JPH01313441A - 分子量分布の狭いスチレン類オリゴマーの製造方法 - Google Patents
分子量分布の狭いスチレン類オリゴマーの製造方法Info
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- JPH01313441A JPH01313441A JP14507988A JP14507988A JPH01313441A JP H01313441 A JPH01313441 A JP H01313441A JP 14507988 A JP14507988 A JP 14507988A JP 14507988 A JP14507988 A JP 14507988A JP H01313441 A JPH01313441 A JP H01313441A
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、スチレン系樹脂等の改質材、エポキシ系等の
塗料の添加剤、UV硬化樹脂の改質材、分散剤等の原料
として有効なスチレン類オリゴマーの製造方法に関する
ものである。
塗料の添加剤、UV硬化樹脂の改質材、分散剤等の原料
として有効なスチレン類オリゴマーの製造方法に関する
ものである。
〈従来の技術〉
従来より、かかる有用なスチレン類オリゴマーを狭い分
子量分布で得ようとする試みがなされてきた。 この試
みは、特にα−メチルスチレンに関して盛んに検討され
、例えば、反応基質の濃度を下げる方法(特開昭49−
126655号公報)、酸強度を変化させる方法(特開
昭53−21149号公報)、反応中筒体ト相互作用し
得る第3成分を加える方法(特公昭49−32845号
、特公昭52−31866号、特開昭59−19092
7号、特開昭59−204138号多分報)および形状
選択性を利用した方法(特開昭59−112927号公
報)等が知られている。
子量分布で得ようとする試みがなされてきた。 この試
みは、特にα−メチルスチレンに関して盛んに検討され
、例えば、反応基質の濃度を下げる方法(特開昭49−
126655号公報)、酸強度を変化させる方法(特開
昭53−21149号公報)、反応中筒体ト相互作用し
得る第3成分を加える方法(特公昭49−32845号
、特公昭52−31866号、特開昭59−19092
7号、特開昭59−204138号多分報)および形状
選択性を利用した方法(特開昭59−112927号公
報)等が知られている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上述の試みはいずれも、立体障害が大か
く反応制御の容易なα−メチルスチレンあるいはα−ア
ルキルスチレン類に対してのみ行われたものであり、反
応制御の難しいスチレンに適用されたものではなかった
。 スチレンの重合における分子量制御に関しては、過
塩素酸アニオンを用いた方法(特公昭59−10329
号公報)、スルホネートアニオンを用いた方法(特開昭
59−62535号公報)が提案されたが、いずれも反
応が均一系であり、かつ溶媒を必要とした低スチレン濃
度の系(スチレン濃度が5〜10%程度)であるため、
触媒除去、洗浄、生成物の分離精製及び溶媒の分離回収
等の工程が必要となり、工業的なプロセスとしては不利
であった。
く反応制御の容易なα−メチルスチレンあるいはα−ア
ルキルスチレン類に対してのみ行われたものであり、反
応制御の難しいスチレンに適用されたものではなかった
。 スチレンの重合における分子量制御に関しては、過
塩素酸アニオンを用いた方法(特公昭59−10329
号公報)、スルホネートアニオンを用いた方法(特開昭
59−62535号公報)が提案されたが、いずれも反
応が均一系であり、かつ溶媒を必要とした低スチレン濃
度の系(スチレン濃度が5〜10%程度)であるため、
触媒除去、洗浄、生成物の分離精製及び溶媒の分離回収
等の工程が必要となり、工業的なプロセスとしては不利
であった。
従って本発明の目的は、分子量が低くかつ分子量分布の
狭いスチレン類オリゴマーを工業的に有利なプロセスで
提供することにある。
狭いスチレン類オリゴマーを工業的に有利なプロセスで
提供することにある。
特に数平均分子量が400以下でかつ分子量分布の狭い
スチレン類オリゴマーを工業的に有利なプロセスで提供
することにある。
スチレン類オリゴマーを工業的に有利なプロセスで提供
することにある。
本発明者等は、固体超強酸の一種であるパーフルオロス
ルホン酸樹脂のイオン交換体を用いて工業的に有利なプ
ロセスでスチレン類オリゴマーを合成する技術を既に開
発しているが(特開昭61−233004号公報参照)
この技術はスチレン類オリゴマーの重合度等を特に規定
するものではなかった。
ルホン酸樹脂のイオン交換体を用いて工業的に有利なプ
ロセスでスチレン類オリゴマーを合成する技術を既に開
発しているが(特開昭61−233004号公報参照)
この技術はスチレン類オリゴマーの重合度等を特に規定
するものではなかった。
く課題を解決するための手段〉
そこで、今回各種の用途に対応するために分子量が低く
かつ分子量分布が狭く、しかも取扱いの便利な常温で液
体であるスチレン類オリゴマーが必要となってきた。
そこで本発明者等は、かかる条件を満足するスチレン類
オリゴマーを合成すべく鋭意検討した結果、前記反応系
に第3成分としてセロソルブ誘導体を添加することによ
り目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成するに
至った。
かつ分子量分布が狭く、しかも取扱いの便利な常温で液
体であるスチレン類オリゴマーが必要となってきた。
そこで本発明者等は、かかる条件を満足するスチレン類
オリゴマーを合成すべく鋭意検討した結果、前記反応系
に第3成分としてセロソルブ誘導体を添加することによ
り目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成するに
至った。
すなわち本発明においてスチレン類をパーフルオロスル
ホン酸樹脂触媒の存在下で反応させてスチレン類オリゴ
マーを製造するにあたり、反応系内に次の式で表わされ
るセロソルブ誘導体を共存させることを特徴とする数平
均分子量が小で分子量分布の狭いスチレン類オリゴマー
の製造方法を提供する。
ホン酸樹脂触媒の存在下で反応させてスチレン類オリゴ
マーを製造するにあたり、反応系内に次の式で表わされ
るセロソルブ誘導体を共存させることを特徴とする数平
均分子量が小で分子量分布の狭いスチレン類オリゴマー
の製造方法を提供する。
R’ OCR2C)I 2 0 R2(R1,R2
はアルキル基および/またはアシル基) 好ましくは、前記セロソルブ誘導体がセロソルブアセテ
ートである。
はアルキル基および/またはアシル基) 好ましくは、前記セロソルブ誘導体がセロソルブアセテ
ートである。
また、セロソルブ誘導体がエチレングリコールジアルキ
ルエーテルでもよい。
ルエーテルでもよい。
また、前記スチレン類がスチレンおよび/またはm−、
P−メチルスチレンである。
P−メチルスチレンである。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の出発原料であるスチレンは
C6H,CHCH,で表わされ、一般にエチルベンゼン
を脱水素して得られるものである。
を脱水素して得られるものである。
またスチレンに置換基を有するもの、例えばp−メチル
スチレン、m−メチルスチレン等のスチレン類も本発明
の一般原料となり得る。
スチレン、m−メチルスチレン等のスチレン類も本発明
の一般原料となり得る。
また、本発明で用いる触媒はパーフルオロスルホン酸樹
脂であり Rf SO,H (式中のnおよびmは夫々正の整数、Rfはパーフルオ
ロアルキル基である)で表わされる化合物である。 例
えば米国デュポン社製のナフィオン■(Naf ion
■)として知られているもの等がある。 この触媒の使
用量は、スチレンに対して0.1〜3重量%、好ましく
は0.3〜1重量%程度である。 触媒量が0.1重量
%未満では添加量が少なすぎて触媒としての効果がほと
んど発揮されず、3重量%超では、それ以上添加しても
触媒としての効果が上らないためである。
脂であり Rf SO,H (式中のnおよびmは夫々正の整数、Rfはパーフルオ
ロアルキル基である)で表わされる化合物である。 例
えば米国デュポン社製のナフィオン■(Naf ion
■)として知られているもの等がある。 この触媒の使
用量は、スチレンに対して0.1〜3重量%、好ましく
は0.3〜1重量%程度である。 触媒量が0.1重量
%未満では添加量が少なすぎて触媒としての効果がほと
んど発揮されず、3重量%超では、それ以上添加しても
触媒としての効果が上らないためである。
また、本発明で使用するセロソルブ誘導体は、セロソル
ブ(エチレングリコールのモノエーテル)のエーテル又
はエステルであり、下記の一般式で表わされる。
ブ(エチレングリコールのモノエーテル)のエーテル又
はエステルであり、下記の一般式で表わされる。
R’ −0−CH2CH2−0−R2
R1,R2はアルキル基および/またはアシル基であり
、炭素数は特に限定されるものではないが、通常沸点が
200℃を越えないものが好ましい。 具体例としては
、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリ
コールジエチルエーテル、エチルセロソルブアセテート
(C2)(B OC2Ha OCOCHl )、ブチ
ルセロソルブアセテート(C4He 0C2H40CO
CH3)等があげられる。
、炭素数は特に限定されるものではないが、通常沸点が
200℃を越えないものが好ましい。 具体例としては
、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリ
コールジエチルエーテル、エチルセロソルブアセテート
(C2)(B OC2Ha OCOCHl )、ブチ
ルセロソルブアセテート(C4He 0C2H40CO
CH3)等があげられる。
これらの沸点が200℃を越えるものは、その回収に要
する熱量も多大となり工業上不利となる。 セロソルブ
誘導体の使用量はその種類により、適宜の量を用い得る
が、買換基R1、R2の合計炭素数が6個以下のセロソ
ルブ誘導体では重量で触媒の4〜50倍、より好ましく
は10〜30倍である。 セロソルブ誘導体の使用量が
この量よりも少ないと、添加効果が顕著でなく、高分子
量生成物が生成し、平均分子量が大きくなる。 また、
使用量がこの量よりも多い場合もそれほど平均分子量が
小さくならず、むしろ触媒の活性が低下してしまうので
いずれの場合も好ましくない。
する熱量も多大となり工業上不利となる。 セロソルブ
誘導体の使用量はその種類により、適宜の量を用い得る
が、買換基R1、R2の合計炭素数が6個以下のセロソ
ルブ誘導体では重量で触媒の4〜50倍、より好ましく
は10〜30倍である。 セロソルブ誘導体の使用量が
この量よりも少ないと、添加効果が顕著でなく、高分子
量生成物が生成し、平均分子量が大きくなる。 また、
使用量がこの量よりも多い場合もそれほど平均分子量が
小さくならず、むしろ触媒の活性が低下してしまうので
いずれの場合も好ましくない。
反応温度は通常60℃〜140℃、好ましくは80℃〜
120℃、より好ましくは100℃〜120℃である。
120℃、より好ましくは100℃〜120℃である。
60℃未満の温度では反応速度が遅く好ましくない。
また、140℃を越えるとラジカル重合による高分子
量生成物の生成が顕著になるとともに、触媒の劣化も激
しくなるので好ましくない。
量生成物の生成が顕著になるとともに、触媒の劣化も激
しくなるので好ましくない。
本発明における反応は通常無溶媒で行うが、n−パラフ
ィンの如餘不活性溶媒を用いることもできる。 更に溶
媒としてデカリンを用いると、溶媒に分子量制御効果を
持たせることもできる。
ィンの如餘不活性溶媒を用いることもできる。 更に溶
媒としてデカリンを用いると、溶媒に分子量制御効果を
持たせることもできる。
本発明における反応は回分式あるいは流通式のいずれの
形式でも行なうことができる。 目的生成物たるオリゴ
マーは、反応終了後、例えば蒸留等により未反応スレチ
ン類、セロソルブ誘導体を分離することにより得られる
。 生成物のスチレン類オリゴマーは、実質的に分子量
分布が2量体〜4量体と狭く平均分子量は400以下の
ものが得られる。
形式でも行なうことができる。 目的生成物たるオリゴ
マーは、反応終了後、例えば蒸留等により未反応スレチ
ン類、セロソルブ誘導体を分離することにより得られる
。 生成物のスチレン類オリゴマーは、実質的に分子量
分布が2量体〜4量体と狭く平均分子量は400以下の
ものが得られる。
〈実施例〉
次に本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
(実施例1)
内容積的300m’J2の4つロフラスコに攪拌機、温
度計および冷却器を装着し、これにスチレン141gと
セロソルブアセテート9gを入れ、触媒としてナフィオ
ン■(Naf ton■)−117(デュポン社製パー
フルオロスルホン酸樹脂の商品名)0.42gを用いて
、100℃にて2時間反応させた。
度計および冷却器を装着し、これにスチレン141gと
セロソルブアセテート9gを入れ、触媒としてナフィオ
ン■(Naf ton■)−117(デュポン社製パー
フルオロスルホン酸樹脂の商品名)0.42gを用いて
、100℃にて2時間反応させた。
反応生成物をゲルパーミェーションクロマトグラフ(G
PC島津製作所製)分析で分子量分布を測定した。 標
準試料として市販のスチレンオリゴマー(分子量104
から4800)を用いて分子量と保持時間との検量線を
作成し、次式により数平均分子量(Mn)を求めた。
PC島津製作所製)分析で分子量分布を測定した。 標
準試料として市販のスチレンオリゴマー(分子量104
から4800)を用いて分子量と保持時間との検量線を
作成し、次式により数平均分子量(Mn)を求めた。
(式中iはピークナンバーを、Miは1番目のピークの
検量線より求めた分子量を、N1は1番目のピークの面
積をそれぞれ表わす)本式によって計算した結果、数平
均分子量は339であった。
検量線より求めた分子量を、N1は1番目のピークの面
積をそれぞれ表わす)本式によって計算した結果、数平
均分子量は339であった。
(実施例2.3.4.5.6.7および比較例1.2)
実施例2.3.4.5.6.7および比較例1.2は、
後記第1表に示すように混合成分、その混合比あるいは
反応温度を変え数平均分子量を測定した。
後記第1表に示すように混合成分、その混合比あるいは
反応温度を変え数平均分子量を測定した。
(実施例8)
攪拌器、冷却器付きの内容積400mft■−
の反応器に触媒としてナフィオン 117を1.08
g取り付け、スチレン94重量部とセロソルブアセテー
ト6重量部との混合液を100mIl毎時にて連続的に
供給し、反応温度を100℃に保った。 反応生成物を
蒸留により回収し、実施例1と同様の方法でGPC分析
を行なったところ、数平均分子量は339であった。
g取り付け、スチレン94重量部とセロソルブアセテー
ト6重量部との混合液を100mIl毎時にて連続的に
供給し、反応温度を100℃に保った。 反応生成物を
蒸留により回収し、実施例1と同様の方法でGPC分析
を行なったところ、数平均分子量は339であった。
(比較例3)
スチレンとセロソルブアセテートの混合液のかわりにス
チレンを用いた以外は実施例8と同様の操作に従い反応
を行なった。
チレンを用いた以外は実施例8と同様の操作に従い反応
を行なった。
反応生成物を前記同様の方法でGPC分析を行なったと
ころ、数平均分子量は414であった。
ころ、数平均分子量は414であった。
実施例1〜3.5〜7および比較例1の結果をまとめて
第2表に示す。 また、実施例1〜3および比較例1
の結果をまとめて第1図に示す。 これによりセロソル
ブアセテートまたはニレチングリコールジアルキルエー
テルを反応系内に共存させることにより数平均分子量を
低下させることが可能であることが明らかである。 ま
た、第1図よりセロソルブアセテートの使用量は重量比
で触媒の4〜50倍が好ましいことが明らかである。
第2表に示す。 また、実施例1〜3および比較例1
の結果をまとめて第1図に示す。 これによりセロソル
ブアセテートまたはニレチングリコールジアルキルエー
テルを反応系内に共存させることにより数平均分子量を
低下させることが可能であることが明らかである。 ま
た、第1図よりセロソルブアセテートの使用量は重量比
で触媒の4〜50倍が好ましいことが明らかである。
第 2 表
実施例4および比較例2の結果をまとめて以下の第3表
に示す。
に示す。
第 3 表
第3表より、反応温度を120℃に変化させてもセロソ
ルブ誘導体を反応系内に共存させることにより数平均分
子量を低下させることが可能であることが明らかである
。
ルブ誘導体を反応系内に共存させることにより数平均分
子量を低下させることが可能であることが明らかである
。
また、実施例8および比較例3の結果より、反応方式を
連続反応とした場合でも、セロソルブ誘導体の共存によ
り数平均分子量を低下させることが可能であることが明
らかである。
連続反応とした場合でも、セロソルブ誘導体の共存によ
り数平均分子量を低下させることが可能であることが明
らかである。
〈発明の効果〉
以上説明してきたように、本発明の製造方法では、スチ
レン類をパーフルオロスルホン酸樹脂触媒の存在下で反
応させる際に、反応系内にセロソルブ誘導体を共存させ
ることにより、スチレン系樹脂の改質材、エポキシ系等
の塗料の添加剤、UV硬化樹脂の改質材、分散剤等の原
料として有効な数平均分子量が400以下で分子量分布
が狭くかつ反応性の高いスチレン類オリゴマーを工業的
に有利なプロセスで製造することができるという効果が
得られる。
レン類をパーフルオロスルホン酸樹脂触媒の存在下で反
応させる際に、反応系内にセロソルブ誘導体を共存させ
ることにより、スチレン系樹脂の改質材、エポキシ系等
の塗料の添加剤、UV硬化樹脂の改質材、分散剤等の原
料として有効な数平均分子量が400以下で分子量分布
が狭くかつ反応性の高いスチレン類オリゴマーを工業的
に有利なプロセスで製造することができるという効果が
得られる。
第1図は、パーフルオロスルホン酸樹脂触媒中にセロソ
ルブアセテートを共存させた際のその添加重量比に対す
る数平均分子量の変化を示したグラフである。
ルブアセテートを共存させた際のその添加重量比に対す
る数平均分子量の変化を示したグラフである。
Claims (4)
- (1)スチレン類をパーフルオロスルホン酸樹脂触媒の
存在下で反応させてスチレン類オリゴマーを製造するに
あたり、 反応系内に次の式で表わされるセロソルブ誘導体を共存
させることを特徴とする数平均分子量が小で分子量分布
の狭いスチレン類オリゴマーの製造方法。 R^1−O−CH_2CH_2−O−R^2(R^1、
R^2はアルキル基および/またはアシル基) - (2)前記セロソルブ誘導体がセロソルブアセテートで
あることを特徴とする請求項第1項記載の製造方法。 - (3)前記セロソルブ誘導体がエチレングリコールジア
ルキルエーテルであることを特徴とする請求項第1項記
載の製造方法。 - (4)前記スチレン類がスチレンおよび/またはm−、
p−メチルスチレンであることを特徴とする請求項第1
項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14507988A JPH06104633B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | 分子量分布の狭いスチレン類オリゴマーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14507988A JPH06104633B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | 分子量分布の狭いスチレン類オリゴマーの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01313441A true JPH01313441A (ja) | 1989-12-18 |
| JPH06104633B2 JPH06104633B2 (ja) | 1994-12-21 |
Family
ID=15376899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14507988A Expired - Lifetime JPH06104633B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | 分子量分布の狭いスチレン類オリゴマーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06104633B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011086926A1 (ja) * | 2010-01-18 | 2011-07-21 | 日本曹達株式会社 | スチレン系重合体及びその製造方法 |
| CN121717935A (zh) * | 2026-02-24 | 2026-03-24 | 富海(东营)技术服务有限公司 | 动态调控分子量及其分布的乙烯-醋酸乙烯酯共聚物制备方法和应用 |
-
1988
- 1988-06-13 JP JP14507988A patent/JPH06104633B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011086926A1 (ja) * | 2010-01-18 | 2011-07-21 | 日本曹達株式会社 | スチレン系重合体及びその製造方法 |
| CN121717935A (zh) * | 2026-02-24 | 2026-03-24 | 富海(东营)技术服务有限公司 | 动态调控分子量及其分布的乙烯-醋酸乙烯酯共聚物制备方法和应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06104633B2 (ja) | 1994-12-21 |
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