JPH01290662A - ピラゾールカルボン酸クロライド類の製造方法 - Google Patents

ピラゾールカルボン酸クロライド類の製造方法

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JPH01290662A
JPH01290662A JP11709588A JP11709588A JPH01290662A JP H01290662 A JPH01290662 A JP H01290662A JP 11709588 A JP11709588 A JP 11709588A JP 11709588 A JP11709588 A JP 11709588A JP H01290662 A JPH01290662 A JP H01290662A
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清一 渡辺
Katsutoshi Ishikawa
勝敏 石川
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、医薬・農薬等の原料として有用なピラゾール
カルボン酸クロライド類の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
従来のピラゾールカルボン酸クロライド類の製造方法と
しては、チオニルクロライドを用いる方法(特開昭60
−34949号、Agric、l1io1.Che−、
、AL(1)。
45 〜50.1984  、 Au5t、J、Che
m、、1983.n、135〜147、)が知られてい
る。
(発明が解決しようとする!m1ll)上記のチオニル
クロライドを用いる方法では、ピラゾールカルボン酸類
と極めて激しい反応を起こすため、反応を制御するのが
困難であり、また、その隙に2、激な発熱を伴い、腐食
性の亜硫酸ガスを大量に発生する。そのために副生じた
大量の亜硫酸ガスを処理する装置、煩雑な手間がかかる
等の工業的な製法上の課題がある。
(!!!題を解決するための手段及び作用〕本発明者ら
は、上記課題について鋭意検討の結果、ピラゾールカル
ボン酸類をホスゲン又はトリクロロメチルクロロホーメ
ートと反応させる製造方法を見出し、本発明に到った。
すなわち、−紋穴(+) (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子若しくは低級ア
ルコキシ基で置換された低級アルキル基、hは低級アル
キル基、低級アルケニル基、アルキルカルバモイル基又
はハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ハロゲン
原子で置換された低級アルケニル基を示す、)で表され
るピラゾールカルボン酸類をホスゲン又はトリクロロメ
チルクロロホーメ−1−と反応させることを特徴とすべ
2 (式中、Rh 、、Ihは一般式(1)と同じ。)で表
されるピラゾールカルボン酸クロライド類の製造方法で
ある。
一般式(1)のピラゾールカルボン酸類としては、例え
ば、式中R1を非限定的に例示すれば、水素、弗素、塩
素、臭素、沃素、メチル基、エチル基、トプロピル基、
l5o−プロピル基、n−ブチル基、5ec−ブチル基
、1so−ブチル基、ter L−ブチル基、n−ペン
チル基、1〜メチルブチル基、2−メチルブチル基、3
−メチルブチル基、1.1−ジメチルプロピル基、2.
2−ジメチルプロピル基、n−へキシル1&、1−メチ
ルペンチルL 、2−メチルペンチル基、3−メチルペ
ンチル基、1.1−ジメルブチル基、2.2−ジメチル
ブチル基、3.3−ジメチルブチルL 1.2−ジメチ
ルブチル基、1.3−ジメチルブチル基、1−エチル−
2−メチルプロピル基、1−エチルブチル基、2−エチ
ルブチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、
トリクロロメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチ
ル基、プロポキシメチル基、メトキシ基、エトキシ基及
びプロポキシ基等、またR□としては、メチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、1sO−プロピル基、i−ブチ
ル基、5ee−ブチル基、1so−ブチル基、tert
−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチルブチル基、2
−メチルブチル基、3−メチルブチル基、1.1−ジメ
チルプロピル基、2.2−ジメチルプロピルLn:ヘキ
シル基、l−メチルペンチル基5.2−メチルペンチル
基、3−メチルペンチル基4−メチルペンチル基、1.
1−ジメルブチル基、2.2−ジメチルブチル基、3.
3−ジメチルブチルL 1.2−ジメチルブチル基、1
.3−ジメチルブチル基、l−エチル−2−メチルプロ
ピルLl−エチルブチル基、2−エチルブチル基、β、
β、β、−トリフルオロエチル基、2−プロペニル基、
1−メチル−2−プロペニル5.2−メチル−2−プロ
ペニル基、3−クロロプロペニル基、2−ブテニル基、
メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル!及びプロ
ピルカルバモイル基等である。
本発明の反応は、溶液又は懸濁状態で行うため、溶媒中
で行うのが好ましい。また溶媒としては反応に不活性な
ものであればよい0例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類、酢酸
エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル等のエステル
類、N、N−ジメチルホルムアミド、1.3−ジメチル
−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキサイド等の
非プロトン性掻性溶媒、テトラクロロエチレン、クロロ
ベンゼン等の/Sロゲン化炭化水素類、ピリジン、ピコ
リン等の有機塩基類が挙げられるが、これらに限られる
わけではない、また、これらの)容媒を混合して反応溶
媒として用いることも可能である。
溶媒の添加量は、ピラゾールカルボン酸itモルに対し
0.5〜iol、好ましくは1〜41で用いるのが効率
的である。
ピラゾールカルボン酸類に対するホスゲン又はトリクロ
ロメチルクロロホーメートの添加量は、ピラゾールカル
ボ7611モルに対し1.0〜10.0モル、好ましく
は1.0〜5.0モルがよい。
反応温度は、常温からそれぞれの溶液の沸点の間で反応
させることができる。
反応時間は、ピラゾールカルボン酸類の溶液中にホスゲ
ンを吹き込む場合、加熱還流下、5〜50時間、好まし
くは8〜20時間である。また、ピラゾールカルボン酸
類の溶液にトリクロロメチルクロロホーメートを滴下す
る場合、加熱還流下、2〜40時間、好ましくは5〜2
0時間である。
反応終了後、反応液は濾過し濾液を濃縮することにより
ピラゾールカルボン酸クロライド類を得ることができる
。得られたピラゾールカルボン酸クロライド類の純度分
析は、ガスクロマトグラフィーによる。
本発明における好ましい実施B様については次のとおり
である。
温度計、攪拌機、凝縮器を備えた反応器に所定量のピラ
ゾールカルボン酸類と所定の溶媒を仕込んだ溶液又は懸
濁液に、ホスゲンを吹き込み又はトリクロロメチルクロ
ロホーメートを滴下して所定温度で還流下、所定時間反
応を行う。
反応終了後、反応液を濾過し濾液を濃縮することにより
目的のピラゾールカルボン酸クロライド類を得ることが
できる。
なお、濃縮時の留出液は再度反応系へ溶媒として回収す
ることができる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例1゛ 100sffiの三゛ンロフラスコに1.3−ジメチル
ピラゾール−4−カルボン酸5g(0,036モル)を
トルエン50mJ!に懸濁させ、加熱還流下、ホスゲン
を320−l/時間の流量で10時間吹き込んだ(ホス
ゲン。
0.144モル)0反応終了後、反応液を濾過し濾液を
濃縮して5.5gの1.3−ジメチルピラゾール−4−
カルボン酸クロライドを得た。純度98.0%で収率は
98.0%であった。
実施例2 実施例1と同様の装置に、1.3−ジエチルピラゾール
−5−カルボン酸6.7g(0,04モル)をジオキサ
ン100■lに懸濁させ加熱還流下、トリクロロメチル
クロロホーメート11.9g(0,06モル)を8時間
滴下した0滴下終了後、更に2時間攪拌を続けた。
反応終了後、反応液を濾過し濾液を:a縮して1.3−
ジメチルピラゾール−5−カルボン酸クロライド6゜2
gを得た。純度97.5%、収率95.0%であった。
実施例3 実施例1と同様の装置に、l−メチル−3−トリフルオ
ロメチルピラゾール−4−カルボン酸6.7g(0,0
3モル)を酢酸ブチル80m lに懸濁させ加熱還流下
、ホスゲンを140m j! 7時間の流量で14時間
吹き込んだ(ホスゲン:0.09モル)0反応終了後、
反応液を濾過し濾液を濃縮して1−メチル−3−トリフ
ルオロメチルピラゾール−4−カルボン酸クロライド6
.7gを得た。純度97.0%、収率95.0%であっ
た。
実施例4 実施例1と同様の装置に、1−メチル−3−メトキシピ
ラゾール−5−カルボン酸6.2g(0,04モル)を
ジメチルスルホキシド100s lに熔解し、温度14
0℃でホスゲンを500* l 7時間の流量で8時間
吹き込んだ(ホスゲン:Q、 18モル)0反応終了後
、反応液を濾過し濾液を濃縮して1−メチル−3−メト
キシピラゾール、5−カルボン酸クロライド6.6gを
得た。純度98.0%、収率97.0%であった実施例
5 実施例1と同様の装置に、1−アリル−3−メチルピラ
ゾール−4−カルボン酸5.0g(0,03モル)をク
ロロベンゼン100+mj!に懸濁させ加熱還流下、ホ
スゲンを180m 11時間の流量で15時間吹き込ん
だ(ホスゲン:0.12モル)0反応終了後、反応液を
濾過し濾液を濃縮して1−アリル−3−メチルピラゾー
ル−4−カルボン酸クロライド5.3gを得た。純度9
7゜0%、収率98.0%であった。
実施例6 実施例1と同様の装置に、1−メチルカルバモイル−3
−メチルピラゾール−4−カルボン酸9.1g(0,0
5モル)をピリジン130膳2に懸濁させ、加熱還流下
、トリクロロメチルクロロホーメー)13.8g(0゜
07モル)を10時間で滴下した9滴下終了後、更に2
.5時間撹拌した。反応終了後、反応液を濾過し濾液を
濃縮して1−メチルカルバモイル−3−メチルピラゾー
ル−4−カルボン酸クロライド9.7gを得た。
純度97.0%、収率93.0%であった。
実施例7 実施例1と同様の装置に、l−へキシル−3−メチルピ
ラゾール−4−カルボン酸8.4g(0,04モル)を
エチレングリコールジメチルエーテル120+ej!に
懸濁させ、加熱還流下、ホスゲンを250m l 7時
間の流量で18時間吹き込んだ(ホスゲン:0.20モ
ル)、吹き込み終了後、更に2,0時間撹拌した0反応
終了後、反応液を濾過し濾液をa縮してl−へキシル−
3−メチルピラゾール−4−カルボン酸クロライド8.
7gを得た。純度96.0%、収率91.0%であった
〔発明の効果〕
本発明の方法によれば、反応の制御もしやすく、また、
副生物の処理もなく、目的のものを高純度・高収率で得
ることができる。また、得られたピラゾールカルボン酸
クロライド類は、医薬、農薬等の中間体として、精製操
作を加えることなく、次工程に用いることができ、工業
的に有用な方法である。
特許出願人  三井東圧化学株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキ
    ル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子若しくは低級
    アルコキシ基で置換された低級アルキル基、R_2は低
    級アルキル基、低級アルケニル基、アルキルカルバモイ
    ル基又はハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ハ
    ロゲン原子で置換された低級アルケニル基を示す。)で
    表されるピラゾールカルボン酸類をホスゲン又はトリク
    ロロメチルクロロホーメートと反応させることを特徴と
    する一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1、R_2は一般式( I )と同じ。)で
    表されるピラゾールカルボン酸クロライド類の製造方法
JP11709588A 1988-05-16 1988-05-16 ピラゾールカルボン酸クロライド類の製造方法 Expired - Lifetime JPH0788362B2 (ja)

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