JPH01301655A - 1−ベンジル−3−ベンジルアミノピロリジン類の製造法 - Google Patents

1−ベンジル−3−ベンジルアミノピロリジン類の製造法

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JPH01301655A
JPH01301655A JP63132346A JP13234688A JPH01301655A JP H01301655 A JPH01301655 A JP H01301655A JP 63132346 A JP63132346 A JP 63132346A JP 13234688 A JP13234688 A JP 13234688A JP H01301655 A JPH01301655 A JP H01301655A
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benzyl
hensyl
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hydrogen
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Mitsuharu Yamaji
山路 満春
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Koei Chemical Co Ltd
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Koei Chemical Co Ltd
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産   の 1 本発明は1−ベンジル−3−ヘンシルアミノピロリジン
類の製造法に関する。1−ヘンシル−3−ヘンシルアミ
ノピロリジン類は医薬合成用の中間体として極めて重要
な化合物である。
1又肢I 従来、1−ヘンシル−3−ヘンシルアミノピロリジンの
製造法としては、1.2.1lLlり置換−ブタン(置
換基はハロゲン原子又はOR’  (R’はアルカンス
ルホニル基あるいは芳香族スルボニル基を示す〉)にヘ
ンシルアミンを反応させる方法が知られている(特開昭
62−87565)。
t”’   」ユニ」11 この従来方法では、次の様な欠点があり、工業的製造法
としては十分なものとはいいがたい。
■原料として1,2.4−)リハロゲノブタンを用いた
場合、このハロゲンによる腐食のために、安価な鉄製製
造装置を使用して1−へンジルアミノビロリジンを製造
しがたく、製造装置に対する材質上の制限がある。さら
に、精製1−ヘンシル−3−ヘンシルアミノピロリジン
は反応液を抽出、濃縮、蒸留を行ない、次いで留出した
粗製品を再蒸留することによって得られる。このように
精製1−ヘンシル−3−ヘンシルアミノピロリジンを得
るには、かなり繁雑な処理を必要とする。
■置換基がOR’ 、又はOR’とハロゲン原子である
1、2.4−トリ置換−ブタンを原料として用いた場合
、精製1−ヘンシル−3−ヘンシルアミノピロリジンを
得るには、1,2.4−)リハロゲノブタンの場合より
も一層繁雑な処理を必要とする。すなわち、反応液を抽
出、濃縮、蒸留し、さらに得られた油状物を塩酸処理し
、次いて抽出、蒸留して精製1−ヘンシル−3−ヘンシ
ルアミノピロリジンを得ている。
本発明の目的は、かかる欠点を克服した1−ヘンシル−
3−ヘンシルアミノピロリジン類の新規な製造法を提供
することにある。
皿」L迄]L決W引の」k段 本発明者は鋭意研究を行なった結果、パラジウム触媒の
存在下に、1−ベンジル−3−ピロリドン類とヘンシル
アミン及び水素を反応させると、反応液から触媒をろ側
稜、単蒸留を行なうのみて、高純度の1−ヘンシル−3
−ベンジルアミノピロリジン類を高収率で製造できるこ
とを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
すなわち、本発明はパラジウム触媒の存在下、示される
1−ヘンシル−3−ピロリドン類、ヘンシルアミン、及
び水素を反応させることを特徴と(式中、Rは前記と同
し)で示される1−ヘンレジルー3−ヘンシルアミノピ
ロリジン類の製造法である。
本発明の一般式(1)及び(2)におけるRは低級アル
キル基を示し、具体的にはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、tert−ブチル基なとの炭素数1〜
4のアルキル基が挙げられる。
本発明の一般式(1)で示される1−ヘンシル−3−ピ
ロリドン類としては、例えば1−ヘンシル−3−ピロリ
ドン、1−へフジルー2−メチル−3−ピロリドン、1
−ヘンシル−4−メチル−3−ピロリドン、1−ヘンシ
ル−4−エチル−3−ピロリドン、1−ヘンシル−4−
ブチル−3−ピロリドンなどが挙げられる。
本発明において、例えば出発原料の−っである1−ベン
ジル−3−ピロリドンは一般にN−ベンジル−N−力ル
ボキシメチルーβ−アラニン・ジアルキルエステルを金
属アルコキシドの存在下で環化し、次いて酸性条件下で
脱炭酸反応を行ない好収率て製造できる。
本発明で用いられるヘンシルアミンの使用量は、一般式
(1)で表わされる1−ヘンシル−3−ピロリドン類に
対して等モル以上あれば十分であるが、好ましくは1〜
5倍モルの範囲である。
本発明において、触媒としてパラジウム触媒を用いるこ
とが重要である。他の水素化触媒として、例えばラネー
ニッケルを用いると、パラジウム触媒に比へて本発明の
目的物を極めて低い収率てしか得ることができない。
本発明で用いられるパラジウム触媒は、工業的に市販さ
れているアルミナ、珪藻土、白土又は活性炭等に担持さ
せたものが挙げられる。又、パラジウム触媒にはニッケ
ル等の他の金属を含有してもよい。パラジウム触媒の使
用量としては特に制限されないが、例えは5%パラジウ
ム/カーボンなら原料の1−ベンジル−3−ピロリドン
類に対して0.1%〜20重量パーセントの範囲が好適
である。
本発明において、反応温度は特に限定されないが、20
〜100℃の範囲が好適である。反応温度が20℃より
低いと反応速度が著しく遅くなり、工業的には不利とな
る。又、反応温度は100℃より高いと反応速度は速い
が高沸点の副生成物ができ、収率が低下する。
本発明は通常加圧下で反応を行ない、水素の分圧として
は0.5〜100kg/cm2の範囲が好ましい。所定
の圧力を維持するには外から供給する水素カスでコント
ロールし、もし水素が消費されて内圧が下がれは水素を
補給して、所定内圧を維持することができる。
本発明の方法は反応溶媒を用いなくても実施できるが、
反応溶媒としてヘンセン、トルエン、キシレン等の不活
性溶媒の使用は、本発明の目的物の収率が向上し、好ま
しい。
本発明において、反応時間は通常18時間程度で十分で
ある。
このようにして生成された1−ヘンシル−3−ヘンシル
アミノピロリジン類は、−船釣な分離手段で容易に単離
精製できる。例えは、反応液をろ過してパラジウム触媒
を除去し、ろ液を単蒸留することにより単離精製される
犬差Jl 以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実」1例J 1リツトルの電磁攪はん式オートクレーブに、1−ヘン
シル−3−ピロリドン120g、J\ンジルアミン22
0g及び5%パラジウム/カーボン3gを仕込み、容器
内を水素置換した後、内温を50℃に昇温した。次に、
同温で反応圧20kg/cm2を保ちながら、8時間で
水素18リツトルを流入した。反応後、オートクレーブ
を室温に冷却し、内容物を取り出して触媒をろ別した。
ろ液を単蒸留したところ、塔頂温度192〜193℃/
1、OmmHgてGC純度99,3%の1−ヘンシル−
3−ヘンシルアミノピロリジン144gを得た。
この前後の留分を合わせると、1−ヘンシル−3−ヘン
シルアミノピロリジンの収率は88%てあった。
’LjLMユ 実施例1と同し反応器に1−ヘンシル−3−ピリドン1
20g、ノ\ンジルアミン220g、)ルエン240g
及び5%パラジウム/カーボン3gを仕込み、容器内を
水素置換した後、内温50’C1内圧40 kg / 
cm2を保ちながら水素18リツトルを4時間で流入し
た。反応液を実施例1と同様に処理して、GC純度99
.5%の1−ヘンシル−3−ヘンシルアミノピロリジン
170gを得て、その前後の留分を合わせると1−ヘン
シル−3−ヘンシルアミノピロリジンの収率は95.0
%となった。
支隻朋J 1−ベンジル−3−ピロリドンの代わりに、1−ヘンシ
ル−4−メチル−3−ピロリドン129gを使用した他
は、実施例1と同様に操作し、GC純度99.0%の1
−ヘンシル−4−メチル−3−ヘンシルアミノピロリジ
ン153g(収率80%)を得た。
発」LQ」L果 本発明の方法によれば、従来技術に比べて極めて簡単な
分離精製手段で、高純度1−ベンジル−3−ベンジルア
ミノピロリジン類が高収率で得ることができ、又、従来
技術のように出発原料にハロゲン化物を用いないので、
製造装置の材質的制限がなく、本発明は工業的に極めて
有用なものである。
特許出願人 広栄化学工業株式会社 lO−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  パラジウム触媒の存在下、一般式(1):▲数式、化
    学式、表等があります▼(1) (式中、Rは水素原子又は低級アルキル基を示す)で示
    される1−ベンジル−3−ピロリドン類、ベンジルアミ
    ン及び水素を反応させることを特徴とする一般式(2)
    : ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、Rは前記と同じ)で示される1−ベンジル−3
    −ベンジルアミノピロリジン類の製造法。
JP63132346A 1988-05-30 1988-05-30 1−ベンジル−3−ベンジルアミノピロリジン類の製造法 Expired - Lifetime JP2683809B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008050307A (ja) * 2006-08-25 2008-03-06 Koei Chem Co Ltd ピペリジン化合物の製造方法

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JP2008050307A (ja) * 2006-08-25 2008-03-06 Koei Chem Co Ltd ピペリジン化合物の製造方法

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