JPH01307915A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH01307915A JPH01307915A JP14005388A JP14005388A JPH01307915A JP H01307915 A JPH01307915 A JP H01307915A JP 14005388 A JP14005388 A JP 14005388A JP 14005388 A JP14005388 A JP 14005388A JP H01307915 A JPH01307915 A JP H01307915A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- thin
- substrate
- magnetic film
- crystal grains
- Prior art date
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- Granted
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
垂直磁気記録方式に使用して好適な磁気記録媒体に関し
、 良好なコンタクトスタートストップ（（、Ｃ３）特性と
、耐久性に優れた記録媒体を得ることを目的とし、 基板上に結晶粒が析出した状態の金属薄膜を形成し、そ
の上に軟磁性薄膜と垂直磁性薄膜の二層膜を形成して構
成する。
、 良好なコンタクトスタートストップ（（、Ｃ３）特性と
、耐久性に優れた記録媒体を得ることを目的とし、 基板上に結晶粒が析出した状態の金属薄膜を形成し、そ
の上に軟磁性薄膜と垂直磁性薄膜の二層膜を形成して構
成する。
この発明は垂直磁気記録方式に使用して好適な磁気記録
媒体に関し、さらに詳細には良好なＣＣ８特性と、耐久
性に優れた記録媒体構造の提供に関する。
媒体に関し、さらに詳細には良好なＣＣ８特性と、耐久
性に優れた記録媒体構造の提供に関する。
磁気記録装置、特に磁気ディスク装置は、磁気ディスク
の起動停止時には磁気ヘッドがディスク面に接触してお
り、定常運転中はディスク回転に伴って生ずる空気流に
より磁気ヘッドが浮上走行し、その状態で記録再生を行
う。このような駆動方式をコンタクトスタートストップ
方式（ＣＣＳ方式）と呼ぶ。
の起動停止時には磁気ヘッドがディスク面に接触してお
り、定常運転中はディスク回転に伴って生ずる空気流に
より磁気ヘッドが浮上走行し、その状態で記録再生を行
う。このような駆動方式をコンタクトスタートストップ
方式（ＣＣＳ方式）と呼ぶ。
このＣＣ８方式は、簡単な方法ではあるが、磁気ディス
クが回転を始めてから、磁気ヘッドがディスク上に浮上
するまでに比較的高速でディスク面と接触しながら走行
するため、ヘッド−ディスク間で大きな摩擦摩耗が生じ
やすい。
クが回転を始めてから、磁気ヘッドがディスク上に浮上
するまでに比較的高速でディスク面と接触しながら走行
するため、ヘッド−ディスク間で大きな摩擦摩耗が生じ
やすい。
このヘッド−ディスク間の摩擦摩耗を低減するために、
磁気ディスクの記録層上に保護膜および潤滑膜が形成さ
れるわけであるが、潤滑膜が厚すぎると余分な潤滑剤中
に磁気ヘッドが吸着されるという不都合が生じる。また
ディスク表面が平滑であるほど、低摩擦、低摩耗を両立
させる潤滑膜の膜厚範囲は狭くなり、最適膜厚を均一に
安定に得ることが非常に困難となる。
磁気ディスクの記録層上に保護膜および潤滑膜が形成さ
れるわけであるが、潤滑膜が厚すぎると余分な潤滑剤中
に磁気ヘッドが吸着されるという不都合が生じる。また
ディスク表面が平滑であるほど、低摩擦、低摩耗を両立
させる潤滑膜の膜厚範囲は狭くなり、最適膜厚を均一に
安定に得ることが非常に困難となる。
このことからヘッド吸着のないＣ８Ｓ動作と耐摩耗性に
優れた記録媒体構造の開発が待望されている。
優れた記録媒体構造の開発が待望されている。
このような要求に沿って開発された従来の垂直磁気記録
媒体を第２図に示す。
媒体を第２図に示す。
この記録媒体は垂直二層膜ディスクとも呼ばれており、
表面を機械研磨でネ■したディスク基板ｌｌ上に、裏打
ち層とも呼ぶ軟磁性薄膜１２および垂直磁性薄膜である
Ｃｏ−Ｃｒ膜１３を積層し、さらにその上に磁気ヘッド
の接触走行や衝突による破壊（ヘッドクラッシュ）から
媒体を保樗するための保護膜１４と潤滑膜１５を形成し
ている。
表面を機械研磨でネ■したディスク基板ｌｌ上に、裏打
ち層とも呼ぶ軟磁性薄膜１２および垂直磁性薄膜である
Ｃｏ−Ｃｒ膜１３を積層し、さらにその上に磁気ヘッド
の接触走行や衝突による破壊（ヘッドクラッシュ）から
媒体を保樗するための保護膜１４と潤滑膜１５を形成し
ている。
ここでディスク基板１１の表面を粗面とした理由は、潤
滑膜が多少厚くても、ヘッド吸着を防ぎ、低摩擦、低摩
耗を得るためである。この基板表面の粗面化には、ディ
スク基板を回転させながら適度な研磨砥粒を用いて表面
を削る手法（以下テクスチャリング法と呼ぶことにする
）を採用しており、それによると基板の周方向に沿った
細い多数の溝が形成される。
滑膜が多少厚くても、ヘッド吸着を防ぎ、低摩擦、低摩
耗を得るためである。この基板表面の粗面化には、ディ
スク基板を回転させながら適度な研磨砥粒を用いて表面
を削る手法（以下テクスチャリング法と呼ぶことにする
）を採用しており、それによると基板の周方向に沿った
細い多数の溝が形成される。
前記したテクスチャリング法は、簡便な表面粗し手法で
はあるが、表面粗さ、溝のピッチ等を精密に所望の値に
管理することが難しく、特にガラスなどによる硬質なデ
ィスク基板においては表面粗さのばらつきが大きくなり
やすい。
はあるが、表面粗さ、溝のピッチ等を精密に所望の値に
管理することが難しく、特にガラスなどによる硬質なデ
ィスク基板においては表面粗さのばらつきが大きくなり
やすい。
そのため、ヘッド吸着性やディスク耐久性にばらつきが
発生しやすいという課題がある。
発生しやすいという課題がある。
またテクスチャリング法による円周方向に沿った基板の
溝形成は、水平記録方式ではその上の磁性薄膜に磁気異
方性を与え、記録再生特性の向上に寄与する効果がある
が、垂直記録方式の場合むしろ、磁性薄膜の垂直異方性
を弱め記録再生特性を低下させる方向に働くという問題
もある。
溝形成は、水平記録方式ではその上の磁性薄膜に磁気異
方性を与え、記録再生特性の向上に寄与する効果がある
が、垂直記録方式の場合むしろ、磁性薄膜の垂直異方性
を弱め記録再生特性を低下させる方向に働くという問題
もある。
この発明は、以上のような従来の□状況から、テクスチ
ャリング法に代わる手段にて基板の表面粗しを行い、基
板の種類を問わず所望の表面粗さを有し、耐久性に優れ
た垂直二層膜媒体を提供することを目的とする。
ャリング法に代わる手段にて基板の表面粗しを行い、基
板の種類を問わず所望の表面粗さを有し、耐久性に優れ
た垂直二層膜媒体を提供することを目的とする。
上記目的を達成するためこの発明は、第１図に示すよう
に、基板２１上に、結晶粒が析出した状態の金属薄膜２
２を形成し、その上に軟磁性薄膜工２と垂直磁性薄膜１
３の二層膜を形成した構造を採用している。
に、基板２１上に、結晶粒が析出した状態の金属薄膜２
２を形成し、その上に軟磁性薄膜工２と垂直磁性薄膜１
３の二層膜を形成した構造を採用している。
一般に金属薄膜はスパツタリングや蒸着により成膜され
るが、成膜時の基板温度や、成膜後の加熱により、結晶
粒が析出する。結晶粒の大きさと表面粗さとは大きな相
関があり、結晶粒の大きさが変われば表面粗さも変化す
る。この結晶粒の大きさは金属の種類、成膜時の温度、
膜厚、成膜後の温度により容易にコントロールすること
ができるため、表面粗さも同様に任意のものを得ること
ができる。
るが、成膜時の基板温度や、成膜後の加熱により、結晶
粒が析出する。結晶粒の大きさと表面粗さとは大きな相
関があり、結晶粒の大きさが変われば表面粗さも変化す
る。この結晶粒の大きさは金属の種類、成膜時の温度、
膜厚、成膜後の温度により容易にコントロールすること
ができるため、表面粗さも同様に任意のものを得ること
ができる。
この発明ではそのような金属薄膜の性質に着目し、それ
を利用し基板上に結晶粒が析出した金属薄膜を形成して
おき、軟磁性薄膜をこの上に積層する。こうすると軟磁
性薄膜の表面には、不揃いな結晶粒の凸凹な表面状態に
対応した凹凸が形成される。この表面の凹凸は、以後に
順次形成される垂直磁性薄膜、保護膜および潤滑膜の表
面にも同様に発生する。
を利用し基板上に結晶粒が析出した金属薄膜を形成して
おき、軟磁性薄膜をこの上に積層する。こうすると軟磁
性薄膜の表面には、不揃いな結晶粒の凸凹な表面状態に
対応した凹凸が形成される。この表面の凹凸は、以後に
順次形成される垂直磁性薄膜、保護膜および潤滑膜の表
面にも同様に発生する。
かくして垂直記録媒体の表面は粗面化し、磁気ヘッドと
の接触面積を低減することによりヘッド吸着をなくし、
また低摩擦、低摩耗により耐久性を大幅に向上する。
の接触面積を低減することによりヘッド吸着をなくし、
また低摩擦、低摩耗により耐久性を大幅に向上する。
以下この発明の好ましい実施例につき図面を参照して詳
細に説明する。なお前記第２図と同等部分には同一符号
を記すものとする。
細に説明する。なお前記第２図と同等部分には同一符号
を記すものとする。
第１図は一実施例に係る垂直二層膜ディスクの断面図を
示し、ディスク基板２１は表面が平滑（表面粗さＲｍａ
ｘ ＝ １０ｎｍ）に研磨されたガラス基板を用いる。
示し、ディスク基板２１は表面が平滑（表面粗さＲｍａ
ｘ ＝ １０ｎｍ）に研磨されたガラス基板を用いる。
このガラス基板２１上に、Ａ１．Ａ＃−Ｃｕ、Ａ１−Ｃ
ｕ−３ｉなどのＡ１合金を基板温度２００℃で０．１μ
ｍの厚さにスパッタリング形成する。このように成膜す
ると結晶粒が成長し、表面粗さ２５〜３０ｎｍを有する
Ａβ等の金属薄膜２２がガラス基板２１上に形成される
。
ｕ−３ｉなどのＡ１合金を基板温度２００℃で０．１μ
ｍの厚さにスパッタリング形成する。このように成膜す
ると結晶粒が成長し、表面粗さ２５〜３０ｎｍを有する
Ａβ等の金属薄膜２２がガラス基板２１上に形成される
。
この金属薄膜２２の粗面上に、軟磁性薄膜１２として厚
さ２〜３μｍのＮｉＦｅ合金膜、垂直磁性薄膜１３とし
て厚さ約０．２μｍのＣｏ−Ｃｒ膜を、それぞれスパッ
タリング法により順次形成し積層する。
さ２〜３μｍのＮｉＦｅ合金膜、垂直磁性薄膜１３とし
て厚さ約０．２μｍのＣｏ−Ｃｒ膜を、それぞれスパッ
タリング法により順次形成し積層する。
さらにその上に、保護膜１４として厚さ０．０２〜００
０３μｎ１のカーボン膜をスパッタリング法により形成
し、潤滑膜１５としてパーフロロポリエーテルを塗布し
、これにより磁気ディスクが完成する。
０３μｎ１のカーボン膜をスパッタリング法により形成
し、潤滑膜１５としてパーフロロポリエーテルを塗布し
、これにより磁気ディスクが完成する。
この完成したディスクの表面（最上層）には、前述した
ように凹凸が形成される。
ように凹凸が形成される。
以上説明したようにこの発明によれば、所望の表面粗さ
を持つ基板構造を容易に精度良く得ることができるので
、ヘッド吸着のない低摩擦の良好な摺動特性を有し、か
つ耐久性に優れた垂直二層膜媒体を提供することができ
る。
を持つ基板構造を容易に精度良く得ることができるので
、ヘッド吸着のない低摩擦の良好な摺動特性を有し、か
つ耐久性に優れた垂直二層膜媒体を提供することができ
る。
第１図は、この発明に係る磁気記録媒体の一実施例を示
す断面図、 第２図は、従来の垂直磁気記録媒体を示す断面図である
。 図において、 ＩＬ ２１はディスク基板、 １２は軟磁性薄膜、 １３は垂直磁性薄膜、 １４は保護膜、 １５は潤滑膜、 ２２は金属薄膜をそれぞれ示す。 Ｑ１− 一２１日月のｔ乙部に輪（オー 第１図 第２図
す断面図、 第２図は、従来の垂直磁気記録媒体を示す断面図である
。 図において、 ＩＬ ２１はディスク基板、 １２は軟磁性薄膜、 １３は垂直磁性薄膜、 １４は保護膜、 １５は潤滑膜、 ２２は金属薄膜をそれぞれ示す。 Ｑ１− 一２１日月のｔ乙部に輪（オー 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板（２１）上に、結晶粒が析出した状態の金属薄膜（
２２）を形成し、 その上に軟磁性薄膜（１２）と垂直磁性薄膜（１３）の
二層膜を形成してなる ことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14005388A JP2621358B2 (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14005388A JP2621358B2 (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01307915A true JPH01307915A (ja) | 1989-12-12 |
| JP2621358B2 JP2621358B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=15259892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14005388A Expired - Lifetime JP2621358B2 (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2621358B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04328317A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-17 | Victor Co Of Japan Ltd | ガラス磁気ディスクの製造方法 |
-
1988
- 1988-06-06 JP JP14005388A patent/JP2621358B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04328317A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-17 | Victor Co Of Japan Ltd | ガラス磁気ディスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2621358B2 (ja) | 1997-06-18 |
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