JPH01315926A - 電子管用陰極 - Google Patents
電子管用陰極Info
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- JPH01315926A JPH01315926A JP63147271A JP14727188A JPH01315926A JP H01315926 A JPH01315926 A JP H01315926A JP 63147271 A JP63147271 A JP 63147271A JP 14727188 A JP14727188 A JP 14727188A JP H01315926 A JPH01315926 A JP H01315926A
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- Japan
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- electron
- cathode
- material layer
- oxide
- earth metal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はTV用ジブラウン管どに用いられる電子管用
陰極に関するものである。
陰極に関するものである。
第2図は従来のTV用ジブラウン管撮像管に用いられて
いる陰極を示す断面図で、図において、(11はシリコ
ン(Si)、マグネシウム(Mg )などの還元性元素
を微量含む主成分がニッケルからなる有底筒状の基体、
(2)は基体Illの底部上面に被着され、少なくとも
バリウム(Ba) e含み、他にストロンチウム(Sr
)または/およびカルシウム(Ca)を含むアルカリ土
類金属酸化物からなる電子放射物質層、(3)は基体(
1)内に配設されたヒータ(3)で、加熱により上記電
子放射物質層(2)から熱電子を放出させるためのもの
である。
いる陰極を示す断面図で、図において、(11はシリコ
ン(Si)、マグネシウム(Mg )などの還元性元素
を微量含む主成分がニッケルからなる有底筒状の基体、
(2)は基体Illの底部上面に被着され、少なくとも
バリウム(Ba) e含み、他にストロンチウム(Sr
)または/およびカルシウム(Ca)を含むアルカリ土
類金属酸化物からなる電子放射物質層、(3)は基体(
1)内に配設されたヒータ(3)で、加熱により上記電
子放射物質層(2)から熱電子を放出させるためのもの
である。
このように構成された電子管用陰極において、基体il
lへの電子放射物質層(2)の被着は次のようにして行
なわれる。まず、アルカリ土類金属(Ba。
lへの電子放射物質層(2)の被着は次のようにして行
なわれる。まず、アルカリ土類金属(Ba。
Sr+ Ca)の三元炭酸塩からなる懸濁液全基体(1
)の底部上面に塗布し、真空排気工程中にヒータ(3)
によって加flsする。この時、アルカリ土類金属の炭
酸塩はアルカリ土類金属の酸化物に変わる。その後、ア
ルカリ土類金属の酸化物の一部を還元して半導体的性質
を有するように活性化を行なうことにより、基体(1)
上にアルカリ土類金属の酸化物からなる電子放射物質層
(2)を被着形成している。
)の底部上面に塗布し、真空排気工程中にヒータ(3)
によって加flsする。この時、アルカリ土類金属の炭
酸塩はアルカリ土類金属の酸化物に変わる。その後、ア
ルカリ土類金属の酸化物の一部を還元して半導体的性質
を有するように活性化を行なうことにより、基体(1)
上にアルカリ土類金属の酸化物からなる電子放射物質層
(2)を被着形成している。
この活性化工程において、アルカリ土類金属の酸化物の
一部は次のように反応する。つまり、基体fil内に含
有されたシリコン、マグネシウム等の還元性元素は拡散
によりアルカリ土類金属の酸化物と基体(])の界ハi
jに移動し、アルカリ土類金属酸化物と反応する。たと
えば、アルカリ土類酸化物として酸化バリウム(Bad
)であれば次式+Il 、 f2)のように反応する。
一部は次のように反応する。つまり、基体fil内に含
有されたシリコン、マグネシウム等の還元性元素は拡散
によりアルカリ土類金属の酸化物と基体(])の界ハi
jに移動し、アルカリ土類金属酸化物と反応する。たと
えば、アルカリ土類酸化物として酸化バリウム(Bad
)であれば次式+Il 、 f2)のように反応する。
BaO−1−1/2S l −Ba +l/25102
− fllBaO−1−Mg−Ba +yg
o 、12jこの反応の結果、基体
(1)上に被着形成されたアルカリ土類金属酸化物の一
部が還元され、酸素欠乏型の半導体となり、陰極温度7
00〜800°Cの動作温度で0.5〜0−8A/cm
2の電子放射が得られることになる。
− fllBaO−1−Mg−Ba +yg
o 、12jこの反応の結果、基体
(1)上に被着形成されたアルカリ土類金属酸化物の一
部が還元され、酸素欠乏型の半導体となり、陰極温度7
00〜800°Cの動作温度で0.5〜0−8A/cm
2の電子放射が得られることになる。
ところが、上記従来の電子管用陰極では電子放射が帆5
〜0.8A/cm2以上の電流密度は取り出せない。そ
の理由として、アルカリ土類金属酸化物の一部を還元反
応させた場合、上記(11、[2)式からも明らかなよ
うに、基体t1+とアルカリ土類金属酸化物層との界面
に5102. MgOまたはBaO・5102などの複
合酸化物層(中間層)が形成され、この中間層が高抵抗
層となって″電流の流れを妨けること、および上記中間
層が基体tll中の還元性元素(S+ 。
〜0.8A/cm2以上の電流密度は取り出せない。そ
の理由として、アルカリ土類金属酸化物の一部を還元反
応させた場合、上記(11、[2)式からも明らかなよ
うに、基体t1+とアルカリ土類金属酸化物層との界面
に5102. MgOまたはBaO・5102などの複
合酸化物層(中間層)が形成され、この中間層が高抵抗
層となって″電流の流れを妨けること、および上記中間
層が基体tll中の還元性元素(S+ 。
Mg)が電子放射物質@(2)の俵面側へ拡散するのを
妨げるため十分な僧のバリウム(Ba)が生成されない
ためであると考えられている。つまり、電子管動作中に
基体fllll子電子放射物質層)の界面近傍、特に基
体t11表向近傍のニッケル結晶粒界と上記界面より1
0/’m程度電子放射物質層(2)内側の位置に」L記
中間層が偏析するため、′r梶流の流れおよび電子放射
物質層(2)表面側への還元性元素の拡散が妨げられ、
高電流密度下の十分な電子放出特性が得られないという
問題があった。
妨げるため十分な僧のバリウム(Ba)が生成されない
ためであると考えられている。つまり、電子管動作中に
基体fllll子電子放射物質層)の界面近傍、特に基
体t11表向近傍のニッケル結晶粒界と上記界面より1
0/’m程度電子放射物質層(2)内側の位置に」L記
中間層が偏析するため、′r梶流の流れおよび電子放射
物質層(2)表面側への還元性元素の拡散が妨げられ、
高電流密度下の十分な電子放出特性が得られないという
問題があった。
この発明は上記従来の問題を解消するためになされたも
ので、高電流密度下において、長時間にわたって安定し
たエミッション(電子放出)特性を有し、かつ生産性・
信・頌性の高い電子管用陰極を得ること全目的とする。
ので、高電流密度下において、長時間にわたって安定し
たエミッション(電子放出)特性を有し、かつ生産性・
信・頌性の高い電子管用陰極を得ること全目的とする。
C課題を解決するための手段〕
この発明者らは鋭意研究の末、電子放射物質層に酸化ス
カンジウムを添加することにより、基体中の還元性元素
を含む複合酸化物層(中間層)が基体界面近傍に偏析す
るのを抑制できることに成功した。しかしながら、高電
流密度で動作して十分に寿命を保持するためには電子放
射物質層の導電性を良くするこ々が必要であるときがわ
かった。
カンジウムを添加することにより、基体中の還元性元素
を含む複合酸化物層(中間層)が基体界面近傍に偏析す
るのを抑制できることに成功した。しかしながら、高電
流密度で動作して十分に寿命を保持するためには電子放
射物質層の導電性を良くするこ々が必要であるときがわ
かった。
この発明者らは引き続く研究により、上記中間層抑制効
果は酸化スカンジウムとともに、イツトリウム、ランタ
ン、セリウム、プラセオジウム。
果は酸化スカンジウムとともに、イツトリウム、ランタ
ン、セリウム、プラセオジウム。
ニオジム、サマリウム、ガドリニウム、ジスプロシウム
、ホルミウム、エルビウム、ツリウムなどの希土類金属
酸化物で同様な効果があること、また必ずしも酸化物で
添加する必要はなく金属9合金でも良く、要するに上記
希土類元素を含有していt’Lばよいことを見出した。
、ホルミウム、エルビウム、ツリウムなどの希土類金属
酸化物で同様な効果があること、また必ずしも酸化物で
添加する必要はなく金属9合金でも良く、要するに上記
希土類元素を含有していt’Lばよいことを見出した。
捷だ、上記希土類元素に加えて特定の添加物、すなわち
べIJ IJウム。
べIJ IJウム。
マグネシウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン
、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ホウ素、アルミ
ニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、炭素、ケイ
素、ゲルマニウム、スズ、鉛。
、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ホウ素、アルミ
ニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、炭素、ケイ
素、ゲルマニウム、スズ、鉛。
イツトリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ル
テニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、ハ
フニウム、タンタル、タングステン。
テニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、ハ
フニウム、タンタル、タングステン。
レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金。
ビスマス、ルビジウム、セシウム、ランクメイド。
アクチノイドから選ばれた少なくとも1種の元素を含有
させることで、高電流密度でも長時間にわたって寿命を
確保できることを見出した。
させることで、高電流密度でも長時間にわたって寿命を
確保できることを見出した。
なお、上記添加物は金属1合金、あるいは酸化物など化
合物の形は問わない。
合物の形は問わない。
C作用〕
この発明によれば、電子放射物質層に特定の希土類元素
を含有するようにしたので、基体の界面近傍の中間層の
形成を抑制し、また、さらに上記特定の元素を添加した
ことにより、電子放射物質層の導電性が良くなり、これ
により高電流密度動作での寿命を確保できる。
を含有するようにしたので、基体の界面近傍の中間層の
形成を抑制し、また、さらに上記特定の元素を添加した
ことにより、電子放射物質層の導電性が良くなり、これ
により高電流密度動作での寿命を確保できる。
以下、この発明の一実施例を図にしたがって説明する。
9J1図において1.(2g)は基体(11の底部上面
に被着された電子放射物質層で、少なくともバリウム(
aa)e含み、他にストロンチウム(Sr)または/お
よびカルシウム(ca)ffi含むアルカリ土類金属酸
化物を主成分とし、5重量%の酸化スカンジウム(Sc
203)と0.3重量%のタングステン(W)とを含有
している。
に被着された電子放射物質層で、少なくともバリウム(
aa)e含み、他にストロンチウム(Sr)または/お
よびカルシウム(ca)ffi含むアルカリ土類金属酸
化物を主成分とし、5重量%の酸化スカンジウム(Sc
203)と0.3重量%のタングステン(W)とを含有
している。
つぎに、この実施例の゛セ子放射物質1!t(2g)の
被着形成方法について説明する。
被着形成方法について説明する。
まず、Ba、 Sr、 Caの三元炭酸塩に、5c20
3粉末を5重量%、W粉末を0.3重量%(上記三元炭
酸塩が全て酸化物になるとしての重量%)添加混合し、
懸濁液を作成する。この懸濁液をニッケルを主成分とす
る基体(1)の底部上面にスプレィにより約80ミクロ
ンの厚みで塗布し、その後従来き同様に、炭酸塩から酸
化物への分解過程および酸化物の一部全還元する活性化
過程を経て、電子放射物質層(2a)を基体(1)に被
着形成する。
3粉末を5重量%、W粉末を0.3重量%(上記三元炭
酸塩が全て酸化物になるとしての重量%)添加混合し、
懸濁液を作成する。この懸濁液をニッケルを主成分とす
る基体(1)の底部上面にスプレィにより約80ミクロ
ンの厚みで塗布し、その後従来き同様に、炭酸塩から酸
化物への分解過程および酸化物の一部全還元する活性化
過程を経て、電子放射物質層(2a)を基体(1)に被
着形成する。
上記電子管用陰極を用いて2極管真空管を作成し、寿命
試験ケ行なった。従来のテレビ用陰極としての電流密度
0−66A/c m 2の約4.5倍(3A/cm”)
で動作させた時、従来のアルカリ土類酸化物のみη)ら
なる電子管用陰極の寿命は4.000時間(エミッショ
ン電流が初期の50%に低下した時点を寿命とした)で
あったのに対し、この実施例の陰極の寿命は1万時間以
上であった。なお、5C203k上記量で添加し、W粉
末を含有しない陰極について同様な試験を行なったとこ
ろ、寿命ばs、ooo時間であった。
試験ケ行なった。従来のテレビ用陰極としての電流密度
0−66A/c m 2の約4.5倍(3A/cm”)
で動作させた時、従来のアルカリ土類酸化物のみη)ら
なる電子管用陰極の寿命は4.000時間(エミッショ
ン電流が初期の50%に低下した時点を寿命とした)で
あったのに対し、この実施例の陰極の寿命は1万時間以
上であった。なお、5C203k上記量で添加し、W粉
末を含有しない陰極について同様な試験を行なったとこ
ろ、寿命ばs、ooo時間であった。
また、5c2035重量%添加し、これに0.3重量%
のレニウム粉末、あるいはオスミウム粉末、酸化クロム
、酸化タリウム、あるいは2種を組み合わせて0.3重
量%のニッケル粉末と酸化ニオブ、あるいはイリジウム
粉末と酸化マグネシウムなどを添加した結果、上記と同
様な結果が得られた。
のレニウム粉末、あるいはオスミウム粉末、酸化クロム
、酸化タリウム、あるいは2種を組み合わせて0.3重
量%のニッケル粉末と酸化ニオブ、あるいはイリジウム
粉末と酸化マグネシウムなどを添加した結果、上記と同
様な結果が得られた。
また、5c203 VC代えて、酸化イツ) IJウム
、酸化セリウム、酸化ランタンなど上記希土類金属酸化
物を使用したものでも同様な結果が得られた。
、酸化セリウム、酸化ランタンなど上記希土類金属酸化
物を使用したものでも同様な結果が得られた。
上記において、5c203 k予め添加することによっ
て、添加した5C203の一部は解離して第1図に示す
基体fil内に拡散し、基体(1)の界面近傍にS。
て、添加した5C203の一部は解離して第1図に示す
基体fil内に拡散し、基体(1)の界面近傍にS。
拡散層を形成する。一方、陰極を動作させると、基体t
ll内の還元性元素si、Mgが基体tl+の表面に移
動し、電子放射物質11% (2a)のアルカリ土類金
属酸化物(Ba、 3r、 Ca) Oと反応して、こ
の酸化物を還元する。その結果、Ban Sr+ Ca
の活性原子を生成し、電子放射を容易にする。このとき
、アルカリ土類金属酸化物と基体ill内の還元性元素
との反応の副産物として複合酸化物、たとえばBs 2
S to4層を生成し、これが陰極の動作時間の経過と
ともに基体(1)の界面上に中間層として形成される。
ll内の還元性元素si、Mgが基体tl+の表面に移
動し、電子放射物質11% (2a)のアルカリ土類金
属酸化物(Ba、 3r、 Ca) Oと反応して、こ
の酸化物を還元する。その結果、Ban Sr+ Ca
の活性原子を生成し、電子放射を容易にする。このとき
、アルカリ土類金属酸化物と基体ill内の還元性元素
との反応の副産物として複合酸化物、たとえばBs 2
S to4層を生成し、これが陰極の動作時間の経過と
ともに基体(1)の界面上に中間層として形成される。
ところが、基体tl+の界面近傍には上記Sc拡散層が
形成されており、上記BI12Si04が解離して再び
Si原子を生成する。したがって、基体fil内の還元
性元素Si+Mgの電子放射物質層(2a)内への継続
的な拡散が妨げられず、しかも、高絶縁層として作用す
る上記B、2S104 k解離さぜることにより、エミ
ッション電流の流れも阻害されない。
形成されており、上記BI12Si04が解離して再び
Si原子を生成する。したがって、基体fil内の還元
性元素Si+Mgの電子放射物質層(2a)内への継続
的な拡散が妨げられず、しかも、高絶縁層として作用す
る上記B、2S104 k解離さぜることにより、エミ
ッション電流の流れも阻害されない。
これにより、再びアルカリ土類金属酸化物の還元反応が
生じ、エミッション電流の低下を防止できる。
生じ、エミッション電流の低下を防止できる。
一方、ベリリウム、マグネシウム、チタンなど上記特定
の元素の金属1合金、化合物を添加することにより、電
子放射物質層の導″醒性が向上し、高電流が流れやすく
なる。
の元素の金属1合金、化合物を添加することにより、電
子放射物質層の導″醒性が向上し、高電流が流れやすく
なる。
上記実施例では5c203などの希土類酸化物5重量%
と、Wなどの特定元素の金属、化合物などを0.3重量
%を添加した場合を示したが、5c203を0.1〜2
0重量係とし、Wなどを0.01〜5重量%とした範囲
でも同様な結果が得られることが確認された。
と、Wなどの特定元素の金属、化合物などを0.3重量
%を添加した場合を示したが、5c203を0.1〜2
0重量係とし、Wなどを0.01〜5重量%とした範囲
でも同様な結果が得られることが確認された。
Sc 203などの希土類酸化物を0.1〜20重量%
の範囲で添加するのは以下の理由による。すなわち、0
.1重i%未尚の添加では基体fi+の界面での中間層
形成全抑制する効果が不十分であり、捷だ、20重量%
全超える添加では相対的にアルカリ土類金属酸化物の量
が少なくなり、電子放射■が低下するためである。
の範囲で添加するのは以下の理由による。すなわち、0
.1重i%未尚の添加では基体fi+の界面での中間層
形成全抑制する効果が不十分であり、捷だ、20重量%
全超える添加では相対的にアルカリ土類金属酸化物の量
が少なくなり、電子放射■が低下するためである。
また、Wなど全0.01〜5重量%の範囲で添加するの
に以下の理由による。すなわち、0.01重量係未軸の
添加で(は電子放射物質、喘の導電性改善が不十分であ
り、また、5重量係を超える添加では電子放射mが低下
し、長時間の寿命特性が得られないためである。
に以下の理由による。すなわち、0.01重量係未軸の
添加で(は電子放射物質、喘の導電性改善が不十分であ
り、また、5重量係を超える添加では電子放射mが低下
し、長時間の寿命特性が得られないためである。
この発明において、アルカリ土類金属酸化物に添加する
希土類元素、さらにベリリウム、マグネシウム、チタン
など上記特定の元素(仁上記実施例のように酸化物であ
ってもよく、また金属2合金など化合物形を問わない。
希土類元素、さらにベリリウム、マグネシウム、チタン
など上記特定の元素(仁上記実施例のように酸化物であ
ってもよく、また金属2合金など化合物形を問わない。
以上のようにこの発明によれば、特定の希土類元素の添
加により基体界面近傍に偏析した高抵抗層である中間層
の形成を抑制できるので、高電流密度下の十分4Cエミ
ツシヨン特性を得ることができる。また、ベリリウム、
マグネシウム、チタンなど特定元素の添加により電子放
射物質層の導電性を向」二できるので従来よりも高電流
密度下、かつ、@顕性の高い電子管用陰極が得られると
いう効果を有する。
加により基体界面近傍に偏析した高抵抗層である中間層
の形成を抑制できるので、高電流密度下の十分4Cエミ
ツシヨン特性を得ることができる。また、ベリリウム、
マグネシウム、チタンなど特定元素の添加により電子放
射物質層の導電性を向」二できるので従来よりも高電流
密度下、かつ、@顕性の高い電子管用陰極が得られると
いう効果を有する。
第1図はこの発明の一実施例を示″′f電子管用陰極の
断面図、第2図は従来の電子管用陰極全示す断面図であ
る。 図において、(1)・・・基体、(2a)・・・電子放
射物質層。 なお、図中、同−祠号は同一、または相当部分を示す。
断面図、第2図は従来の電子管用陰極全示す断面図であ
る。 図において、(1)・・・基体、(2a)・・・電子放
射物質層。 なお、図中、同−祠号は同一、または相当部分を示す。
Claims (1)
- (1)ニッケルを主成分とする基体上に、バリウムを含
むアルカリ土類金属酸化物を主成分とする電子放射物質
層を被着形成してなる電子管用陰極において、上記電子
放射物質層は、少なくとも1種の希土類元素を含み、さ
らにベリリウム、マグネシウム、チタン、バナジウム、
クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛
、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリ
ウム、炭素、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、イット
リウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、ハフニウ
ム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、
イリジウム、白金、金、ビスマス、ルビジウム、セシウ
ム、ランタノイド、アクチノイドから選ばれた少なくと
も1種の元素を含有することを特徴とする電子管用陰極
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63147271A JPH01315926A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 電子管用陰極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63147271A JPH01315926A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 電子管用陰極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01315926A true JPH01315926A (ja) | 1989-12-20 |
Family
ID=15426436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63147271A Pending JPH01315926A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 電子管用陰極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01315926A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0841676A1 (en) * | 1996-11-12 | 1998-05-13 | Matsushita Electronics Corporation | Cathode for electron tube and method for manufacturing the same |
| US6033280A (en) * | 1995-09-21 | 2000-03-07 | Matsushita Electronics Corporation | Method for manufacturing emitter for cathode ray tube |
-
1988
- 1988-06-15 JP JP63147271A patent/JPH01315926A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6033280A (en) * | 1995-09-21 | 2000-03-07 | Matsushita Electronics Corporation | Method for manufacturing emitter for cathode ray tube |
| US6222308B1 (en) | 1995-09-21 | 2001-04-24 | Matsushita Electronics Corporation | Emitter material for cathode ray tube having at least one alkaline earth metal carbonate dispersed or concentrated in a mixed crystal or solid solution |
| EP0841676A1 (en) * | 1996-11-12 | 1998-05-13 | Matsushita Electronics Corporation | Cathode for electron tube and method for manufacturing the same |
| US5925976A (en) * | 1996-11-12 | 1999-07-20 | Matsushita Electronics Corporation | Cathode for electron tube having specific emissive material |
| KR100319227B1 (ko) * | 1996-11-12 | 2002-02-19 | 모리시타 요이찌 | 전자관음극및그제조방법 |
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