JPH0129176B2 - - Google Patents

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JPH0129176B2
JPH0129176B2 JP59252268A JP25226884A JPH0129176B2 JP H0129176 B2 JPH0129176 B2 JP H0129176B2 JP 59252268 A JP59252268 A JP 59252268A JP 25226884 A JP25226884 A JP 25226884A JP H0129176 B2 JPH0129176 B2 JP H0129176B2
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JP59252268A
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Kinji Hashimoto
Kyoto Goto
Yoshiaki Tsuda
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はナフトキノン誘導体に関する。 従来の技術 本発明のナフトキノン誘導体は、文献未載の新
規化合物である。 発明が解決しようとする問題点 本発明は、後記するように医薬品として有用な
化合物を提供することを目的とする。 問題点を解決するための手段 本発明によれば、下記一般式(1)で表わされるナ
フトキノン誘導体が提供される。 〔式中R1は低級アルキル基を示す。R2はホルミ
ル基、カルボキシ基、置換基としてカルボキシ、
ヒドロキシ又は低級アルコキシカルボニル基を有
することのあるアルキル基、置換基としてカルボ
キシ又は低級アルコキシカルボニル基を有するビ
ニル基、CO−R3(R3はフエニル、フエニル低級
アルキル又は低級アルケニル基を示す)又は
【式】(R4はフエニル、フエニル低級アルキ ル又は低級アルケニル基を示す)を示す。〕 本明細書において低級アルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、
ペンチル、ヘキシル基等を例示できる。低級アル
コキシカルボニル基としては、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル、イソブトキシカルボニル、t−ブトキシカ
ルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシル
オキシカルボニル基等を例示できる。フエニル低
級アルキル基としては、ベンジル、フエネチル、
フエニルプロピル、フエニルブチル、フエニルペ
ンチル、フエニルヘキシル基等を例示できる。低
級アルケニル基としては、ビニル、アリル、2−
ブテニル、3−ブテニル、1−メチル−2−プロ
ペニル、2−ペンテニル、2−ヘキセニル基等を
例示できる。またアルキル基には、上記例示の低
級アルキル基の他、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデ
シル、オクタデシル、エイコシル基等が包含され
る。 本発明の上記一般式(1)で表わされる化合物は、
プロスタグランジン生合成の遮断作用や調節作用
を有し、動物、とりわけ哺乳動物に対して抗炎
症、抗リウマチ、抗アレルギー、鎮痛、利尿、血
小板凝集阻止、血圧降下等の作用を示す。従つて
これは抗炎症剤、抗リウマチ剤、抗アレルギー
剤、鎮痛剤、利尿剤、抗血栓剤、降圧剤等の医薬
として有用である。 本発明のナフトキノン誘導体は、例えば下記各
反応工程式に示す方法により製造することができ
る。 〔各式中R1は上記に同じ。R2′はホルミル基又は
カルボキシ基を示す。〕 上記反応工程式−1において出発原料とする一
般式(A)で表わされる化合物(以下これを「化合物
(A)」と表記し、他の化合物についても同様の表記
法を採用する)は、公知である〔J.Org.Chem.、
44、2153(1979)〕。 化合物(A)のブロム化は、例えばN,N−ジメチ
ルホルムアミド(DMF)等の極性溶媒中、N−
ブロムコハク酸イミド(NBS)等のブロム化剤
を用いて実施される。ブロム化剤は化合物(A)に対
して好ましくは当モル量使用され、反応は約0〜
80℃の温度条件下に良好に進行し、約2〜16時間
で完結する。 上記により得られる化合物(B)の低級アルコキシ
化は、ラオ(Durvasula V.Rao)らの報文
〔Synthesis、308(1983)〕に従い、メタノール、
エタノール等の低級アルコール類のナトリウム塩
を化合物(B)に対して1〜4倍当量用いて、DMF
及び低級アルコール類の混合溶媒中、約80〜120
℃で1〜4時間程度を要して実施される。その際
銅塩例えば塩化第2銅、沃化第1銅等を化合物(B)
に対して約1/2〜2倍モル量用いれば反応はより
好適に進行する。かくして化合物(C)を収得する。 化合物(C)の酸化反応は、好ましくはジヨーンズ
(Jones)試薬を用いる方法(Reagents for
Organic Synthesis、Vol.1、142、Wiley、New
York、1967〕により行なわれる。即ち該酸化反
応は、例えばアセトン、ジオキサン、エーテル
等、好ましくはアセトンを溶媒として、約0〜30
℃の温度条件下に実施される。用いられるジヨー
ンズ試薬量は、化合物(C)に対して、クロム酸量と
して当モル〜20倍モル量、好ましくは2〜8倍モ
ル量とするのが好適である。該ジヨーンズ酸化反
応により、R2′がカルボキシル基である目的化合
物(1a)を収得できる。 R2′がホルミル基である化合物(1a)は、好ま
しくはセリツクアンモニウムニトラート
〔(NH42Ce(NO36、以下「CAN」という〕等の
四価のセリウム塩を用いた酸化反応により製造さ
れる。該反応は、例えばジオキサン、アセトニト
リル、テトラヒドロフラン、ジクロルメタン、ク
ロロホルム、エーテル等の溶媒中、化合物(C)に対
して当モル〜5倍モル量、好ましくは2〜2.5倍
モル量のCANを用い、約−20〜60℃、好ましく
は約0〜30℃下に行なわれる。 〔各式中R1は前記に同じ。R5はアルキル基、フ
エニル基、フエニル低級アルキル基、低級アルケ
ニル基又はベンジルオキシアルキル基を、R6
ヒドロキシアルキル基を、またR7はCO−R3
(R3は前記に同じ)、【式】基(R4は前記に 同じ)、ヒドロキシアルキル基又はカルボキシア
ルキル基を示す。〕 反応工程式−2に示す方法によれば、まず化合
物(C)の炭素−炭素結合反応(増炭反応)により化
合物(D)が製造される。該増炭反応は、通常のグリ
ニヤール反応と同様にして行なわれる。該反応に
用いられるグリニヤール試薬は、R5基を与える
ハロゲン化物、例えばアルキルハライド、ハロゲ
ン化フエニル等と、その1モルに対し約1〜1.2
モル量のマグネシウムとから、常法に従い容易に
調製できる。上記反応は例えばエーテルやテトラ
ヒドロフラン等の通常用いられる溶媒中、上記グ
リニヤール試薬を化合物(C)に対して当モル〜5倍
モル量、好ましくは当モル〜3倍モル量利用し
て、約0〜30℃の温度条件下に行なわれる。 かくして得られる化合物(D)のうち、R5基がベ
ンジルオキシアルキル基以外の化合物は、次いで
これを前記したCANを用いる酸化反応又はジヨ
ーンズ試薬を用いる酸化反応に従わせることによ
り、目的化合物(1b)に誘導することができる。 また化合物(D)のうち、R5基がベンジルオキシ
アルキル基である化合物は、次いでこれを脱水反
応後、水素添加反応させて化合物(E)を得、更にこ
れを酸化反応させることによりR7がビドロキシ
アルキル基又はカルボキシアルキル基である目的
化合物(1b)に誘導することができる。 上記化合物(D)(R5=ベンジルオキシアルキル)
の脱水反応は、通常有機溶媒中、酸触媒の存在下
に行なわれる。溶媒としては、例えばベンゼン、
エーテル、クロロホルム、ジクロルメタン等を使
用できる。酸触媒としては、例えば塩化水素ガ
ス、p−トルエンスルホン酸等を使用できる。反
応は上記酸の触媒量を用いて、約0℃〜溶媒の沸
点温度範囲にて良好に進行する。 上記脱水反応に引き続く、水素添加反応は、通
常の接触還元反応に従い、例えば5〜10%パラジ
ウムカーボン、酸化白金(PtO2)、ラネーニツケ
ル等を触媒として用いて、アルコール、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド、水、エーテル等の溶
媒中、常圧〜10気圧程度の水素圧下に行なわれ
る。かくして原料化合物の脱ベンジル化及び二重
結合の還元が同時に行なわれ、化合物(E)を収得で
きる。 化合物(E)の酸化は、前述したCANを用いる反
応及びジヨーンズ試薬を用いる方法と同様にして
実施でき、CANを用いる酸化反応によればR7
ヒドロキシアルキル基である化合物(1b)が、
またジヨーンズ酸化によればR7がカルボキシア
ルキル基である化合物(1b)が、夫々製造され
る。 〔各式中R1は前記に同じ。R8は低級アルキル基
及びR9はCH=CHCOOR8(R8は上記に同じ)、
CH=CHCOOH又は(CH22COOHを示す。〕 上記方法によれば化合物(C)の増炭反応を、レホ
ルマトスキイ反応に従い実施することにより、化
合物(F)を収得できる。該反応はベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の溶媒中、亜鉛等の存在下に化合
物(C)にα−ハロ酢酸エステルを縮合させることに
より行なわれる。α−ハロ酢酸エステルとして
は、ブロム酢酸低級エステルが好ましく用いられ
る。その使用量は、化合物(C)に対して通常等モル
〜5倍モル量、好ましくは等モル〜3倍モル量と
されるのがよく、亜鉛は化合物(C)に対して通常等
モル〜5倍モル量、好ましくは等モル〜3倍モル
量用いられるのがよい。反応は約50℃〜溶媒の沸
点温度の範囲で良好に進行する。 かくして得られる化合物(F)の脱水反応は、上述
した化合物(D)の脱水反応と同様の条件下に実施さ
れ、これにより化合物(G)を製造できる。 化合物(G)の加水分解反応は、常法に従い実施さ
れ、特に水酸化アルカリを用いたアルカリ加水分
解法が好ましく採用される。水酸化アルカリは化
合物(G)に対して通常等モル〜20倍モル量の範囲で
用いられ、反応はアルコール、水、これらの混合
溶媒中、約20℃〜溶媒の沸点範囲の温度下に行な
われる。 上記により得られる化合物(H)の水素添加は、前
述した接触還元反応と同様の条件下に行なわれ、
かくして化合物(I)を収得できる。 また上記で得られる化合物(G)、化合物(H)及び化
合物(I)は、之等を夫々前述したCANを用いる酸
化反応又はジヨーンズ試薬を用いる酸化反応に従
わせることにより、化合物(1c)に誘導すること
ができる。 〔式中R1は前記に同じ。R10はメチル基又はヒド
ロキシメチル基を示す。〕 反応工程式−4によれば、化合物(C)の還元反応
により化合物(J)を、次いで該化合物(J)の酸化反応
により化合物(1d)を製造できる。上記還元反
応は、公知の方法に従い、NaBH4、LiAlH4等の
ハイドライドを用いる方法又は接触還元法による
ことができる。ハイドライドを用いる還元反応に
よれば、R10がヒドロキシメチル基である化合物
(J)を収得できる。また接触還元は、好ましくは過
塩素酸の少量(触媒量)を用いて、前述した方法
に従い行なわれ、これによりR10がメチル基であ
る化合物(J)を収得できる。 化合物(J)の酸化反応は、前述したCANを用い
る反応により実施できる。 〔式中R1は前記に同じ。R11はカルボキシアルキ
ル基を、R12は低級アルコキシカルボニルアルキ
ル基を夫々示す。〕 上記によれば、化合物(1e)のエステル化反応
により、化合物(1f)を製造できる。該エステル
化反応は、好ましくはアルカリ存在下に、ハライ
ド類を用いて行なわれる。ここでハライド類とし
ては低級アルキルハライド、例えば沃化メチル、
塩化エチル、沃化イソプロピル等を例示できる。
アルカリとしては、ピリジン、トリエチルアミン
等の有機アミン類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム等を利用できる。反応はジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン
等の極性溶媒中、約20〜50℃の温度条件下に行な
われる。アルカリ及びハライド類の使用量は任意
に決定されるが、通常化合物(1e)に対して、
夫々約1〜10倍モル量、好ましくは約1〜5倍モ
ル量とされるのがよい。 〔式中R1及びR2は前記に同じ。〕 本発明化合物(1)(キノン化合物)は、これを常
法に従い還元することにより、化合物(K)(ハイド
ロキノン化合物)に変換できる。この還元反応
は、例えば塩化第1錫、水素化ホウ素ナトリウ
ム、ナトリウムハイドロサルフアイド等及び接触
水素添加用触媒を用いて接触還元する方法により
行ない得る。例えば塩化第1錫を用いる場合、反
応は塩酸酸性とした含水アルコール中で、化合物
(1)に対して当モル〜3倍モル量のSnCl2・2H2O
を用い約−20〜30℃で行なわれる。水素化ホウ素
ナトリウムの場合、反応は好ましくはアルコール
中で、化合物(1)の約1/2〜3倍モル量の水素化ホ
ウ素ナトリウムを用い、約0〜30℃で実施され
る。ナトリウムハイドロサルフアイドの場合、こ
れは約10%前後の水溶液形態で用いられ、反応は
アセトン、エーテル、ジオキサン、水等の溶媒中
で約0℃〜沸点の範囲の温度で進行する。更に接
触水添用触媒例えば5〜10%Pd−カーボン、
PtO2等を用いる場合、之等を通常の触媒量用い、
アルコール、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド、エーテル、ヘキサン等の溶媒中、常圧〜3気
圧の圧力下に水添することにより反応は完結す
る。 また化合物(K)は、空気酸化や塩化第二鉄、酸化
銀等の酸化剤を用いて常法に従い、容易に酸化さ
れ、本発明化合物(1)とすることができる。上記塩
化第二鉄は通常水溶液形態で化合物(K)に対し当モ
ル〜20倍モル用いられ、この場合、反応はテトラ
ヒドロフラン、アルコール、水等の溶媒中で約0
〜30℃で実施される。また酸化銀は化合物(K)に対
し当モル〜20倍モル用いられ、この場合、反応は
エーテル、アセトン、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等の溶媒中、約0〜30℃で行なわれる。 上記各反応工程により得られる目的物は、慣用
の分離手段、例えば溶媒抽出、再結晶、カラムク
ロマトグラフイー等により容易に単離精製するこ
とができる。 また本発明化合物(1)中、遊離のカルボキシル基
を有するものは、アルカリ金属塩例えばナトリウ
ム塩、カリウム塩等やアルカリ土類金属塩例えば
カルシウム塩、マグネシウム塩等とすることがで
きる。之等の塩形成反応は常法に従つて行なうこ
とができる。かくして得られる塩類も亦、遊離形
態の本発明化合物と同様の薬理活性を有してお
り、本発明範囲に包含される。更に本発明化合物
には光学異性体や幾何異性体が考えられ、かかる
異性体も亦本発明範囲に含まれるものである。 実施例 以下、本発明化合物を製造するための原料化合
物の製造例を参考例として挙げ、次いで本発明化
合物の製造例を実施例として挙げる。 参考例 1 4,5,8−トリメトキシ−1−ナフトアルデ
ヒドの製造 4,8−ジメトキシ−1−ナフトアルデヒド
195gをジメチルホルムアミド(DMF)800mlに
溶解させ、氷冷下、これにN−ブロモコハク酸イ
ミド(NBS)160gのDMF溶液800mlを加える。
反応混合物を1晩撹拌した後、水約8に移し、
析出結晶を取し、水洗する。得られる粗結晶を
減圧下に乾燥して、5−ブロモ−4,8ジメトキ
シ−1−ナフトアルデヒド240g(90%)を得る。 NMR分析(CDCl3、δ値) 10.78(1H、s)、7.88(1H、d、J=8.3)、7.72
(1H、d、J=8.3)、6.93(1H、d、J=8.3)、
6.77(1H、d、J=8.3)、3.99(3H、s)、3.97
(3H、s) このものは、精製することなく、次の反応に使
用できる。 次いで、無水メタノール1にナトリウム77.5
gを溶解させた液に、沃化銅(I)(CuI)155g及
びDMF1を加え、得られる混液に上記で得たブ
ロム体240gを加え、1時間還流する。反応混合
物から不純物を別し、母液に水約6を加えて
結晶を析出させ、これを取し、10%塩酸で洗浄
し、次いで水洗し、更にイソプロピルアルコール
次いでエーテルで夫々洗浄して、目的化合物の粗
結晶140g(70%)を得る。 NMR分析(CDCl3、δ値) 10.87(1H、s)7.91(1H、d、J=8.6)、6.90
(1H、d、J=8.6)、6.87(2H、bs)、4.01(3H、
s)、3.93(3H、s)、3.91(3H、s) このものも更に精製せずとも、次の反応に使用
できる。 参考例 2 1−(1−フエニルヒドロキシメチル)−4,
5,8−トリメトキシナフタレンの製造 ブロムベンゼン4.8g、マグネシウム800mg及び
THF20mlから調製したグリニヤール試薬を、氷
冷下、4,5,8−トリメトキシ−1−ナフトア
ルデヒド2.4gのテトラヒドロフラン(THF)30
ml溶液に加えて20分撹拌する。その後、飽和
NH4溶液に移し、エーテル抽出し、有機層を水
洗した後、無水MgSO4で乾燥し、濃縮して得ら
れた粗結晶をクロロホルム・ヘキサン混合溶媒で
再結晶して、2.95g(93%)の白色結晶を得る。
融点161〜162℃ 参考例 3〜8 参考例2と同様にして、後記第1表に示す参考
例3〜8の各化合物を得る。 参考例 9 1−ヒドロキシメチル−4,5,8−トリメト
キシナフタレンの製造 参考例1で得た4,5,8−トリメトキシ−1
−ナフトアルデヒド8gをエタノール200ml及び
THF200mlに溶解し、60℃で加温し、撹拌下に
NaBH4の2gを徐々に加える。1時間撹拌の後
に、3%HClにて酸性とし、反応混合物を
CH2Cl2で抽出し、乾燥(MgSO4)し、濃縮後、
得られた粗結晶をクロロホルム・ヘキサン混合溶
媒から再結晶して、6.5g(82%)の目的物を白
色結晶として得る。 融点112.5〜113.5℃ 参考例 10 1−メチル−4,5,8−トリメトキシナフタ
レンの製造 参考例1で得た4,5,8−トリメトキシ−1
−ナフトアルデヒド3gを酢酸50ml及び70%
HClO40.1mlに溶解し、10%Pd−C700mgを加え、
常圧下に25℃で水素添加を行なう。撹拌を3.5時
間続け、触媒を別し、液に水を加えCH2Cl2
抽出し、有機層を5%NaHCO3水溶液で洗い、
その後水洗、乾燥(MgSO4)及び濃縮して得ら
れる結晶を、クロロホルム・ヘキサン混合溶媒で
再結晶して、1.95g(70%)の白色結晶の目的物
を得る。 融点95〜96.5℃ 参考例 11 3−ヒドロキシ−3−〔1−(4,5,8−トリ
メトキシ)ナフチル〕プロピオン酸メチルエス
テルの製造 参考例1で得た4,5,8−トリメトキシ−1
−ナフトアルデヒド23g、亜鉛板20g及びベンゼ
ン600mlの混合液に、ブロム酢酸メチル28mlを還
流撹拌下、約1時間を要して加える。その後30分
加熱還流を続けた後、反応混合物を水に移し、不
溶物を別し、塩化メチレンで洗い、液を塩化
メチレンで抽出する。乾燥(MgSO4)、濃縮後、
カラムクロマトグラフイー(塩化メチレン:酢酸
エチル=3:1)で精製して、目的物12g(40
%)を淡黄色結晶として得る。 融点105〜107℃ 参考例 12 β−〔1−(4,5,8−トリメトキシ)ナフチ
ル〕アクリル酸メチルエステルの製造 参考例11で得た3−ヒドロキシ−3−〔1−
(4,5,8−トリメトキシ)ナフチル〕プロピ
オン酸メチルエステル10gを、クロロホルム500
mlに溶解し、90gHClガスをエタノール900mlに
溶かして調製したエタノール性HClの5mlを加
え、室温で2.5時間放置する。無水K2CO3で乾燥
後、溶媒を留去し、得られた結晶をクロロホル
ム・ヘキサン混合溶媒で再結晶して、9g(95
%)の目的物を黄色結晶として得る。 融点132〜133℃ 参考例 13 3−〔1−(4,5,8−トリメトキシ)ナフチ
ル〕アクリル酸の製造 参考例12で得たβ−〔1−(4,5,8−トリメ
トキシ)ナフチル〕アクリル酸メチルエステル
4.3gをメタノール150ml及び2N−NaOH70mlに
混合し、30分還流する。冷却後、濃塩酸にて酸性
にし、析出する結晶を取し、水洗して得られる
黄色結晶を、乾燥して、4g(97%)の目的物を
得る。 融点223〜225℃(分解) 参考例 14 3−〔1−(4,5,8−トリメトキシ)ナフチ
ル〕プロピオン酸の製造 参考例13で得た3−〔1−(4,5,8−トリメ
トキシ)ナフチル〕アクリル酸4gをDMF300ml
及びエタノール300mlに溶解し、10%Pd−C1gを
加え、常圧下に25℃にて水素添加する。約2時間
後、触媒を別し、溶媒を留去し、得られた結晶
をクロロホルム・ヘキサン混合溶媒から再結晶し
て3.7g(92%)の目的物を得る。 融点168〜170℃ 参考例 15及び16 1−(7−ベンジルオキシヘプタ−1−エン)−
4,5,8−トリメトキシナフタレン(参考例
14)及び1−(7−ヒドロキシヘプチル)−4,
5,8−トリメトキシナフタレン(参考例15)
の製造 トリメトキシアルデヒド10gのTHF210ml溶液
に、エーテル150ml中で6−ベンジルオキシ−1
−ブロムヘキサン23gとマグネシウム2.1gとか
ら調製したグリニヤール試薬を、参考例2と同様
にして反応させて縮合体を得、これに参考例12と
同様に脱水反応操作を行ない、カラムクロマトグ
ラフイー(酢酸エチル−ヘキサン)にて精製し
て、参考例15の化合物10g(78%)を油状物質と
して得る。 NMR分析(CDCl3、δ値) 7.22−7.43(7H、m)、6.80(1H、d、J=7.4)、
6.77(2H、s)、5.67(1H、dt、J=15.5及び
6.6)、4.48(2H、s)、3.91(3H、s)、3.87
(3H、s)、3.78(3H、s)、3.48(t、J=
6.1)、2.1−2.5(2H、m)、1.3−2.0(6H、m) 更に上記化合物7.3gを、DMF150ml及び水15
mlに溶解し、10%Pd−Cの1gの存在下に、常
圧下、25℃で撹拌しながら16時間を要して接触水
添して、参考例16の化合物5.5g(95%)を油状
物質として得る。 NMR(CDCl3、δ値) 7.11(d、8.1)、6.83(d、8.5)、6.78(d、8.1)

6.71(d、8.5)、3.91(s、3H)、3.86(s、3H)、
3.85(s、3H)、3.58(t、6.3)、3.15(brt、
6.6)、2.18(s、1H)、1.1−1.8(m、10H) 参考例 17 1−(4−ヒドロキシブチル)−4,5,8−ト
リメトキシナフタレンの製造 参考例16と同様にして上記化合物を得る。 上記各参考例で得た化合物とその物性を下記第
1表に示す。 【表】 【表】 実施例 1 5−カルボキシ−8−メトキシ−1,4−ナフ
トキノンの製造 4,5,8−トリメトキシ−1−ナフトアルデ
ヒド3gをアセトン70mlに溶解し氷冷下にジヨー
ンズ試薬100mlを加え、撹拌をさらに3時間続け
る。反応混合物を水に移し、塩化メチレンで抽出
し、有機層を乾燥(MgSO4)し、濃縮し、得ら
れる結晶を、クロロホルム:メタノール:エチル
エーテル混合溶媒から再結晶して、1.5g(53%)
の黄色結晶の目的物を得る。 融点208−210℃(分解) 実施例 2〜7 前記第1表に示す参考例2、4及び5、13、14
及び16の化合物を用いて、実施例1と同様にし
て、後記第2表に示す実施例2〜7の各化合物を
得る。 実施例 8 5−ヒドロキシメチル−8−メトキシ−1,4
−ナフトキノンの製造 1−ヒドロキシメチル−4,5,8−トリメト
キシナフタレン8gを塩化メチレン100mlに溶解
し、その中にCAN44gを水150mlに溶解したもの
を加え、15分間撹拌し、その後有機層を水洗し、
乾燥(MgSO4)し、濃縮して得られる結晶を、
クロロホルム・エチルエーテル混合溶媒で再結晶
して、5.3g(75%)の黄色結晶の目的物を得る。
融点165〜167℃(分解) 実施例 9〜19 前記第1表に示す参考例1〜7、10、12、16及
び17の化合物を用いて、実施例11と同様にして、
後記第2表に示す実施例9〜19の各化合物を得
る。 実施例 20 5−(2−メトキシカルボニルエチル)−8−メ
トキシ−1,4−ナフトキノンの製造 5−(2−カルボキシエチル)−8−メトキシ−
1,4−ナフトキノン2.6g、K2CO32.5g及び沃
化メチル3mlをDMF50mlに混合し、25℃で16時
間撹拌する。反応混合物を水に移し、酢酸エチル
で抽出し、有機層を水洗、、乾燥(MgSO4)及び
濃縮し、得られる結晶を酢酸エチル・ヘキサン混
合溶媒で再結晶して、2g(72%)の黄色結晶の
目的物を得る。 融点123.5〜125℃ 同様の操作で後記第2表に示す実施例4の化合
物から同表の実施例17の化合物を製造することも
できる。 各実施例で得られた化合物及びその物性を下記
第2表に示す。 【表】 【表】 以下、本発明化合物を用いた薬理試験結果を示
す。 (1) 抗炎症作用:ラツトにおけるカラゲニン誘発
足浮腫抑制 S.D.系雄性ラツト(170−190g、絶食)1群
5匹を使用し、シー.エー.ウインター(C.
A.Winter)らの方法(Proc.Soc.Exp.Biol.
Med.、111、544(1962)〕に準じて本試験を行
なつた。 検体の経口投与1時間後に、1%カラゲニン
溶液0.1mlを右足蹠皮下に注射した。3時間後
における足容積を測定し、カラゲニン処置前の
体積に対する増加率を求め、これ対照群の増加
率と比較して抑制率(%)を求めた。 結果を第1表に示す。 【表】 上記データより明らかな通り、本発明化合物
は優れた浮腫抑制作用を示し、抗炎症剤として
有用である。 (2) 抗炎症作用:5−リポキシゲナーゼ阻害作用 細胞の調整及び5−リポキシゲナーゼ活性の
測定は、ジー・エム・ボツコホ(G.M.
Bokoch)とピー・ダリユー・リード(P.W.
Reed)の方法(J.Biol.Chem.、256、4156
(1981)〕及び越智らの方法〔J.Biol.Chem.、
258、5754(1983)〕に準じて行なつた。 即ち、モルモツトに2%カゼインを腹腔内投
与し、14〜16時間後に放血死させ、腹後内を洗
浄して浸潤細胞を採取した。1mM CaCl2
び5.5mMグルコースを含むリン酸緩衝液に上
記細胞を2.5×107セル/mlの濃度で懸濁させ
た。この細胞懸濁液を30℃で2分間インキユベ
ーシヨンした後、10μMの濃度で検体を加え、
更に2分間インキユベーシヨンした。その後、
10μMイオノフオアA23187、続いて10μM14C−
アラキドン酸を加えた。3分間インキユベーシ
ヨン後、0.2Mクエン酸を加えて反応を停止し、
生成物を酢酸エチルで抽出した。抽出物を薄層
板にスポツトし、展開後、アラキドン酸、5
(S)−ヒドロキシ−6,8,11,14−エイコサ
テトラエン酸(5−HETE)及びその他の部
分をかき取り、 14Cをシンチレーターで計数し
た。検体の阻害活性はコントロールの5−
HETE生成率に対する抑制率で表わした。 結果を第2表に示す。 【表】 上記結果から本発明化合物は優れた5−リポ
キシゲナーゼ阻害活性を示し、抗炎症剤として
有用であることが判る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中R1は低級アルキル基を示す。R2はホルミ
    ル基、カルボキシ基、置換基としてカルボキシ、
    ヒドロキシ又は低級アルコキシカルボニル基を有
    することのあるアルキル基、置換基としてカルボ
    キシ又は低級アルコキシカルボニル基を有するビ
    ニル基、CO−R3基(R3はフエニル基、フエニル
    低級アルキル又は低級アルケニル基を示す)又は
    【式】基(R4はフエニル、フエニル低級アル キル又は低級アルケニル基を示す。)を示す。〕 で表わされるナフトキノン誘導体。
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