JPH0769482B2 - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
- Publication number
- JPH0769482B2 JPH0769482B2 JP63113933A JP11393388A JPH0769482B2 JP H0769482 B2 JPH0769482 B2 JP H0769482B2 JP 63113933 A JP63113933 A JP 63113933A JP 11393388 A JP11393388 A JP 11393388A JP H0769482 B2 JPH0769482 B2 JP H0769482B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antireflection film
- layer
- refractive index
- optical glass
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光学ガラス素材をプレス成形して作られた光
学ガラス素子に形成された反射防止膜に関するものであ
る。
学ガラス素子に形成された反射防止膜に関するものであ
る。
従来の技術 近年、光学ガラスレンズ等の光学レンズ素子は、光学機
器のレンズ構成の簡略化，軽量化及び光学特性の高性能
化を同時に達成するために非球面化の方向にある。この
非球面ガラスの製造に当たっては、従来の製造方法であ
る研磨法では加工及び量産化が困難であり、それに代わ
る製造方法としてプレス成形法が有望視されており、こ
の製造法はコンパクトディスク，光ディスク用ピックア
ップレンズ等に実用化されている。前記ピックアップレ
ンズ等の半導体レーザーを使用するレンズは、半導体レ
ーザーの波長がある程度変動しても必要な光学特性を維
持する必要がある。そのために最近では屈折率が1.48以
下でありさらに分散が80以上の低屈折率・低分散ガラス
が使用される。
器のレンズ構成の簡略化，軽量化及び光学特性の高性能
化を同時に達成するために非球面化の方向にある。この
非球面ガラスの製造に当たっては、従来の製造方法であ
る研磨法では加工及び量産化が困難であり、それに代わ
る製造方法としてプレス成形法が有望視されており、こ
の製造法はコンパクトディスク，光ディスク用ピックア
ップレンズ等に実用化されている。前記ピックアップレ
ンズ等の半導体レーザーを使用するレンズは、半導体レ
ーザーの波長がある程度変動しても必要な光学特性を維
持する必要がある。そのために最近では屈折率が1.48以
下でありさらに分散が80以上の低屈折率・低分散ガラス
が使用される。
また、研磨法，プレス成形法のいずれの製造法で作られ
た光学ガラス素子であっても、光学特性の向上のため、
光学ガラス素子表面に誘電体物質を真空蒸着法等で積層
し、反射防止膜を形成することは一般技術として知られ
ている。（例えば、久保田他「光学技術ハンドブッ
ク」） 以下図面を参照しながら従来の光学ガラス素子の反射防
止膜について説明する。第２図は光学ガラス素子の表面
にフッ化マグネシウムからなる反射防止膜を形成した構
造を示す図であり、第３図の６は反射防止膜を光学的膜
厚0.25λ0/4（λ０＝830nm）の厚さに形成したときの分
光反射特性を示す。第２図において１はｄ線に対する屈
折率，分散（以下、屈折率，分散と略記）がそれぞれ1.
43,95.0の光学ガラス素材をプレス成形して作られた光
学ガラス素子、４はフッ化マグネシウムよりなる反射防
止膜である。前記反射防止膜４は一般的には真空蒸着法
によって形成される。
た光学ガラス素子であっても、光学特性の向上のため、
光学ガラス素子表面に誘電体物質を真空蒸着法等で積層
し、反射防止膜を形成することは一般技術として知られ
ている。（例えば、久保田他「光学技術ハンドブッ
ク」） 以下図面を参照しながら従来の光学ガラス素子の反射防
止膜について説明する。第２図は光学ガラス素子の表面
にフッ化マグネシウムからなる反射防止膜を形成した構
造を示す図であり、第３図の６は反射防止膜を光学的膜
厚0.25λ0/4（λ０＝830nm）の厚さに形成したときの分
光反射特性を示す。第２図において１はｄ線に対する屈
折率，分散（以下、屈折率，分散と略記）がそれぞれ1.
43,95.0の光学ガラス素材をプレス成形して作られた光
学ガラス素子、４はフッ化マグネシウムよりなる反射防
止膜である。前記反射防止膜４は一般的には真空蒸着法
によって形成される。
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような屈折率が1.48以下、分散が80
以上の低屈折率・低分散光学ガラス素子をプレス成形し
てつくられた光学ガラス素子に従来の反射防止膜を形成
しても第３図からわかるように残留反射率が高く、また
プレス成形時の熱的影響のため光学ガラス素子表面に変
質層が形成されており、そのために前記反射防止膜は光
学ガラス素子との密着性も悪く、耐久性も低いという課
題を有していた。
以上の低屈折率・低分散光学ガラス素子をプレス成形し
てつくられた光学ガラス素子に従来の反射防止膜を形成
しても第３図からわかるように残留反射率が高く、また
プレス成形時の熱的影響のため光学ガラス素子表面に変
質層が形成されており、そのために前記反射防止膜は光
学ガラス素子との密着性も悪く、耐久性も低いという課
題を有していた。
本発明は上記課題に鑑み屈折率が1.48以下、アッベ数が
80以上の光学ガラス素材をプレス成形して作られた光学
ガラス素子の表面に残留反射率が低く密着性及び耐久性
に優れた反射防止膜を提供するものである。
80以上の光学ガラス素材をプレス成形して作られた光学
ガラス素子の表面に残留反射率が低く密着性及び耐久性
に優れた反射防止膜を提供するものである。
課題を解決するための手段 本発明は前記課題を解決するために、光学ガラス素子の
表面に形成される反射防止膜であって、前記反射防止膜
は２層構成からなり光学ガラス素子表面側から第１層目
は屈折率1.90〜2.40の範囲にある高屈折率物質からな
り、第２層目は屈折率1.35〜1.50の範囲にある低屈折率
物質からなり、かつ各層の光学的膜厚は以下の条件を満
足することを特徴とする反射防止膜を提供するものであ
る。
表面に形成される反射防止膜であって、前記反射防止膜
は２層構成からなり光学ガラス素子表面側から第１層目
は屈折率1.90〜2.40の範囲にある高屈折率物質からな
り、第２層目は屈折率1.35〜1.50の範囲にある低屈折率
物質からなり、かつ各層の光学的膜厚は以下の条件を満
足することを特徴とする反射防止膜を提供するものであ
る。
0.05λ０＜n1d1＜0.25λ０ n2d2＞0.25λ０ 但し、ここでn1d1,n2d2は第１層目、第２層目の光学的
膜厚であり、λ０は設計中心波長である。
膜厚であり、λ０は設計中心波長である。
作用 前述したように、低屈折率，低分散光学ガラス素材をプ
レス成形してつくられた光学ガラス素子に反射防止膜を
形成した場合残留反射率が高く、またプレス成形時に形
成された光学ガラス素子表面層の変質層のために反射防
止膜の光学ガラス素子との密着性及び耐久性が悪いとい
う課題があったが、反射防止膜を２層構成にし、光学ガ
ラス素子から第１層目は、屈折率1.90〜2.40の範囲にあ
る高屈折率酸化物誘電体を使用し、その光学的膜厚を0.
05λ０〜0.25λ０にすることにより光学ガラス素子の面
の変質層の悪影響を避け反射防止膜の光学ガラス素子と
の密着性及び耐久性を向上し、さらに第２層目に屈折率
1.35〜1.50の範囲にある低屈折率誘電体を使用しその光
学的膜厚を0.25λ０より大きくすることにより残留反射
率の低い反射防止膜を得ることができる。
レス成形してつくられた光学ガラス素子に反射防止膜を
形成した場合残留反射率が高く、またプレス成形時に形
成された光学ガラス素子表面層の変質層のために反射防
止膜の光学ガラス素子との密着性及び耐久性が悪いとい
う課題があったが、反射防止膜を２層構成にし、光学ガ
ラス素子から第１層目は、屈折率1.90〜2.40の範囲にあ
る高屈折率酸化物誘電体を使用し、その光学的膜厚を0.
05λ０〜0.25λ０にすることにより光学ガラス素子の面
の変質層の悪影響を避け反射防止膜の光学ガラス素子と
の密着性及び耐久性を向上し、さらに第２層目に屈折率
1.35〜1.50の範囲にある低屈折率誘電体を使用しその光
学的膜厚を0.25λ０より大きくすることにより残留反射
率の低い反射防止膜を得ることができる。
実施例 以下本発明の一実施例の反射防止膜について、図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
第１図は本発明の実施例における反射防止膜の構成を示
すものである。第１図において２は二酸化チタンからな
る光学的膜厚0.0625λ０の層、３は二酸化ケイソからな
る光学的膜厚0.345λ０の層であり、λ０＝830nmであ
る。１は光学ガラス素子であり、nd＝1.43,νｄ＝95.0
のガラス素材をプレス成形したものである。また、それ
ぞれの層は真空蒸着法により形成した。第３図の５は本
実施例における反射防止膜の分光反射特性を示すもので
ある。第３図から分るように本発明による反射防止膜の
残留反射率は830nmで0.2％以下であり従来例より優れて
いるのは明らかである。また前記本発明の実施例の反射
防止膜と従来の反射防止膜との密着性，耐久性を比較す
るために行った試験は、（１）粘着テープ剥離試験（温
度40℃、相対湿度85％の高温・高湿雰囲気中に1000時間
放置した後、粘着テープを光学ガラス素子表面に密着し
引き剥がす）（２）耐湿試験（温度60℃、相対湿度85％
の高温・高湿雰囲気中に1000時間放置）であり、比較の
ための従来の反射防止膜は、前記従来例の一つである光
学ガラス素子にフッ化マグネシウムの反射防止膜を真空
蒸着法によって光学的膜厚λ0/4（λ０＝830nm）の厚さ
に形成したものである。密着性，耐久性試験の結果は第
１表に示すとおりである。
すものである。第１図において２は二酸化チタンからな
る光学的膜厚0.0625λ０の層、３は二酸化ケイソからな
る光学的膜厚0.345λ０の層であり、λ０＝830nmであ
る。１は光学ガラス素子であり、nd＝1.43,νｄ＝95.0
のガラス素材をプレス成形したものである。また、それ
ぞれの層は真空蒸着法により形成した。第３図の５は本
実施例における反射防止膜の分光反射特性を示すもので
ある。第３図から分るように本発明による反射防止膜の
残留反射率は830nmで0.2％以下であり従来例より優れて
いるのは明らかである。また前記本発明の実施例の反射
防止膜と従来の反射防止膜との密着性，耐久性を比較す
るために行った試験は、（１）粘着テープ剥離試験（温
度40℃、相対湿度85％の高温・高湿雰囲気中に1000時間
放置した後、粘着テープを光学ガラス素子表面に密着し
引き剥がす）（２）耐湿試験（温度60℃、相対湿度85％
の高温・高湿雰囲気中に1000時間放置）であり、比較の
ための従来の反射防止膜は、前記従来例の一つである光
学ガラス素子にフッ化マグネシウムの反射防止膜を真空
蒸着法によって光学的膜厚λ0/4（λ０＝830nm）の厚さ
に形成したものである。密着性，耐久性試験の結果は第
１表に示すとおりである。
以上のように本実施例の反射防止膜は、光学ガラス素子
の表面に形成された２層構成のものであり光学ガラス素
子表面側から第１層目は、二酸化チタンからなる光学的
膜厚0.0625λ０、第２層目は、二酸化ケイソからなる光
学的膜厚0.345λ０であり、このようにすることにより
従来の反射防止膜より残留反射率は低くさらに光学ガラ
ス素子との密着性及び耐久性に優れた反射防止膜を得る
ことができる。
の表面に形成された２層構成のものであり光学ガラス素
子表面側から第１層目は、二酸化チタンからなる光学的
膜厚0.0625λ０、第２層目は、二酸化ケイソからなる光
学的膜厚0.345λ０であり、このようにすることにより
従来の反射防止膜より残留反射率は低くさらに光学ガラ
ス素子との密着性及び耐久性に優れた反射防止膜を得る
ことができる。
なお、前記実施例の反射防止膜の膜厚は特に上記の値に
限定されるものではなく設計波長に応じて変化さればよ
く、反射防止膜を構成する物質も第１層目はZrO2あるい
はZrO2とTiO2との混合物、第１層目はMgF2でもよい。
限定されるものではなく設計波長に応じて変化さればよ
く、反射防止膜を構成する物質も第１層目はZrO2あるい
はZrO2とTiO2との混合物、第１層目はMgF2でもよい。
発明の効果 以上のように本発明は、屈折率が1.48以下、アッベ数が
80以上の光学ガラス素材をプレス成形して作られた光学
ガラス素子の表面に２層構成の反射防止膜を形成しその
反射防止膜は光学ガラス素子から第１層目は屈折率1.90
〜2.40の範囲にある高屈折率物質からなり、第２層目は
屈折率1.35〜1.50の範囲にある低屈折率物質からなり、
かつ各層の光学的膜厚を以下の条件を満足することによ
って、残留反射率が低く、光学ガラス素子との密着性も
よくさらに耐久性に優れた反射防止膜を得ることができ
る。
80以上の光学ガラス素材をプレス成形して作られた光学
ガラス素子の表面に２層構成の反射防止膜を形成しその
反射防止膜は光学ガラス素子から第１層目は屈折率1.90
〜2.40の範囲にある高屈折率物質からなり、第２層目は
屈折率1.35〜1.50の範囲にある低屈折率物質からなり、
かつ各層の光学的膜厚を以下の条件を満足することによ
って、残留反射率が低く、光学ガラス素子との密着性も
よくさらに耐久性に優れた反射防止膜を得ることができ
る。
0.05λ０＜n1d1＜0.25λ０ n2d2＞0.25λ０ 但し、ここでn1d1,n2d2はそれぞれ第１層目，第２層目
の光学的膜厚であり、λ０は設計中心波長である。
の光学的膜厚であり、λ０は設計中心波長である。
第１図は本発明の一実施例における反射防止膜の構成
図、第２図は従来の反射防止膜の構成図、第３図は分光
反射特性図である。 １……光学ガラス素子、２……二酸化チタンからなる
層、３……二酸化ケイソからなる層、４……フッ化マグ
ネシウムからなる層、５……本発明の実施例における反
射防止膜、６……従来の反射防止膜（フッ化マグネシウ
ムからなる反射防止膜）。
図、第２図は従来の反射防止膜の構成図、第３図は分光
反射特性図である。 １……光学ガラス素子、２……二酸化チタンからなる
層、３……二酸化ケイソからなる層、４……フッ化マグ
ネシウムからなる層、５……本発明の実施例における反
射防止膜、６……従来の反射防止膜（フッ化マグネシウ
ムからなる反射防止膜）。
Claims (3)
- 【請求項１】ｄ線に対する屈折率（nd）が1.48以下、ア
ッベ数（νｄ）が80以上の光学ガラス素材をプレス成形
して作られた光学ガラス素子の表面に形成された反射防
止膜であって、前記反射防止膜は２層構成からなり光学
ガラス素子側から第１層目は屈折率1.90〜2.40の範囲に
ある高屈折率物質からなり、第２層目は屈折率1.35〜1.
50の範囲にある低屈折物質からなり、かつ各層の光学的
膜厚は以下の条件を満足することを特徴とする反射防止
膜。 0.05λ０＜n1d1＜0.25λ０ n2d2＞0.25λ０ 但し、ここでn1d1,n2d2はそれぞれ第１層目，第２層目
の光学的膜厚であり、λ０は設計中心波長である。 - 【請求項２】低屈折率物質はMgF2あるいはSiO2であるこ
とを特徴とする請求項（１）記載の反射防止膜。 - 【請求項３】高屈折率物質はZrO2あるいはTiO2あるいは
それらの混合物であることを特徴とする請求項（１）記
載の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63113933A JPH0769482B2 (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63113933A JPH0769482B2 (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | 反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01283501A JPH01283501A (ja) | 1989-11-15 |
| JPH0769482B2 true JPH0769482B2 (ja) | 1995-07-31 |
Family
ID=14624832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63113933A Expired - Lifetime JPH0769482B2 (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0769482B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05113505A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-05-07 | Mitsubishi Electric Corp | 低反射膜付陰極線管およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-05-11 JP JP63113933A patent/JPH0769482B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01283501A (ja) | 1989-11-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3829197A (en) | Antireflective multilayer coating on a highly refractive substrate | |
| TWI432770B (zh) | 光學系統 | |
| JPH07111484B2 (ja) | プラスチック製光学部品の反射防止膜とその形成方法 | |
| JPS6051081B2 (ja) | 非球面反射防止膜 | |
| JP7493918B2 (ja) | 反射防止膜付き光学部材及びその製造方法 | |
| JPH0769482B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| JPS6177002A (ja) | 光反射防止膜 | |
| JP2001100002A (ja) | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 | |
| JPH0462363B2 (ja) | ||
| JPS60130704A (ja) | 合成樹脂基板の反射防止膜 | |
| JPH10123303A (ja) | 反射防止光学部品 | |
| JP2001074903A (ja) | 反射防止膜及び光学素子 | |
| JPH077126B2 (ja) | 合成樹脂部材の反射鏡 | |
| JPH0836101A (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
| JPH01287501A (ja) | 反射防止膜 | |
| CN121386053B (zh) | 分光棱镜消偏振薄膜及制备方法、分光棱镜及制备方法 | |
| JPS58130139A (ja) | 付着性の良好な反射防止膜 | |
| JP2624827B2 (ja) | ハーフミラー | |
| JP2002372602A (ja) | 反射防止膜、およびそれを用いた光学素子 | |
| JPS6326603A (ja) | 合成樹脂部材の反射鏡 | |
| JPH07234302A (ja) | 耐湿性反射防止膜 | |
| JP2777937B2 (ja) | 樹脂製光学素子及びその製造方法 | |
| JPH08146202A (ja) | 反射防止膜を有する光学部品 | |
| JPH0291603A (ja) | 光学多層膜 | |
| JPH09197101A (ja) | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070731 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080731 Year of fee payment: 13 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080731 Year of fee payment: 13 |