JPH01283501A - 反射防止膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光学ガラス素材をプレス成形して作られた光
学ガラス素子に形成された反射防止膜に関するものであ
る。

従来の技術 近年、光学ガラスレンズ等の光学ガラス素子は、光学機
器のレンズ構成の簡略化、軽量化及び光学特性の高性能
化を同時に達成するために非球面化の方向にある。この
非球面ガラスの製造に当たっては、従来の製造方法であ
る研磨法では加工及び量産化が困難であり、それに代わ
る製造方法としてプレス成形法が有望視されており、こ
の製造法はコンパクトディスク、光デイスク用ピックア
ップレンズ等に実用化されている。前記ビックアッブレ
ンズ等の半導体レーザーを使用するレンズは、半導体レ
ーザーの波長がある程度変動しても必要な光学特性を維
持する必要がある。そのために最近では屈折率が１．４
８以下でありさらに分散が８０以上の低屈折率・低分散
ガラスが使用される。

また、研磨法、プレス成形法のいずれの製造法で作られ
た光学ガラス素子であっても、光学特性の向上のため、
光学ガラス素子表面に誘電体物質を真空蒸着法等で４ｒ
ｉ層し、反射防止膜を形成することは一般技術として知
られている。（例えば、久保田他［光学技術ハンドブッ
ク」） 以下図面を参照しながら従来の光学ガラス素子の反射防
止膜について説明する。第２図は光学ガラス素子の表面
にフン化マグネシウムからなる反射防止膜を形成した構
造を示す図であり、第３図の６は反射防止膜を光学的膜
厚０．２５λ。／４（λ。＝８３０ｎｍ）の厚さに形成
したときの分光反射特性を示す。第２図においてｌはｄ
線に対する屈折率３分散（以下、屈折率５分散と略記）
がそれぞれ１．４３．９５．０の光学ガラス素材をプレ
ス成形して作られた光学ガラス素子、４はフン化マグネ
シウムよりなる反射防止膜である。前記反射防止膜４は
一般的には真空茎着法によって形成される。

発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような屈折率が１．４８以下、分散
が８０以上の低屈折率・低分散光学ガラス素材をプレス
成形してつくられた光学ガラス素子に従来の反射防止膜
を形成しても第３図かられかるように残留反射率が高（
、またプレス成形時の熱的影響のため光学ガラス素子表
面に変質層が形成されており、そのために前記反射防止
膜は光学ガラス素子との密着性も悪く、耐久性も低いと
いう課題を存していた。

本発明は上記課題に鑑み屈折刹が１．４８以下、アツベ
数が８０以上の光学ガラス素材をプレス成形して作られ
た光学ガラス素子の表面に残留反射率が低く密着性及び
耐久性に優れた反射防止膜を提供するものである。

課題を解決するための手段 本発明は前記課題を解決するために、光学ガラス素子の
表面に形成される反射防止膜であって、前記反射防止膜
は２層構成からなり光学ガラス素子表面側から第１Ｉ！
目は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈折率物
質からなり、第２Ｎ目は屈折率１．３５〜１．５０の範
囲にある低屈折率物質がらなり、かつ各層の光学的膜厚
は以下の条件を満足することを特徴とする反射防止膜を
提供するもの〒ある。

０．０５λ。＜ｒ＋、ｄ、＜０．２５λ。

ｎ２　ｄ２＞０．２５λ０ 但し、ここでｎ１ｄ１、ｎ２　ｄ２は第１！Ｉ目、第２
層目の光学的Ｍ厚であり、７゜は設計中心波長である。

作用 前述したように、低屈折率、低分散光学ガラス素材をプ
レス成形してつくられた光学ガラス素子に反射防止膜を
形成した場合残留反射率が高く、またプレス成形時に形
成された光学ガラス素子表面層の変π層のために反射防
止膜の光学ガラス素子との密着性及び耐久性が悪いとい
う課題があったが、反射防止膜を２Ｎ構成にし、光学ガ
ラス素子から第１層目は、屈折率１．９０〜２．４０の
範囲にある高屈折率酸化物誘電体を使用し、その光学的
膜厚を０．０５λ。−０，２５λ。にすることにより光
学ガラス素子の面の変質層の悪影響を避は反射防止膜の
光学ガラス素子との密着性及び耐久性を向上し、さらに
第２層目に屈折率１．３５〜１．５０の範囲にある低屈
折率誘電体を使用しその光学的膜厚を０．２５λ。より
大きくすることにより残留反射率の低い反射防止膜を得
ることができる。

実施例 以下本発明の一実施例の反射防止膜について、図面を参
照しながら説明する。

第１図は本発明の実施例における反射防止膜の構成を示
すものである。第１図において２は二酸化チタンからな
る光学的膜厚０．０６２５λ。の層、３は二酸化ケイン
からなる光学的膜厚０．３４５λ。の層であり、λ。−
８３０ｎｍである。１は光学ガラス素子であり、ｎｄ−
１，４３，シロ＝９５．０のガラス素材をプレス成形し
たものである。

また、それぞれの層は真空蒸着法により形成した。

第３図の５は本実施例における反射防止膜の分光反射特
性を示すものである。第３図から分るように本発明によ
る反射防止膜の残留反射率は８３０ｎｍで０．２％以下
であり従来例より優れているのは明らかである。また前
記本発明の実施例の反射防止膜と従来の反射防止膜との
密着性、耐久性を比較するために行った試験は、（１）
粘着テープ剥離試験（温度４０°Ｃ１相対湿度８５％の
高温・高温雰囲気中に１０００時間放置した後、粘着テ
ープを光学ガラス素子表面に密着し引き剥がす）（２）
耐湿試験（温度６０°Ｃ１相対湿度８５％の高温・高温
雰囲気中に１０００時間放置）であり、比較のための従
来の反射防止膜は、前記従来例の一つである光学ガラス
素子にフッ化マグネシウムの反射防止膜を真空蒸着法に
よりて光学的膜厚λ。／４（λｏ−８３０１ｍ）の厚さ
に形成したものである。密着性、耐久性試験の結果は第
１表に示すとおりである。

第　　　１　　　表 以上のように本実施例の反射防止膜は、光学ガラス素子
の表面に形成された２層構成のものであり光学ガラス素
子表面側から第１Ｎ目は、二酸化チタンからなる光学的
膜厚０゜０６２５λ０、第２層目は、二酸化ケインから
なる光学的膜ｌＯ，３４５λ。であり、このようにする
ことにより従来の反射防止膜より残留反射率は低くさら
に光学ガラス素子との密着性及び耐久性に優れた反射防
止膜を得ることができる。

なお、前記実施例の反射防止膜の膜厚は特に上記の値に
限定されるものではなく設計波長に応じて変化させれば
よく、反射防止膜を構成する物質も第１７１目はＺｒＯ
□あるいはＺ　ｒ　Ｏ２とＴ　ｉ　０２との混合物、第
ｉｉ目はＭｇＦ２でもよい。

発明の効果 以上のように本発明は、屈折率が１．４８以下、アツベ
敗が８０以上の光学ガラス素材をプレス成形して作られ
た光学ガラス素子の表面に２Ｍ構成の反射防止膜を形成
しその反射防止膜は光学ガラス素子から第１Ｎ目は屈折
率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈折率物質からな
り、第２層目は屈折率１，３５〜１．５０の範囲にある
低屈折率物質からなり、かつ各層の光学的膜厚を以下の
条件を満足することによって、残留反射率が低く、光学
ガラス素子との密着性もよくさらに耐久性に優れた反射
防止膜を得ることができる。

０．０５λ。＜ｎ、ｄ、＜０．２５λ０ｎ２　ｄ２　＞
０．２５λ。

但し、ここでｎＩｄｌ　、ｎ２　ｄ２はそれぞれ第１層
目、第２層目の光学的膜厚であり、λ。は設計中心波長
である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における反射防止膜の構成図
、第２図は従来の反射防止膜の構成図、第３図は分光反
射特性図である。 ｌ・・・・・・光学ガラス素子、２・・・・・・二酸化
チタンからなる層、３・・・・・・二酸化ケインからな
る層、４・・・・・・フン化マグネシウムからなる層、
５・・・・・・本発明の実施例における反射防止膜、６
・・・・・・従来の反射防止＃（フッ化マグネシウムか
らなる反射防止膜）。 代理人の氏名　弁理士　中尾敏男　はか１名又１牢（−
／−）　　　　　　斜 ＣＰ′−隣

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）ｄ線に対する屈折率（ｎ＿ｄ）が１．４８以下、
   アッベ数（ν＿ｄ）が８０以上の光学ガラス素材をプレ
   ス成形して作られた光学ガラス素子の表面に形成された
   反射防止膜であって、前記反射防止膜は２層構成からな
   り光学ガラス素子側から第１層目は屈折率１．９０〜２
   ．４０の範囲にある高屈折率物質からなり、第２層目は
   屈折率１．３５〜１．５０の範囲にある低屈折物質から
   なり、かつ各層の光学的膜厚は以下の条件を満足するこ
   とを特徴とする反射防止膜。 ０．０５λ＿０＜ｎ＿１ｄ＿１＜０．２５λ＿０ｎ＿２
   ｄ＿２＞０．２５λ＿０ 但し、ここでｎ＿１ｄ＿１、ｎ＿２ｄ＿２はそれぞれ第
   １層目、第２層目の光学的膜厚であり、λ＿０は設計中
   心波長である。
2. （２）低屈折率物質はＭｇＦ＿２あるいはＳｉＯ＿２で
   あることを特徴とする請求項（１）記載の反射防止膜。
3. （３）高屈折率物質はＺｒＯ＿２あるいはＴｉＯ＿２あ
   るいはそれらの混合物であることを特徴とする請求項（
   １）記載の反射防止膜。