JPH0133093B2 - - Google Patents
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- JPH0133093B2 JPH0133093B2 JP59107920A JP10792084A JPH0133093B2 JP H0133093 B2 JPH0133093 B2 JP H0133093B2 JP 59107920 A JP59107920 A JP 59107920A JP 10792084 A JP10792084 A JP 10792084A JP H0133093 B2 JPH0133093 B2 JP H0133093B2
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- alkyl group
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
技術分野
本発明はナフタレン及びナフトキノン誘導体に
関する。 発明の構成 本発明のナフタレン及びナフトキノン誘導体
は、文献未載の新規化合物であり、下記一般式(1)
で表わされる。 〔式中環Ａは
関する。 発明の構成 本発明のナフタレン及びナフトキノン誘導体
は、文献未載の新規化合物であり、下記一般式(1)
で表わされる。 〔式中環Ａは
【式】又は
【式】を示す。
R1は低級アルキル基を示す。R2は水素原子、C1
〜C20のアルキル基、フエニル低級アルキル基、
アリル基、置換基としてベンジルオキシ基を有す
るC1〜C10のアルキル基又は置換基として水素基
を有するC1〜C10のアルキル基を示す。但し環Ａ
が
〜C20のアルキル基、フエニル低級アルキル基、
アリル基、置換基としてベンジルオキシ基を有す
るC1〜C10のアルキル基又は置換基として水素基
を有するC1〜C10のアルキル基を示す。但し環Ａ
が
【式】を示す場合には、R2は水素原子、
C1〜C20のアルキル基又は置換基として水酸基を
有するC1〜C10のアルキル基であつてはならな
い。〕 上記一般式(1)で表わされる本発明の化合物は、
抗炎症作用、抗補体作用、抗高血圧作用、心疾患
治療作用、抗アレルギー作用、血小板凝集阻止作
用、抗腫瘍作用、抗菌作用等を有し、消炎鍾瘍
剤、降圧剤、心疾患治療剤、抗アレルギー剤、血
栓防止剤、抗腫傷剤、抗菌剤等として有用であ
る。 本明細書において、低級アルキル基としては、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−
ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６
のアルキル基を例示できる。 C1〜C20のアルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、
ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ト
リデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコ
シル基等を例示できる。 フエニル低級アルキル基としては、例えばベン
ジル、α−フエネチル、β−フエネチル、１−フ
エニルプロピル、２−フエニルプロピル、３−フ
エニルプロピル、１−フエニルブチル、２−フエ
ニルブチル、３−フエニルブチル、４−フエニル
ブチル、１−フエニルペンチル、３−フエニルペ
ンチル、５−フエニルペンチル、１−フエニルヘ
キシル、、３−フエニルヘキシル、５−フエニル
ヘキシル、１，１−ジメチル−２−フエニルエチ
ル基等を例示できる。 置換基としてベンジルオキシ基を有するC1〜
C10のアルキル基としては、例えばベンジルオキ
シメチル、ベンジルオキシエチル、ベンジルオキ
シプロピル、ベンジルオキシブチル、ベンジルオ
キシペンチル、ベンジルオキシヘキシル、ベンジ
ルオキシヘプチル、ベンジルオキシオクチル、ベ
ンジルオキシノニル、ベンジルオキシデシル、１
−ベンジルオキシ−３，３−ジメチルプロピル、
１−ベンジルオキシ−２，６−ジメチルオクチル
基等を例示できる。 置換基として水酸基を有するC1〜C10のアルキ
ル基としては、例えばハイドロオキシメチル、ハ
イドロオキシエチル、ハイドロオキシプロピル、
ハイドロオキシブチル、ハイドロオキシペンチ
ル、ハイドロオキシヘキシル、ハイドロオキシヘ
プチル、ハイドロオキシオクチル、ハイドロオキ
シノニル、ハイドロオキシデシル、１−ハイドロ
オキシ−３，３−ジメチルプロピル、１−ハイド
ロオキシ−２，６−ジメチルオクチル基等を例示
できる。 本発明の上記一般式(1)で表わされる化合物は、
例えば下記反応工程式に示す方法により製造する
ことができる。 〔式中R1は前記に同じ。R2′はC1〜C20のアルキ
ル基、フエニル低級アルキル基又はアリル基を示
す。〕 公知の一般式(2)の化合物のグリニヤール反応
は、常法に従い実施でき、例えばエーテル、テト
ラヒドロフラン等の溶媒中で一般式(2)の化合物に
グリニヤール試薬を通常−20〜60℃程度、好まし
くは０〜25℃程度で反応させればよい。グリニヤ
ール試薬は、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化フ
エニル低級アルキル又はハロゲン化アリル約１モ
ルとマグネシウム約1.1〜1.2モルとを常法に従に
反応させることにより調製される。一般式(2)の化
合物とグリニヤール試薬との使用割合としては、
通常前者に対して後者を等モル〜５倍モル、好ま
しくは等モル〜４倍モル使用するのがよい。 〔式中R1は前記に同じ。R3はベンジル基を示す。
ｎは１〜10の整数を示す。〕 一般式(2)の化合物から一般式（１−ｃ）の化合
物を得る反応は、ベンジルオキシアルキルハライ
ドとマグネシウムとから調製したグリニヤール試
薬を用いる以外は、上記反応工程式−１における
グリニヤール反応と同様にして行ない得る。 一般式（１−ｃ）の化合物の接触還元には、従
来公知の接触還元の条件を広く採用でき、例えば
パラジウム−炭素、二酸化白金、ラネーニツケン
等を触媒として、メタノール、エタノール等のア
ルコール、ジエチルエーテル等のエーテル、酢酸
エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（DMF）
等の溶媒中にて、常圧〜３気圧程度、20〜50℃程
度にて水素添加すればよい。 〔式中R1及びR2は前記に同じ。〕 一般式（１−ｅ）の化合物の酸化は、四価のセ
リウム塩〔例えばセリツクアンモニウムニトラー
ト、（NH4）2Ce（NO3）6（以下「CAN」という）〕、
希硝酸−AgO等を用いて好適に行ない得る。四
価のセリウム塩を用いる場合には、例えばジオキ
サン、アセトニトリル、THF、ジクロルメタン、
クロロホルム、エーテル等の溶媒中、一般式（１
−ｅ）の化合物に通常等モル〜５倍モル程度、好
ましくは２〜2.5倍モル程度の四価セリウム塩を
通常−20〜60℃程度、好ましくは０〜30℃程度に
て反応させるのがよい。また希硝酸−AgOを用
いる場合には、例えばアセトン、ジオキサン、
THF、エーテル等の溶媒中、通常０℃〜溶媒の
沸点付近、好ましくは０〜60℃程度にて実施でき
る。AgOは一般式（１−ｅ）の化合物に対して
通常等モル〜20倍モル程度、好ましくは３〜10倍
モル程度使用され、また希硝酸は、6Nの硝酸水
溶液を用い、一般式（１−ｅ）の化合物に対して
等モル〜10培モル、好ましくは等モル〜３倍モル
量使用する。 反応工程式−３において出発原料として用いら
れる一般式（１−ｅ）の化合物のうちR2が水素
原子である化合物（化合物（１−ｇ））は新規化
合物であり、例えば下記反応工程式−４に従い製
造される。 〔式中R1は前記に同じ。〕 一般式(2)の化合物を還元して一般式（１−ｇ）
の化合物を得る反応には、アルデヒドをアルコー
ルに還元する従来公知の反応条件を広く適用で
き、例えば水素化ホウ素ナトリウム（NaBH4）、
水素化アルミニウムリチウム等を用いる方法を挙
げることができる。特にメタノール、エタノール
等のアルコール、水、THF、DMF等やこれらの
混合溶媒中にて一般式(2)の化合物に約０〜30℃付
近でNaBH4を作用させる方法は、操作が簡便で
ある点で好適である。この場合NaBH4は一般式
(2)の化合物に対して等モル〜２倍モル程度使用す
るのが望ましい。 上記一般式(1)で表わされる本発明の化合物のう
ち環Ａが
有するC1〜C10のアルキル基であつてはならな
い。〕 上記一般式(1)で表わされる本発明の化合物は、
抗炎症作用、抗補体作用、抗高血圧作用、心疾患
治療作用、抗アレルギー作用、血小板凝集阻止作
用、抗腫瘍作用、抗菌作用等を有し、消炎鍾瘍
剤、降圧剤、心疾患治療剤、抗アレルギー剤、血
栓防止剤、抗腫傷剤、抗菌剤等として有用であ
る。 本明細書において、低級アルキル基としては、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−
ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６
のアルキル基を例示できる。 C1〜C20のアルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、
ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ト
リデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコ
シル基等を例示できる。 フエニル低級アルキル基としては、例えばベン
ジル、α−フエネチル、β−フエネチル、１−フ
エニルプロピル、２−フエニルプロピル、３−フ
エニルプロピル、１−フエニルブチル、２−フエ
ニルブチル、３−フエニルブチル、４−フエニル
ブチル、１−フエニルペンチル、３−フエニルペ
ンチル、５−フエニルペンチル、１−フエニルヘ
キシル、、３−フエニルヘキシル、５−フエニル
ヘキシル、１，１−ジメチル−２−フエニルエチ
ル基等を例示できる。 置換基としてベンジルオキシ基を有するC1〜
C10のアルキル基としては、例えばベンジルオキ
シメチル、ベンジルオキシエチル、ベンジルオキ
シプロピル、ベンジルオキシブチル、ベンジルオ
キシペンチル、ベンジルオキシヘキシル、ベンジ
ルオキシヘプチル、ベンジルオキシオクチル、ベ
ンジルオキシノニル、ベンジルオキシデシル、１
−ベンジルオキシ−３，３−ジメチルプロピル、
１−ベンジルオキシ−２，６−ジメチルオクチル
基等を例示できる。 置換基として水酸基を有するC1〜C10のアルキ
ル基としては、例えばハイドロオキシメチル、ハ
イドロオキシエチル、ハイドロオキシプロピル、
ハイドロオキシブチル、ハイドロオキシペンチ
ル、ハイドロオキシヘキシル、ハイドロオキシヘ
プチル、ハイドロオキシオクチル、ハイドロオキ
シノニル、ハイドロオキシデシル、１−ハイドロ
オキシ−３，３−ジメチルプロピル、１−ハイド
ロオキシ−２，６−ジメチルオクチル基等を例示
できる。 本発明の上記一般式(1)で表わされる化合物は、
例えば下記反応工程式に示す方法により製造する
ことができる。 〔式中R1は前記に同じ。R2′はC1〜C20のアルキ
ル基、フエニル低級アルキル基又はアリル基を示
す。〕 公知の一般式(2)の化合物のグリニヤール反応
は、常法に従い実施でき、例えばエーテル、テト
ラヒドロフラン等の溶媒中で一般式(2)の化合物に
グリニヤール試薬を通常−20〜60℃程度、好まし
くは０〜25℃程度で反応させればよい。グリニヤ
ール試薬は、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化フ
エニル低級アルキル又はハロゲン化アリル約１モ
ルとマグネシウム約1.1〜1.2モルとを常法に従に
反応させることにより調製される。一般式(2)の化
合物とグリニヤール試薬との使用割合としては、
通常前者に対して後者を等モル〜５倍モル、好ま
しくは等モル〜４倍モル使用するのがよい。 〔式中R1は前記に同じ。R3はベンジル基を示す。
ｎは１〜10の整数を示す。〕 一般式(2)の化合物から一般式（１−ｃ）の化合
物を得る反応は、ベンジルオキシアルキルハライ
ドとマグネシウムとから調製したグリニヤール試
薬を用いる以外は、上記反応工程式−１における
グリニヤール反応と同様にして行ない得る。 一般式（１−ｃ）の化合物の接触還元には、従
来公知の接触還元の条件を広く採用でき、例えば
パラジウム−炭素、二酸化白金、ラネーニツケン
等を触媒として、メタノール、エタノール等のア
ルコール、ジエチルエーテル等のエーテル、酢酸
エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（DMF）
等の溶媒中にて、常圧〜３気圧程度、20〜50℃程
度にて水素添加すればよい。 〔式中R1及びR2は前記に同じ。〕 一般式（１−ｅ）の化合物の酸化は、四価のセ
リウム塩〔例えばセリツクアンモニウムニトラー
ト、（NH4）2Ce（NO3）6（以下「CAN」という）〕、
希硝酸−AgO等を用いて好適に行ない得る。四
価のセリウム塩を用いる場合には、例えばジオキ
サン、アセトニトリル、THF、ジクロルメタン、
クロロホルム、エーテル等の溶媒中、一般式（１
−ｅ）の化合物に通常等モル〜５倍モル程度、好
ましくは２〜2.5倍モル程度の四価セリウム塩を
通常−20〜60℃程度、好ましくは０〜30℃程度に
て反応させるのがよい。また希硝酸−AgOを用
いる場合には、例えばアセトン、ジオキサン、
THF、エーテル等の溶媒中、通常０℃〜溶媒の
沸点付近、好ましくは０〜60℃程度にて実施でき
る。AgOは一般式（１−ｅ）の化合物に対して
通常等モル〜20倍モル程度、好ましくは３〜10倍
モル程度使用され、また希硝酸は、6Nの硝酸水
溶液を用い、一般式（１−ｅ）の化合物に対して
等モル〜10培モル、好ましくは等モル〜３倍モル
量使用する。 反応工程式−３において出発原料として用いら
れる一般式（１−ｅ）の化合物のうちR2が水素
原子である化合物（化合物（１−ｇ））は新規化
合物であり、例えば下記反応工程式−４に従い製
造される。 〔式中R1は前記に同じ。〕 一般式(2)の化合物を還元して一般式（１−ｇ）
の化合物を得る反応には、アルデヒドをアルコー
ルに還元する従来公知の反応条件を広く適用で
き、例えば水素化ホウ素ナトリウム（NaBH4）、
水素化アルミニウムリチウム等を用いる方法を挙
げることができる。特にメタノール、エタノール
等のアルコール、水、THF、DMF等やこれらの
混合溶媒中にて一般式(2)の化合物に約０〜30℃付
近でNaBH4を作用させる方法は、操作が簡便で
ある点で好適である。この場合NaBH4は一般式
(2)の化合物に対して等モル〜２倍モル程度使用す
るのが望ましい。 上記一般式(1)で表わされる本発明の化合物のう
ち環Ａが
【式】を示す化合物は還元により対
応する環Ａが
【式】に変換でき、また環Ａが
【式】は酸化により対応する環Ａが
【式】を示す化合物に変換できる。
上記各反応工程により得られる目的は、慣用の
分離手段、例えば溶媒抽出、再結晶、カラムクロ
マトグラフイー等により容易に単離精製すること
ができる。本発明化合物には光学異性体が考えら
れ、かかる異性体もまた本発明範囲に含まれるも
のである。 実施例 以下本発明化合物を製造するための原料化合物
の製造例を参考例として挙げ、次いで本発明化合
物の製造例を実施例として挙げる。 参考例 ２−ヒドロキシメチル−１，４，５，８−テト
ラメトキシナフタレンの製造 １，４，５，８−テトラメトキシ−２−ナフタ
レンカルボアルデヒド4.5ｇをエタノール70ml及
びTHF35mlに溶解し、氷冷下NaBH41ｇをゆつ
くり加える。30分間撹拌を続けた後、溶媒を留去
し、酢酸エチル抽出を行ない、有機層を水洗、乾
燥（MgSO4）、濃縮して得られる粗生成物を、ジ
クロルメタン・ｎ−ヘキサン混合溶媒から再結晶
して、白色結晶の標記化合物4.7ｇを得た。 融点 109〜110℃ NMR（CDCl3、δ、ppm）： 6.90（ｓ、1H）、6.80（ｓ、2H）、 4.83（bs、2H）、3.96（ｓ、3H）、 3.92（ｓ、3H）、3.90（ｓ、3H）、 3.88（ｓ、3H）、2.60（ｓ、1H） 実施例 １ ２−（１−ヒドロキシエチル）−１，４，５，８
−テトラメトキシナフタレン（化合物１）の製
造 １，４，５，８−テトラメトキシ−２−ナフタ
レンカルボアルデヒド３ｇをTHF50mlに溶解し、
本溶液に水冷下沃化メチル4.25ｇ、マグネシウム
750mg及びエチルエーテル35mlから調製したグリ
ニヤール試薬をゆつくり加える。10分間撹拌を続
けた後、反応液を飽和NH4Cl水溶液に移し、酢
酸エチルで抽出した。有機層を乾燥、濃縮して得
られる粗生成物、ジリカゲルクロマトグラフイー
（展開溶媒エーテル：ｎ−ヘキサン＝２：１〜
３：１）にて精製し、標記化合物を白色結晶2.60
ｇ（82％）として得た。 上記と同様にして、後記表に示す化合物２、
３、４、５及び６の各化合物を得た。 実施例 ２ ２−（４−ベンジルオキシ−１−ヒドロキシブ
チル）−１，４，５，８−テトラメトキシナフ
タレン（化合物７）の製造 １，４，５，８−テトラメトキシ−２−ナフタ
レンカルボアルデヒド５ｇをTHF100mlに溶解
し、本溶液にマグネシウム1.3ｇ、３−ベンジル
オキシプロピルブロマイド12.5ｇ及びエチルエー
テル125mlより調製したグリニヤール試薬を、水
冷下ゆつくり加える。10分間撹拌を続けた後、反
応液を飽和NH4Cl水溶液に移し、実施例１と同
様に処理して得られた粗生成物を、シリカゲルク
ロマトグラフイー（展開溶媒 酢酸エチル：ｎ−
ヘキサン＝３：４）にて精製し、標記化合物を油
状物6.65ｇ（86％）で得た。 上記と同様にして、後記表に示す化合物８及び
９の各化合物を得た。 実施例 ３ ２−（１，４−ジヒドロキシブチル）−１，４，
５，８−テトラメトキシナフタレン（化合物
10）の製造 上記で得られる化合物76.50ｇを酢酸エチル180
ml及びDMF50mlの混合溶媒に溶かし、５％Pd−
C100mgを加え、常温常圧にて24時間水素添加す
る。反応液を過後、濃縮し、シリカゲルクロマ
トグラフイー（展開溶媒クロロホルム：メタノー
ル＝20：１）にて精製し、標記化合物3.95ｇ（77
％）を白色結晶として得た。 上記と同様にして、後記表に示す化合物11及び
12の各化合物を得た。 実施例 ４ ６−（１，４−ジヒドロキシブチル）−５，８−
ジメトキシ−１，４−ナフトキノン（化合物
20）の製造 上記で得られる化合物103.58ｇをジクロルメタ
ン30mlに溶解し、本溶液にCAN16.1ｇを水30ml
に溶解した溶液を加え、５分間室温にて激しく撹
拌した。反応液をジクロルメタンで抽出し、有機
層を乾燥、濃縮後、シリカゲルクロマトグラフイ
ー（展開溶媒クロロホルム：酢酸エチル：メタノ
ール＝10：10：１）にて精製し、標記化合物21を
800mg（22.8％）得た。 上記と同様にして、後記表に示す化合物13、
14、15、16、17、18、19、21及び22の各化合物を
得た。
分離手段、例えば溶媒抽出、再結晶、カラムクロ
マトグラフイー等により容易に単離精製すること
ができる。本発明化合物には光学異性体が考えら
れ、かかる異性体もまた本発明範囲に含まれるも
のである。 実施例 以下本発明化合物を製造するための原料化合物
の製造例を参考例として挙げ、次いで本発明化合
物の製造例を実施例として挙げる。 参考例 ２−ヒドロキシメチル−１，４，５，８−テト
ラメトキシナフタレンの製造 １，４，５，８−テトラメトキシ−２−ナフタ
レンカルボアルデヒド4.5ｇをエタノール70ml及
びTHF35mlに溶解し、氷冷下NaBH41ｇをゆつ
くり加える。30分間撹拌を続けた後、溶媒を留去
し、酢酸エチル抽出を行ない、有機層を水洗、乾
燥（MgSO4）、濃縮して得られる粗生成物を、ジ
クロルメタン・ｎ−ヘキサン混合溶媒から再結晶
して、白色結晶の標記化合物4.7ｇを得た。 融点 109〜110℃ NMR（CDCl3、δ、ppm）： 6.90（ｓ、1H）、6.80（ｓ、2H）、 4.83（bs、2H）、3.96（ｓ、3H）、 3.92（ｓ、3H）、3.90（ｓ、3H）、 3.88（ｓ、3H）、2.60（ｓ、1H） 実施例 １ ２−（１−ヒドロキシエチル）−１，４，５，８
−テトラメトキシナフタレン（化合物１）の製
造 １，４，５，８−テトラメトキシ−２−ナフタ
レンカルボアルデヒド３ｇをTHF50mlに溶解し、
本溶液に水冷下沃化メチル4.25ｇ、マグネシウム
750mg及びエチルエーテル35mlから調製したグリ
ニヤール試薬をゆつくり加える。10分間撹拌を続
けた後、反応液を飽和NH4Cl水溶液に移し、酢
酸エチルで抽出した。有機層を乾燥、濃縮して得
られる粗生成物、ジリカゲルクロマトグラフイー
（展開溶媒エーテル：ｎ−ヘキサン＝２：１〜
３：１）にて精製し、標記化合物を白色結晶2.60
ｇ（82％）として得た。 上記と同様にして、後記表に示す化合物２、
３、４、５及び６の各化合物を得た。 実施例 ２ ２−（４−ベンジルオキシ−１−ヒドロキシブ
チル）−１，４，５，８−テトラメトキシナフ
タレン（化合物７）の製造 １，４，５，８−テトラメトキシ−２−ナフタ
レンカルボアルデヒド５ｇをTHF100mlに溶解
し、本溶液にマグネシウム1.3ｇ、３−ベンジル
オキシプロピルブロマイド12.5ｇ及びエチルエー
テル125mlより調製したグリニヤール試薬を、水
冷下ゆつくり加える。10分間撹拌を続けた後、反
応液を飽和NH4Cl水溶液に移し、実施例１と同
様に処理して得られた粗生成物を、シリカゲルク
ロマトグラフイー（展開溶媒 酢酸エチル：ｎ−
ヘキサン＝３：４）にて精製し、標記化合物を油
状物6.65ｇ（86％）で得た。 上記と同様にして、後記表に示す化合物８及び
９の各化合物を得た。 実施例 ３ ２−（１，４−ジヒドロキシブチル）−１，４，
５，８−テトラメトキシナフタレン（化合物
10）の製造 上記で得られる化合物76.50ｇを酢酸エチル180
ml及びDMF50mlの混合溶媒に溶かし、５％Pd−
C100mgを加え、常温常圧にて24時間水素添加す
る。反応液を過後、濃縮し、シリカゲルクロマ
トグラフイー（展開溶媒クロロホルム：メタノー
ル＝20：１）にて精製し、標記化合物3.95ｇ（77
％）を白色結晶として得た。 上記と同様にして、後記表に示す化合物11及び
12の各化合物を得た。 実施例 ４ ６−（１，４−ジヒドロキシブチル）−５，８−
ジメトキシ−１，４−ナフトキノン（化合物
20）の製造 上記で得られる化合物103.58ｇをジクロルメタ
ン30mlに溶解し、本溶液にCAN16.1ｇを水30ml
に溶解した溶液を加え、５分間室温にて激しく撹
拌した。反応液をジクロルメタンで抽出し、有機
層を乾燥、濃縮後、シリカゲルクロマトグラフイ
ー（展開溶媒クロロホルム：酢酸エチル：メタノ
ール＝10：10：１）にて精製し、標記化合物21を
800mg（22.8％）得た。 上記と同様にして、後記表に示す化合物13、
14、15、16、17、18、19、21及び22の各化合物を
得た。
【表】
【表】
次に本発明の化合物を用いた薬理試験結果を示
す。 ５−リポキシゲナーゼ阻害作用 細胞の調整及び５−リポキシゲナーゼ活性の測
定は、ジー・エム・ボツコホ（G.M.Bokoch）と
ピー・ダブリユー・リード（p.w.Reed）の方法
〔j.Biol.Chem.、256、4156（1981）〕及び越智らの
方法〔J.Biol.Chem.、258、5754（1983）〕に準じ
て行なつた。 即ち、モルモツトに２％カゼイン腹腔内投与
し、14〜16時間後に放血死させ、腹腔内を洗浄し
て浸潤細胞を採取した。1mMCaCl2及び5.5mM
グルコースを含むリン酸緩衝液に上記細胞を2.5
×107セル／mlの濃度で懸濁させた。この細胞懸
濁液を30℃で２分間インキユベーシヨンした後、
それぞれの濃度の検体を加え、更に２分間インキ
ユベーシヨンした。その後、10μMイオノフオア
A23187、続いて10μM 14C−アラキドン酸を加え
た。３分間インキユベーシヨン後、0.2Mクエン
酸を加えて反応を停止し、生成物を酢酸エチルで
抽出した。抽出物を薄層板にスポツトし、展開
後、アラキドン酸、５（Ｓ）−ヒドロキシ−６，
８，11，14−エイコサテトラエン酸（５−
HETE）及びその他の部分をかき取り、 14Cをシ
ンチレーターで計数した。検体の阻害活性はコン
トロールの５−HETE生成率に対する抑制率で
表わした。 結果を下記に示す。 被検化合物No. １：Ａが
す。 ５−リポキシゲナーゼ阻害作用 細胞の調整及び５−リポキシゲナーゼ活性の測
定は、ジー・エム・ボツコホ（G.M.Bokoch）と
ピー・ダブリユー・リード（p.w.Reed）の方法
〔j.Biol.Chem.、256、4156（1981）〕及び越智らの
方法〔J.Biol.Chem.、258、5754（1983）〕に準じ
て行なつた。 即ち、モルモツトに２％カゼイン腹腔内投与
し、14〜16時間後に放血死させ、腹腔内を洗浄し
て浸潤細胞を採取した。1mMCaCl2及び5.5mM
グルコースを含むリン酸緩衝液に上記細胞を2.5
×107セル／mlの濃度で懸濁させた。この細胞懸
濁液を30℃で２分間インキユベーシヨンした後、
それぞれの濃度の検体を加え、更に２分間インキ
ユベーシヨンした。その後、10μMイオノフオア
A23187、続いて10μM 14C−アラキドン酸を加え
た。３分間インキユベーシヨン後、0.2Mクエン
酸を加えて反応を停止し、生成物を酢酸エチルで
抽出した。抽出物を薄層板にスポツトし、展開
後、アラキドン酸、５（Ｓ）−ヒドロキシ−６，
８，11，14−エイコサテトラエン酸（５−
HETE）及びその他の部分をかき取り、 14Cをシ
ンチレーターで計数した。検体の阻害活性はコン
トロールの５−HETE生成率に対する抑制率で
表わした。 結果を下記に示す。 被検化合物No. １：Ａが
【式】R1がメチル基、R2が水
素原子を示す化合物
２：Ａが
【式】R1がメチル基、R2が−
（CH2）3−OHを示す化合物３：Ａが
【式】R1がメチル基、R2が−（CH2）6−
OHを示す化合物
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中環Ａは【式】又は【式】を示す。 R1は低級アルキル基を示す。R2は水素原子、C1
〜C20のアルキル基、フエニル低級アルキル基、
アリル基、置換基としてベンジルオキシ基を有す
るC1〜C10のアルキル基又は置換基として水酸基
を有するC1〜C10のアルキル基を示す。但し環Ａ
が【式】を示す場合には、R2は水素原子、 C1〜C20のアルキル基又は置換基として水酸基を
有するC1〜C10のアルキル基であつてはならな
い。〕 で表わされるナフタレン及びナフトキノン誘導
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10792084A JPS60252441A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | ナフタレン及びナフトキノン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10792084A JPS60252441A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | ナフタレン及びナフトキノン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60252441A JPS60252441A (ja) | 1985-12-13 |
| JPH0133093B2 true JPH0133093B2 (ja) | 1989-07-11 |
Family
ID=14471395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10792084A Granted JPS60252441A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | ナフタレン及びナフトキノン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60252441A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4833164A (en) * | 1985-05-08 | 1989-05-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | 2-substituted-1-naphthols, pharmaceutical compositions of, and their use as 5-lipoxygenase inhibitors |
| US5026759A (en) * | 1985-05-08 | 1991-06-25 | Du Pont Merck Pharmaceutical | 2-substituted-1-naphthols as 5-lipoxygenase inhibitors |
| US4758587A (en) * | 1987-03-09 | 1988-07-19 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Naphthalene anti-psoriatic agents |
| US5155132A (en) * | 1987-03-09 | 1992-10-13 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Naphthalene lipoxygenase-inhibiting agents |
| CN104045542B (zh) * | 2013-03-15 | 2016-01-20 | 复旦大学 | 萘醌二聚体及其在制备抗补体药物中的用途 |
| CN105642127B (zh) * | 2016-01-13 | 2018-01-05 | 厦门理工学院 | 一种蒽醌功能化聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法 |
| EP3932899A4 (en) | 2019-02-28 | 2022-04-20 | FUJIFILM Corporation | METHOD FOR PRODUCING A PEPTIDE COMPOUND, PROTECTIVE GROUP-FORMING REAGENT AND FUSED POLYCYCLIC AROMATIC HYDROCARBON COMPOUND |
| EP3916000B1 (en) | 2019-02-28 | 2026-04-08 | FUJIFILM Corporation | Method for producing peptide compound, protecting group-forming reagent, and aromatic heterocyclic compound |
| CN114040920A (zh) * | 2019-06-28 | 2022-02-11 | 富士胶片株式会社 | 肽化合物的制造方法、保护基形成用试剂及稠合多环芳香族烃化合物 |
| EP4006045A4 (en) | 2019-08-29 | 2022-10-19 | FUJIFILM Corporation | METHOD FOR PRODUCTION OF A NUCLEIC ACID COMPOUND AND NUCLEIC ACID COMPOUND |
-
1984
- 1984-05-28 JP JP10792084A patent/JPS60252441A/ja active Granted
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| J.CHEM.SOC,CHEM COMMUN * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60252441A (ja) | 1985-12-13 |
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