JPH01298071A - 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 - Google Patents

窒化アルミニウム焼結体の製造方法

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JPH01298071A
JPH01298071A JP63130972A JP13097288A JPH01298071A JP H01298071 A JPH01298071 A JP H01298071A JP 63130972 A JP63130972 A JP 63130972A JP 13097288 A JP13097288 A JP 13097288A JP H01298071 A JPH01298071 A JP H01298071A
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晃 山川
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坂上 仁之
Koichi Sogabe
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    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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    • C04B35/515Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
    • C04B35/58Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
    • C04B35/581Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on aluminium nitride

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野コ この発明は窒化アルミニウム焼結体に関し、特に絶縁回
路基板、半導体集積回路装置用パッケージ等に用いられ
る高熱伝等性を有し、微粒からなる窒化アルミニウム焼
結体に関するものである。
[従来の技術] 最近、大規模集積回路装置(LSI)に関する技術の進
歩は目覚しく、特に集積度の向上は著しいものである。
この集積度の向上に対しては、半導体集積回路装置(I
C)のチップサイズの大型化も寄与しており、ICチッ
プサイズの大型化に伴なってパッケージあたりの発熱量
が増大している。このため、半導体装置用パッケージ等
に用いられる絶縁体基板の材料の放熱性が重要視される
ようになってきた。この絶縁体基板の材料としては、従
来よりアルミナ(Al1 o、)が−船釣である。しか
し、アルミナは電気絶縁性および機械強度に優れている
半面、熱伝導率か30W/mKと小さいために熱放散性
が悪いので、たとえば、高発熱量の電界効果トランジス
タ(FET)等をアルミナ基板の上に搭載することは不
適当である。
その上に高発熱量の半導体素子を搭載するために、高い
熱伝導率をHするベリリア(Bed)を用いた絶縁体基
板も存在するが、ベリリアは毒性があり、使用上の安全
対策が煩雑である。
そこで、最近では、高発熱量の半導体素子搭載用の絶縁
体基板として、高い熱伝導率を白°し、毒性がなく、ま
た、アルミナと同等の電気絶縁性や機械強度を有する窒
化アルミニウム(AuN)が半導体装置用の絶縁材料あ
るいはパッケージ材料として釘望視されている。
[発明が解決しようとする課題] 上述のように窒化アルミニウムは理論的には単結晶とし
ては高熱伝導性、高絶縁性を有する材料である。しかし
ながら、窒化アルミニウム粉末から焼結体を製造する場
合、窒化アルミニウム粉末自体の焼結性かよくないため
、粉末成形後、焼結することによって得られる窒化アル
ミニウム焼結体の相対密度(窒化アルミニウムの理論密
度3゜26 g / c m 3を基準とする)は、焼
結条件にもよるか、たかたか70〜80%しか示さず、
多量の気孔を包含する。そのため、窒化アルミニウム粉
末を単独に用いることにより、窒化アルミニウム焼結体
を緻密化することは困難である。
−ノj、窒化アルミニウム焼結体のような絶縁性セラミ
ックスの熱伝導機構はフォノン伝導を主体とするため、
焼結体中の気孔、不純物等の欠陥がフォノン散乱の原因
となり、その熱伝導率は低レベルのものしか得られない
。これらの状況に対し、高熱伝導性を有する。IIN焼
結体を得るためには種々の提案がなされている。たとえ
ば、AQNの焼結助剤、脱酸剤としてY2O,を添加し
、高密度、高熱伝導性のAQN焼結体を得る方法等か提
案されている。しかしながら、これらの方法では、平均
粒径10μm程度以上の粗粒からなる窒化アルミニウム
焼結体が得られる。そのため、熱伝導率の高い窒化アル
ミニウム焼結体か得られるものの、その焼結体の表面粗
さか大きいという問題点があった。したがって、窒化ア
ルミニウム焼結体が絶縁回路基板に用いられる場合、そ
の上に形成される薄膜からなる回路パターンに不具合か
生しるなどの問題点があった。
そこで、この発明は上記のような問題点を解消するため
になされたもので、高密度でしかも高熱伝導性をHする
窒化アルミニウム焼結体を得ることができるとともに、
微粒からなる窒化アルミニウム焼結体を提供することを
目的とする。
[課題を解決するための手段] この発明は上記の技術問題を解決するために種々検討し
た結果、微粒からなる窒化アルミニウム焼結体をi′7
るために、窒化アルミニウム粉末に成る種の元素を少f
A添加した後、焼結することにより、微粒からなり、か
つ高熱伝導性を有する窒化アルミニウム焼結体が得られ
ることを見出したものである。すなわち、Fe、Co、
Ni、V、Nb、Taのうちの少なくとも1種の元素を
少量、窒化アルミニウム粉末に添加すれば、得られる窒
化アルミニウム焼結体の熱伝導率を阻害せず、その粒成
長を防市する効果があることを見出したものである。
この発明に従った窒化アルミニウム焼結体は、Fe、C
o、Ni、V、Nb、Taからなる群より選ばれた少な
くとも1種の元素を0.01〜1゜0重量%含合し、そ
の平均粒径が5μm以下であり、かつ、100W/mK
以上の熱伝導率を有するものである。
[作用コ この発明に従った窒化アルミニウム焼結体は、訓練度の
窒化アルミニウム粉末に少量のFe、Co、Ni、V、
Nb、Taを添加した後、温度1700〜2100℃の
窒素を含む非酸化性雰囲気中で加熱し、焼成されること
により得られる。原料として用いられる窒化アルミニウ
ム粉末は高純度で微粒のものが好ましい。たとえば、金
属不純物の含有量が500ppm以下、酸素含有量か〕
0重量%、比表面積が4.0m2/g程度の窒化アルミ
ニウム粉末が望ましい。
窒化アルミニウム粉末に含まれる金属不純物の二が過大
であると、窒化アルミニウム中への固溶、粒界への析出
により、得られる窒化アルミニウム焼結体の熱伝導率を
低下させるように作用する。
また、金属不純物の含有量が過大であると、窒化アルミ
ニウム粒子の粒成長か促進され、得られる窒化アルミニ
ウム焼結体の特性を劣化させる。
窒化アルミニウム粒子の粒成長を抑制し、焼結を促進さ
せ、その熱伝導率を向上させる添加元素としてのFe、
Co、Ni、V、Nb、Taは、それらの少なくとも1
種以上の元素量として0゜01〜1.0重量%添加され
る。0.01重量?6以下では、添加によってもたらさ
れる粒成長抑制等の効果を発揮し得ない。また、1.0
重量%以上添加すると、得られる窒化アルミニウム焼結
体の熱伝導率をかえって低下させてしまう。
本願発明によれば、窒化アルミニウム焼結体はその平均
粒径が5μm以下であり、かつ100W/ m K以上
の熱伝導率を有するものが得られる。
しかしながら、焼結工程において、焼結温度を過剰に高
く、あるいは焼結時間を長時間に設定すると、窒化アル
ミニウム粒子の粒成長が著しく促進される。そのため、
たとえば、温度1900℃において10時間程度以下の
焼結時間で焼結されるのが好ましい。
また、窒化アルミニウム粉末への添加物としては、上記
の元素以外に少量の周期律表11a、 IIIa族元素
をたとえば、酸化物として添加することによって、得ら
れる窒化アルミニウム焼結体の緻密化を促進することも
可能である。周期律表Tla族元素としてはBe、Mg
、Ca、Sr、Ba、Raが挙げられる。周期律表ma
族元素としてはSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、P
m、Sm。
Eu、  Gd、  Tb、  Dy、  Ho、  
Er、  Tm、  Yb、Lu、Acが挙げられる。
さらに、Fe、Co、Ni、V、Nb、Taは酸化物と
して添加することも可能であるが、他の化合物、たとえ
ば、炭酸塩、水酸化物、アルコキシド、脂肪酸塩などの
化合物として添加することも可能である。
なお、得られる焼結体の表面粗さとしてRaか0.2μ
m以下であれば、その窒化アルミニウム焼結体は回路基
板に用いられるのに望ましいものとなる。
[発明の実施例] 比表面積3.0m2/g、金属不純物含有量80ppm
、酸素含有量017重量%である窒化アルミニウム粉末
に、添加元素として第1図に示される元素の酸化物をそ
れぞれ別々に2000ppm添加したものが準備された
。これら元素が添加された窒化アルミニウム粉末はアル
コール中で十分混合された後、乾燥された。このように
して得られた窒化アルミニウム粉末はプレス成形か施さ
れ、直径φ12mmX5mmt (厚み)の成形体に圧
縮成形された。それぞれ添加元素の種類ごとに得られた
成形体は窒素ガス雰囲気中において温度1950℃で5
時間加熱され、焼結された。このようにして作製された
それぞれの窒化アルミニウム焼結体の熱伝導率、粒径は
測定結果として第1図に示されている。なお、粒径の4
−1定方法としては、窒化アルミニウム焼結体の破面を
走査型電子顕微鏡を用いて5000倍の倍率で観察する
ことによってその粒径がallJ定された。
この測定結果によれば、本発明に従った窒化アルミニウ
ム焼結体は、100W/mK以上の熱伝導率を有し、!
]シ均粒径が5μm以下であることが理解される。した
がって、微粒でかつ高熱伝導性を有する窒化アルミニウ
ム焼結体を得るためには、Fe、Co、Ni、V、Nb
、Taの添加が有効であることが理解される。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば微粒でかつ熱伝導
率の高い窒化アルミニウム焼結体を得ることができ、面
精度の良好な表面を有する焼結体を与えることができる
。したがって、この発明の窒化アルミニウム焼結体は、
IC用絶縁体話基板IC用パッケージ等に用いられる絶
縁性セラミックスとして広く適用されるだけでなく、種
々の放熱部品として幅広く適用されることが可能である
【図面の簡単な説明】
第1図は窒化アルミニウム焼結体の平均粒径と熱伝導率
とを、含有する元素の種類との関係で示した図である。 (ほか2名)″゛

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Fe,Co,Ni,V,Nb,Taからなる群よ
    り選ばれた少なくとも1種の元素を0.01〜1.0重
    量%含有し、その平均粒径が5μm以下であり、かつ、
    100W/mK以上の熱伝導率を有する窒化アルミニウ
    ム焼結体。
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