금 전착용 수용성 조성물
JPS581082A (ja) 亜鉛合金メッキ浴及び方法
US4401526A (en) Zinc alloy plating baths with condensation polymer brighteners
US4597838A (en) Additive agent for zinc alloy electrolyte and process
US4772362A (en) Zinc alloy electrolyte and process
US4541906A (en) Zinc electroplating and baths therefore containing carrier brighteners
JP3359602B2 (ja) 電解浴
CA2093924C (en) Acid bath for copper plating
US2525943A (en) Copper plating bath and process
US4397718A (en) Zinc plating baths with condensating polymer brighteners
JPH02301588A (ja) 錫,鉛,錫―鉛合金電気めっき浴及び電気めっき方法
JPH0363542B2 (ja)
JPS6324093A (ja) 亜鉛−ニッケル合金の電着用の酸性硫酸塩含有浴
JP2709511B2 (ja) 錫,鉛,錫一鉛合金電気めっき浴及び電気めっき方法
JPH11158683A (ja) スルファミン酸亜鉛めっき浴
RU1770458C (ru) Электролит блест щего цинковани
JPS59211587A (ja) めっき浴組成物

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees