JPH01296069A - 真空容器 - Google Patents

真空容器

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JPH01296069A
JPH01296069A JP63127718A JP12771888A JPH01296069A JP H01296069 A JPH01296069 A JP H01296069A JP 63127718 A JP63127718 A JP 63127718A JP 12771888 A JP12771888 A JP 12771888A JP H01296069 A JPH01296069 A JP H01296069A
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JP
Japan
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container
vacuum
lid
vessel
space
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JP63127718A
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English (en)
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JP2757374B2 (ja
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Takuya Sekiguchi
卓也 関口
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は加熱、冷却、保温装置を備えた真空容器に関す
るものである。
従来の技術 第4図は従来の真空容器の構成を示す。
1は容器、2は蓋、3は排気装置、4は排気管、6は容
器の内部空間、9はシール部材である。容器1の内部空
間6の気体は排気装置3により排気され、またシール部
材eによシ容器1の内部空間5と外部空間を隔離するこ
とにより容器1の内部空間5を真空状態に保つ。
発明が解決しようとする課題 しかし、第4図で示すような従来構成では容器1の内部
空間6を大気開放した際などに外部空間より気体が内部
空間6に侵入し、気体分子が容器1の内壁面に付着する
が再度容器1の内部空間6と外部空間とを隔離し排気装
置3で内部空間6内の気体を排気する際に容器1の内壁
面に付着した気体分子が容易に排気されず、容器1の内
部空間6内に間欠的に放出されるために、内部空間5内
が一定の真空度に達するために必要な時間が長くなる。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するために、本発明の第1の発明は、真
空容器の壁面内に埋め込まれた加熱装置からなるもので
ある。また、本発明の第2の発明は真空容器の壁面内に
埋め込まれた冷却装置からなるものである。また、本発
明の第3の発明は真空容器の壁面内の加熱装置及び冷却
装置の外側に設けられた真空層からなるものである。
作  用 本発明の第1の発明の作用は、真空容器の壁面内に埋め
込まれた加熱装置により真空容器を効率よく加熱し、容
器の内壁面に付着した気体分子を容器1の内部空間5内
に効率的に蒸発させることができる。また、本発明の第
2の発明の作用は真空容器の壁面内に埋め込まれた冷却
装置により例えば加熱された真空容器を短時間で冷却さ
せることができる。また、本発明の第3の発明の作用は
真空容器の壁面内の加熱装置及び冷却装置の外側に設け
られた真空層により、例えば真空容器を加熱装置で加熱
する際に熱の外部空間への放散を遮断することができる
。
実施例 以下本発明の第1の実施例について、図面を参照しなが
ら説明する。
第1図aは第1の実施例その1の真空容器の縦断面図、
第1図すは第1図aのA矢視図、第1図Cは第1の実施
例その2の真空容器の縦断面図、第1図dは第1図Cの
A矢視図である。
第1図a、第1図す、第1図Cおよび第1図dにおいて
、1は容器、2は蓋、3は排気装置、4は排気管、6は
容器の内部空間、6は加熱装置、9はシール部材である
。
容器の内部空間5内の気体は排気装置3によシ排気され
る。同時に加熱装置6で容器1および蓋2を加熱し、容
器1および蓋2の内壁面に付着した気体分子を容器の内
部空間6内に放出させ、排気装置3で排気することによ
り容器の内部空間6を短時間で一定の真空度にするとと
もに到達真空度を高くすることが可能となる。
以下本発明の第2の実施例について、図面を参照しなが
ら説明する。
第2図とは第2の実施例その1の真空容器の縦断面図、
第2図すは第2図aのA矢視図、第2図Cは第2の実施
例その2の真空容器の縦断面図、第2図dは第2図Cの
A矢視図である。
第2図a、第2図す、第2図aおよび第2図dにおいて
、7は冷却装置である。
加熱装置6で容器1および蓋2を加熱し容器1および蓋
2の内壁面に付着した気体分子を容器の内部空間5に放
出させ排気装置3で排気した後、容器1および蓋2を冷
却装置7で短時間で冷却しながら排気装置3で排気する
ことによシ、温度の関数である容器の内部空間6の圧力
を更に下げる(真空度を高くする。)ことが可能となる
。
以下本発明の第3の実施例について、図面を参照しなが
ら説明する。
第3図aは第3の実施例その1の真空容器の縦断面図、
第3図すは第3図aのA矢視図、第3図Cは第3の実施
例その2の真空容器の縦断面図、第3図dは第3図Cの
A矢視図である。
第3図a、第3図す、第3図Cおよび第3図dにおいて
、8は真空層、10の矢印は真空層8内を真空に保つた
めの排気方向を示す。
真空層8を加熱装置6および冷却装置7の外側に備える
ことによシ、加熱装置6で容器1および蓋2を加熱する
際に外部空間への熱の放散を遮断することができる。ま
た、冷却装置7で容器1および蓋2を冷却する際に外部
空間からの熱伝達を遮断するととができる。
発明の効果 以上述べたように、本発明の第1の発明によれば、真空
容器の壁面内に埋め込まれた加熱装置により真空容器を
効率よく加熱し、真空容器の内壁面に付着した気体分子
を真空容器の内部空間に放出させ、排気装置で排気させ
ることにより真空容器の内部空間の真空度を効率よく高
めるとともに到達真空度をも高めることができる。
また、本発明の第2の発明によれば、真空容器の壁面内
に埋め込まれた冷却装置により、例えば加熱された真空
容器を短時間で効率的に冷却し温度の関数である圧力を
下げる(真空度を高める。)ことができる。
また、本発明の第3の発明によれば、真空層を加熱装置
および冷却装置の外側に備えることによシ、加熱装置で
真空容器を加熱する際に外部空間への熱の放散を遮断し
効率的な加熱ができる。また、冷却装置で真空容器を冷
却する際に外部空間からの熱伝達を遮断し効率的な冷却
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図&は本発明の第1の実施例その1真空容器の縦断
面図、第1図すは第1図aのA矢視図、第1図Cは本発
明の第1の実施例その2の真空容器の縦断面図、第1図
dは第1図CのA矢視図、第2図dは本発明の第2の実
施例その1の真空容器の縦断面図、第2図すは第2図a
のA矢視図、第2図Cは本発明の第2の実施例そ6の2
の真空容器の縦断面図、第2図dは第2図CのA矢視図
、第3図aは本発明の第3の実施例その1の真空容器の
縦断面図、第3図すは第3図aのA矢視図、第3図Cは
本発明の第3の実施例その2の真空容器の縦断面図、第
3図dは第3図CのA矢視図、第4図は従来の真空容器
の縦断面図である。 1・・・・・・容器、2・・・・・・蓋、3・・・・・
・排気装置、4・・・・・・排気管、6・・・・・・加
熱装置、7・・・・・・冷却装置、8・・・・・・真空
層。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)内部に空間を有する容器と、前記容器の内部空間
    と外部空間とを隔離する蓋と、前記容器の内部空間を真
    空状態に保つための排気装置と、前記排気装置と前記容
    器の内部空間とを連通させる排気管と、前記容器及び前
    記蓋の壁面内に埋め込まれた加熱装置とからなる真空容
    器。
  2. (2)内部に空間を有する容器と、前記容器の内部空間
    と外部空間とを隔離する蓋と、前記容器の内部空間を真
    空状態に保つための排気装置と、前記排気装置と前記容
    器の内部空間とを連通させる排気管と、前記容器及び前
    記蓋の壁面内に埋め込まれた加熱装置とからなり、前記
    容器及び前記蓋の壁面内に埋め込まれた冷却装置を備え
    ていることを特徴とする真空容器。 (2)内部に空間を有する容器の内部空間と外部空間と
    を隔離する蓋と、前記容器の内部空間を真空状態に保つ
    ための排気装置と、前記排気装置と前記容器の内部空間
    とを連通させる排気管と、前記容器及び前記蓋の壁面内
    に埋め込まれた加熱装置と、前記容器及び前記蓋の壁面
    内に埋め込まれた冷却装置とからなり、前記容器及び前
    記蓋の壁面内の前記加熱装置及び前記冷却装置の外側に
    真空層を備えていることを特徴とする真空容器。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5826799A (ja) * 1981-08-08 1983-02-17 日本ケ−ブル・システム株式会社 ワイヤの伸び自動吸収機構
JPS61165096A (ja) * 1984-09-28 1986-07-25 Hitachi Ltd 真空容器
JPS61202423A (ja) * 1985-03-05 1986-09-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 非晶質半導体製造装置
JPS6248451U (ja) * 1985-09-10 1987-03-25

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5826799A (ja) * 1981-08-08 1983-02-17 日本ケ−ブル・システム株式会社 ワイヤの伸び自動吸収機構
JPS61165096A (ja) * 1984-09-28 1986-07-25 Hitachi Ltd 真空容器
JPS61202423A (ja) * 1985-03-05 1986-09-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 非晶質半導体製造装置
JPS6248451U (ja) * 1985-09-10 1987-03-25

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