JPH0432060B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明はナフトキノン誘導体に関する。 従来の技術 本発明のナフトキノン誘導体は、文献未載の新
規化合物である。 発明が解決しようとする問題点 本発明は、後記するように医薬品として有用な
化合物を提供することを目的とする。 問題点を解決するための手段 本発明によれば、下記一般式(1)で表わされるナ
フトキノン誘導体が提供される。 〔式中R¹は低級アルキル基を示す。R²は置換基
として水酸基を有することのある低級アルキル
基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
低級アルキルカルボニルオキシ低級アルキル基、
低級アルコキシカルボニルオキシ低級アルキル
基、カルボキシ低級アルキル基又はベンゾイルオ
キシ低級アルキル基を示す。R³はアルキル基、
ヒドロキシ低級アルキル基、置換基として低級ア
ルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、カ
ルボキシ基又はカルボキシ低級アルキル基を有す
ることのあるフエニル基、フエニル環上に置換基
として低級アルコキシ基を有することのあるフエ
ニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
低級アルキル基又はフラニル低級アルキル基を示
す。ｎは０、１又は２を示す〕 本明細書において、低級アルキル基なる語は、
炭素数１〜６の直鎖状又は分枝鎖状アルキル基を
指称するものであり、その具体例としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペン
チル、ヘキシル基等を例示できる。アルキル基な
る語には、上記低級アルキル基の他、例えばオク
チル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、
テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エ
イコシル基等が包含される。また低級アルコキシ
基なる語は、炭素数１〜６の直鎖状又は分枝鎖状
アルコキシ基を指称し、その例としては、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、tert−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、
ヘキシルオキシ基等を例示できる。ハロゲン原子
には塩素、弗素、沃素及び臭素原子が包含され
る。一般式(1)中、R²及びR³で定義される低級ア
ルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルキ
ルカルボニルオキシ低級アルキル基及び低級アル
コシキシカルボニルオキシ低級アルキル基は、い
ずれも上記低級アルキル基又は低級アルコキシ基
と上記低級アルキル基とを構成成分として含んで
いる。カルボキシ低級アルキル基、ベンゾイルオ
キシ低級アルキル基及びヒドロキシ低級アルキル
基は、カルボキシ基、ベンゾイルオキシ基又はヒ
ドロキシ基を置換基として有する上記低級アルキ
ル基である。フエニル環上に置換基として低級ア
ルコキシ基を有することのあるフエニル低級アル
キル基としては、例えばベンジル、フエネチル、
フエニルプロピル、フエニルブチル、フエニルペ
ンチル、フエニルヘキシル基等の無置換フエニル
低級アキル基及びメトキシベンジル、エトキシベ
ンジル、メトキシフエネチル、エトキシフエニル
ブチル基等の低級アルコキシ置換フエニル低級ア
ルキル基を例示できる。また置換基として低級ア
ルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、カ
ルボキシ基又はカルボキシ低級アルキル基を有す
ることのあるフエニル基は、フエニル環上に上記
各置換基の複数個を有していてもよく、この場合
置換基は同種であつても異種であつてもよい。 本発明の上記一般式(1)で表わされる化合物及び
その塩は、プロスタグランジン生合成の遮断作用
や調節作用を有し動物、とりわけ哺乳動物に対し
て抗炎症、抗リウマチ、抗アレルギー、鎭痛、利
尿、血小板凝集阻止、血圧降下等の作用を示す。
従つてこれは抗炎症剤、抗リウマチ剤、抗アレル
ギー剤、鎭痛剤、利尿剤、抗血栓剤、降圧剤等の
医薬として有用である。 本発明のナフトキノン誘導体は、例えば、下記
各反応工程式−１に示す方法により製造すること
ができる。 〔式中、R¹、R²、R³は前記に同じ。R²′は置換基
として水酸基を有することのある低級アルキル
基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又
はカルボキシ低級アルキル基を示し、R₂″は低級
アルキルカルボニルオキシ低級アルキル基、低級
アルコキシカルボニルオキシ低級アルキル基又は
ベンゾイルオキシ低級アルキル基を示す。ｍは１
を示す。〕 反応工程式−１において、化合物(2)とチオール
化合物（R₃SH）との反応は、不活性溶媒中で行
なわれる。該溶媒としては例えばメタノール、エ
タノール等の低級アルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（DMF）、テトラヒドロフラン
（THF）、ジオキサン、水等及びこれらの混合溶
媒を使用できる。反応は好ましくは、窒素、アル
ゴン等の不活性気流下、化合物(2)に対してチオー
ル化合物を、通常0.5〜２倍モル量、好ましくは
約１〜1.1倍モル量用い、約０℃〜溶媒の沸点程
度、好ましくは約20〜80℃にて、約１〜50時間を
要して行なわれる。上記反応により中間体として
一般式 〔式中R¹、R²′及びR³は上記に同じ〕 で表わされる縮合体が得られる。該縮合体は次い
で反応系内に過剰量の塩化第二鉄の水溶液を添加
するか又は酸素（空気）を吹きこむことにより酸
化され、かくして化合物（１−ａ）を収得でき
る。 得られる化合物（１−ａ）は、これを酸化する
ことにより容易に化合物（１−ｃ）のスルフイニ
ル体とすることができる。この酸化反応は、適当
な酸化剤、例えば過沃素酸ナトリウム、過沃素酸
カリウム等の過沃素酸塩や、過酢酸、ｍ−クロロ
過安息香酸等の有機過酸や過酸化水素等を用いて
通常の方法に従つて実施できる。より詳しくは、
上記酸化反応は、例えばメタノール、エタノール
等の低級アルコール類、ジクロロメタン、クロロ
ホルム等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、ジ
オキサン、酢酸等の有機溶媒又はこれらの含水溶
媒中で行なわれる。上記酸化剤は、例えば有機過
酸では化合物（１−ａ）に対して約１〜1.2倍モ
ル量用いられる。反応は約−20〜30℃の温度条件
下に、約10分〜60分を要して行なわれる。 また化合物（１−ａ）中、R²′が置換基として
水酸基を有する低級アルキル基である化合物は、
これに適当な酸ハライドを反応させることによ
り、該水酸基をアシル化させて化合物（１−ｂ）
とすることができる。該アシル化反応は、通常の
方法に従い、非プロトン性溶媒中、好ましくはア
ルカリの存在下に行なわれる。非プロトン性溶媒
としては例えばジクロルメタン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素類、THF、ジオキサン等
のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭
化水素類、ジメチルスルホキシド（DMSO）等
を使用できる。アシル化剤として用いられる酸ハ
ライドとしては、例えばアセチルクロライド、ア
セチルブロマイド、プロピオニルクロライド等の
低級脂肪酸のハライド類、カルボメトキシクロラ
イド、カルボエトキシクロライド、カルボプロポ
キシクロライド等のカルボ低級アルコキシクロラ
イド、ベンゾイルクロライド等のベンゾイルハラ
イド等を例示することができる。アルカリとして
は、例えばピリジン、トリエチルアミン等の有機
アミン類や炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無
機化合物を例示できる。化合物（１−ａ）に対す
る酸ハライド及びアルカリの使用量は、限定的で
はないが、通常夫々約１〜５倍モル量、好ましく
は約１〜1.5倍モル量とするのが適当である。上
記アシル化反応は、一般に約０〜60℃の温度条件
下に実施され、約0.5〜５時間で完結し、かくし
て化合物（１−ｂ）を収得できる。 該化合物（１−ｂ）の酸化反応は、上記した化
合物（１−ａ）の酸化反応と同様にして行なわ
れ、これにより化合物（１−ｃ）を収得できる。 上記各反応により得られる目的物は慣用の分離
手段、例えば溶媒抽出、再結晶、カラムクロマト
グラフイー等により容易に単離精製することがで
きる。 上記反応工程式−１において出発原料として用
いられる化合物は、例えば下記各反応工程式に従
つて得られる。 〔各式中R¹は上記に同じ。〕 上記反応工程式−２において出発原料とする化
合物(A)は、公知である〔J.Org.Chem.、44、2153
（1979）〕。 化合物(A)のブロム化は、例えばＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（DMF）等の極性溶媒中、Ｎ−
ブロムコハク酸イミド（NBS）等のブロム化剤
を用いて実施される。ブロム化剤は化合物(A)に対
して好ましくは当モル量使用され、反応は約０〜
80℃の温度条件下に良好に進行し、約２〜16時間
で完結する。 上記により得られる化合物(B)の低級アルコキシ
化は、ラオ（Durvasula V.Rao）らの報文
〔Synthesis、308（1983）〕に従い、メタノール、
エタノール等の低級アルコール類のナトリウム塩
を化合物(B)に対して１〜４倍当量用いて、DMF
及び低級アルコール類の混合溶媒中、約80〜120
℃で１〜４時間程度を要して実施される。その際
銅塩例えば塩化第２銅、沃化第１銅等を化合物(B)
に対して約1/2〜２倍モル量用いれば反応はより
好適に進行する。かくして化合物(C)を収得する。 〔式中R¹は上記に同じ。R⁴は低級アルキル基又
はベンジルオキシ低級アルキル基、R⁴′は置換基
として水酸基を有することのある低級アルキル
基、R⁴″は置換基として水酸基を有することのあ
る低級アルキル基又はカルボキシ低級アルキル基
を夫々示す。〕 上記の示す化合物(C)のグリニヤール反応は、通
常の方法に従つて実施できる。即ちグリニヤール
試薬を用い適当な溶媒中、約−20〜60℃、好まし
くは約０〜25℃の温度条件下に行なわれる。グリ
ニヤール試薬は常法に従つて、例えばハロゲン化
アルキル、ハロゲン化フエニル低級アルキル又は
ハロゲン化低級アルケニルとこれらハロゲン化物
１モルに対し約1.1〜1.2倍モル量のマグネシウム
とから容易に調製できる。溶媒としては通常のエ
ーテルやTHF等を用い得る。グリニヤール試薬
の使用量は、通常化合物(C)に対して等モル〜５倍
モル量、好ましくは化合物(C)の溶媒液が本来呈し
ている黄色が消失する量、通常約等モル〜４倍モ
ル量とするのが望ましい。かくして化合物（Ｃ−
１）を得る。 化合物（Ｃ−１）の脱水反応は、通常有機溶媒
中、酸触媒の存在下に行なわれる。溶媒として
は、例えばベンゼン、エーテル、クロロホルム、
ジクロルメタン等を使用できる。酸触媒として
は、例えば塩化水素ガス、ｐ−トルエンスルホン
酸等を使用できる。反応は上記酸の触媒量を用い
て、約０℃〜溶媒の沸点温度範囲にて良好に進行
する。 上記脱水反応に引き続く、接触還元反応は、常
法に従い、例えば５〜10％パラジウムカーボン、
酸化白金（PtO₂）、ラネーニツケル等を触媒とし
て用いて、アルコール、酢酸エチル、DMF、水、
エーテル等の溶媒中、常圧〜３気圧程度の水素圧
下に行なわれる。かくして原料化合物の脱ベンジ
ン化及び二重結合の還元が同時に行なわれ、化合
物（Ｃ−２）を収得できる。 化合物（Ｃ−２）の酸化反応は、目的とする化合
物（Ｃ−３）の有するR⁴″基の種類に応じて、例
えば次の二種の方法により行なわれる。即ち
R⁴″が置換基として水酸基を有することのある低
級アルキル基である化合物を製造する場合、上記
酸化反応は好ましくはセリツクアンモニウムニト
ラート〔（NH₄）₂Cl（NO₃）₆、以下「CAN」とい
う〕等の四価セリウム塩を用いる方法又は希硝酸
中、酸化銀（AgO）を用いる方法により行なわ
れる。上記CANを用いる方法は、例えばジオキ
サン、アセトニトリル、THF、ジクロルメタン、
クロロホルム、エーテル等の溶媒中、化合物（Ｃ
−２）に対して当モル〜５倍モル量、好ましくは
２〜2.5倍モル量のCANを用い、約−20〜60℃、
好ましくは約０〜30℃下に実施される。希硝酸中
AgOを用いる方法は、例えばアセトン、ジオキ
サン、THF、エーテル等の溶媒中、化合物（Ｃ
−２）に対して等モル〜20倍モル量、好ましくは
約３〜10倍モル量のAgO及び約6N前後の硝酸を
用い、０〜溶媒の沸点、好ましくは０〜60℃の温
度下に実施される。またR₄″基がカルボキシ低級
アルキル基である化合物を製造する場合、上記酸
化反応は、R⁴′が水酸基を有する低級アルキル基
である化合物（Ｃ−２）を、ジヨーンズ
（Jones）試薬を用いる方法〔Reagents for
Orgnic Synthesis、Vol1、142、Wiley、New
York、1967〕に従わせることにより行なわれる。
即ち該酸化反応は、例えばアセトン、ジオキサ
ン、エーテル等、好ましくはアセトンを溶媒とし
て約０〜30℃の温度条件下に実施される。用いら
れるジヨーンズ試薬量は、化合物（Ｃ−２）に対
して、クロ酸量として当モル〜20倍モル量、好ま
しくは２〜８倍モル量とするのが好適である。該
ジヨーンズ酸化反応により、原料化合物（Ｃ−
２）の有する水酸基がカルボキシル基に変換され
ると同時にナフタレン環の酸化によつてナフトキ
ノン環が形成され、所望の化合物（Ｃ−３）が収
得される。 反応工程式−１における出発原料(2)の内、
R²′がメチル基又はヒドロキシメチル基であるも
のは、下記反応工程式−４に従う化合物(C)の還元
反応及びこれに引き続く生成化合物(D)の酸化反応
によつて、製造できる。 〔式中R¹は前記に同じ。R²〓はメチル基又はヒ
ドロキシメチ基を示す。〕 上記において、化合物(C)の還元反応は、公知の
方法に従い、NaBH₄、LiAlH₄等のハイドライド
を用いる方法又は接触還元によることができる。
ハイドライド用いる還元反応によれば、R²〓が
ヒドロキシメチル基である化合物(D)を収得でき
る。接触還元は、好ましくは過塩素酸の少量（触
媒量）を用いて、常法に従い、例えば５〜10％パ
ラジウムカーボン、PtO₂、ラネーニツケル等の
触媒の存在下、アルコール、酢酸エチル、DMF、
水、エーテル等の溶媒中、常圧〜10気圧程度の水
素圧下に実施され、これによりR²〓がメチル基
である化合物(D)を収得できる。 かくして得られる化合物(D)の酸化反応は、前述
したCANを用いる酸化反応と同様にして行なわ
れ、これにより化合物(E)を製造できる。 反応工程式−３に示す化合物（Ｃ−３）の内、
特にR⁴″がカルボキシメチル基であるものは、次
の反応工程式−５に示す方法によつても得られ
る。 〔各式中R¹は前記に同じ。R⁵は低級アルキル基
を示す。〕 上記方法によれば化合物(C)の増炭反応を、レホ
ルマトスキイ反応に従い実施することにより、化
合物(F)を収得できる。該反応はベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の溶媒中、亜鉛等の存在下に化合
物(C)にα−ハロ酢酸エステルを縮合させることに
より行なわれる。α−ハロ酢酸エステルとして
は、ブロム酢酸低級アルキルエステルが好ましく
用いられる。その使用量は、化合物(C)に対して通
常等モル〜５倍モル量、好ましくは等モル〜３倍
モル量とされるのがよく、亜鉛は化合物(C)に対し
て通常等モル〜５倍モル量、好ましくは等モル〜
３倍モル量用いられるのがよい。反応は約50℃と
〜溶媒の沸点温度の範囲で良好に進行する。 かくして得られる化合物(F)の脱水反応は、通常
有機溶媒中、酸触媒の存在下に行なわれる。溶媒
としては、例えばベンゼン、エーテル、クロロホ
ルム、ジクロルメタン等を使用できる。酸触媒と
しては、例えば塩化水素ガス、ｐ−トルエンスル
ホン酸等を使用できる。反応は上記酸の触媒量を
用いて、約０℃〜溶媒の沸点温度範囲にて良好に
進行し、化合物(G)を収得できる。 化合物(G)の加水分解反応は、常法に従い実施さ
れ、特に水酸化アルカリを用いたアルカリ加水分
解法が好ましく採用される。水酸化アルカリは化
合物(G)に対して通常等モル〜20倍モル量の範囲で
用いられ、反応はアルコール、水、これらの混合
溶媒中、約20℃〜溶媒の沸点範囲の温度下に行な
われる。 上記により得られる化合物(H)の水素添加反応
は、通常の接触還元反応に従い、例えば５〜10％
パラジウムカーボン、酸化白金（PtO₂）、ラネー
ニツケル等を触媒として用いて、アルコール、酢
酸エチル、DMF、水、エーテル等の溶媒中、常
圧〜10気圧程度の水素圧下に行なわれる。 また上記で得られる化合物(I)は、前述した
CANを用いる酸化反応又はジヨーンズ試薬を用
いる酸化反応に従わせることにより、化合物(J)に
誘導することができる。 反応工程式−１における原料化合物(2)の内
R²′が低級アルコキシカルボニル低級アルキル基
であるものは次の反応工程式−６に示す方法によ
り製造できる。 〔式中R¹は前記に同じ。R⁶はカルボキシアルキ
ル基を、R⁷は低級アルコキシカルボニルアルキ
ル基を夫々示す。〕 上記によれば、化合物(K)のエステル化反応によ
り、化合物(L)を製造できる。該エステル化反応
は、好ましくはアルカリ存在下に、ハライド類を
用いて行なわれる。ここでハライド類としては低
級アルキルハライド、例えば沃化メチル、塩化メ
チル、沃化イソプロピル等を例示できる。アルカ
リとしては、ピリジン、トリエチルアミン等の有
機アミン類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等を
利用できる。反応はDMF、DMSO、THF等の極
性溶媒中、約20〜50℃の温度条件下に行なわれ
る。アルカリ及びハライド類の使用量は任意に決
定されるが、通常化合物(K)に対して、夫々約１〜
10倍モル量、好ましくは約１〜５倍モル量とされ
るのがよい。 〔式中R¹、R²、R³及びｎは前記に同じ。〕 本発明化合物(1)（キノン化合物）は、これを常
法に従い還元することにより、化合物（Ｍ）（ハ
イドロキノン化合物）に変換できる。この還元反
応は、例えば塩化第１錫、水素化ホウ素ナトリウ
ム、ナトリウムハイドロサルフアイド等のよく知
られた触媒（接触水添用触媒）を用いて、通常の
方法により行ない得る。例えば塩化第１錫を用い
る場合、反応は塩酸酸性として含水アルコール中
で、化合物(1)に対して等モル〜３倍モル量の
SnCl₂・2H₂Oを用い約−20〜30℃で行なわれる。
水素化ホウ素ナトリウムの場合、反応は好ましく
アルコール中で、化合物(1)の約1/2〜３倍モル量
の水素化ホウ素ナトリウムを用い、約０〜30℃で
実施される。ナトリウムハイドロサルフアイドの
場合、これは約10％前後の水溶液形態で用いら
れ、反応はアセトン、エーテル、ジオキサン、水
等の溶媒中で約０℃〜沸点の範囲の温度で進行す
る。 また化合物（Ｍ）は、空気酸化や塩化第二鉄、
酸化銀等の酸化剤を用いて常法に従い、容易に酸
化され、本発明化合物(1)とすることができる。上
記塩化第二鉄は通常水溶液形態で化合物（Ｍ）に
対し当モル〜20倍モル用いられ、この場合、反応
はTHF、アルコール、水等の溶媒中で約０〜30
℃で実施される。また酸化銀は化合物（Ｍ）に対
し等モル〜20倍モル用いられ、この場合、反応は
エーテル、アセトン、ジオキサン、THF等の溶
媒中、約０〜30℃で行なわれる。 上記各反応により得られる目的物は、慣用の分
離手段、例えば溶媒抽出、再結晶、カラムクマロ
マトグラフイー等により容易に単離精製すること
ができる。 また本発明化合物(1)中、遊離のカルボキシル基
を有するものは、アルカリ金属塩例えばナトリウ
ム塩、カリウム塩等やアルカリ土類金属塩例えば
カルシウム塩、マグネシウム塩等とすることがで
きる。これらの塩形成反応は常法に従つて行なう
ことができる。かくして得られる塩類も亦、遊離
形態の本発明化合物と同様の薬理活性を有してお
り、本発明範囲に包含される。更に本発明化合物
には光学異性体や幾何異性体が考えられ、かかる
異性体も亦本発明範囲に含まれているものであ
る。 実施例 以下、本発明化合物を製造するための原料化合
物の製造例を参考例として挙げ、次いで本発明化
合物の製造例を実施例として挙げる。 参考例 １ ４，５，８−トリメトキシ−１−ナフトアルデ
ヒドの製造 ４，８−ジメトキシ−１−ナフトアルデヒド
195ｇをジメチルホルムアミド（DMF）800mlに
溶解させ、氷冷下、これにＮ−ブロモコハク酸イ
ミド（NBS）160ｇのDMF溶液800mlを加える。
反応混合物を１晩撹拌した後、水約８に移し、
折出結晶を取し、水洗する。得られる粗結晶を
減圧下に乾燥して、５−ブロモ−４，８−ジメト
キシ−１−ナフトアルデヒド 240ｇ（90％）を得る。 NMR分析（CDCl₃、δ値） 10.78（1H、ｓ） 7.88（1H、ｄ、Ｊ＝8.3） 7.72（1H、ｄ、Ｊ＝8.3） 6.93（1H、ｄ、Ｊ＝8.3） 6.77（1H、ｄ、Ｊ＝8.3） 3.99（3H、ｓ） 3.97（3H、ｓ） このものは、精製することなく、次の反応に使用
できる。 次いで、無水メタノール１にナトリウム77.5
ｇを溶解させた液に、沃化銅(I)（Cu）155ｇ及
びDMF1を加え、得られる混液に上記で得たブ
ロム体240ｇを加え、１時間還流する。反応混合
物から不純物を別し、母液に水約６を加えて
結晶を析出させ、これを取し、10％塩酸で洗浄
し、次いで水洗し、更にイソプロピルアルコール
次いでエーテルで夫々洗浄して、目的化合物の粗
結晶140ｇ（70％）を得る。 NMR分析（CDCl₃、δ値） 10.78（1H、ｓ） 7.91（1H、ｄ、Ｊ＝8.6） 6.90（1H、ｄ、Ｊ＝8.6） 6.87（2H、bs） 4.01（3H、ｓ） 3.93（3H、ｓ） 3.91（3H、ｓ） このものも更に精製せずとも、次の反応に使用
できる。 参考例 ２ １−ヒドロキシメチル−４，５，８−トリメト
キシナフタレンの製造 参考例１で得た４，５，８−トリメレトキシ−
１−ナフトアルデヒド８ｇをエタノール200ml及
びTHF200mlに溶解し、60℃で加温し、撹拌下に
NaBH₄の２ｇを徐々に加える。１時間撹拌の後
に、３％HClにて酸性とし、反応混合物を
CH₂Cl₂で抽出し、乾燥（MgSO₄）し、濃縮後、
得られた粗結晶をクロロホルム・ヘキサン混合溶
媒から再結晶して、6.5ｇ（82％）の目的物を白
色結晶として得る。 融点112.5〜113.5℃ 参考例 ３ １−メチル−４，５，８−トリメトキシナフタ
レンの製造 参考例１で得た４，５，８−トリメトキシ−１
−ナフトアルデヒド３ｇを酢酸50ml及び70％
HClO₄0.1mlに溶解し、10％Pd−C700mgを加え、
常圧下に25℃で水素添加を行なう。撹拌を3.5時
間続け、触媒を別し、液に水を加えCH₂Cl₂
抽出し、有機層を５％NaHCO₃水溶液で洗い、
その後水洗、乾燥（MgSO₄）及び濃縮して得ら
れる結晶を、クロロホルム・ヘキサン混合溶媒で
再結晶して、1.95ｇ（70％）の白色結晶の目的物
を得る。融点95〜96.5℃ 参考例 ４ ３−〔１−（４，５，８−トリメトキシ）ナフチ
ル）アクリル酸 ４，５，８−トリメトキシナフトアルデヒド23
ｇ、亜鉛板20ｇ及びベンゼン600mlの混合液に、
ブロム酢酸メチル28mlを還流撹拌下、約１時間を
要して加える。その後、30分加熱還流を続けた
後、反応混合物を水に移し、不溶物を別、塩化
メチレンで洗い、液を塩化メチレンで抽出す
る。乾燥（MgSO₄）、濃縮後、カラムクロマトグ
ラフイー（シリカゲル、塩化メチレン：酢酸エチ
ル＝３：１）で精製すると、３−ヒドロキシ−３
−〔１−（４，５，８−トリメトキシ）ナフチル〕
プロピオン酸メチルエステル12ｇ（40％）を淡黄
色結晶として得る。 融点105〜107℃ 次いで上記で得た化合物10ｇをクロロホルム
500mlに溶解し、エタノール性塩酸（90ｇHClガ
ス／900mlEtOH）５mlを加え、室温で2.5時間放
置する。その後、無水K₂CO₃で乾燥後、溶媒留
去し、得られた結晶を、クロロホルム：ヘキサン
混合溶媒で再結晶すると９ｇ（95％）の脱水生成
物を黄色結晶として得る。この様にして得られた
３−〔１−（４，５，８−トリメトキシ）ナフチ
ル〕アクリル酸メチルエステル4.3ｇをメタノー
ル150ml及び2NNaOH70mlに混合し、30分還流す
る。冷却後、濃塩酸にて酸性にし、析出する結晶
を取、水洗する。黄色結晶を乾燥すると４ｇ
（97％）で３−〔１−（４，５，８−トリメトキシ）
ナフチル〕アクリル酸を得る。 参考例 ５ ３−〔１−（４，５，８−トリメトキシ）ナフチ
ル〕プロピオン酸の製造 参考例４で得た３−〔１−（４，５，８−トリメ
トキシ）ナフチル〕アクリル酸４ｇをDMF300ml
及びエタノール300mlに溶解し、10％Pd−C1ｇを
加え、常圧下に25℃にて水素添加する。約２時間
後、触媒を別し、溶媒を留去し、得られた結晶
をクロロホルム・ヘキサン混合溶媒から再結晶し
て3.7ｇ（92％）の目的物を得る。 融点168〜170℃ 参考例 ６ ５−ヒドロキシメチル−８−メトキシ−１，４
−ナフトキノンの製造 １−ヒドロキシメチル−４，５，８−トリメト
キシナフタレン８ｇを塩化メチレン100mlに溶解
し、その中にCAN44ｇを水150mlに溶解したもの
を加え、15分間撹拌し、その後有機層を水洗し、
乾燥（MgSO₄）し、濃縮して得られる結晶を、
クロロホルム・エチルエーテル混合溶媒で再結晶
して、5.3ｇ（75％）の黄色結晶の目的物を得る。 融点165〜167℃（分解） 同様の操作で、１−メチル−４，５，８−トリ
メトキシナフタレンから、黄色結晶の５−メチル
−８−メトキシ−１，４−ナフトキノンを得る。 融点116〜117.5℃ 参考例 ７ ５−（２−カルボキシエチル）−８−メトキシ−
１，４−ナフトキノンの製造 ３−〔１−（４，５，８−トリメトキシ）ナフチ
ル〕プロピオン酸５ｇを、アセトン500mlに溶解
し、氷冷下ジヨーンズ試薬36mlを加え、30分間撹
拌する。反応混合物を水に移し、塩化メチレン抽
出し、有機層を乾燥（MgSO₄）し、濃縮して得
られる粗結晶をクロロホルム・エチルエーテル混
合溶媒で再結晶して、３ｇの黄色結晶の目的物を
得る。 融点167〜168.5℃（分解） 参考例 ８ ５−（２−メトキシカルボニルエチル）−８−メ
トキシ−１，４−ナフトキノンの製造 ５−（２−カルボキシエチル）−８−メトキシ−
１，４−ナフトキノン2.6ｇ、K₂CO₃2.5ｇ及び沃
化メチル３mlをDMF50mlに混合し、25℃で16時
間撹拌する。反応混合物を水に移し、酢酸エチル
で抽出し、有機層を水洗、乾燥（MgSO₄）及び
濃縮し、得られる結晶を酢酸エチル・ヘキサン混
合溶媒で再結晶して、２ｇ（72％）の黄色結晶の
目的物を得る。 融点123.5〜125℃ 実施例 １ ８−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−２−ベ
ンゼンスルフエニル−１，４−ナフトキノンの
製造 ８−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−１，４
−ナフトキノン1.0ｇ、チオフエノール510mg、エ
タノール60ml及びDMF20mlの混合物を５時間撹
拌する。その後10％FeCl₃溶液50mlを加え、１時
間更に撹拌を続ける。反応混合物を水に移し、酢
酸エチルで析出し、有機層を水洗、乾燥
（MgSO₄）、濃縮して得られる結晶を酢酸エチ
ル：エーテルの混合溶媒から再結晶して900mgの
目的化合物を黄色結晶として得た。 融点144〜145℃（分解）¹ H−NMR（CDCl₃） 7.71（1H、ｄ、Ｊ＝8.1Hz） 7.26（1H、ｄ、Ｊ＝8.1Hz） 7.50（5H、bs） 6.00（1H、ｓ） 4.74（2H、ｄ、Ｊ＝7.2Hz） 4.02（3H、ｓ） 3.07（1H、ｔ、Ｊ＝7.2Hz） 実施例 ２〜20 実施例１と同様にして下記第１表に示す各化合
物を得る。 尚第１表には実施例１で得た化合物も併記す
る。

【表】

【表】 実施例 21 ８−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−２−ｎ
−ブタンスルフイニル−１，４−ナフトキノン
の製造 ８−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−２−ｎ
−ブタンスルフエニル−１，４−ナフトキノン
1.6ｇを塩化メチレン150mlに溶解し、氷冷下、ｍ
−クロル過安息香酸（70％）1.3ｇを徐々に加え、
その後15分間撹拌を続ける。不溶物を別し、
液を５％NaHCO₃水溶液で洗い、その後水洗、
乾燥（MgSO₄）、濃縮して得られる化合物を、シ
リカゲルクロマトグラフイーに付し、クロロホル
ムにて展開して１ｇの目的化合物を黄色結晶とし
て得る。 融点139.5〜141℃（分解） NMR（CDCl₃） 7.85（1H、ｄ、Ｊ＝8.5Hz） 7.31（1H、ｄ、Ｊ＝8.5Hz） 6.50（1H、ｓ） 4.83（2H、ｄ、Ｊ＝7.0Hz） 4.01（3H、ｓ） 3.37（1H、ｔ、Ｊ＝7.0Hz） 2.81（2H、ｔ、Ｊ＝7.0Hz） 1.3−1.8（4H、ｍ） 0.97（3H、ｔ、Ｊ＝6.6Hz） 実施例 22〜25 実施例21と同様にして下記第２表に示す各化合
物を得る。 尚第２表には実施例21の化合物も併記する。

【表】 実施例 26 ８−アセトキシメチル−５−メトキシ−２−ｐ
−トルエンスルフエニル−１，４−ナフトキノ
ンの製造 ８−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−２−ｐ
−トルエンスルフエニル−１，４−ナフトキノン
680mgをクロロホルム10mlに溶解し、ピリジン200
mg存在下にアセチルクロライド150mgのクロロホ
ルム２ml溶液を氷冷下滴下する。その後１時間撹
拌を続けた後、反応混合物を水に移し、クロロホ
ルムで抽出し、有機層を水洗、乾燥（MgSO₄）、
濃縮して得られる化合物をシリカゲルクロマトグ
ラフイーに付しクロロホルム：ｎ−ヘキサン混合
溶媒で展開して540mgの目的化合物を黄色結晶と
して得る。 融点148〜150℃（分解） NMR（CDCl₃） 7.73（1H、ｄ、Ｊ＝8.8Hz） 7.41（2H、ｄ、Ｊ＝8.3Hz） 7.35（1H、ｄ、Ｊ＝8.9Hz） 7.26（2H、ｄ、Ｊ＝8.3Hz） 6.00（1H、ｓ） 5.57（2H、ｓ） 3.96（3H、ｓ） 2.41（3H、ｓ） 2.18（3H、ｓ） 実施例 27及び28 実施例26と同様にして下記第３表に示す各化合
物を得る。 尚第３表には実施例26の化合物も併記する。

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R¹は低級アルキル基を示す。R²は置換基
   として水酸基を有することのある低級アルキル
   基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
   低級アルキルカルボニルオキシ低級アルキル基、
   低級アルコキシカルボニルオキシ低級アルキル
   基、カルボキシ低級アルキル基又はベンゾイルオ
   キシ低級アルキル基を示す。R³はアルキル基、
   ヒドロキシ低級アルキル基、置換基として低級ア
   ルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、カ
   ルボキシ基又はカルボキシ低級アルキル基を有す
   ることのあるフエニル基、フエニル環上に置換基
   として低級アルコキシ基を有することのあるフエ
   ニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
   低級アルキル基又はフラニル低級アルキル基を示
   す。ｎは０、１又は２を示す〕 で表わされるナフトキノン誘導体及びその塩。