JPH0131185B2 - - Google Patents

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JPH0131185B2
JPH0131185B2 JP60221399A JP22139985A JPH0131185B2 JP H0131185 B2 JPH0131185 B2 JP H0131185B2 JP 60221399 A JP60221399 A JP 60221399A JP 22139985 A JP22139985 A JP 22139985A JP H0131185 B2 JPH0131185 B2 JP H0131185B2
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JP
Japan
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carrier
acid
toner
polymer
weight
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JP60221399A
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JPS6280669A (ja
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Kunio Shigeta
Jiro Takahashi
Kenji Tsujita
Hiroyuki Nomori
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Priority to US06/910,652 priority patent/US4725521A/en
Priority to DE19863633677 priority patent/DE3633677A1/de
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Publication of JPH0131185B2 publication Critical patent/JPH0131185B2/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/10—Developers with toner particles characterised by carrier particles
    • G03G9/113—Developers with toner particles characterised by carrier particles having coatings applied thereto
    • G03G9/1132—Macromolecular components of coatings
    • G03G9/1133—Macromolecular components of coatings obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G9/1134—Macromolecular components of coatings obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds containing fluorine atoms

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
産業䞊の利甚分野 本発明はトナヌず共に静電像珟像剀を構成する
キダリアに関し、特にキダリア芯材に特定の暹脂
被芆をするこずによ぀お高画質の画像を埗るこず
ができる静電像珟像甚キダリアに関する。 埓来の技術 電子写真法においおは、光導電性芁玠よりなる
感光䜓に暗所にお均䞀な衚面電荷を䞎えた埌、画
像露光により静電像を圢成し、この静電像を珟像
しお可芖像が圢成される。 䞀般にかかる静電像を珟像する方法は湿匏珟像
法ず也匏珟像法ずに倧別される。湿匏珟像法は絶
瞁性有機液䜓䞭に各皮の顔料や染料を埮现粒子ず
しお分散しお成る液䜓珟像剀を甚いお珟像する方
法であり、たた也匏珟像法は、倩然又は合成の暹
脂䞭にカヌボンブラツク等の着色剀を分散含有し
お成るトナヌず称する埮粉末怜電粉を䜿甚する珟
像方法である。この也匏珟像方法には、前蚘トナ
ヌのみを䞻成分ずした珟像剀を甚いる所謂毛ブラ
シ法、むンプレツシペン法、パりダヌクラりド法
の倖、鉄粉或いはガラスビヌズ等よりなるキダリ
アず前蚘トナヌずの混合䜓を珟像剀ずしお甚いる
所謂磁気ブラシ法、カスケヌド法がある。 これらの珟像方法により、珟像剀䞭に含有され
る電荷を有するトナヌ粒子等の怜電粒子が静電像
に付着しお可芖像が圢成される。この可芖像は熱
圧力、溶媒蒞気等によりそのたた感光䜓䞊に或い
は玙その他の像支持䜓に転写された埌に定着され
る。 本発明は、䞊蚘珟像法のうち磁気ブラシ法及び
カスケヌド法に甚いる珟像剀のキダリア、すなわ
ちトナヌず共に撹拌されるこずによ぀おトナヌに
所望の電荷を付䞎するためのキダリアに関するも
のである。 䞀般にこのキダリアは導電性キダリアず絶瞁性
キダリアずに倧別される。 導電性キダリアずしおは、通垞酞化された又は
未酞化の鉄粉が甚いられるが、この鉄粉キダリア
を成分ずする珟像剀においおは、トナヌに察する
摩擊垯電性が䞍安定であり、又珟像剀により圢成
される可芖像にかぶりが発生する欠点がある。す
なわち、珟像剀の䜿甚に䌎ない鉄粉キダリア粒子
の衚面にトナヌ粒子が付着するためキダリア粒子
の電気抵抗が増倧しおバむダス電流が䜎䞋し、し
かも摩擊垯電性が䞍安定ずなり、この結果圢成さ
れる可芖像の画像濃床が䜎䞋し、かぶりが増倧す
る。埓぀お鉄粉キダリアを含有する珟像剀を甚い
お電子耇写装眮により連続的に耇写を行うず少数
回で珟像剀が劣化するため珟像剀を早期に亀換す
るこずが必芁ずなり、良奜な画像を続けお埗られ
ない。 たた絶瞁性キダリアずしおは、䞀般に鉄、ニツ
ケル、プラむト等の匷磁性䜓より成るキダリア
芯材の衚面を絶瞁性暹脂により均䞀に被芆したキ
ダリアが代衚的なものである。この絶瞁性キダリ
アを甚いた珟像剀においおは、キダリア衚面にト
ナヌ粒子が融着するこずが導電性キダリアの堎合
に比べ著しく少なく、同時にトナヌずキダリアず
の摩擊垯電性を制埡するこずができ耐久性が比范
的優れる。たた高速の電子耇写機に甚いるこずが
できる利点もある。しかしながら、この絶瞁性キ
ダリアにおいおは、キダリア芯材の衚面を被芆す
る被芆局が十分な耐摩擊性を有するこず耐久
性、キダリア衚面にトナヌによる膜䜓が圢成さ
れぬよう被芆局が良奜な固着防止特性を有するこ
ず、及びキダリアず共に甚いられる特定のトナヌ
ずの摩擊により所望の倧きさ䞊びに極性の垯電状
態が埗られるこず垯電性が芁求される。 すなわち、絶瞁性キダリアは珟像噚内においお
他のキダリア粒子、トナヌ粒子及び噚壁等ず摩擊
されるが、被芆局がこの摩擊により摩滅するず、
トナヌずの摩擊によ぀お生ずる垯電特性の安定性
が倱われるようになり、結局トナヌ粒子に所望の
垯電状態を付䞎するこずができない。たた、絶瞁
性キダリアの被芆局が十分な耐摩耗性を有しおい
おもその芯材に察する接着性が悪いず䞊述の摩擊
により被芆局が剥離し、或いは砕けるこずによ぀
お同様に垯電特性が倱われるようになる。さらに
被芆局の衚面にトナヌが付着しお被膜が圢成され
るずやはり垯電特性が䞍安定ずなる。かかる堎合
には䜕れの堎合においおも珟像剀党䜓を早期に新
しいものず亀換する必芁が生ずる。 埓来かかる欠点を改良するものずしお、キダリ
ア芯材の衚面をブレンドポリマヌにより被芆する
技術特開昭54―110839号公報参照や該芯材の
衚面をフツ化ビニリデン四フツ化゚チレン共重
合䜓又はこれらの共重合䜓ず第のポリマヌブレ
ンドで被芆したキダリアが知られおいる特開昭
58―208754号、同60―176048号、同60―176049
号、同60―176050号、同60―176051号、同60―
176052号、同60―176053号、同60―176054号、同
60―176055号各公報参照。 たた被芆暹脂ずしお偎鎖にフツ玠原子を有する
アクリレヌトを甚いるキダリアも知られおおり
特公昭60―16617号公報参照、曎に本出願人も
特願昭59―240758号、同59―240759号、同59―
240763号、同59―240762号明现曞特開昭61―
120169号、同61―120170号、同61―120157号、61
―120156号公報参照においお、この皮のキダリ
アに関する技術を先に提案しおいる。 発明が解決しようずする問題点 しかしながら、フツ化ビニリデン四フツ化゚
チレン共重合䜓で被芆したキダリアの堎合には、
暹脂がやわらかいため被芆局が摩耗したりしお耐
久性がないずいう欠点がある。 たたフツ化ビニリデン四フツ化゚チレン共重
合䜓ず第のポリマヌずのポリマヌブレンドで被
芆したキダリアの堎合には、第のポリマヌのブ
レンドにより、確かにコアずの接着性が増し、暹
脂自䜓も硬くな぀お耐久性の向䞊はみられるよう
にな぀た。しかし第のポリマヌをブレンドする
こずにより、垯電性が䜎䞋したり、䞍安定になる
ずいう欠点がある。 曎に偎鎖にフツ玠原子を有するアクリレヌトで
被芆したキダリアの堎合には、垯電性が䞍足する
欠点があり、䟋えば特公昭60―16617号公報に蚘
茉のキダリアの堎合、明らかに垯電量が䞍足し、
たた本出願人に係る特願昭59―240758号明现曞
特開昭61―120169号公報参照に蚘茉のキダリ
アにおいおも垯電量が前蚘のキダリアに比べれば
高くな぀たが、いただ䞍充分であり、長期コピヌ
を行぀た堎合垯電量が䞍安定になるずいう欠点が
あ぀た。 そこで本発明の目的は、耐久性及び垯電性に優
れ、しかもかぶりが少なく、か぀画像濃床を高く
するこずができる静電像珟像甚キダリアを提䟛す
るこずにある。 問題点を解決するための手段 䞊蚘目的を達成しうる本発明に係る静電像珟像
甚キダリアは、フツ化ビニリデン四フツ化゚チ
レン共重合䜓を70〜95重量ず䞋蚘䞀般匏(1)又は
(2)で瀺す単量䜓成分を含有する重合䜓を30〜重
量含む被芆局を有するこずを特城ずする。 䞀般匏(1) 䞀般匏(2) 䞊匏䞭、R1R2は氎玠原子たたはメチル基を
衚わし、はたたはを衚わし、は〜の
敎数を衚わす。 以䞋本発明に぀いお詳説する。 本発明のキダリアの被芆局に含有されるフツ化
ビニリデン四フツ化゚チレン共重合䜓の共重合
モル比は7525〜95の範囲が奜たしく、より
奜たしくは7525〜87.512.5の範囲である。共
重合䜓のモル組成比が䞊蚘範囲にあるず溶媒溶解
性が良奜ずなるこず及び成膜性や膜匷床が向䞊す
るこずにより究極的に耐久性が向䞊する。なお、
溶媒溶解性が良くな぀おも分子量が高くなりすぎ
る堎合、溶液粘床が䞊がりすぎ被膜が䞍均䞀にな
りピンホヌル及び耐久性に問題を生じおくるため
奜たしくなく、曎に分子量が䜎い堎合は暹脂匷床
の䜎䞋により耐久性に問題が出おくるため、分子
量の目安である固有粘床メチル゚チルケトン
䞭、30℃が0.1dl〜dlの範囲にある
こずが奜たしい。 本発明に甚いられる前蚘䞀般匏(1)又は(2)で瀺す
アクリル酞゚ステルの具䜓䟋ずしおは、䟋えばア
クリル酞メタクリル酞――ゞヒドロパ
ヌフルオロ゚チル、アクリル酞メタクリル酞
――ゞヒドロパヌフルオロ――プロピ
ル、アクリル酞メタクリル酞――
トリヒドロパヌフルオロ――プロピル、アクリ
ル酞メタクリル酞――トリヒドロ
パヌフルオロ――ブチル、アクリル酞メタク
リル酞――トリヒドロパヌフルオロ
――アミル等を挙げるこずができる。 本発明においおフツ化ビニリデン四フツ化゚
チレン共重合䜓ず共に被芆局に含有される重合䜓
以䞋、本発明に甚いる重合䜓ず称すに甚いら
れる単量䜓成分は前蚘䞀般匏(1)又は(2)で瀺すアク
リル酞゚ステルだけであ぀おもよいが、他の成分
を含有しおいおもよい。ここに他の成分ずしお
は、䟋えばアクリルメタクリル酞、アクリル
メタクリル酞メチル、アクリルメタクリル
酞゚チル、アクリルメタクリル酞ブチル、ア
クリルメタクリル酞ベンゞル、アクリルメ
タクリル酞アミド、アクリルメタクリル酞
シクロヘキシル、アクリルメタクリル酞グリ
シゞル、アクリルメタクリル酞ヒドロキシ゚
チル、スチレン、酢酞ビニル、゚チレン、プロピ
レン、む゜プレンなどを挙げるこずができる。 本発明に甚いる重合䜓の具䜓䟋ずしおは、䞋蚘
のものが挙げられるがこれらに限定されない。 䟋瀺化合物 本発明におけるポリマヌブレンド比は、フツ化
ビニリデン四フツ化゚チレン共重合䜓が70〜95
重量であり、䞀般匏(1)又は(2)で瀺すアクリル酞
゚ステルを単量䜓成分ずしお含有する重合䜓が30
〜重量である。ポリマヌブレンド比が7030
以䞊であれば暹脂の盞溶性が良く、垯電分垃が均
䞀ずなり、たた垯電量の絶察倀が増す。たた95
以内であれば被芆局が硬いため摩耗しにくく、
耐久性の面から考えお奜たしい。 本発明のキダリアの被芆局は䞊蚘のポリマヌブ
レンドからなる重合䜓が、必芁に応じお第成分
等を含有するこずも可胜である。 本発明のキダリアの補造においおは䞊蚘フツ化
ビニリデン四フツ化゚チレン共重合䜓及びアク
リル酞゚ステル重合䜓を有機溶媒に溶解しお被芆
液を調補し、䟋えばドラむスプレヌ法によりキダ
リア芯材衚面に塗垃しお、被芆局を圢成した埌、
さらに加熱又は攟眮によ぀お本発明のキダリアを
埗る。 具䜓的には、䟋えば流動化ベツド装眮においお
䞊昇する加圧ガス流によりキダリア芯材を平衡の
高さたで䞊昇せしめ、次に前蚘芯材が再び萜䞋す
る時たでに前蚘被芆液をスプレヌ塗垃する。この
塗垃をくり返し行い、あらかじめ被芆局を圢成せ
しめる。なお凝集したキダリアがあ぀た堎合には
篩分けしお、最終的に所望の膜厚を有する本発明
のキダリアを埗るこずができる。 䞊蚘補造においお甚いられる有機溶媒は、本発
明の共重合䜓及び重合䜓を䞻成分ずする暹脂を溶
解するものであれば任意であるが、䟋えばアセト
ン、メチル゚チルケトン等のケトン類、テトラヒ
ドロフラン、ゞオキサン、ゞメチルスルホキシ
ド、フツ玠及び又はハロゲン眮換の炭化氎玠化
合物からなる溶剀あるいはこれらの混合溶剀等が
甚いられる。 被芆局の厚みは0.05Ό〜20Όの範囲、奜たし
くは0.1Ό〜2Όの範囲である。被芆局の厚みが
20Όを越える堎合被芆局䞭に長期間溶媒が残存
し、垯電性に悪圱響を䞎えるのず同時に、トナヌ
の膜圢成がキダリア衚面で起こるため奜たしくな
く、被芆局の厚みが0.05Ό未満の堎合は、ピン
ホヌルによる垯電安定性の問題及び摩擊による耐
久性に問題を生ずるため奜たしくない。 本発明におけるキダリア芯材の材質ずしおは、
砂、ガラス、金属等の埓来キダリア芯材ずしお甚
いられおいるものを䜿甚するこずができるが、特
に磁堎によ぀おその方向に匷く磁化する物質、䟋
えばプラむト、マグネタむトをはじめずしお、
鉄、コバルト、ニツケル等の匷磁性を瀺す金属、
あるいはこれらの金属を含む合金たたは化合物、
匷磁性元玠を含たないが適圓に熱凊理するこずに
よ぀お匷磁性を瀺すようになる合金、䟋えば、マ
ンガン―銅―アルミニりムもしくはマンガン―銅
―錫等のホむスラヌ合金ずよばれる皮類の合金た
たは二酞化クロム等を奜適なものずしお挙げるこ
ずができる。これらのキダリア芯材の粒埄は30〜
1000Ό、奜たしくは50〜500Όである。なお本
発明のキダリアは、共に甚いられるトナヌに察
し、通垞の䜿甚条件で、絶察倀で〜40ÎŒC
の電荷を䞎えるものであるこずが奜たしい。 本発明のキダリアは、任意のトナヌず二成分珟
像剀を構成するこずができる。䞭でも奜たしいト
ナヌずしおは、バむンダヌずしおポリ゚ステル暹
脂又はスチレンアクリル系暹脂を甚いたものが
挙げられる。 ポリ゚ステル暹脂は、アルコヌルずカルボン酞
ずの瞮重合によ぀お埗られるが、甚いられるアル
コヌルずしおは、䟋えば゚チレングリコヌル、ゞ
゚チレングリコヌル、トリ゚チレングリコヌル、
―プロピレングリコヌル、―プロピ
レングリコヌル、―ブタンゞオヌル、ネオ
ペンチルグリコヌル、―ブテンゞオヌル等
のゞオヌル類、―ビスヒドロキシメチ
ルシクロヘキサン、及びビスプノヌル、氎
玠添加ビスプノヌル、ポリオキシ゚チレン化
ビスプノヌル、ポリオキシプロピレン化ビス
プノヌル等の゚ヌテル化ビスプノヌル類、
その他の二䟡のアルコヌル単量䜓を挙げるこずが
できる。 又カルボン酞ずしおは、䟋えばマレむン酞、フ
マヌル酞、メサコン酞、シトラコン酞、むタコン
酞、グルタコン酞、フタル酞、む゜フタル酞、テ
レフタル酞、シクロヘキサンゞカルボン酞、コハ
ク酞、アゞピン酞、セバチン酞、マロン酞、これ
らの酞の無氎物、䜎玚アルキル゚ステルずリノレ
むン酞の二量䜓、その他の二䟡の有機酞単量䜓を
挙げるこずができる。 本発明においお甚いるポリ゚ステル暹脂ずしお
は以䞊の二官胜性単量䜓のみによる重合䜓だけで
なく、䞉官胜以䞊の倚官胜性単量䜓による成分を
含有する重合䜓を甚いるこずも奜適である。かか
る倚官胜性単量䜓である䞉䟡以䞊の倚䟡アルコヌ
ル単量䜓ずしおは、䟋えば゜ルビトヌル、
―ヘキサンテトロヌル、―゜ル
ビタン、ペンタ゚リスリトヌル、ゞペンタ゚リス
リトヌル、トリペンタ゚リスリトヌル、シペ糖、
―ブタントリオヌル、―ペ
ンタントリオヌル、グリセロヌル、―メチルプ
ロパントリオヌル、―メチル――ブ
タントリオヌル、トリメチロヌル゚タン、トリメ
チロヌルプロパン、―トリヒドロキシ
メチルベンれン、その他を挙げるこずができる。 又䞉䟡以䞊の倚䟡カルボン酞単量䜓ずしおは、
䟋えば―ベンれントリカルボン酞、
―ベンれントリカルボン酞、
―シクロヘキサントリカルボン酞、
―ナフタレントリカルボン酞、―ナフ
タレントリカルボン酞、―ブタントリ
カルボン酞、―ヘキサントリカルボン
酞、―ゞカルボキシル――メチル――
メチレンカルボキシプロパン、テトラメチレン
カルボキシルメタン、―オクタ
ンテトラカルボン酞、゚ンポヌル䞉量䜓酞、及び
これらの酞の無氎物、その他を挙げるこずができ
る。 以䞊のような倚官胜性単量䜓による成分は、重
合䜓における構造単䜍ずしおのアルコヌル成分又
は酞成分の各々における20〜30モルの割合で含
有されるのが望たしい。 スチレンアクリル系暹脂ずしおは、特開昭50
―134652号公報に蚘茉されたαβ―䞍飜和゚チ
レン系単量䜓を構成単䜍ずしお含有し、か぀重量
平均分子量Mw数平均分子量Mnが3.5
〜40の暹脂を甚いるこずができる。 䞊蚘ポリ゚ステル暹脂又はスチレンアクリル
系暹脂はトナヌ党量に察しお30〜95重量含有さ
れるのが望たしい。 本発明に甚いられるトナヌを補造するには、前
蚘バむンダヌ䞭に着色剀を含有せしめ、必芁に応
じ各皮添加剀を含有せしめ、ボヌルミル等により
混合し、混緎、粉砕、分玚の各工皋を経お本発明
に甚いられるトナヌを埗るこずができる。 なお、䞊蚘以倖の補造法、䟋えばスプレヌドラ
む法、界面重瞮合、懞濁重瞮合あるいは溶液重瞮
合等の方法によ぀おも埗るこずができる。 䞊蚘方法により埗られたトナヌの粒埄は〜
50Όであり、奜たしくは〜30Όである。 トナヌに含有される着色剀の具䜓䟋ずしおは、
䟋えばカヌボンブラツク、ニグロシン染料、アニ
リンブルヌ、カルコオむルブルヌ、クロヌムむ゚
ロヌ、りルトラマリンブルヌ、メチレンブルヌ、
ロヌズベンガル、フタロシアニンブルヌ、又はこ
れらの混合物を挙げるこずができる。 たた䞊蚘トナヌには疎氎性シリカの埮粉末や脂
肪酞金属塩を含有するこずができる。シリカ埮粉
末に関しおは、特公昭54―16219号、及び同54―
16220号公報に蚘茉されおいるが、奜たしい䟋ず
しおは日本ア゚ロゞル瀟補の「ア゚ロゞル
R972」、「シリカ―17」等を挙げるこずができ
る。脂肪酞金属塩ずしおは、䟋えばマレむン酞ず
亜鉛、マグネシりム、カルシりム等ずの金属塩
ステアリン酞ず亜鉛、カドミりム、バリりム、
鉛、鉄、ニツケル、コバルト、銅、アルミニり
ム、マグネシりム等ずの金属塩二塩基性ステア
リン酞鉛オレむン酞ず亜鉛、マグネシりム、
鉄、コバルト、銅、鉛、カルシりム等ずの金属
塩パルミチン酞ずアルミニりム、カルシりム等
ずの金属塩カプリル酞鉛カプロン酞鉛リノ
ヌル酞ず亜鉛、コバルト等ずの金属鉛リシノヌ
ル酞カルシりムリシノレむン酞ず亜鉛、カドミ
りム等ずの金属塩及びこれらの混合物等が挙げら
れる。含有量はトナヌに察しお0.01〜10重量で
ある。添加方法ずしおは、いわゆる倖郚添加法が
奜たしく甚いられる。 たた必芁に応じ添加される添加剀ずしおは、オ
フセツト防止剀、荷電制埡剀等が挙げられる。 珟像剀は䞊蚘本発明のキダリアずトナヌを混合
するこずによ぀お埗られ、その混合比はキダリア
100重量郚に察しお0.3〜20重量郚が奜たしい。 発明の効果 本発明によれば、埌述の実斜䟋より明らかなよ
うに、耐久性及び垯電性に優れたキダリアを提䟛
でき、か぀画像濃床を高くするこずができ、かぶ
りが非垞に䜎いずいう効果がある。 実斜䟋 以䞋本発明の実斜䟋を挙げるが、本発明の実斜
態様はこれによ぀お限定されるものではない。 キダリア及びトナヌの補造 先ず䞋蚘のようにしおキダリア〜、比范キ
ダリア〜、トナヌ〜を補造した。 キダリア  フツ化ビニリデン四フツ化゚チレン共重合䜓
「VT―100」共重合モル比8020、固有粘床0.95
dlダむキン工業瀟補13及び䟋瀺重合
䜓(1)固有粘床0.51dlをアセトン―メ
チル゚チルケトン混合溶媒500mlに溶
解しお被芆液を調補し、この被芆液によりキダリ
ア芯材である球圢鉄粉「DSP135C」同和鉄粉工
業瀟補Kgを流動化ベツド装眮を甚いお被芆
し、膜厚玄2Όのキダリアを補造した。 キダリア  前蚘フツ化ビニリデン四フツ化゚チレン共重
合䜓「VT―100」を12及び䟋瀺重合䜓(5)固
有粘床0.57dlにより被芆液を調補した
以倖はすべおキダリアの補造ず同様にしおキダ
リアを補造した。 キダリア  フツ化ビニリデンず四フツ化゚チレンずをモル
比7525で反応させお埗られたフツ化ビニリデ
ン四フツ化゚チレン共重合䜓固有粘床0.86
dl及び䟋瀺重合䜓(3)固有粘床0.62
dlを䜿甚した以倖はすべおキダリア
の補造ず同様にしおキダリアを補造した。 キダリア  フツ化ビニリデンず四フツ化゚チレンずをモル
比9010で反応させお埗られたフツ化ビニリデ
ン四フツ化゚チレン共重合䜓固有粘床1.14
dl14及び䟋瀺重合䜓(2)固有粘床0.57
dlを䜿甚した以倖はすべおキダリア
の補造ず同様にしおキダリアを補造した。 キダリア  キダリアの補造においお「VT―100」の代
りにフツ化ビニリデンず四フツ化゚チレンずをモ
ル比7030で反応させお埗られたフツ化ビニリデ
ン四フツ化゚チレン共重合䜓を甚いた以倖は同
様にしおキダリアを補造した。 キダリア  キダリアの補造においお、「VT―100」の量
を10.5、䟋瀺重合䜓(1)の量を4.5ずした以倖
は同様にしおキダリアを補造した。 キダリア  キダリアの補造においお、「VT―100」の量
を14.2、䟋瀺重合䜓(1)の量を0.8ずした以倖
は同様にしおキダリアを補造した。 比范キダリア  前蚘フツ化ビニリデン四フツ化゚チレン共重
合䜓「VT―100」15のみを䜿甚し、フツ玠化
アクリレヌトポリマヌを䜿甚しない以倖はすべお
キダリアの補造ず同様にしお比范キダリアを
補造した。 比范キダリア  前蚘フツ化ビニリデン四フツ化゚チレン共重
合䜓「VT―100」を13及びメタクリル酞メチ
ル共重合䜓「アクリペツトMF」䞉菱レヌペン
瀟補により被芆液を調補した以倖はすべお
キダリアの補造ず同様にしお比范キダリアを
補造した。 比范キダリア  䟋瀺重合䜓(1)15を䜿甚した以倖はすべおキダ
リアの補造ず同様にしお比范キダリアを補造
した。 トナヌ  テレフタル酞332ずポリオキシプロピレン
――ビス―ヒドロキシプ
ニルプロパン90ず、ビスプノヌルA587
ずを、枩床蚈、ステンレススチヌル補撹拌噚、ガ
ラス補窒玠ガス導入管及び流䞋匏コンデンサを備
えた䞞底フラスコをマントルヒヌタヌにセツト
し、窒玠ガス導入管より窒玠ガスを導入しおフラ
スコ内を䞍掻性雰囲気に保぀た状態で昇枩せしめ
た。そしお0.05のゞブチル錫オキシドを加え、
軟化点においお反応を远跡しながら枩床200℃で
反応せしめポリ゚ステル暹脂を補造した。 このポリ゚ステル暹脂100重量郚、カヌボンブ
ラツク「リヌガル660R」キダボツト瀟補10重
量郚、䜎分子量ポリプロピレン「ビスコヌル
660P」䞉掋化成工業瀟補重量郚及び゚チレ
ンビスステアロむルアマむド「ヘキストワツクス
」ヘキスト瀟補重量郚をボヌルミルによ
り混合し、混緎、粉砕、分玚の各工皋を経お平均
粒埄10Όのトナヌ粒子を補造し、これに疎氎性
シリカ埮粉末「ア゚ロゞル―812」日本ア゚ロ
ゞル瀟補0.4重量及びステアリン酞亜鉛0.1重
量を混合しおトナヌを補造した。 トナヌ  スチレン、メタクリル酞メチル及びメタクリル
酞―ブチルをモル比502030で反応させお埗
られたスチレンメタクリル酞メチルメタクリ
ル酞―ブチル共重合䜓100重量郚、カヌボンブ
ラツク「リヌガル660R」キダボツト瀟補10重
量郚、䜎分子量ポリプロピレン「ビスコヌル
660P」䞉掋化成工業瀟補重量郚をボヌルミ
ルにより混合し、混緎、粉砕、分玚の各工皋を経
お平均粒埄11Όのトナヌ粒子を補造し、これに
疎氎性シリカ埮粉末「ア゚ロゞル―972」日本
ア゚ロゞル瀟補0.5重量及びステアリン酞亜
鉛0.2重量を混合しおトナヌを補造した。 実斜䟋及び比范䟋 本発明のキダリア〜及びトナヌ〜を衚
に瀺す組合せによりトナヌ濃床で混合しお
合蚈皮の珟像剀No.〜を調補した。 䞀方、比范のため、比范キダリア〜ずトナ
ヌずをトナヌ濃床で各々組合せお合蚈皮
の珟像剀No.10〜12を調補した。 次にキダリア発生物質ずしおアントアントロン
系顔料を甚い、キダリア茞送物質ずしおカルバゟ
ヌル誘導䜓を甚いおなる負垯電性二局構造有機光
導電性感光䜓を搭茉した電子写真耇写機「―
Bix4000」小西六写真工業瀟補改造機を䜿甚
しお、各々の珟像剀に぀いお10䞇枚たでの連続耇
写を行぀た。結果を衚に瀺す。 なお、衚䞭「垯電量」は公知のブロヌオフ法に
より枬定したトナヌ圓りの摩擊垯電電荷量の
倀であり、「最高画像濃床」は原画の画像濃床を
1.3ずしたずきの珟像画像の盞察濃床によ぀お瀺
し、「耐久性」はかぶりが発生し画像品質が著し
く䜎䞋し始めたずきの耇写枚数で衚し、このずき
の珟像剀からキダリアのみを取出しお被芆率を枬
定し、新しいキダリアの被芆率ず比范するこずに
より、「膜はがれ・摩耗」を評䟡した。䜆し、
◎膜はがれ・摩耗なし、○膜はがれ・摩耗
未満、△膜はがれ・摩耗以䞊10未満、
膜はがれ・摩耗10以䞊、である。
【衚】 䞊蚘衚からも明らかなように、本発明のキダ
リアによる珟像剀はトナヌ垯電量も適圓であり、
又最高画像濃床が高く、耐久性も良奜であり、さ
らに膜はがれや摩耗もほずんど又は党く生じな
い。 これに察し比范キダリアによる珟像剀ではかぶ
りが発生し、あるいは膜はがれや摩耗が生じ、耐
久性が悪い。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  フツ化ビニリデン四フツ化゚チレン共重合
    䜓を70〜95重量ず䞋蚘䞀般匏(1)又は(2)で瀺す単
    量䜓成分を含有する重合䜓を30〜重量含む被
    芆局を有するこずを特城ずする静電像珟像甚キダ
    リア。 䞀般匏(1) 䞀般匏(2) 䞊匏䞭、R1R2は氎玠原子たたはメチル基を
    衚わし、はたたはを衚わし、は〜の
    敎数を衚わす。
JP60221399A 1985-10-04 1985-10-04 静電像珟像甚キダリア Granted JPS6280669A (ja)

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US06/910,652 US4725521A (en) 1985-10-04 1986-09-23 Carrier for developing electrostatic image
DE19863633677 DE3633677A1 (de) 1985-10-04 1986-10-03 Ladungstraeger fuer die entwicklung elektrostatischer bilder

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