JPH0128491B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は磁気ヘツドに関する。 先行技術 非晶質磁性合金の薄板が、そのすぐれた軟磁気
特性などから、磁気ヘツド用材料ととして注目を
集め、その実用化研究が活発に行われている。 このような磁気ヘツド用の非晶質磁性合金薄板
組成の１例として、原子比率で、Fe2〜5at％程
度、Si1〜5at％程度、B15〜25at％程度を含み、
残部が実質的にCoからなるものが知られている。
このような組成をもつ非晶質磁性合金薄板は、磁
歪が極めて小さく、また7.5KG以上のきわめて高
い飽和磁束密度Bsをもつ。このため、このよう
な材料からヘツドを構成すれば、Fe―Ni系合金
やFe―Co―Ni系合金等のメタル粉を磁性粉と
し、これをバインダー中に分散して塗布設置して
なるいわゆるメタルテープ等の高保磁力磁気記録
媒体に対しても、有効に記録を行うことができ
る。 しかし、このような組成の非晶質磁性合金薄板
およびそれから形成される磁気ヘツド用コアも以
下のような欠点をもつ。 まず、非晶質磁性合金薄板から磁気ヘツドを作
製するには、製造上、その薄板から所定の形状に
打抜、これを用いてヘツドを構成することが好ま
しい。しかし、上記のような薄板を金型を用いて
打抜くと、せん断端面にヒビワレや、いわゆるバ
リを生じ、歩留りが悪い。また、打抜枚数が多く
なると、金型が摩耗、破損し、このため、打抜枚
数の増加とともにバリが増大し、一つの金型で数
万枚程度の打抜しかできず、生産性が悪い。しか
もこのような打抜薄板を積層して磁気ヘツドを作
製すると、端部のバリのため占積率が下がり、ま
た機械的な歪が残り、記録再生出力が低下してし
まう。さらに、例えばヴイデオ用ヘツドのよう
に、磁気ヘツド用コアを、薄板を積層せず、その
１枚のみから形成するような場合、このバリを除
去するための工程が必要となる。 さらには、その耐摩耗性に問題があり、特に、
それからヴイデオ用の磁気ヘツド等を構成して、
磁気記録媒体と高速で接触走行させると、その摩
耗量はきわめて大きい。 また、その耐食性にも問題があり、化学的要因
に基づき摩耗を生じる。すなわち、磁気記録媒体
との接触走行を長期間に亘つて行うと、テープ磁
性層塗膜がしばしば有するところの化学的腐食性
雰囲気により、あるいは空気中に存在する炭酸ガ
ス、水分等により、ヘツドを構成する非晶質磁性
合金材料表面に酸化物等の皮膜が生じ、これがテ
ープ走行に基づく応力や塗膜中の磁性粉体の研麿
作用により剥離して、ヘツド摩耗を生起するので
ある。そして、この化学的摩耗は、高温かつ高湿
等の苛酷な使用条件はもとより、通常の条件下で
もきわめて大きいものである。 また、かわめて高温かつ高湿の条件下で長期間
ヘツドを保存ないし放置したようなとき、材料表
面には水分等の影響により、材料表面に皮膜が生
じ、この皮膜によりスペースイングロスが増大
し、その後の記録再生使用において、高域入出力
レベルが低下する。また、媒体との摺接により、
特にヘツドキヤツプ近傍で皮膜が剥離し、実効ギ
ヤツプが増大したり、ギヤツプが目づまりしたり
して、高域入出力レベルはこれによつても低下す
る。 さらには、上記のような合金磁性粉を用いるい
わゆるメタルテープに対して記録再生を行うとき
には、媒体の接触走行に従い、高域での入出力レ
ベルが低下してしまい、周波数特性が劣化してく
る。また、ヴイデオ用磁気ヘツドとして用いると
きには、Ｓ／Ｎ比や解像力が悪化する。このよう
な現象は、ヘツド表面が摩耗しておこるものでは
なく、ヘツド表面に変質層が生じることにより生
起している。そして、この変質層は、おそらく、
メタル磁性粉と磁気ヘツドを構成する非晶質磁性
合金材料とがある種の反応を起こし、合金磁性粉
あるいは非晶質磁性合金の構成元素の変質体が付
着して生じるものであると考えられる。 加えて、板厚が厚く、表面性の良好な薄板が得
られにくい。すなわち、常法に従い、片ロール法
により薄板を得る場合、特に例えば板厚が40μm
を超えると、表面性がきわめて悪くなる。このた
め、オーデイオ用ヘツドとして、薄板を積層して
コアを形成する場合、占積率を高めようとして
40μm以上、特に45〜120μmの板厚の薄板を積層
すると、その表面性の悪さのため、占積率は逆に
低下し、記録再生出力が低下する。またヴイデオ
用ヘツドとしては、積層の際の２次ギヤツプによ
る高域記録再生効率の低下を防止するため、薄板
自体から、それを積層せずに形成するのが好まし
くそのとき板厚としては、荷重摩耗を減少させる
ため、トラツク巾の倍程度、少少なくとも40μm
はある必要があるが、そのような板厚の表面性の
良好な薄板を得ることができず、種々の不都合を
生じる。 発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたもの
であつて、上記したような組成の高飽和磁束密度
の非晶質磁性合金薄板に対し、これに別途新たな
添加元素を含有させ、そのような薄板を打抜いて
磁気ヘツドを形成した場合、上記のような各種不
都合を解消せんとするものである。 より具体的には、本発明の主たる効果は、打抜
バリの少ない打抜性の良好な薄板を用いる結果、
磁気特性が劣化せず製造歩留りが高く、しかも耐
摩耗性にすぐれ、磁気記録媒体を高速で接触走行
させたときにも摩耗量が少なく、また耐食性が高
く、化学的要因に基づく摩耗が少なく、劣悪な条
件下の保存によつても変質せず、しかもメタルテ
ープに対する記録再生を行うときにも、周波数特
性やＳ／Ｎ比等が経時劣化せず、さらに、Bsが
高く、加えて表面性の良好な薄板を用いた磁気ヘ
ツドを提供することにある。 本発明者らは、このような目的につき鋭意検討
を繰返した結果、所定量のRuとCrとを併用添加
してなる薄板を用いて磁気ヘツドを形成したと
き、このような目的が有効に実現することを見出
し、本発明をなすに至つたものである。 すなわち、第１の発明はメタル粉を磁性粉とす
る塗布型の磁気記録媒体用の磁気ヘツドであつ
て、下記式で示される組成を有し、せん断端面を
有する非晶質磁性合金薄板の打抜体から形成され
てなることを特徴とする磁気ヘツドである。 式（Fe_pCo_qNi_r）_xRu_yCr_zM_w（Si_kB_lX_n）_v ［式中、Ｍは、鉄族元素、RuおよびCr以外の
他の遷移金属元素の１種以上を表わし、ＸはSiお
よびＢ以外の他のガラス化元素の１種以上を表わ
す。また、ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｗ＋ｖ＝100at％であり、
このうちｙは0.01〜8at％、ｚは0.5〜8at％、ｗは
０〜4at％、ｖは20〜26at％である。さらに、ｐ
＋ｑ＋ｒ＝100％、ｋ＋ｌ＋ｍ＝100％であり、こ
のうちｐは３〜７％、ｒは０〜10％であり、また
ｋは0.5〜20％、ｍは０〜２％である。］ また、第２の発明は、メタル粉を磁性粉とする
塗布型の磁気記録媒体と、酸化物粉を磁性粉とす
る塗布型の磁気記録媒体とに兼用する磁気ヘツド
であつて、上記式で示される組成を有し、せん断
端面を有する非晶質磁性合金薄板の打抜体から形
成されてなることを特徴とする磁気ヘツドであ
る。 発明の具体的構成 次に、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。 上式で示される、本発明における磁気ヘツド用
非晶質磁性合金材料中の鉄族元素（Fe，Co，
Ni）の含有量ｘは、後に詳述するRu，Ta、上記
Ｍならびにガラス化元素（Si，ＢおよびＸ）のそ
れぞれの含有量ｙ，ｚ，ｗおよびｖの和を100at
％から差引いた値であり、54at％以上、79.49at
％以下である。 この場合、鉄族元素としては、FeおよびCoを
必須成分とする。 そして、鉄族元素成分中のFe組成比率ｐは３
〜７％、Co組成比率ｑは83〜97％である。従つ
て、鉄族元素成分の原子比率ｘと、鉄族元素成分
中のFe組成比率ｐの積として得られるFe原子比
率pxは、1.6〜5.6at％、好ましくは2.1〜4.8at％
である。 1.6at％未満および5.6at％より大では、磁歪が
大きなものとなつてしまい、また透磁率が減少す
る。 また、Co原子比率qxは44.8〜77.1at％、より好
ましくは50〜76at％である。これ以外の値では飽
和磁束密度Bsが減少し、Bsが7.5KG未満になつ
てしまい、高保磁力磁気記録媒体への記録再生に
適さなくなつてしまう。 鉄族元素成分としては、FeおよびCoに加えNi
が含まれていてもよい。ただ、Ni量が増大する
と飽和磁束密度Bsが減少するので、その鉄族元
素成分中のNi組成比率ｒは10％以下である必要
があり、Ni原子比率rxとしては7at％以下である
ことが好ましい。 これに対し、ガラス化元素成分の含有量は20〜
26at％である。そして、ガラス化元素成分として
は、SiおよびＢを必須成分とする。 この場合、ガラス化元素成分中のSi組成比率ｋ
は0.5〜20％、好ましくは2.5〜20％である。そし
て、Si原子比率kvは、0.1〜5.2at％、好ましくは
0.5〜5.0at％である。0.1at％未満となると、Bsが
7.5KG未満となつてしまい、また、非晶質薄板の
表面性が悪くなり、面精度の良好な薄板を得られ
ない。一方、5.2at％を超えると、本発明所定の
効果は得られない。 すなわち、耐摩耗性、耐食性、打抜加工性、メ
タルテープ使用時の経時特性、表面性とも不十分
である。さらには、5.2at％より大では飽和磁束
密度Bsも低い。この場合、鉄族元素成分含有量
ｘを増大し、ガラス化元素成分含有量ｖをその下
限20％程度とすれば、7.5KG程度のBsを得るこ
ともできることもある。しかし、7.5KG程度の
Bsが得られる組成では、非晶質化度が悪くなり、
また表面性の良好な薄板が得られなくなる。ま
た、薄板化した後の歪除去のための熱処理も困難
となる。 他方、ガラス化元素成分中のＢ組成比率ｌは78
〜99.5at％、好ましくは78〜97.5at％、より好ま
しくは、78〜95at％である。そして、Ｂの原子比
率lvは15.6〜25.9at％、好ましくは15.6〜25.3at
％、より好ましくは15.6〜24.7at％である。
15.6at％未満および25.9at％より大では、上記の
ように本発明所定の効果が実現せず、また高い
Bsが得られない。 この場合、SiおよびＢ中のSi組成比ｋ／（ｋ＋
ｌ）は0.2以下で、しかも0.005以上、より好まし
くは0.05以上であることが好ましい。そして、
ｋ／（ｋ＋ｌ）が0.08〜0.2の範囲の値になると
より一層好ましい結果を得る。 なお、ガラス化元素成分としては、SiおよびＢ
を加え、上記Ｘとして、その他のガラス化元素、
例えばＰ，Ｃ，Ge，Sn，Al等の１種以上が含ま
れていてもよい。ただ、Ｘの組成比ｍが２％を超
えると、非晶質化しにくくなるので、Ｘの原子比
率mvは0.5at％以下である。 これに対し、本発明における非晶質磁性合金材
料中には、必須成分として0.01at％以上、8at％
以下のRuが含まれる。0.01at％以下では、打抜
加工性、耐摩耗性、耐食性、メタルテープ使用時
の経時特性および表面性とも不十分である。ま
た、8at％を超えると非晶質化が困難となり、表
面性が悪くなり、またBsが7.5KG未満となる。 この場合、Ru原子比率ｙが１〜8at％、より好
ましくは２〜6at％となると、さらに好ましい結
果を得る。 なお、特開昭52−114421号公報には、上記にお
いて示される式にあつて、ガラス化元素の含有量
ｖ＝25at％、ガラス化元素中のSiおよびＢ組成比
ｋ＝60％、ｌ＝40％、SiおよびＢの原子比率kv
＝15at％、lv＝10at％、ｋ／（ｋ＋ｌ）＝0.6であ
つて、Ruを2at％添加した非晶質磁性合金の例が
記載されている。しかし、このような材料では、
耐摩耗性、耐食性、打抜加工性、メタルテープ使
用時の経時特性、表面性とも不十分な特性しかえ
られない。そして、このような材料においてCr
を併用したとしても、これらの特性はさして改良
されず、特性上不十分である。特に、打抜加工性
については、本発明の材料中から、RuおよびTa
をともに、除去したものよりも低い値しか示さな
い。このような事実は後記実施例および比較例か
ら明らかになるであろう。 また、同公報には、上記のようなSi過剰の非晶
質磁性合金薄板において、RuとRhとが同等の作
用をもつ添加元素である旨が記載されている。し
かし、上式で示されるＢ過剰の本発明の材料で
は、RhをRuにかえて添加すると、耐摩耗性、耐
食性、打抜加工性、メタルテープ使用時の経時特
性、表面性とも不十分な特性しか得られない。こ
のような事実も、後記実施例および比較例から明
らかになるであろう。 さらに、上式で示される非晶質磁性合金薄板中
には、必須成分として、0.5〜8at％、より好まし
くは、１〜5at％のCrが含まれる。 この場合、0.5at％未満では特に高速摩耗が大
きく、また打抜性およびメタルテープ使用時の特
性経時劣化、さらには表面性とも十分満足できな
い。また、7at％を超えると、Bsが7.5KG以下と
なり、また非晶質薄板化が難しくなる。なお、こ
のようなCr添加がもたらす効果は、Crを、同じ
くVIB族元素に属するＷ，Moにかえたときには
実現しない。このような事実も、後記実施例およ
び比較例から明白になるであろう。 他方、上式で示される非晶質磁性合金材料中に
は、4at％以下の範囲で、鉄族元素、Ta，Ruお
よびCr以外の他の遷移金属元素（Sc〜Zn；Ｙ〜
Cd；La〜Hg；Ac以上）の１種以上が含まれて
いてもよい。ただ、これら上記Ｍが4at％を超え
ると、Bsが減少し、また本発明の効果は減じら
れてしまう。そして、Ｍの原子比率は０〜2at％
であることが好ましい。 このような、その他の遷移金属元素Ｍの好まし
い例としては、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Mo，Ｗ，
Mn等の１種以上を挙げることができる。なお、
Taについては、本出願人が、この出願の先願と
して提案しているので、本発明からは除外するも
のである。 以上詳述した、上式で示される組成をもつ本発
明の非晶質磁性合金薄板は、実質的に長範囲規則
性をもたない非晶質状態にある。 このような薄板の板厚は、通常、10〜200μm程
度である。この場合、表面性が、他の組成におけ
るときと比べてより一層良好となる点では、板厚
は、40μm以上、特に45μm以上であることが好ま
しい。ただ、板厚が120μmを超えると、表面性が
悪化してくるので、板厚は45〜120μmであること
が好ましい。 このような、非晶質磁性合金薄板は、通常以下
のようにして製造される。 すなわち、対応する組成の合金を、気相または
液相から超急冷する。この場合、通常は、合金を
融液となし、液相から10⁴℃／sec以上、通常10⁴
〜10⁶℃／secの冷却速度で超急冷し、固化させる
ことによつて非晶質磁性合金薄板を得る。溶融状
態の合金を超急冷するには、溶融合金をノズルか
ら噴射させ、双ロール法、片ロール法、遠心急冷
法等公知の種々の方式、就中片ロール法に従い急
冷すればよい。 このような非晶質磁性合金薄板は、それを好ま
しくは絶縁性接着剤層を介して積層して、所望の
形状のコア半体とされ、これを突き合わせて磁気
ヘツド用コア、特にオーデイオ用等の磁気ヘツド
用コアとされる。あるいは、薄板自体を積層せ
ず、薄板自体を所望の形状のコア半体となし、こ
のコア半体を突き合わせて磁気ヘツド用コア、特
にヴイデオ用等の磁気ヘツド用コアとされる。 この場合、薄板は、せん断断面を有する打抜体
から形成される。すなわち、本発明の磁気ヘツド
用コアは、積層形のコアとして形成されるとき
も、また薄板自体を積層せずにコアとするとき
も、コアを構成する薄板の端面の全部または一部
に、せん断面が存在するものである。 そして、このように形成される結果、上記のよ
うに本発明の薄板の打抜性はきわめて良好である
ので、本発明の磁気ヘツド用コアは、積層計とす
るときには占積率が向上し、出力が大きくなる。
また、薄板一枚のみからコアを形成するときに
も、良好な特性を示す。さらには、生産性が良好
となる。 このような磁気ヘツド用コアは、通常以下のよ
うにして作製される。 まず、好ましくは、超急冷法によつて得られた
薄板に対し、所定の熱処理を施す。この熱処理と
しては、例えば、結晶化温度未満、キユリー点以
上の温度で施す無磁場中での、特に内部歪取りを
目的とする焼鈍処理でもよく、また、結晶化温度
およびキユリー点未満の温度で行う、歪取りと磁
気特性の改良を目的とする磁場中での焼鈍処理で
あつてもよい。そして、この後者の磁場中での焼
鈍処理としては、静磁場、回転磁場等のいずれを
用いてもよい。これら焼鈍熱処理およびその条件
は、非晶質磁性合金の組成と所望の磁気特性とか
ら、適宜選択して行えばよい。 次いで、このような薄板を金型により抜き、所
定の形状となし、通常、その複数枚を絶縁性接着
剤により所定のトラツク巾となるように積層し
て、オーデイオ用等の積層コア半体を作製する。
この場合、本発明の非晶質磁性合金材料は打抜加
工性が良好で、せん断端面のヒビ割れや、バリが
きわめて少なく、この打抜加工を用いて、効率よ
く、また歩留りよく、コア半体を得ることができ
る。またバリが少ないので占積率も高く、記録再
生出力は低下しない。 なお、上記熱処理は、この打抜後に施してもよ
い。 また、特にヴイデオ用磁気ヘツドとして用いる
ときには、通常は、表面性の良好な40μm以上の
板厚の薄板を積層せずに用いればよく、これを所
定の形状に打抜いた後、前面を所定のトラツク巾
となるよう研削してコア半体が得られる。 この後、通常は、コア半体に巻線を施し、これ
をコアホルダー中に挿入し、ギヤツプ突合わせ面
を研摩した後、ギヤツプ内にギヤツプ形成材料を
所定間隙だけ設け、コア半体同志を突合わせ、コ
アとなし、さらに、シールドケース内に収納し、
樹脂モールドして磁気ヘツドが作製される。 このように作製される磁気ヘツドは、メタル磁
性粉を用いる塗布型の磁気記録媒体に対し記録再
生を行う際に、あるいはこれと酸化物磁性粉を用
いる塗布型の磁気記録媒体とを兼用して記録再生
を行う際に有用である。そしてオーデイオ用、ヴ
イデオ用、電子計算機用、カードリーダー用等の
特に接触型ヘツドとして、いずれの用途において
もきわめて有用である。 発明の具体的効果 本発明において用いる非晶質磁性合金薄板は、
打抜加工性がきわめて良好で、せん断単面にヒビ
ワレが生じることはなく、また打抜により生じる
バリもきわめて小さく、打抜歩留りが高く、しか
も同一の金型を用いて打抜ける打抜枚数も格段と
多くなる。このため、このような薄板の打抜体か
ら形成される本発明の磁気ヘツドは、バリによる
占積率の低下や、記録再生出力の低下がない。ま
た、上記のように生産性よく打抜を行うことがで
きる結果、生産性が良好で、製造コストが低廉と
なる。 加えて、本発明において用いる薄板は、飽和磁
束密度Bsが高く、本発明の磁気ヘツドは、メタ
ルテープ等の高保磁力媒体に対する記録再生用ヘ
ツドとしてきわめて好ましい特性をもつ。 また、本発明の磁気ヘツドの耐摩耗性は高く、
ヴイデオ用ヘツドとして構成したときも、高速接
触走行下での摩耗量はきわめて少ない。 しかも、その耐食性は高く、媒体の接触走行に
際して化学的に生起する摩耗は少なく、また劣悪
な条件下での保存によつても高域入出力レベルの
低下もきわめて少ない。さらに、メタルテープと
称される合金磁性粉を用いる高保磁力媒体と接触
走行させても、変質層が生じ、周波数特性やＳ／
Ｎ比、解像力が経時劣化することもない。 さらに、本発明において用いる薄板は、その表
面性がきわめて良好であり、本発明の磁気ヘツド
は、良好な特性を示す。特に、薄板厚が40μm以
上のものを用いるときには、他と比較して、表面
性が格段と良好であり、このため、積層形コアと
したときには、占積率がきわめて高く、高出力が
得られ、また、積層せずに１枚の薄板で良好な特
性を示すコアを得ることもできるという特徴をも
つ。 以下、本発明を実施例、実験例および比較例に
よりさらに詳細に説明する。 実施例 １ 下記表１に示されるような11種の組成の非晶質
磁性合金の15mm巾、50μm厚の長尺薄板を片ロー
ル方式の高速急冷法により作製した。 次に、これら各薄板１−１〜１−１１に対し、
それぞれ、キユリー点以上、結晶化温度以下の温
度で、無磁場中での熱処理を行つた。 各薄板１−１〜１−１１につき飽和磁束密度
Bsを測定したところ、表１に示される結果を得
た。 また、各薄板につき表面性を評価した。すなわ
ち、各薄板を所定の長さに裁断し、その巾方向に
おける板厚の最大と最小の差、すなわち最高表面
粗さを測定し、これを長手方向全域にくりかえ
し、平均して、各薄板の表面粗さとした。結果を
表１に示す。 この後、各薄板１−１〜１−１１から、超硬合
金の金型を用い、ヴイデオヘツド用コア半体形状
にて打抜を行つた。この場合、コア半体用は、公
知のフエライトあるいはセンダストヴイデオ用ヘ
ツドにおけるそれと同様、一方をＣ字状、他方を
巻線可能なＤ字状の形状とした。 各薄板１−１〜１−１１につき、またそれぞれ
のコア半体につき、同一の金型を用いそれぞれ11
万枚の打抜を行つた。各薄板につき、10万枚目か
ら計10枚の打抜体を選び、その打抜単面における
バリの高さを、電気マイクロメータによつて計測
した。これらを平均し、さらにそれぞれのコア半
体用打抜体についてこれを平均した結果を下記表
１に示す。 次いで、これら各薄板１−１〜１−１１から得
られたコア半体用打抜体を用い、ヴイデオ用ヘツ
ドを作製した。すなわち、一方のコア半体用打抜
体の先端部を研削して所定のトラツク巾厚さとし
た後、両コア半体の先端ギヤツプ面を鏡面仕上
し、このギヤツプ面にギヤツプ形成材料として
SiO₂を所定厚にて真空蒸着した。この後、両コ
ア半体を突きあわせ、両者を接着しヴイデオ用ヘ
ツドとした。 このようにして作製した計11種のヴイデオ用ヘ
ツドにつき、Coをドープしたγ―Fe₂O₃を磁性粉
とする、いわゆるクロムポジシヨンタイプの市販
のヴイデオテープを用い、これを25℃相対湿度50
％にて、5.5m／Secで100時間走行させた。走行
後の、ヘツド全面の摩耗深さを表面粗さ計で測定
した結果を表１に示す。 一方、これとは別に、上記各薄板１−１〜１−
１１を用い、オーデイオ用ヘツドを作製した。 すなわち、先ず、各薄板１−１〜１−１１か
ら、ほぼＣ字状のコア半体形状にて、金型により
打抜を行い、これらを0.6mmの厚さにて積層し、
コア半体を得た。この場合、打抜体のバリの高さ
については、上記とほぼ同等の結果を得た。 次いで、この各コア半体に捲線を施し、コアホ
ルダー中に収納し、コア半体のギヤツプ突き合せ
面を鏡面仕上した。そして、これらを常法に従い
所定のギヤツプ間隙をもつて突き合せ、計11種の
オーデイオ用ヘツドを得た。 このようにして得た計11種のオーデイオ用ヘツ
ドにつき、40℃、相対湿度95％にて、200時間放
置して、劣悪苛酷な条件下での保存性の試験を行
つた。放置後、塩化ビニル系熱可塑形バインダー
を用い、γ―Fe₂O₃を磁性粉とする市販塗布型γ
―テープを、4.75cm／secの走行速度および20ｇ
の印加圧で接触走行させた。そのときの、14kHz
における再生感度の測定し、測定前の出力レベル
との変化を算出した。結果を表１に示す。 また、これとは別に、上記11種のヘツドに対
し、劣悪な条件下での化学摩耗量を評価した。す
なわち、40℃、相対湿度95％の条件下で上記のγ
―テープを用い、上記と同一条件で1000時間のテ
ープ走行を行い、走行後のヘツド前面の摩耗深さ
を表面粗さ計で測定した。結果を表１に示す。 さらに、Fe―Ni合金磁性粉を用いた市販メタ
ルテープを用い、これを25℃、相対湿度50％にて
4.75cm／secで2000時間走行させた。2000時間走
行後、γ―Fe₂O₃を磁性粉とする標準テープを用
い、315Hz／14KHzの周波数特性を測定した。 結果を走行前の周波数特性に対する劣化値（Ｆ
特劣化：dB）として、表１に併記する。

【表】

【表】 上記表１に示される結果から、本発明に属し、
所定量のRuと所定量のCrとを含む薄板１−３〜
１−６および１−８〜１−１１のみが、良好な打
抜性を示しバリが小さいことがわかる。また、本
発明に属する薄板のみが、良好な表面性を示すこ
とがわかる。さらに、良好なBsを示している。 そして、このような薄板の打抜体から構成され
る本発明の磁気ヘツド用コアは、耐摩耗性にすぐ
れ、高速摩耗量がきわめて少なく、耐食性にすぐ
れ、劣悪な条件下での保存性、化学的摩耗量がき
わめて少なく、さらに、メタルテープ使用時の経
時劣化もきわめて少ないことがわかる。 実験例 １ 本発明に属する薄板の良好な表面性をさらに確
認するため、下記のような実験を行つた。 すなわち、本発明に属する、 （Fe₅Co₉₅）_70.25Ru₄Cr₃（Si₁₀B₉₀）_22.75の組成を有
する非晶質磁性合金薄板Ａと、RuおよびCrを含
まず、本発明に属しない（Fe₅Co₉₅）₇₈（Si₁₀B₉₀）₂₂
の組成を有する非晶質磁性合金薄板Ｂとの15mm巾
の長尺薄板を片ロール方式の高速急冷法で作製し
た。この場合、それぞれの薄板Ａ，Ｂの板厚は、
20〜100μmの範囲でかえ、板厚の異なる各種薄板
Ａ，Ｂを得た。 得られた各薄板につき、表面粗さを下記のよう
に測定した。すなわち、各薄板を所定長に裁断
し、その巾方向における板厚の最大と最小との
差、すなわち最高表面粗さを測定し、これを長手
方向全域に亘つてくりかえし、平均して、各薄板
の表面粗さとした。 結果を第１図に示す。図中、曲線ａが薄板Ａ、
曲線ｂが薄板Ｂの結果である。 第１図に示される結果から、本発明に属する組
成をもつ薄板Ａは、薄板Ｂと比較して良好な表面
性を示すことがわかる。特に、板厚が40μm以上
となると、表面性の差はきわめて顕著である。 実施例 ２ 下記表２示される組成をもち、50μm厚、15mm
巾の５種の非晶質磁性合金薄板２−１〜２−８を
得た。 各薄板のBsと、実施例１と同様に測定した表
面粗さ、および10万枚目における打抜バリを表２
に示す。 また、各薄板から、実施例１と同様にしてヴイ
デオ用ヘツドを作製し、実施例１と同様にして測
定した高速摩耗量を表２に示す。 さらに、各薄板からオーデイオ用ヘツドを作製
し、各ヘツドにつき、γ―Fe₂O₃を磁性粉とし、
塩化酢酸ビニル系のバインダーを用いる市販γ―
テープを用いて、通常の条件下での化学的摩耗量
を測定した。すなわち、このγ―テープを、25
℃、相対湿度50％にて4.75cm／secの走行速度と
20ｇの印加圧で1000時間走行させた。走行後の摩
耗深さを表面粗さ計で測定した。結果を、表２に
示す。 また、この各オーデイオ用ヘツドにつき、実施
例１と同様に、保存性の試験を行つた。結果を表
２に示す。

【表】 表２に示される結果から、薄板２−１〜２−３
を用いる場合と、本発明に属する薄板２−４〜２
−７を用いる場合との比較において、ガラス化元
素成分中のSi含有量が20％をこえると、Ruおよ
びCrを添加しても、特に、打抜性、表面性、耐
摩耗性の点できわめて悪い特性しか得られないこ
とがわかる。 これに対し、本発明に属する薄板２−４〜２−
７を用いる場合は各特性ともきわめて良好であ
る。他方、ガラス化元素成分中のSi含有量が0.5
％以下の薄板２−８を用いる場合には、特に、打
抜性、表面性、耐摩耗性がきわめて不良であるこ
とがわかる。 なお、本実施例のヘツドは、実施例１同様、メ
タルテープと長時間走行後、変質層が生じず、Ｆ
特や、Ｓ／Ｎ比や、解像力の経時劣化がないこと
が確認された。 比較例 表２に示される組成をもち、50μm厚、15mm巾
の非晶質磁性合金薄板３−１〜３−３を得た。各
薄板Bs、実施例１と同様に測定した、表面粗さ
および10万枚目の打抜バリを表２に示す。 また、表２には、実施例１および実施例２と同
様にして得た、ヴオデオ用ヘツドとしたときの高
速摩耗性、ならびにオーデイオ用ヘツドとしたと
きの化学摩耗量および保存性が同時に示される。 表２の結果から、RuをRhにかえたとき、なら
びにCrをMoまたはＷにかえたときには、本発明
所定の効果が得られないことがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明における一つの効果を説明す
るための図であり、本発明に属する非晶質磁性合
金薄板の薄板厚と表面粗さの関係を示す線図であ
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ メタル粉を磁性粉とする塗布型の磁気記録媒
   体用の磁気ヘツドであつて、下記式で示される組
   成を有し、せん断端面を有する非晶質磁性合金薄
   板の打抜体から形成されてなることを特徴とする
   磁気ヘツド。 式（Fe_pCo_qNi_r）_xRu_yCr_zM_w（Si_kB_lX_n）_v ［式中、Ｍは、鉄族元素、RuおよびCr以外の
   他の遷移金属元素の１種以上を表わし、ＸはSiお
   よびＢ以外の他のガラス化元素の１種以上を表わ
   す。また、ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｗ＋ｖ＝100at％であり、
   このうちｙは0.01〜8at％、ｚは0.5〜8at％、ｗは
   ０〜4at％、ｖは20〜26at％である。さらに、ｐ
   ＋ｑ＋ｒ＝100％、ｋ＋ｌ＋ｍ＝100％であり、こ
   のうちｐは３〜７％、ｒは０〜10％であり、また
   ｋは0.5〜20％、ｍは０〜２％である。］ ２ 薄板の打抜体を積層してなるコア半体を突き
   合わせて形成される特許請求の範囲第１項に記載
   の磁気ヘツド。 ３ 薄板の打抜体自体をコア半体となし、当該コ
   ア半体を突き合わせてなる特許請求の範囲第１項
   に記載の磁気ヘツド。 ４ メタル粉を磁性粉とする塗布型の磁気記録媒
   体と、酸化物粉を磁性粉とする塗布型の磁気記録
   媒体とに兼用する磁気ヘツドであつて、下記式で
   示される組成を有し、せん断端面を有する非晶質
   磁性合金薄板の打抜体から形成されてなることを
   特徴とする磁気ヘツド。 式（Fe_pCo_qNi_r）_xRu_yCr_zM_w（Si_kB_lX_n）_v ［式中、Ｍは、鉄族元素、RuおよびCr以外の
   他の遷移金属元素の１種以上を表わし、ＸはSiお
   よびＢ以外の他のガラス化元素の１種以上を表わ
   す。また、ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｗ＋ｖ＝100at％であり、
   このうちｙは0.01〜8at％、ｚは0.5〜8at％、ｗは
   ０〜4at％、ｖは20〜26at％である。さらに、ｐ
   ＋ｑ＋ｒ＝100％、ｋ＋ｌ＋ｍ＝100％であり、こ
   のうちｐは３〜７％、ｒは０〜10％であり、また
   ｋは0.5〜20％、ｍは０〜２％である。］