JPH01286902A - 酸化物超電導体の製造方法 - Google Patents
酸化物超電導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH01286902A JPH01286902A JP63294963A JP29496388A JPH01286902A JP H01286902 A JPH01286902 A JP H01286902A JP 63294963 A JP63294963 A JP 63294963A JP 29496388 A JP29496388 A JP 29496388A JP H01286902 A JPH01286902 A JP H01286902A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide superconductor
- temperature
- peritectic reaction
- melt
- cooling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 title claims abstract description 76
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 85
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 53
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 32
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 19
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 35
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 35
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 24
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 21
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 21
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 10
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 19
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 10
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 6
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 4
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 3
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 2
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 2
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002370 SrTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical group [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/45—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on copper oxide or solid solutions thereof with other oxides
- C04B35/4504—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on copper oxide or solid solutions thereof with other oxides containing rare earth oxides
- C04B35/4508—Type 1-2-3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/653—Processes involving a melting step
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5072—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with oxides or hydroxides not covered by C04B41/5025
- C04B41/5074—Copper oxide or solid solutions thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
- H10N60/0268—Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
- H10N60/0296—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
- H10N60/0352—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers from a suspension or slurry, e.g. screen printing or doctor blade casting
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
- H10N60/0268—Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
- H10N60/0296—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
- H10N60/0576—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers characterised by the substrate
- H10N60/0604—Monocrystalline substrates, e.g. epitaxial growth
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/80—Constructional details
- H10N60/85—Superconducting active materials
- H10N60/855—Ceramic superconductors
- H10N60/857—Ceramic superconductors comprising copper oxide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S505/00—Superconductor technology: apparatus, material, process
- Y10S505/725—Process of making or treating high tc, above 30 k, superconducting shaped material, article, or device
- Y10S505/73—Vacuum treating or coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S505/00—Superconductor technology: apparatus, material, process
- Y10S505/725—Process of making or treating high tc, above 30 k, superconducting shaped material, article, or device
- Y10S505/733—Rapid solidification, e.g. quenching, gas-atomizing, melt-spinning, roller-quenching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、酸化物超電導体の製造方法に関するもので
ある。
ある。
[従来の技術]
YBa2Cu307−8の組成を持つ超電導材料は、約
90にという高温で超電導特性を示すことから、数多く
の用途への応用が期待されている。
90にという高温で超電導特性を示すことから、数多く
の用途への応用が期待されている。
たとえば、送電に応用すれば、送電により生じる約7%
の電力損失を大幅に減少させることができる。また、電
磁石の用途では、核融合、5OR1加速器、磁気浮上列
車、NMR−CT、電磁気推進船舶等への応用が検討さ
れている。
の電力損失を大幅に減少させることができる。また、電
磁石の用途では、核融合、5OR1加速器、磁気浮上列
車、NMR−CT、電磁気推進船舶等への応用が検討さ
れている。
これらの用途に応用するためには、前記組成の超電導材
料をバルク、線材またはテープ等の形状に加工すること
が望ましい。この場合、臨界電流密度(J C)として
従来得られている値は、液体窒素温度(77K)におい
て103〜10’A/Cm2程度である。しかしながら
、送電や電磁石などの実用的な用途には、Jcとして1
0’A/cm2以上が必要であるといわれている。
料をバルク、線材またはテープ等の形状に加工すること
が望ましい。この場合、臨界電流密度(J C)として
従来得られている値は、液体窒素温度(77K)におい
て103〜10’A/Cm2程度である。しかしながら
、送電や電磁石などの実用的な用途には、Jcとして1
0’A/cm2以上が必要であるといわれている。
バルクの酸化物超電導体を製造する方法としては、これ
までに主に固相反応法、共沈法が用いられている。
までに主に固相反応法、共沈法が用いられている。
上記のイツトリウム系酸化物超電導材料の粉体の合成法
はほとんど固相反応法である。
はほとんど固相反応法である。
固相反応法によるYBa2Cu30□−8焼結体の作製
法を以下に示す。
法を以下に示す。
まず、BaCO3、Y2O3、CuOを出発物質として
、Y:Ba:Cu−1:2:3の比で秤量し、乳鉢で混
合する。これらの混合粉体をアルミするつぼ内で酸素フ
ロー中または大気中、930〜950℃で8〜12時間
加熱反応させる。このようにして得られた粉体を粉砕し
、加圧してペレットを作り、900〜950℃の空気中
または酸素フロー中で12〜24時間焼結し、炉冷する
。
、Y:Ba:Cu−1:2:3の比で秤量し、乳鉢で混
合する。これらの混合粉体をアルミするつぼ内で酸素フ
ロー中または大気中、930〜950℃で8〜12時間
加熱反応させる。このようにして得られた粉体を粉砕し
、加圧してペレットを作り、900〜950℃の空気中
または酸素フロー中で12〜24時間焼結し、炉冷する
。
共沈法については、使用する試薬が蓚酸塩、炭酸塩、ク
エン酸塩などであり、これらの熱分解を利用したYBa
2Cu307−δの合成法である。
エン酸塩などであり、これらの熱分解を利用したYBa
2Cu307−δの合成法である。
なお、他のMBaCuO(ここでMは、2 37−δ
Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、Y
bおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも1種の
元素である)で表わされる酸化物超電導体についても、
はぼ同様の合成法において作製されている。
bおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも1種の
元素である)で表わされる酸化物超電導体についても、
はぼ同様の合成法において作製されている。
酸化物超電導体の薄膜を作製する方法としては、従来か
ら気相成長法が報告されている。たとえば、分子線エピ
タキシ(MBE)により酸化物薄膜を形成し、b、
c軸が面内に配向した薄膜を得たという報告や、3電子
銃蒸着法により5rTi03基板上に厚み1μmの薄膜
を成長させたという報告がある。
ら気相成長法が報告されている。たとえば、分子線エピ
タキシ(MBE)により酸化物薄膜を形成し、b、
c軸が面内に配向した薄膜を得たという報告や、3電子
銃蒸着法により5rTi03基板上に厚み1μmの薄膜
を成長させたという報告がある。
[発明が解決しようとする課題]
ところで、従来の固相反応法においては、乳鉢で粉体の
混合を行なうが、その際混合される程度はたかだか出発
粒子の大きさ程度であり、均一分散には限度がある。ま
た固相反応は粒子の接触点付近でのみ進行することから
単一相を得るためには反応を数回繰返し行なわなければ
ならない。また、できあがった焼結体は多孔質であり密
度は理論値の70〜80%ぐらいしか達しないといった
問題がある。
混合を行なうが、その際混合される程度はたかだか出発
粒子の大きさ程度であり、均一分散には限度がある。ま
た固相反応は粒子の接触点付近でのみ進行することから
単一相を得るためには反応を数回繰返し行なわなければ
ならない。また、できあがった焼結体は多孔質であり密
度は理論値の70〜80%ぐらいしか達しないといった
問題がある。
また、従来の気相成長法による酸化物超電導体の製造方
法では、製造工程が複雑であり、膜の成長速度が遅く、
生産性に欠けるという問題があった。さらに、従来の方
法では、緻密性が特に問題となり、焼結体と同程度の密
度でかなり多孔質のものが得られるにすぎず、その結果
、臨界電流値が低くなるという問題があった。
法では、製造工程が複雑であり、膜の成長速度が遅く、
生産性に欠けるという問題があった。さらに、従来の方
法では、緻密性が特に問題となり、焼結体と同程度の密
度でかなり多孔質のものが得られるにすぎず、その結果
、臨界電流値が低くなるという問題があった。
この発明の目的は、比較的簡易な工程で、従来よりも緻
密性および結晶性が良く、組成の均一な酸化物超電導体
を製造することのできる方法を提供することにある。
密性および結晶性が良く、組成の均一な酸化物超電導体
を製造することのできる方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段およびその作用効果]この
発明は、包晶反応により結晶化する酸化物超電導体を対
象としており、包晶反応温度より高い温度まで加熱して
溶融した後、包晶反応温度まで降温し包晶反応により酸
化物超電導体を結晶化させている。
発明は、包晶反応により結晶化する酸化物超電導体を対
象としており、包晶反応温度より高い温度まで加熱して
溶融した後、包晶反応温度まで降温し包晶反応により酸
化物超電導体を結晶化させている。
この発明では、−旦包晶反応温度より高い温度まで加熱
して溶融状態にしているので、粒界でのみ反応の生じる
固相反応に比べ、反応が速く、しかも均一なものとなる
。
して溶融状態にしているので、粒界でのみ反応の生じる
固相反応に比べ、反応が速く、しかも均一なものとなる
。
この発明の第1の局面に従えば、包晶反応により結晶化
する酸化物超電導体の原料を包晶反応温度より高い温度
まで加熱し溶融するステップと、溶融物を包晶反応温度
まで降温し、この温度を一定時間保持して包晶反応を進
行させ酸化物超電導体を結晶化させるステップと、酸化
物超電導体を室温まで徐々に冷却するステップとを備え
ている。
する酸化物超電導体の原料を包晶反応温度より高い温度
まで加熱し溶融するステップと、溶融物を包晶反応温度
まで降温し、この温度を一定時間保持して包晶反応を進
行させ酸化物超電導体を結晶化させるステップと、酸化
物超電導体を室温まで徐々に冷却するステップとを備え
ている。
包晶反応により結晶化する酸化物超電導体の典型的なも
のは、M B a 2 Cu a o 7− δ(ここ
でMは、Y、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho。
のは、M B a 2 Cu a o 7− δ(ここ
でMは、Y、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho。
Er、Tm、YbおよびLuからなる群より選ばれる少
なくとも1種の元素である)の組成を有するのである。
なくとも1種の元素である)の組成を有するのである。
包晶反応温度は示差熱分析によって求めることができる
。すなわち、たとえばMBa2Cu307−6は包晶反
応によりM B a Cu O5とCu0およびB
a Cu O2とに分解する。示差熱分析によるピーク
の前後での相を同定することにより、包晶反応温度を求
めることができ、包晶反応温度が決定できる。この包晶
反応温度は示差熱ピークの立ち上がり温度をTpとした
ときにTp±30℃の範囲の温度とする。したがって、
この第1の局面では、この包晶反応ピークの現われる温
度領域(ピーク立ち上がりからピーク消失の温度領域)
の一定温度で保持する。
。すなわち、たとえばMBa2Cu307−6は包晶反
応によりM B a Cu O5とCu0およびB
a Cu O2とに分解する。示差熱分析によるピーク
の前後での相を同定することにより、包晶反応温度を求
めることができ、包晶反応温度が決定できる。この包晶
反応温度は示差熱ピークの立ち上がり温度をTpとした
ときにTp±30℃の範囲の温度とする。したがって、
この第1の局面では、この包晶反応ピークの現われる温
度領域(ピーク立ち上がりからピーク消失の温度領域)
の一定温度で保持する。
第1図は、この発明の第1の局面に従う加熱冷却曲線を
示す図である。第1図に示すように、−旦包晶反応温度
T1以上の温度にして溶融した後、包晶反応温度T、ま
で溶融物を降温し、包晶反応温度T、で時間t1の間保
持して、酸化物超電導体を結晶化させる。次に、この酸
化物超電導体を室温まで徐々に冷却する。
示す図である。第1図に示すように、−旦包晶反応温度
T1以上の温度にして溶融した後、包晶反応温度T、ま
で溶融物を降温し、包晶反応温度T、で時間t1の間保
持して、酸化物超電導体を結晶化させる。次に、この酸
化物超電導体を室温まで徐々に冷却する。
この第1の局面において、包晶反応温度を保持する時間
は、1〜20時間が好ましい。また、酸化物超電導体を
冷却する速度は、300℃/hr以下であることが好ま
しい。
は、1〜20時間が好ましい。また、酸化物超電導体を
冷却する速度は、300℃/hr以下であることが好ま
しい。
この第1の局面で用いる酸化物超電導体の原料は、既に
酸化物超電導体の組成になったものであってもよいし、
複合される前の各元素の酸化物であってもよい。既に酸
化物超電導体の組成になった焼結体を出発物質として用
いる場合であっても、この第1の局面に従えば、従来の
ように固相反応を何度も繰返して均一化させる必要がな
くなる。
酸化物超電導体の組成になったものであってもよいし、
複合される前の各元素の酸化物であってもよい。既に酸
化物超電導体の組成になった焼結体を出発物質として用
いる場合であっても、この第1の局面に従えば、従来の
ように固相反応を何度も繰返して均一化させる必要がな
くなる。
この理由は、この発明は酸化物超電導体の原料を溶融す
るステップを備えているため、反応の進行が、固相反応
に比べて速くしかも均一であるからである。
るステップを備えているため、反応の進行が、固相反応
に比べて速くしかも均一であるからである。
具体的には、この第1の局面では、M B a 2 C
u307−Jの包晶反応を利用して、高温相側の液相の
存在する温度領域から冷却し、包晶反応温度付近で、恒
温保持することにより、結晶性の高いM B a 2
Cu 30 r−δが得られる。冷却の速度を遅くする
ことにり、MBa2Cu307−δが安定に単一相とし
て得られる。
u307−Jの包晶反応を利用して、高温相側の液相の
存在する温度領域から冷却し、包晶反応温度付近で、恒
温保持することにより、結晶性の高いM B a 2
Cu 30 r−δが得られる。冷却の速度を遅くする
ことにり、MBa2Cu307−δが安定に単一相とし
て得られる。
また、この第1の局面では、溶融工程を備えるため、固
相反応で得られるものに比べて結晶の緻密性が高いもの
が得られる。
相反応で得られるものに比べて結晶の緻密性が高いもの
が得られる。
この発明の第2の局面に従えば、MBa2Cu307−
δ(ここでMは、Y、Nd、Sm、Eu。
δ(ここでMは、Y、Nd、Sm、Eu。
Gd、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuからな
る群より選ばれる少なくとも1種の元素である)の組成
を有する酸化物超電導体の原料粉末を分散媒中に分散す
るステップと、分散液を基板上に塗布し、この基板上の
分散液を酸化物超電導体の包晶反応温度より高い温度ま
で酸素雰囲気中で加熱して溶融するステップと、基板上
の溶融物を包晶反応温度まで降温し、この温度を一定時
間保持して包晶反応を進行させて結晶化し酸化物超電導
体の厚膜を基板上に形成するステップと、酸化物超電導
体の厚膜を室温まで徐々に冷却するステップとを備えて
いる。
る群より選ばれる少なくとも1種の元素である)の組成
を有する酸化物超電導体の原料粉末を分散媒中に分散す
るステップと、分散液を基板上に塗布し、この基板上の
分散液を酸化物超電導体の包晶反応温度より高い温度ま
で酸素雰囲気中で加熱して溶融するステップと、基板上
の溶融物を包晶反応温度まで降温し、この温度を一定時
間保持して包晶反応を進行させて結晶化し酸化物超電導
体の厚膜を基板上に形成するステップと、酸化物超電導
体の厚膜を室温まで徐々に冷却するステップとを備えて
いる。
この第2の局面において、包晶反応温度は、好ましくは
、示差熱分析法により測定された原料粉末の示差熱ピー
クの立上がり温度Tpの±30℃の範囲の温度である。
、示差熱分析法により測定された原料粉末の示差熱ピー
クの立上がり温度Tpの±30℃の範囲の温度である。
また、溶融ステップにおいては、示差熱分析法により測
定された原料粉末の示差熱ピークの立上がり温度Tpよ
り100℃高い温度を加熱温度の上限とすることが好ま
しい。さらに、冷却ステップにおいては、300℃/h
r以下の冷却速度で冷却することが好ましい。
定された原料粉末の示差熱ピークの立上がり温度Tpよ
り100℃高い温度を加熱温度の上限とすることが好ま
しい。さらに、冷却ステップにおいては、300℃/h
r以下の冷却速度で冷却することが好ましい。
この第2の局面で用いる酸化物超電導体の原料粉末は、
既に酸化物超電導体の組成になったものであってもよい
し、複合される前の各元素の酸化物の混合粉末であって
もよい。
既に酸化物超電導体の組成になったものであってもよい
し、複合される前の各元素の酸化物の混合粉末であって
もよい。
この第2の局面に従う方法について、以下さらに具体的
に例を示して説明する。
に例を示して説明する。
まず、包晶反応を起こすMBa2Cu307−5の焼結
体を作製し、粉砕することによって原料粉末を得る。こ
の原料粉末を示差熱分析法にかけて、示差熱ピークの立
上がり温度Tpを測定する。温度Tpの±30℃の範囲
を包晶反応温度とする。
体を作製し、粉砕することによって原料粉末を得る。こ
の原料粉末を示差熱分析法にかけて、示差熱ピークの立
上がり温度Tpを測定する。温度Tpの±30℃の範囲
を包晶反応温度とする。
包晶反応温度を越え、温度Tpより100℃高い温度を
上限とするように、溶融工程における温度を設定してお
く。
上限とするように、溶融工程における温度を設定してお
く。
次に、原料粉末を分散媒と混合して分散し、この分散液
を単結晶基板上にスクリーン印刷法により塗布する。こ
の基板を炉に入れて、酸素雰囲気のもとて上記の上限の
温度まで加熱し、一定時間保持する。これにより、次の
(1)式の右向きの反応を完了させる。
を単結晶基板上にスクリーン印刷法により塗布する。こ
の基板を炉に入れて、酸素雰囲気のもとて上記の上限の
温度まで加熱し、一定時間保持する。これにより、次の
(1)式の右向きの反応を完了させる。
2MBa Cu O(固相)
2 37−δ
= M B a Cu Os (固相)+3BaC
uO2(液相)+2CuO(液相)・・・(1) その後、包晶反応温度まで降温し、一定時間保持するこ
とにより、上記(I)式の左向きの反応である包晶反応
を進め、所定の膜厚の超電導相を生成する。それから、
300℃/ h r以下の冷却速度で室温まで徐冷する
。
uO2(液相)+2CuO(液相)・・・(1) その後、包晶反応温度まで降温し、一定時間保持するこ
とにより、上記(I)式の左向きの反応である包晶反応
を進め、所定の膜厚の超電導相を生成する。それから、
300℃/ h r以下の冷却速度で室温まで徐冷する
。
第2図は、この発明の第2の局面に従う加熱冷却曲線を
示す図である。第2図に示すように、まず初めに、−旦
Tp+30より高<Tp+100より低い温度まで加熱
し、包晶反応温度を越える高温で基板上の原料粉末を分
解融解反応させる。
示す図である。第2図に示すように、まず初めに、−旦
Tp+30より高<Tp+100より低い温度まで加熱
し、包晶反応温度を越える高温で基板上の原料粉末を分
解融解反応させる。
このようにして液相状態を経由させて、次にTp±30
付近の温度まで降温し、この温度で一定時間保つことに
より包晶反応を進行させる。この第2の局面においても
、液相状態を経由させているので、得られる厚膜は組織
が緻密になり、超電導特性、特に電流密度の向上を図る
ことができる。
付近の温度まで降温し、この温度で一定時間保つことに
より包晶反応を進行させる。この第2の局面においても
、液相状態を経由させているので、得られる厚膜は組織
が緻密になり、超電導特性、特に電流密度の向上を図る
ことができる。
また、上記の分解融解反応と包晶反応とが、可逆反応で
あるために、出発原料組成と形成膜組成が同一となり、
組成制御が容易にできる。
あるために、出発原料組成と形成膜組成が同一となり、
組成制御が容易にできる。
また、基板として、MgO,SrTiO3またはYSZ
(イツトリウム安定化ジルコニア)等の単結晶を用いる
ことにより、超電導体厚膜を特定の方位に配向させるこ
とができるので、臨界電流密度は一層向上する。
(イツトリウム安定化ジルコニア)等の単結晶を用いる
ことにより、超電導体厚膜を特定の方位に配向させるこ
とができるので、臨界電流密度は一層向上する。
この発明の第3の局面に従えば、B a Cu O2と
CuOの混合物を酸素雰囲気中で加熱し、溶融するステ
ップと、M BaCuO3(ここでMはY、Nd、
Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er。
CuOの混合物を酸素雰囲気中で加熱し、溶融するステ
ップと、M BaCuO3(ここでMはY、Nd、
Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er。
Tm、YbおよびLuからなる群より選ばれる少なくと
も1種の元素である)の組成を有する単結晶を溶融液に
浸して、包晶反応により該単結晶の表面上にMBa2C
u307−0の組成を有する酸化物超電導体の薄膜を形
成するステップとを備えている。
も1種の元素である)の組成を有する単結晶を溶融液に
浸して、包晶反応により該単結晶の表面上にMBa2C
u307−0の組成を有する酸化物超電導体の薄膜を形
成するステップとを備えている。
この第3の局面において、原料融液のモル組成比BaC
uO2:CuOが、3:2のときMBa2 Cu a
O7−δの生成が最も速くなることが確認されている。
uO2:CuOが、3:2のときMBa2 Cu a
O7−δの生成が最も速くなることが確認されている。
また、基板面に形成した薄膜を850℃〜900℃の酸
素雰囲気中で3時間以上アニールすることにより、超電
導特性が向上することが確認されている。
素雰囲気中で3時間以上アニールすることにより、超電
導特性が向上することが確認されている。
MB a2 Cu307−8は、酸素濃度、すなわちδ
の値により、相転移を起こす。0≦δ≦0.5の範囲で
は超電導性を示す斜方晶系構造となる。
の値により、相転移を起こす。0≦δ≦0.5の範囲で
は超電導性を示す斜方晶系構造となる。
δ≧0.5では正方晶系構造となる。特に、Tc。
ΔTc、Jc等の特性を考慮すると、δ<0.2が望ま
しい。
しい。
MBa2Cu30□−8の組成を有する酸化物超電導体
を高温に加熱していくと、上記(1)式のような分解融
解反応を生ずる。(I)式に示す反応系は既に述べたよ
うに包晶反応であり、CuOまたはBaCuO2単体の
融解よりも低温で生ずる。
を高温に加熱していくと、上記(1)式のような分解融
解反応を生ずる。(I)式に示す反応系は既に述べたよ
うに包晶反応であり、CuOまたはBaCuO2単体の
融解よりも低温で生ずる。
この第3の局面では、BaCuO2とCuOの混合物か
らなる原料融液にM B a Cu O5の単結晶の
基板を接触させて、上記(I)式の反応を左に進めるこ
とにより、M BaCuO3の単結晶表面上に緻密な
M B a 2 Cu 30 ’7− aの薄膜を形成
している。この反応は、液相反応であり、従来の気相成
長法と比較して成長速度が著しく速く、成長操作も簡単
なものである。原料融液から引上げた基板上の薄膜は、
さらに、850℃〜900℃の酸素雰囲気中で3時間以
上アニールすることにより、超電導特性を向上させるこ
とができる。
らなる原料融液にM B a Cu O5の単結晶の
基板を接触させて、上記(I)式の反応を左に進めるこ
とにより、M BaCuO3の単結晶表面上に緻密な
M B a 2 Cu 30 ’7− aの薄膜を形成
している。この反応は、液相反応であり、従来の気相成
長法と比較して成長速度が著しく速く、成長操作も簡単
なものである。原料融液から引上げた基板上の薄膜は、
さらに、850℃〜900℃の酸素雰囲気中で3時間以
上アニールすることにより、超電導特性を向上させるこ
とができる。
このように、第3の局面に従えば、高い成長速度で比較
的に簡易に酸化物超電導体を製造することができ、製造
コストを低下させることができる。
的に簡易に酸化物超電導体を製造することができ、製造
コストを低下させることができる。
また、この第3の局面に従う方法で製造される薄膜基板
は、たとえば、超電導デバイス用基板として利用するこ
とができる。
は、たとえば、超電導デバイス用基板として利用するこ
とができる。
この発明の第4の局面に従えば、BaCuO2とCuO
の混合物を酸素雰囲気中で加熱し、溶融するステップと
、M BaCuO3(ここで、Mは、Y、Nd、Sm
、Eu、Gd、Dy、Ho。
の混合物を酸素雰囲気中で加熱し、溶融するステップと
、M BaCuO3(ここで、Mは、Y、Nd、Sm
、Eu、Gd、Dy、Ho。
E r、 Tm、 YbおよびLuからなる群より選ば
れる少なくとも1種の元素である)の組成を有する多孔
性の焼結体を前記融液に浸して、包晶反応によりMBa
2Cu307.、の組成を有する酸化物超電導体を形成
するステップを備えている。
れる少なくとも1種の元素である)の組成を有する多孔
性の焼結体を前記融液に浸して、包晶反応によりMBa
2Cu307.、の組成を有する酸化物超電導体を形成
するステップを備えている。
M B a Cu 05の焼結体は、粉末をプレス成
形した後、高温で熱処理して得ることができる。
形した後、高温で熱処理して得ることができる。
この際完全に緻密なものを得ることはできず、多孔性の
焼結体として得られる。、このような多孔性の焼結体を
融液中に浸すと、毛細管現象により、融液が焼結体中に
吸上げられ、焼結体の全体の領域で、上記の(I)の反
応式の包晶凝固反応が生じる。したがって、焼結体の原
料となる粉末の粒径が小さいと、反応は速やかに進行す
るが、粒径が大きいと、M 2 B a Cu O5が
M B a 2 Cu aOの中に取り残されて、MB
a2Cu307−7−δ 、の単一相を得ることが難しくなる。
焼結体として得られる。、このような多孔性の焼結体を
融液中に浸すと、毛細管現象により、融液が焼結体中に
吸上げられ、焼結体の全体の領域で、上記の(I)の反
応式の包晶凝固反応が生じる。したがって、焼結体の原
料となる粉末の粒径が小さいと、反応は速やかに進行す
るが、粒径が大きいと、M 2 B a Cu O5が
M B a 2 Cu aOの中に取り残されて、MB
a2Cu307−7−δ 、の単一相を得ることが難しくなる。
包晶反応によるMBa2Cu307−8の成長は、M
B a Cu O5微粒子の表面から内部へと進行す
るが、それとともに液相を取囲み、外側へも成長する。
B a Cu O5微粒子の表面から内部へと進行す
るが、それとともに液相を取囲み、外側へも成長する。
したがって、原料となるM2BaCu05の焼結体の気
孔率を最適となるように調整すれば、包晶反応が終了し
た時点で、隣接するMBa2 Cu307−6粒子どう
しが完全に密着し緻密な構造を有したバルク状多結晶体
とすることができる。
孔率を最適となるように調整すれば、包晶反応が終了し
た時点で、隣接するMBa2 Cu307−6粒子どう
しが完全に密着し緻密な構造を有したバルク状多結晶体
とすることができる。
このように、M B a Cu O5の焼結体の粒度
および気孔率を調整することにより、緻密なMBa 2
Cu a 07−δのバルク状の多結晶体を速やかに
得ることができる。実験結果から、粒径としては0,5
μm以下が好ましく、気孔率としては5〜30%が好ま
しいことが明らかとなっている。
および気孔率を調整することにより、緻密なMBa 2
Cu a 07−δのバルク状の多結晶体を速やかに
得ることができる。実験結果から、粒径としては0,5
μm以下が好ましく、気孔率としては5〜30%が好ま
しいことが明らかとなっている。
粒径が0.5μmより大きくなると、M B a 2
Cu307−δの内部にM2BaCu05が残り、完全
な単一相を得るのに長時間要し、場合によっては単一相
が得られないことがある。また、気孔率が5%より小さ
いと、反応が進行して気孔の部分が埋め尽された後も、
M B a Cu O5の固相が残り単一相が得られ
ない場合がある。気孔率が30%より大きくなると、反
応が終了してM2 B aCu○5の相がなくなった後
も、気孔の部分が残りその部分にB a Cu O2と
CuOの混合物の融液が残り、やはり単一相を得ること
ができない場合がある。
Cu307−δの内部にM2BaCu05が残り、完全
な単一相を得るのに長時間要し、場合によっては単一相
が得られないことがある。また、気孔率が5%より小さ
いと、反応が進行して気孔の部分が埋め尽された後も、
M B a Cu O5の固相が残り単一相が得られ
ない場合がある。気孔率が30%より大きくなると、反
応が終了してM2 B aCu○5の相がなくなった後
も、気孔の部分が残りその部分にB a Cu O2と
CuOの混合物の融液が残り、やはり単一相を得ること
ができない場合がある。
B a Cu O2とCuOの混合比はモル比で3:2
であることが好ましい。混合比が3:2でない場合には
、毛細管現象によりM B a Cu O5の焼結体
の内部に吸上げられた融液が、上記の(I)式の左向き
の反応、すなわち包晶凝固反応によっても完全になくな
らず、モル比3:2に対して過剰になっている成分がそ
のまま残り、単一相を得ることができない場合がある。
であることが好ましい。混合比が3:2でない場合には
、毛細管現象によりM B a Cu O5の焼結体
の内部に吸上げられた融液が、上記の(I)式の左向き
の反応、すなわち包晶凝固反応によっても完全になくな
らず、モル比3:2に対して過剰になっている成分がそ
のまま残り、単一相を得ることができない場合がある。
したがって、BaCu O2とCuOは、それぞれ(I
)式の化学量論組成に対応した混合比、すなわち3:2
であることが好ましい。
)式の化学量論組成に対応した混合比、すなわち3:2
であることが好ましい。
焼結体を浸した際の融液の保持温度は、厳密には構成元
素により異なる。しかしながら、いずれの元素の場合で
あっても、包晶凝固温度は、1000〜1100℃の範
囲内にある。融液の保持温度は、包晶凝固温度よりO〜
100℃程度低いことが望ましいので、融液の保持温度
としては900〜1100℃が好ましい。
素により異なる。しかしながら、いずれの元素の場合で
あっても、包晶凝固温度は、1000〜1100℃の範
囲内にある。融液の保持温度は、包晶凝固温度よりO〜
100℃程度低いことが望ましいので、融液の保持温度
としては900〜1100℃が好ましい。
また焼結体を融液に浸し保持する時間は、融液の保持温
度や焼結体の粒径等により異なるが、−般には5分〜1
0時間で反応を完了させることができる。
度や焼結体の粒径等により異なるが、−般には5分〜1
0時間で反応を完了させることができる。
この第4の局面に従えば、比較的簡易な工程で、極めて
緻密でかつ特性の良いバルク状の超電導酸化物を製造す
ることができる。また、線材やコイル等を緻密で高臨界
電流密度の超電導体として得ることが可能になる。した
がって、この第4の局面の方法は、送電ケーブルや医療
用コイルなど多くの分野で応用することができる。
緻密でかつ特性の良いバルク状の超電導酸化物を製造す
ることができる。また、線材やコイル等を緻密で高臨界
電流密度の超電導体として得ることが可能になる。した
がって、この第4の局面の方法は、送電ケーブルや医療
用コイルなど多くの分野で応用することができる。
[実施例]
実施例1
以下、まずこの発明の第1の局面に従う実施例について
説明する。
説明する。
酸化物超電導体として、YBa2Cua O7゜を用い
た場合の例について説明する。第3図は、YBa2Cu
30□−8の示差熱分析の結果を示す図である。昇温の
際の吸熱ピークの立上がりは1030℃であり、降温の
際の発熱ピークの立上がりは同じ<1030℃である。
た場合の例について説明する。第3図は、YBa2Cu
30□−8の示差熱分析の結果を示す図である。昇温の
際の吸熱ピークの立上がりは1030℃であり、降温の
際の発熱ピークの立上がりは同じ<1030℃である。
焼結法により作製されたYBa2Cu307−δ粉体を
出発原料として、この出発原料を白金るつぼに入れ、炉
中で加熱溶融する。昇温時に、約1030℃で包晶反応
が開始し、包晶反応が完了した後、1060℃まで加熱
する。この後、5℃/minの冷却速度で包晶反応が開
始する温度まで冷却する。次いで、第2図の示差熱曲線
から発熱ピークの現われている温度領域にある一定温度
1010℃で2時間保持した後、5℃/minの割合で
冷却した。第4図は、この実施例の加熱冷却曲線を示す
図である。
出発原料として、この出発原料を白金るつぼに入れ、炉
中で加熱溶融する。昇温時に、約1030℃で包晶反応
が開始し、包晶反応が完了した後、1060℃まで加熱
する。この後、5℃/minの冷却速度で包晶反応が開
始する温度まで冷却する。次いで、第2図の示差熱曲線
から発熱ピークの現われている温度領域にある一定温度
1010℃で2時間保持した後、5℃/minの割合で
冷却した。第4図は、この実施例の加熱冷却曲線を示す
図である。
以上のようにして得られた結晶について、粉末X線回折
を行なうと、Y B a 2 Cu a O□−5が単
−相で得られていることがわかった。また、密度は理論
値の94%に達しており、緻密な結晶性の良いものが得
られた。
を行なうと、Y B a 2 Cu a O□−5が単
−相で得られていることがわかった。また、密度は理論
値の94%に達しており、緻密な結晶性の良いものが得
られた。
実施例2
次に、酸化物超電導体としてY B a 2 Cu 3
07−δを用い、単結晶基板としてS r T 10
sを用いた、この発明の第2の局面に従う実施例につい
て説明する。
07−δを用い、単結晶基板としてS r T 10
sを用いた、この発明の第2の局面に従う実施例につい
て説明する。
まず、Y B a 2 Cu a O□−8焼結体粉末
を示差熱分析法で包晶反応を示す示差熱ピークを調べた
ところ、1030℃であった。
を示差熱分析法で包晶反応を示す示差熱ピークを調べた
ところ、1030℃であった。
次に、上記の焼結体粉末をプロピレングリコールを用い
て、大きさ1010X10の上記単結晶基板の(100
)面上に塗布し、炉に入れて酸素雰囲気のもとて106
0℃まで加熱した。この加熱を1時間保持した後、10
10℃まで降温し、この温度でさらに1時間保持して超
電導厚膜を形成した。この間の酸素供給量は6m/hr
であった。その後、300℃/ h rの冷却速度で室
温まで徐冷した。
て、大きさ1010X10の上記単結晶基板の(100
)面上に塗布し、炉に入れて酸素雰囲気のもとて106
0℃まで加熱した。この加熱を1時間保持した後、10
10℃まで降温し、この温度でさらに1時間保持して超
電導厚膜を形成した。この間の酸素供給量は6m/hr
であった。その後、300℃/ h rの冷却速度で室
温まで徐冷した。
得られたYBa2Cu307−0超電導体厚膜は、15
〜20μmの厚さを有しており、(001)方位に配向
していた。組織観察によると、固相反応に比較して結晶
性が良くなっており、密度も理論値の94%であり、極
めて緻密であることが確認された。次に、超電導特性を
調べたところ、液体窒素温度以上の温度で超電導転移を
起こし、臨界電流密度が600A/cm2であることが
確認された。
〜20μmの厚さを有しており、(001)方位に配向
していた。組織観察によると、固相反応に比較して結晶
性が良くなっており、密度も理論値の94%であり、極
めて緻密であることが確認された。次に、超電導特性を
調べたところ、液体窒素温度以上の温度で超電導転移を
起こし、臨界電流密度が600A/cm2であることが
確認された。
なお、包晶反応を用いない従来法で作製すると、臨界電
流密度は100A/am2程度であった。
流密度は100A/am2程度であった。
実施例3
以下、この発明の第3の局面に従う実施例について説明
する。第5図は、この発明の第3の局面に従う実施例に
おいて用いられる装置を示す断面図である。第5図にお
いて、基板1は、上軸3の他端に取付けられている。原
料融液2は、白金るつぼ4内に入れられており、るつぼ
4のまわりには、断熱材8を介して円筒状白金ヒータ5
が設けられている。そして、白金ヒータ5のまわりにも
、さらに断熱材8が置かれており、これらは、アルミナ
容器6内に収容されている。アルミナ容器6は、気密容
器9の中央に置かれ、気密容器9の外側には、高周波加
熱コイル11が配置されている。
する。第5図は、この発明の第3の局面に従う実施例に
おいて用いられる装置を示す断面図である。第5図にお
いて、基板1は、上軸3の他端に取付けられている。原
料融液2は、白金るつぼ4内に入れられており、るつぼ
4のまわりには、断熱材8を介して円筒状白金ヒータ5
が設けられている。そして、白金ヒータ5のまわりにも
、さらに断熱材8が置かれており、これらは、アルミナ
容器6内に収容されている。アルミナ容器6は、気密容
器9の中央に置かれ、気密容器9の外側には、高周波加
熱コイル11が配置されている。
上記の円筒状白金ヒータ5は、白金るつぼ4への直接の
加熱を避けるために設けられたものである。
加熱を避けるために設けられたものである。
また、気密容器9には、酸素導入口10が形成されてお
り、酸素が気密容器9内に供給される。白金るつぼ4の
底部には、熱電対7が付設されている。
り、酸素が気密容器9内に供給される。白金るつぼ4の
底部には、熱電対7が付設されている。
白金るつぼには% B a Cu O2とCuOの粉末
状の混合物を入れ、気密容器内に酸素を供給して酸素雰
囲気を保ち、高周波コイルに通電することにより原料混
合物を融解する。熱雷対により原料融液が所定の温度に
保持されていることを確認した後、上軸を下方に移動し
て、M2BaCuO5単結晶からなる基板を原料融液に
浸す。この状態を一定時間保持した後、原料融液の温度
を徐々に下降させて、所定の薄膜を形成する。その後、
上軸を引上げアニール温度まで降温して一定時間保持す
ることにより、基板上にMBa2Cu307−6の超電
導酸化物薄膜を作製することができる。
状の混合物を入れ、気密容器内に酸素を供給して酸素雰
囲気を保ち、高周波コイルに通電することにより原料混
合物を融解する。熱雷対により原料融液が所定の温度に
保持されていることを確認した後、上軸を下方に移動し
て、M2BaCuO5単結晶からなる基板を原料融液に
浸す。この状態を一定時間保持した後、原料融液の温度
を徐々に下降させて、所定の薄膜を形成する。その後、
上軸を引上げアニール温度まで降温して一定時間保持す
ることにより、基板上にMBa2Cu307−6の超電
導酸化物薄膜を作製することができる。
実施例3−1
第5図の製造装置を用いて、Y B a 2 Cu a
07−8の薄膜を製造した。
07−8の薄膜を製造した。
基板は、まず、Y OB a COaおよびC23’
UOをモル比で、
Y:Ba:Cu−2:1:1
の割合に溶融して混合し、プレス成形した後、大気中で
900℃で12時間焼結し、これを粉砕した。この粉末
をアルミするつぼに入れて、1400℃まで加熱して融
解した後、5℃/minの冷却速度で室温まで徐冷して
Y B a Cu O5単結晶を得た。この結晶は、
粉末X線回折法により、Y BaCuO6の単一組成で
あることを確認しま た。この結晶より、2mmX2mmX5mmの大きさの
基板を切り出した。
900℃で12時間焼結し、これを粉砕した。この粉末
をアルミするつぼに入れて、1400℃まで加熱して融
解した後、5℃/minの冷却速度で室温まで徐冷して
Y B a Cu O5単結晶を得た。この結晶は、
粉末X線回折法により、Y BaCuO6の単一組成で
あることを確認しま た。この結晶より、2mmX2mmX5mmの大きさの
基板を切り出した。
一方、原料融液として、粉末状のB a CO3および
CuOをBa:Cu−3:5のモル比で混合してプレス
し、大気中で890℃で12時間焼結した後、粉砕した
ものを用いた。この粉末は、粉末X線回折法により、B
a Cu O2とCuOの混合物であることを確認し
た。なお、X線回折ピークは、BaCuO2およびCu
Oの相を示すだけで他の相を見出せず、また、Ba、C
u共に揮発性をほとんど示さないところから、B a
Cu O2とCuOの混合比は、はぼ3:2になってい
るものと考えられる。この粉末を白金るつぼに入れ、パ
イレックスガラス製の気密容器の中に置いた。
CuOをBa:Cu−3:5のモル比で混合してプレス
し、大気中で890℃で12時間焼結した後、粉砕した
ものを用いた。この粉末は、粉末X線回折法により、B
a Cu O2とCuOの混合物であることを確認し
た。なお、X線回折ピークは、BaCuO2およびCu
Oの相を示すだけで他の相を見出せず、また、Ba、C
u共に揮発性をほとんど示さないところから、B a
Cu O2とCuOの混合比は、はぼ3:2になってい
るものと考えられる。この粉末を白金るつぼに入れ、パ
イレックスガラス製の気密容器の中に置いた。
気密容器には1fL/minの流量で酸素を導入して酸
素雰囲気を保ち、高周波加熱コイルに通電して原料を加
熱した。熱電対の示す温度は、1025℃になったとこ
ろで、原料の表面が完全に融解するのが観察された。こ
の状態の原料融液は、熱分析、X線回折等の別の実験か
ら、B a Cu O2とCuOの混合融液であること
を確認している。
素雰囲気を保ち、高周波加熱コイルに通電して原料を加
熱した。熱電対の示す温度は、1025℃になったとこ
ろで、原料の表面が完全に融解するのが観察された。こ
の状態の原料融液は、熱分析、X線回折等の別の実験か
ら、B a Cu O2とCuOの混合融液であること
を確認している。
熱電対の示す温度を1025℃に維持しながら、上軸を
下方に移動し、基板を原料融液の真上3mmの位置で2
0分間保持し、十分に加熱して原料融液と基板との温度
差を少なくした。次いで、上軸を4mm下方に移動して
原料融液中に基板を浸した。この状態で30分間保持し
た後、10℃/hrの降温速度で原料融液を1005℃
まで冷却した。それから、基板を徐々に引上げ、原料融
液の真上20mmの位置に保持し、熱電対の示す温度が
880℃になるまで降温し、その温度で安定化させて5
時間保持し、酸素雰囲気中で基板をアニールした。なお
、この間、酸素の供給量を1止/minに維持した。そ
の後、150℃/hrの冷却速度で室温まで冷却してか
ら基板を取出した。
下方に移動し、基板を原料融液の真上3mmの位置で2
0分間保持し、十分に加熱して原料融液と基板との温度
差を少なくした。次いで、上軸を4mm下方に移動して
原料融液中に基板を浸した。この状態で30分間保持し
た後、10℃/hrの降温速度で原料融液を1005℃
まで冷却した。それから、基板を徐々に引上げ、原料融
液の真上20mmの位置に保持し、熱電対の示す温度が
880℃になるまで降温し、その温度で安定化させて5
時間保持し、酸素雰囲気中で基板をアニールした。なお
、この間、酸素の供給量を1止/minに維持した。そ
の後、150℃/hrの冷却速度で室温まで冷却してか
ら基板を取出した。
原料融液に浸す前の基板は、Y 2 B a Cu O
5の組成に対応する緑色をしていたが、アニールした後
は基板の表面には黒色の薄膜がコーティングされてい。
5の組成に対応する緑色をしていたが、アニールした後
は基板の表面には黒色の薄膜がコーティングされてい。
この黒色の薄膜をX線回折で構造解析したところ、YB
a2Cu307−δの多結晶層であることが確認された
。次いで、通常の4端子法で抵抗の温度依存性を測定し
たところ、Tc−82にの超電導特性を示し、4.2に
でJc−60OA/cm2であった。さらに、断面を光
学顕微鏡で観察したところ、2mmX5mmの基板表面
全面に膜厚5.3土0,8μmの薄膜が形成されている
ことが確認された。また、電子顕微鏡で表面を観察した
ところ、粒子径20〜30μmの微細な多結晶の、非常
に緻密な集合体であることが確認された。DTA−TG
測測定重量変化の結果からは、Y B a 2 Cu
a O□−8薄膜の酸素濃度は、δ#0,1であり、高
い酸素濃度の良質の薄膜であることが確認された。
a2Cu307−δの多結晶層であることが確認された
。次いで、通常の4端子法で抵抗の温度依存性を測定し
たところ、Tc−82にの超電導特性を示し、4.2に
でJc−60OA/cm2であった。さらに、断面を光
学顕微鏡で観察したところ、2mmX5mmの基板表面
全面に膜厚5.3土0,8μmの薄膜が形成されている
ことが確認された。また、電子顕微鏡で表面を観察した
ところ、粒子径20〜30μmの微細な多結晶の、非常
に緻密な集合体であることが確認された。DTA−TG
測測定重量変化の結果からは、Y B a 2 Cu
a O□−8薄膜の酸素濃度は、δ#0,1であり、高
い酸素濃度の良質の薄膜であることが確認された。
実施例3−2
実施例3−1において、Yの代わりにErを用いて同様
の事件を行なった。
の事件を行なった。
その結果は、Er BaCuO3単結晶基板の上に緻
密なE rBa2Cu307.、の多結晶薄膜が形成さ
れた。薄膜の特性は、Tcが80に、JCが550A/
cm2 (4,2K)であった。
密なE rBa2Cu307.、の多結晶薄膜が形成さ
れた。薄膜の特性は、Tcが80に、JCが550A/
cm2 (4,2K)であった。
実施例4
この発明の第4の局面に従う実施例について以下説明す
る。
る。
実施例4−1
第6図は、この発明の第4の局面に従う一実施例を説明
するための装置を示す断面図である。第6図において、
焼結体21は、上軸23の下方端に取付けられている。
するための装置を示す断面図である。第6図において、
焼結体21は、上軸23の下方端に取付けられている。
原料融液22は、白金るつぼ24内に入れられており、
該白金るつぼ24のまわりには、断熱材28を介して白
金ヒータ25が設けられている。白金ヒータ25のまわ
りにも断熱材28が設けられており、これらの断熱材は
アルミナ容器26内に入れられている。アルミナ容器2
6の全体は、気密容器29内に入れられており、気密容
器29のまわりには、高周波加熱コイル31が設けられ
ている。気密容器29には、酸素導入口30が形成され
ており、この酸素導入口30から酸素が気密容器29内
に供給される。
該白金るつぼ24のまわりには、断熱材28を介して白
金ヒータ25が設けられている。白金ヒータ25のまわ
りにも断熱材28が設けられており、これらの断熱材は
アルミナ容器26内に入れられている。アルミナ容器2
6の全体は、気密容器29内に入れられており、気密容
器29のまわりには、高周波加熱コイル31が設けられ
ている。気密容器29には、酸素導入口30が形成され
ており、この酸素導入口30から酸素が気密容器29内
に供給される。
白金るつぼ24の底部には、熱電対27が設けられてい
る。
る。
この実施例において、原料融液22は、BaCO3およ
びCuOの粉末原料を混合してプレスし、大気中890
℃で12時間焼結した後粉砕したものを用いている。混
合比はモル比でBa:Cu−3: 5 (BaCu02
: Cu0=3 : 2)であり、得られた粉砕後の
粉末は粉末X線回折法により、B a Cu O2およ
びCuOの混合物であることを確認した。 。
びCuOの粉末原料を混合してプレスし、大気中890
℃で12時間焼結した後粉砕したものを用いている。混
合比はモル比でBa:Cu−3: 5 (BaCu02
: Cu0=3 : 2)であり、得られた粉砕後の
粉末は粉末X線回折法により、B a Cu O2およ
びCuOの混合物であることを確認した。 。
焼結体21としては、Y OBaC0aお2 3 ゝ
よびCuOをモル比で、Y:Ba:Cu−2:1:1の
割合で溶融して混合し、プレス成形した後、大気中90
0℃で12時間焼結し粉砕した後、直径10mm、長さ
25mmの柱状にプレス成形し、さらに大気中1080
℃で5時間焼結して作製したものを用いた。この焼結体
21は、粉末X線回折法により、M 2 B a Cu
O5の単一組成であることを確認した。
割合で溶融して混合し、プレス成形した後、大気中90
0℃で12時間焼結し粉砕した後、直径10mm、長さ
25mmの柱状にプレス成形し、さらに大気中1080
℃で5時間焼結して作製したものを用いた。この焼結体
21は、粉末X線回折法により、M 2 B a Cu
O5の単一組成であることを確認した。
焼結体21および原料融液22として、以上のようにし
て調製されたものを用い、第6図に示す装置で超電導酸
化物を製造した。白金るっぽ24に原料粉末を入れ、高
周波コイル31により加熱した。円筒状の白金ヒータ2
5は、白金るっぽ24への直接の加熱を避けるため設け
られたものである。
て調製されたものを用い、第6図に示す装置で超電導酸
化物を製造した。白金るっぽ24に原料粉末を入れ、高
周波コイル31により加熱した。円筒状の白金ヒータ2
5は、白金るっぽ24への直接の加熱を避けるため設け
られたものである。
パイレックスガラス製の気密容器29内では、酸素導入
口30よりIQ/mtnの流量で、酸素を導入し、気密
容器29内を酸素雰囲気とした。
口30よりIQ/mtnの流量で、酸素を導入し、気密
容器29内を酸素雰囲気とした。
このような酸素雰囲気中で、白金るっぽ24内の原料を
加熱し昇温した。熱雷対27の示す温度が、1025℃
になったところで、白金るっぽ24内の原料の表面が完
全に液化するのが観察された。この状態は、これまでの
熱分析、X線回折等の実験から、B a Cu O2お
よびCuOが融解して液相となった状態であることが明
らかになっている。
加熱し昇温した。熱雷対27の示す温度が、1025℃
になったところで、白金るっぽ24内の原料の表面が完
全に液化するのが観察された。この状態は、これまでの
熱分析、X線回折等の実験から、B a Cu O2お
よびCuOが融解して液相となった状態であることが明
らかになっている。
熱電対27の示す温度を1025℃に維持しながら、上
軸23を下方に移動し、焼結体21を原料融液22の真
上3mmの位置で20分間保持し、十分に加熱して原料
融液22と焼結体21との温度差を少なくした。次に、
上軸23を4mm下方に移動し、原料融液22中に焼結
体21の先端部を浸した。この状態で焼結体21を30
分間浸した後、徐々に引上げ、原料融液22の真上20
mmの位置保持し、熱電対27の示す温度が880℃に
なるまで10℃/hrの降温速度で降温した後、880
℃で安定化させた。この状態のままで、焼結体21を5
時間保持し、酸素雰囲気中で焼結体21をアニールした
。その後、冷却速度150℃/hrで室温まで冷却し、
焼結体21を取出した。なお、この間酸素供給量を流量
111/minに維持した。
軸23を下方に移動し、焼結体21を原料融液22の真
上3mmの位置で20分間保持し、十分に加熱して原料
融液22と焼結体21との温度差を少なくした。次に、
上軸23を4mm下方に移動し、原料融液22中に焼結
体21の先端部を浸した。この状態で焼結体21を30
分間浸した後、徐々に引上げ、原料融液22の真上20
mmの位置保持し、熱電対27の示す温度が880℃に
なるまで10℃/hrの降温速度で降温した後、880
℃で安定化させた。この状態のままで、焼結体21を5
時間保持し、酸素雰囲気中で焼結体21をアニールした
。その後、冷却速度150℃/hrで室温まで冷却し、
焼結体21を取出した。なお、この間酸素供給量を流量
111/minに維持した。
原料融液22に浸ける前に焼結体21は、Y2B a
Cu 05の組成を有する緑色の物質であったが、原料
融液22に浸し上述のプロセスを経た後は、黒色の物質
に変化していた。この黒色物質をX線回折法で構造解析
したところ、Y B a 2 Cu30?−Jの超電導
酸化物であることが確認された。
Cu 05の組成を有する緑色の物質であったが、原料
融液22に浸し上述のプロセスを経た後は、黒色の物質
に変化していた。この黒色物質をX線回折法で構造解析
したところ、Y B a 2 Cu30?−Jの超電導
酸化物であることが確認された。
また、通常の4端子法で抵抗の温度依存性を測定したと
ころ、Tc−82にの超電導特性を示し、4.2にでJ
c=1050A/cm2であった。
ころ、Tc−82にの超電導特性を示し、4.2にでJ
c=1050A/cm2であった。
さらに、断面を研摩し、電子顕微鏡で観察したところ、
粒径30〜70μmの微結晶が非常に緻密に詰まった構
造を有していることがわかった。また、EDXにより、
元素組成比を分析したところ、Y:Ba:Cu−1:2
:3であり、この物質がYBa2Cu307−6の組成
であることが確認された。
粒径30〜70μmの微結晶が非常に緻密に詰まった構
造を有していることがわかった。また、EDXにより、
元素組成比を分析したところ、Y:Ba:Cu−1:2
:3であり、この物質がYBa2Cu307−6の組成
であることが確認された。
実施例4−2
実施例4−1と同様の装置を用い、円柱状の焼結体に代
えて、直径2mm、長さ80mmの線材の焼結体を用い
る以外は、実施例4−1と同様にして超電導酸化物を製
造した。原料融液および焼結体の組成等は、実施例4−
1と同じである。
えて、直径2mm、長さ80mmの線材の焼結体を用い
る以外は、実施例4−1と同様にして超電導酸化物を製
造した。原料融液および焼結体の組成等は、実施例4−
1と同じである。
得られた線材は、X線回折法により、Y B a 2C
u307−δの超電導酸化物に変化していることが確認
された。また、通常の4端子法により抵抗の温度依存性
を測定したところ、Tc−80にの超電導特性を示し、
4.2にでJC−780A/cm2を示した。
u307−δの超電導酸化物に変化していることが確認
された。また、通常の4端子法により抵抗の温度依存性
を測定したところ、Tc−80にの超電導特性を示し、
4.2にでJC−780A/cm2を示した。
第1図は、この発明の第1の局面に従う加熱冷却曲線を
示す図である。第2図は、この発明の第2の局面に従う
加熱冷却曲線を示す図である。第3図は、YBa2Cu
307−8焼結体の示差熱分析結果を示す図である。第
4図は、この発明の第1の局面に従う実施例における加
熱冷却曲線を示す図である。第5図は、この発明の第3
の局面に従う実施例において用いられる装置を示す断面
図である。第6図は、この発明の第4の局面に従う実施
例において用いられる装置を示す断面図である。 図において、1は基板、2は原料融液、3は上軸、4は
白金るつぼ、5は白金ヒータ、6はアルミナ容器、7は
熱雷対、8は断熱材、9は気密容器、10は酸素導入口
、11は高周波加熱コイル、21は焼結体、22は原料
融液、23は上軸、24は白金るつぼ、25は白金ヒー
タ、26はアルミナ容器、27は熱電対、28は断熱材
、29は気密容器、30は酸素導入口、31は高周波加
熱コイルを示す。 (ほか2名)′− 第2図 菰 時間 TP:袈晶反応温度 第3図 第4図 偲 第5図
示す図である。第2図は、この発明の第2の局面に従う
加熱冷却曲線を示す図である。第3図は、YBa2Cu
307−8焼結体の示差熱分析結果を示す図である。第
4図は、この発明の第1の局面に従う実施例における加
熱冷却曲線を示す図である。第5図は、この発明の第3
の局面に従う実施例において用いられる装置を示す断面
図である。第6図は、この発明の第4の局面に従う実施
例において用いられる装置を示す断面図である。 図において、1は基板、2は原料融液、3は上軸、4は
白金るつぼ、5は白金ヒータ、6はアルミナ容器、7は
熱雷対、8は断熱材、9は気密容器、10は酸素導入口
、11は高周波加熱コイル、21は焼結体、22は原料
融液、23は上軸、24は白金るつぼ、25は白金ヒー
タ、26はアルミナ容器、27は熱電対、28は断熱材
、29は気密容器、30は酸素導入口、31は高周波加
熱コイルを示す。 (ほか2名)′− 第2図 菰 時間 TP:袈晶反応温度 第3図 第4図 偲 第5図
Claims (20)
- (1)包晶反応により結晶化する酸化物超電導体の原料
を包晶反応温度より高い温度まで加熱し、溶融するステ
ップと、 前記溶融物を前記包晶反応温度まで降温し、この温度を
一定時間保持して前記包晶反応を進行させ前記酸化物超
電導体を結晶化するステップと、前記酸化物超電導体を
室温まで徐々に冷却するステップを備える、酸化物超電
導体の製造方法。 - (2)前記酸化物超電導体がMBa_2Cu_3O_7
_−_δ(ここで、Mは、Y、Nd、Sm、Eu、Gd
、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuからなる群
より選ばれる少なくとも1種の元素である)の組成を有
する、請求項1記載の酸化物超電導体の製造方法。 - (3)前記包晶反応温度が示差熱分析法により測定され
た示差熱ピークの立上がり温度の±30℃の範囲の温度
である、請求項1記載の酸化物超電導体の製造方法。 - (4)前記結晶化ステップが前記包晶反応温度を1〜2
0時間保持するステップを備える、請求項1記載の酸化
物超電導体の製造方法。 - (5)前記冷却ステップが、300℃/hr以下の冷却
速度で冷却するステップを備える、請求項1記載の酸化
物超電導体の製造方法。 - (6)MBa_2Cu_3O_7_−_δ(ここでMは
、Y、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、T
m、YbおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも
1種の元素である)の組成を有する酸化物超電導体の原
料粉末を分散媒中に分散するステップと、 前記分散液を基板上に塗布し、この基板上の分散液を前
記酸化物超電導体の包晶反応温度より高い温度まで酸素
雰囲気中で加熱して溶融するステップと、 前記基板上の溶融物を前記包晶反応温度まで降温し、こ
の温度を一定時間保持して包晶反応を進行させて結晶化
し前記酸化物超電導体の厚膜を基板上に形成するステッ
プと、 前記酸化物超電導体の厚膜を室温まで徐々に冷却するス
テップを備える、酸化物超電導体の製造方法。 - (7)前記包晶反応温度が、示差熱分析法により測定さ
れた前記原料粉末の示差熱ピークの立上がり温度の±3
0℃の範囲の温度である、請求項6記載の酸化物超電導
体の製造方法。 - (8)前記溶融ステップは、示差熱分析法により測定さ
れた前記原料粉末の示差熱ピークの立上がり温度より1
00℃高い温度を加熱温度の上限とするステップを備え
る、請求項6記載の酸化物超電導体の製造方法。 - (9)前記冷却ステップが、300℃/hr以下の冷却
速度で冷却するステップを備える、請求項6記載の酸化
物超電導体の製造方法。 - (10)前記基板として、MgO、YSZまたはTiS
rO_3の単結晶を用いる、請求項6記載の酸化物超電
導体の製造方法。 - (11)BaCuO_2とCuOの混合物を酸素雰囲気
中で加熱し、溶融するステップと、M_2BaCuO_
5(ここでMは、Y、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、
Ho、Er、Tm、YbおよびLuからなる群より選ば
れる少なくとも1種の元素である)の組成を有する単結
晶を前記溶融液に浸して、包晶反応により該単結晶の表
面上にMBa_2Cu_3O_7_−δの組成を有する
酸化物超電導体の薄膜を形成するステップとを備える、
酸化物超電導体の製造方法。 - (12)前記薄膜を酸素雰囲気中で850℃〜900℃
の温度で3時間以上アニールするステップをさらに備え
る、請求項11記載の酸化物超電導体の製造方法。 - (13)前記溶融ステップが、BaCuO_2とCuO
の混合比をモル比で3:2とした混合物を用いるステッ
プを備える、請求項11記載の酸化物超電導体の製造方
法。 - (14)BaCuO_2とCuOの混合物を酸素雰囲気
中で加熱し、溶融するステップと、M_2BaCuO_
5(ここでMは、Y、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、
Ho、Er、Tm、YbおよびLuからなる群より選ば
れる少なくとも1種の元素である)の組成を有する多孔
性の焼結体を前記溶融液に浸して、包晶反応によりMB
a_2Cu_3O_7_−_δ組成を有する酸化物超電
導体を形成するステップとを備える、酸化物超電導体の
製造方法。 - (15)前記溶融ステップが、BaCuO_2とCuO
の混合比をモル比で3:2とした混合物を用いるステッ
プを備える、請求項14記載の酸化物超電導体の製造方
法。 - (16)前記焼結体が、0.5μm以下の粒径の粒子か
ら構成されている、請求項14記載の酸化物超電導体の
製造方法。 - (17)前記焼結体が、5〜30%の気孔率を有する、
請求項14記載の酸化物超電導体の製造方法。 - (18)前記超電導体形成ステップが、900〜110
0℃に保持された溶融液に前記焼結体を浸すステップを
備える、請求項14記載の酸化物超電導体の製造方法。 - (19)前記超電導体形成ステップが、5分〜10時間
前記焼結体を前記溶融液に浸して保持するステップを備
える、請求項14記載の酸化物超電導体の製造方法。 - (20)前記超電導体形成ステップ後の超電導体を5℃
/hr〜110℃/hrで冷却するステップをさらに備
える、請求項14記載の酸化物超電導体の製造方法。
Applications Claiming Priority (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-301073 | 1987-11-26 | ||
| JP30107387 | 1987-11-26 | ||
| JP1976388 | 1988-01-30 | ||
| JP63-19763 | 1988-01-30 | ||
| JP3091688 | 1988-02-15 | ||
| JP63-30916 | 1988-02-15 | ||
| JP63-34032 | 1988-02-18 | ||
| JP3403288 | 1988-02-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01286902A true JPH01286902A (ja) | 1989-11-17 |
| JP2707499B2 JP2707499B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=27457251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63294963A Expired - Lifetime JP2707499B2 (ja) | 1987-11-26 | 1988-11-22 | 酸化物超電導体の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4994437A (ja) |
| EP (2) | EP0319807B1 (ja) |
| JP (1) | JP2707499B2 (ja) |
| CA (1) | CA1334785C (ja) |
| DE (2) | DE3855137T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05201729A (ja) * | 1991-08-31 | 1993-08-10 | Samsung Electro Mech Co Ltd | イットリウム系超伝導体の製造方法 |
| JP2007131510A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-05-31 | Railway Technical Res Inst | 酸化物超電導バルク体の製造方法および酸化物超電導バルク体 |
| JP2012031003A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Nippon Steel Corp | 酸化物超電導バルク材料の製造方法 |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU595142B2 (en) * | 1988-01-11 | 1990-03-22 | American Telephone And Telegraph Company | Method of making a body, and article comprising the body |
| US5278137A (en) * | 1988-06-06 | 1994-01-11 | Nippon Steel Corporation | YBa2 Cu3 O7-y type oxide superconductive material containing dispersed Y2 BaCuO5 phase and having high critical current density |
| JPH0712928B2 (ja) * | 1989-03-13 | 1995-02-15 | 学校法人東海大学 | 超電導物品の製造方法 |
| US5200389A (en) * | 1989-03-13 | 1993-04-06 | The Tokai University Juridicial Foundation | Method for manufacturing an oxide superconducting article |
| FR2647434A1 (fr) * | 1989-05-23 | 1990-11-30 | Rhone Poulenc Chimie | Materiau ceramique supraconducteur, composition precurseur de ce materiau et procede de preparation |
| DE69032641T2 (de) * | 1989-11-02 | 1999-01-28 | International Superconductivity Technology Center, Tokio/Tokyo | Verfahren zur Herstellung eines oxidischen Supraleiters |
| KR930004024B1 (ko) * | 1990-04-27 | 1993-05-19 | 삼성전기 주식회사 | 초전도 집적회로소자의 제조방법 |
| JP2821794B2 (ja) * | 1990-05-08 | 1998-11-05 | 財団法人国際超電導産業技術研究センター | 酸化物超電導体およびその製造方法 |
| FR2668500B1 (fr) * | 1990-10-29 | 1992-12-24 | Alsthom Cge Alcatel | Procede d'elaboration d'une structure microcristalline de rba2cu3oy ou r designe un lanthanide. |
| KR930002960B1 (ko) * | 1990-12-15 | 1993-04-16 | 재단법인 한국표준연구소 | 용침-반응법을 이용한 YBa_2Cu_3Ox 초전도체의 제조방법 |
| JP2688455B2 (ja) * | 1990-12-20 | 1997-12-10 | 財団法人国際超電導産業技術研究センター | 希土類系酸化物超電導体及びその製造方法 |
| US5270292A (en) * | 1991-02-25 | 1993-12-14 | The Catholic University Of America | Method for the formation of high temperature semiconductors |
| JP2740427B2 (ja) * | 1992-05-25 | 1998-04-15 | 財団法人国際超電導産業技術研究センター | 酸化物結晶の作製方法 |
| KR960000500B1 (ko) * | 1992-11-14 | 1996-01-08 | 한국과학기술원 | YBa₂Cu₃O_7-x 초전도체의 개선된 제조 방법 |
| USH1399H (en) * | 1993-07-06 | 1995-01-03 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Process for transforming pure Y2 BaCuO5 into a superconducting matrix of YBa2 Cu3 O7-x with fine and homogeneously dispersed Y2 BaCuO5 inclusions |
| DE4339407A1 (de) * | 1993-11-18 | 1995-05-24 | Dresden Ev Inst Festkoerper | Verfahren zur Herstellung von bandförmigen Hochtemperatur-Supraleitern |
| DE4420322C2 (de) * | 1994-06-13 | 1997-02-27 | Dresden Ev Inst Festkoerper | YBa¶2¶Cu¶3¶O¶X¶-Hochtemperatur-Supraleiter und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US5660541A (en) * | 1994-10-13 | 1997-08-26 | General Atomics | Method for heat treating long lengths of silver clad high temperature superconductor |
| US5591698A (en) * | 1994-12-29 | 1997-01-07 | University Of Hawaii | Low temperature (T lower than 950° C.) preparation of melt texture YBCO superconductors |
| US5872081A (en) * | 1995-04-07 | 1999-02-16 | General Atomics | Compositions for melt processing high temperature superconductor |
| US5846912A (en) * | 1996-01-04 | 1998-12-08 | Lockheed Martin Energy Systems, Inc. | Method for preparation of textured YBa2 Cu3 Ox superconductor |
| CA2194347A1 (en) * | 1996-01-05 | 1997-07-06 | Ilhan A. Aksay | Method for producing ceramic superconductor single crystals |
| US5789347A (en) * | 1996-09-19 | 1998-08-04 | Illinois Superconductor Corporation | Method of producing high-temperature superconducting materials |
| JP3613424B2 (ja) * | 1996-09-27 | 2005-01-26 | 財団法人国際超電導産業技術研究センター | 酸化物超電導体の製造方法 |
| ATE242917T1 (de) | 1997-03-21 | 2003-06-15 | Haldor Topsoe As | Verfahren zum herstellen eines supraleiter vom typ selten erde-barium-kupraten |
| JPH11268986A (ja) * | 1998-03-20 | 1999-10-05 | International Superconductivity Technology Center | 酸化物単結晶体の製造方法 |
| DE10128320C1 (de) * | 2001-06-12 | 2002-07-25 | Trithor Gmbh | Verfahren zum Herstellen von Hochtemperatur-Supraleitern |
| IT1398934B1 (it) | 2009-06-18 | 2013-03-28 | Edison Spa | Elemento superconduttivo e relativo procedimento di preparazione |
| SG10202111139QA (en) * | 2017-04-10 | 2021-11-29 | True 2 Mat Pte Ltd | High temperature superconducting material and a method for production |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| LU72235A1 (ja) * | 1975-04-07 | 1977-03-18 | ||
| GB2201955B (en) * | 1987-03-11 | 1991-09-18 | Ibm | Electrically superconducting compositions and processes for their preparation |
-
1988
- 1988-11-22 JP JP63294963A patent/JP2707499B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-25 CA CA000584212A patent/CA1334785C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-25 EP EP88119722A patent/EP0319807B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-25 DE DE3855137T patent/DE3855137T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-25 DE DE88119722T patent/DE3887478T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-25 EP EP92113349A patent/EP0513867B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-28 US US07/276,725 patent/US4994437A/en not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS * |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05201729A (ja) * | 1991-08-31 | 1993-08-10 | Samsung Electro Mech Co Ltd | イットリウム系超伝導体の製造方法 |
| JP2007131510A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-05-31 | Railway Technical Res Inst | 酸化物超電導バルク体の製造方法および酸化物超電導バルク体 |
| JP2012031003A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Nippon Steel Corp | 酸化物超電導バルク材料の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0319807A1 (en) | 1989-06-14 |
| EP0513867A2 (en) | 1992-11-19 |
| DE3887478D1 (de) | 1994-03-10 |
| EP0513867A3 (en) | 1993-02-24 |
| US4994437A (en) | 1991-02-19 |
| DE3855137T2 (de) | 1996-08-29 |
| EP0319807B1 (en) | 1994-01-26 |
| CA1334785C (en) | 1995-03-21 |
| DE3887478T2 (de) | 1994-05-11 |
| JP2707499B2 (ja) | 1998-01-28 |
| EP0513867B1 (en) | 1996-03-20 |
| DE3855137D1 (de) | 1996-04-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH01286902A (ja) | 酸化物超電導体の製造方法 | |
| US4956336A (en) | Oriented grained Y-Ba-Cu-O superconductors having high critical currents and method for producing same | |
| EP0423375B1 (en) | Oxide superconductor and method of producing the same | |
| WO1998057382A1 (en) | ENHANCEMENT OF Jc IN OXIDE SUPERCONDUCTORS | |
| US5306697A (en) | Oriented grained Y-Ba-Cu-O superconductors having high critical currents and method for producing same | |
| JPH09306256A (ja) | バルク酸化物超電導体ならびにその線材及び板の作製方法 | |
| US5089468A (en) | Process for producing bismuth-based superconducting oxide | |
| JP2920497B2 (ja) | 超電導テープ材の製造方法 | |
| JPH02275776A (ja) | 超電導体の製造方法 | |
| US5229357A (en) | Method of producing superconducting ceramic wire and product | |
| Wada et al. | Superconductive (Y1− xCax) Ba2Cu4O8 (x= 0.0 and 0.05) ceramics prepared by low and high oxygen partial pressure techniques | |
| JPH07115924B2 (ja) | 酸化物超電導体の製造方法 | |
| US5401717A (en) | Elongate bismuth system superconductor having aligned 2212 phase | |
| JPH0687611A (ja) | 酸化物系超電導体、その製造方法及び線材 | |
| JP2655797B2 (ja) | ビスマス系超電導セラミックス配向厚膜の形成方法 | |
| JP2685951B2 (ja) | ビスマス系超電導体の製造方法 | |
| JPH0450103A (ja) | 酸化物超電導材料およびその製造方法 | |
| EP0436723B1 (en) | Oxide superconductor and method of producing the same | |
| JP2540639B2 (ja) | ビスマス系超電導体の製造方法 | |
| JP4153651B2 (ja) | 酸化物超電導材料の種結晶及びこれを用いた酸化物超電導材料の製造方法 | |
| JP2007131510A (ja) | 酸化物超電導バルク体の製造方法および酸化物超電導バルク体 | |
| JPH06187848A (ja) | 酸化物超伝導線材およびその製造方法 | |
| JPH03187902A (ja) | 高温超伝導物質の製造方法 | |
| Poeppel et al. | Recent improvements in bulk properties of ceramic superconductors | |
| JPH0524825A (ja) | 希土類系酸化物超電導体の製造方法とその原料粉末 |