JPH01318925A - マスフローコントローラ - Google Patents
マスフローコントローラInfo
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- JPH01318925A JPH01318925A JP63152674A JP15267488A JPH01318925A JP H01318925 A JPH01318925 A JP H01318925A JP 63152674 A JP63152674 A JP 63152674A JP 15267488 A JP15267488 A JP 15267488A JP H01318925 A JPH01318925 A JP H01318925A
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- 238000004804 winding Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F5/00—Measuring a proportion of the volume flow
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
- G01F1/6847—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow where sensing or heating elements are not disturbing the fluid flow, e.g. elements mounted outside the flow duct
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7759—Responsive to change in rate of fluid flow
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、基体に形成された流体入口と流体出口との間
に、流体流量を測定するマスフローメータ部と、流体?
JL量を制御する流体制御部とを設けてなるマスフロー
コントローラの改良に関する。
に、流体流量を測定するマスフローメータ部と、流体?
JL量を制御する流体制御部とを設けてなるマスフロー
コントローラの改良に関する。
従来のマスフローコントローラの法体制?11部(制御
弁)は、例えば第5図に示すように、基体51に形成さ
れた流体人口52と流体出口53との間に弁座54を設
けると共に、先端部55Aが円錐台形に形成された弁体
55を例えばサーマル方式の弁体駆動部56によって駆
動し、弁座54に形成された弁口57の開度を適宜調節
するように構成されている。
弁)は、例えば第5図に示すように、基体51に形成さ
れた流体人口52と流体出口53との間に弁座54を設
けると共に、先端部55Aが円錐台形に形成された弁体
55を例えばサーマル方式の弁体駆動部56によって駆
動し、弁座54に形成された弁口57の開度を適宜調節
するように構成されている。
しかしながら、上記構成のマスフローコントローラにお
いては、弁体55の先端部55Aが円錐台形であるため
、これを、弁口57から流体が漏れないように弁ロ57
壁面に密着させることができず、従って、極めて小流!
領域における制御に限界があり、下限は最大制御流量の
精々数%程度にとどまり、例えば最大制御流量の0.1
%といった微小流量領域の制御を行うことができなかっ
た。
いては、弁体55の先端部55Aが円錐台形であるため
、これを、弁口57から流体が漏れないように弁ロ57
壁面に密着させることができず、従って、極めて小流!
領域における制御に限界があり、下限は最大制御流量の
精々数%程度にとどまり、例えば最大制御流量の0.1
%といった微小流量領域の制御を行うことができなかっ
た。
ところで、マスフローコントローラにおいては、仮に微
小流量領域の制御が可能になったとしても、流体流量を
測定するマスフローメータ部におけるノイズレベルが高
いと、微小i1 I fil域の制御を精度よく行うこ
とができない。
小流量領域の制御が可能になったとしても、流体流量を
測定するマスフローメータ部におけるノイズレベルが高
いと、微小i1 I fil域の制御を精度よく行うこ
とができない。
而して、従来のマスフローコントローラのマスフローメ
ーク部においては、流体が流れる導管に互いに独立して
巻段された2つの抵抗体をそれぞれ一定の温度に保持す
るための電力の差に基づいて、導管内を流れる流体の質
量流量を検出するようにしているが、従来のマスフロー
コントローラにおいては、前記抵抗体に流す電流の方向
が明確に規定されていなかったため、抵抗体間の相互電
磁誘導作用によりノイズレベルの高い出力信号、つまり
、S/N比がよくない出力信号しか得られなかった。マ
スフローコントローラとして実用上問題がないレベルま
でノイズを低減する社は、信号処理部にノイズフィルタ
を設ければよいが、このようにすると制御応答性が損な
われてしまう。
ーク部においては、流体が流れる導管に互いに独立して
巻段された2つの抵抗体をそれぞれ一定の温度に保持す
るための電力の差に基づいて、導管内を流れる流体の質
量流量を検出するようにしているが、従来のマスフロー
コントローラにおいては、前記抵抗体に流す電流の方向
が明確に規定されていなかったため、抵抗体間の相互電
磁誘導作用によりノイズレベルの高い出力信号、つまり
、S/N比がよくない出力信号しか得られなかった。マ
スフローコントローラとして実用上問題がないレベルま
でノイズを低減する社は、信号処理部にノイズフィルタ
を設ければよいが、このようにすると制御応答性が損な
われてしまう。
本発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その
目的とするところは、制御範囲を微小流量領域にまで拡
げ、かつ、その制御を高速で行えるようにしたマスフロ
ーコントローラを提供することにある。
目的とするところは、制御範囲を微小流量領域にまで拡
げ、かつ、その制御を高速で行えるようにしたマスフロ
ーコントローラを提供することにある。
上述の目的を達成するため、本発明に係るマスフローコ
ントローラは、流体制御1部に設けられる流量制御部材
の流量制御部分を鏡面仕上げすると共に、前記マスフロ
ーメータ部における導管に巻段された2つの抵抗体にそ
れぞれ生ずる磁界の向きが前記導管内を流れる流体の方
向と逆になるように、前記各抵抗体に電流を流すように
している。
ントローラは、流体制御1部に設けられる流量制御部材
の流量制御部分を鏡面仕上げすると共に、前記マスフロ
ーメータ部における導管に巻段された2つの抵抗体にそ
れぞれ生ずる磁界の向きが前記導管内を流れる流体の方
向と逆になるように、前記各抵抗体に電流を流すように
している。
上記構成によれば、流量制御部材の流量制御部分が鏡面
仕上げされているから、微小流量領域における流量制御
が高精度に行え、しかも、マスフローメータ部における
導管に巻段された2つの抵抗体にそれぞれ生ずる磁界の
向きが前記導管内を流れる流体の方向と逆になるように
、前記各抵抗体に電流を流すようにしているので、ノイ
ズフィルタを用いなくてもノイズの影響がない出力信号
を得ることができ、従って、高速応答性をもって制御す
ることができるので、上記目的は完全に達成される。
仕上げされているから、微小流量領域における流量制御
が高精度に行え、しかも、マスフローメータ部における
導管に巻段された2つの抵抗体にそれぞれ生ずる磁界の
向きが前記導管内を流れる流体の方向と逆になるように
、前記各抵抗体に電流を流すようにしているので、ノイ
ズフィルタを用いなくてもノイズの影響がない出力信号
を得ることができ、従って、高速応答性をもって制御す
ることができるので、上記目的は完全に達成される。
以下、本発明の一実施例を、図面を参照しながら説明す
る。
る。
第1図は所謂ノルマルオーブンタイプのマスフローコン
トローラの一例を示し、同図において、1は基体、2.
3は基一体1に形成された流体入口。
トローラの一例を示し、同図において、1は基体、2.
3は基一体1に形成された流体入口。
流体出口である。4は流体人口2と流体出口3との間に
形成される流体流路で、マスフローメータ部5と流体制
御部6とが設けである。尚、図示する例においては、マ
スフローメータ部5が流体制御部6よりも上流側に設け
であるが、この配置を逆にしてもよい。
形成される流体流路で、マスフローメータ部5と流体制
御部6とが設けである。尚、図示する例においては、マ
スフローメータ部5が流体制御部6よりも上流側に設け
であるが、この配置を逆にしてもよい。
前記マスフローメータ部5は、流体流路4に臨むように
開設された測定流路人ロアと測定流路出口8との間を接
続する例えば薄肉毛細管よりなる導管9に例えば熱式質
量流量上ンサよりなる抵抗体10u、 10d (以下
、第1抵抗体10u、第2抵抗体10dという)を巻回
してなるものである。
開設された測定流路人ロアと測定流路出口8との間を接
続する例えば薄肉毛細管よりなる導管9に例えば熱式質
量流量上ンサよりなる抵抗体10u、 10d (以下
、第1抵抗体10u、第2抵抗体10dという)を巻回
してなるものである。
第2図は前記第1抵抗体10u、第2抵抗体10dに対
してそれぞれ電力を供給する回路の一例を示し、図示す
る例においては、第1抵抗体10u、第2抵抗体10d
は、流体Fが流れる導管9に対して互いに逆方向にしか
も互いに独立した状態に巻段されている。第1抵抗体1
0u、第2抵抗体10dは例えば鉄・ニッケル合金等温
度係数の大なる温度感応抵抗線よりなり、導管9内を流
れる流体Fの流量の僅かな変化をも検知するべく構成し
である。
してそれぞれ電力を供給する回路の一例を示し、図示す
る例においては、第1抵抗体10u、第2抵抗体10d
は、流体Fが流れる導管9に対して互いに逆方向にしか
も互いに独立した状態に巻段されている。第1抵抗体1
0u、第2抵抗体10dは例えば鉄・ニッケル合金等温
度係数の大なる温度感応抵抗線よりなり、導管9内を流
れる流体Fの流量の僅かな変化をも検知するべく構成し
である。
11、12は第1抵抗体10u、第2抵抗体10dをそ
れぞれ後述するブリッジ回路17.22の構成要素とし
て含む定温度制御回路(以下、第1定温度制御回路11
、第2定温度制御回路12という)で、これら第1定温
度制御回路11、第2定温度制御回路12は互いに同一
の部品より構成されており、第1抵抗体10uと第2抵
抗体10dとの温度が常に所定の温度で相等しくなるよ
うに制御するものである。
れぞれ後述するブリッジ回路17.22の構成要素とし
て含む定温度制御回路(以下、第1定温度制御回路11
、第2定温度制御回路12という)で、これら第1定温
度制御回路11、第2定温度制御回路12は互いに同一
の部品より構成されており、第1抵抗体10uと第2抵
抗体10dとの温度が常に所定の温度で相等しくなるよ
うに制御するものである。
即ち、第1定温度制御回路11は第1抵抗体10uとこ
の第1抵抗体LOuの温度設定用抵抗13とブリッジ抵
抗14.15とからなるブリッジ回路16と、制御回路
17とを備えている。又、第2定温度制御回路12は第
2抵抗体10dとこの第2抵抗体10dの温度設定用抵
抗1Bとブリッジ抵抗19.20と可変抵抗21とから
なるブリッジ回路22と、制御回路23とを備えている
。尚、可変抵抗21は導管9における流体Fの流量がゼ
ロのとき、ブリッジ回路16.22のそれぞれの出力が
互いに等しくなるように調整するものである。又、抵抗
13.14.15.1B、 19.20゜21は第1抵
抗体10u、第2抵抗体10dに比べて温度係数が十分
小さくしである。
の第1抵抗体LOuの温度設定用抵抗13とブリッジ抵
抗14.15とからなるブリッジ回路16と、制御回路
17とを備えている。又、第2定温度制御回路12は第
2抵抗体10dとこの第2抵抗体10dの温度設定用抵
抗1Bとブリッジ抵抗19.20と可変抵抗21とから
なるブリッジ回路22と、制御回路23とを備えている
。尚、可変抵抗21は導管9における流体Fの流量がゼ
ロのとき、ブリッジ回路16.22のそれぞれの出力が
互いに等しくなるように調整するものである。又、抵抗
13.14.15.1B、 19.20゜21は第1抵
抗体10u、第2抵抗体10dに比べて温度係数が十分
小さくしである。
そして、上記第1抵抗体10u、第2抵抗体10dは、
第1定温度制御回路11、第2定温度制御回路12によ
ってそれぞれ供給される電流Tu、’1.が流れること
によって第1抵抗体10u、第2抵抗体10dにそれぞ
れ発生する磁界Φ、、Φ4の向きが導管9内を流れる流
体Fの向きと逆になるように(第3図(A)参照)、前
記第1定温度制御回路11、第2定温度制御回路12に
それぞれ接続しである。
第1定温度制御回路11、第2定温度制御回路12によ
ってそれぞれ供給される電流Tu、’1.が流れること
によって第1抵抗体10u、第2抵抗体10dにそれぞ
れ発生する磁界Φ、、Φ4の向きが導管9内を流れる流
体Fの向きと逆になるように(第3図(A)参照)、前
記第1定温度制御回路11、第2定温度制御回路12に
それぞれ接続しである。
24、25はそれぞれ加算回路、減算回路であり、ブリ
ッジ回路16.22の出力点26.27にそれぞれ出力
される電位P+、Pgをそれぞれ入力とし、前者24か
らは加算出力としてP1+Pzが、又、後者25からは
減算出力としてP+ Pzがそれぞれ出力される。
ッジ回路16.22の出力点26.27にそれぞれ出力
される電位P+、Pgをそれぞれ入力とし、前者24か
らは加算出力としてP1+Pzが、又、後者25からは
減算出力としてP+ Pzがそれぞれ出力される。
28は除算回路であり、加算回路24及び減算回路から
の出力を入力とし、除算出力として(PI F! )
/(PI +p、)を出力する。そして、この出力(P
+ −Pg )/(P+ +Pg )は、導管9内を流
れる流体Fの質量流量に比例しているので、これに適宜
の定数を乗することにより、導管9内を流れる流体Fの
質量流量を得ることができる。尚、29は出力端子であ
る。
の出力を入力とし、除算出力として(PI F! )
/(PI +p、)を出力する。そして、この出力(P
+ −Pg )/(P+ +Pg )は、導管9内を流
れる流体Fの質量流量に比例しているので、これに適宜
の定数を乗することにより、導管9内を流れる流体Fの
質量流量を得ることができる。尚、29は出力端子であ
る。
再び、第1図に戻り、30は流体流路4に形成された定
分流比特性を有するバイパス部である。
分流比特性を有するバイパス部である。
そして、前記流体制御部6は次のように構成されている
。即ち、前記バイパス部30よりも下流側の流体流路4
に弁口31を備えた弁座32が設けられると共に、弁口
31の開度を調節する弁体33がその弁頭部33Aを弁
口31に近接した状態で設けられている。この弁体33
は弁体ガイド部34内を上下方向に移動し得るように、
しかも、通常時、弁座32との間に若干の隙間が形成さ
れるように、金属製のダイヤフラム35によって保持さ
れている。
。即ち、前記バイパス部30よりも下流側の流体流路4
に弁口31を備えた弁座32が設けられると共に、弁口
31の開度を調節する弁体33がその弁頭部33Aを弁
口31に近接した状態で設けられている。この弁体33
は弁体ガイド部34内を上下方向に移動し得るように、
しかも、通常時、弁座32との間に若干の隙間が形成さ
れるように、金属製のダイヤフラム35によって保持さ
れている。
更に、前記弁座32及び弁体33(これらを総称して流
量制御部材という)の相対向する部分、つまり、流量制
御部分32a、 33aはそれぞれ鏡面仕上げによって
極めて平滑な平面(R,□がo、spa以下)に形成さ
れている。
量制御部材という)の相対向する部分、つまり、流量制
御部分32a、 33aはそれぞれ鏡面仕上げによって
極めて平滑な平面(R,□がo、spa以下)に形成さ
れている。
36は弁体33を所定の方向に駆動する弁体駆動部で、
例えば複数の圧電素子を積層してなるピエゾスタックよ
りなる。この弁体駆動部36は弁ブロック37に螺着さ
れた筒状カバ一体38内に収容され、所定の直流電圧を
印加することによりその出力部が下方に変位し、これに
よって弁体33が下降し、弁口31の開度が変化するの
である。
例えば複数の圧電素子を積層してなるピエゾスタックよ
りなる。この弁体駆動部36は弁ブロック37に螺着さ
れた筒状カバ一体38内に収容され、所定の直流電圧を
印加することによりその出力部が下方に変位し、これに
よって弁体33が下降し、弁口31の開度が変化するの
である。
尚、第1図において、39〜45は・シール部材として
のステンレス製の0リングである。
のステンレス製の0リングである。
而して、上記構成のマスフローコントローラにおいて、
流量制御部材32.33の流量制御部分32a。
流量制御部材32.33の流量制御部分32a。
33aが鏡面仕上げされているので、弁口31の開度調
節をサブミクロン乃至ミクロンオーダーで行うことがで
き、それだけ小さい制御分解能を得ることができるから
、極めて小流*H域において精度よく流量制御すること
ができる。
節をサブミクロン乃至ミクロンオーダーで行うことがで
き、それだけ小さい制御分解能を得ることができるから
、極めて小流*H域において精度よく流量制御すること
ができる。
一方、マスフローメータ部5においては、導管9に巻段
された2つの抵抗体10u、 10dにそれぞれ生ずる
磁界Φ1.Φ4の向きが導管9内を流れる流体Fの方向
と逆になるように、抵抗体10u、 10dに電流1−
、Iaを流すようにしているので、第4図(A)に示す
ように、ノイズレベルが極めて低い出力信号Kを得るこ
とができる。従って、従来のマスフローコントローラと
異なり、ノイズフィルタを用いなくても電圧変動が小さ
いノイズレベルが極めて低い出力を得ることができるの
で、微小流量領域においても、高速応答性をもって制御
することができるのである。
された2つの抵抗体10u、 10dにそれぞれ生ずる
磁界Φ1.Φ4の向きが導管9内を流れる流体Fの方向
と逆になるように、抵抗体10u、 10dに電流1−
、Iaを流すようにしているので、第4図(A)に示す
ように、ノイズレベルが極めて低い出力信号Kを得るこ
とができる。従って、従来のマスフローコントローラと
異なり、ノイズフィルタを用いなくても電圧変動が小さ
いノイズレベルが極めて低い出力を得ることができるの
で、微小流量領域においても、高速応答性をもって制御
することができるのである。
尚、ここで、第3図及び第4図について説明すると、第
3図(A) 〜(D)は2つの抵抗体10u、 10d
に電流1.、I、を供給する場合における供給方向と、
前記電流+u、1.によって各抵抗体10u。
3図(A) 〜(D)は2つの抵抗体10u、 10d
に電流1.、I、を供給する場合における供給方向と、
前記電流+u、1.によって各抵抗体10u。
10dに生じる磁界Φ1.Φ、の向きと、導管9内を流
れる流体Fの方向を示し、そのうち、(B)〜(D)は
比較例を示す。又、第4図(A)〜(D)は前記第3図
(A)〜(D)の各場合における出力信号の波形図を示
し、そのうち、(B)〜(D)は比較例を示す、これら
の図から、比較例においては、ノイズレベルが橿めて高
いことが判る。
れる流体Fの方向を示し、そのうち、(B)〜(D)は
比較例を示す。又、第4図(A)〜(D)は前記第3図
(A)〜(D)の各場合における出力信号の波形図を示
し、そのうち、(B)〜(D)は比較例を示す、これら
の図から、比較例においては、ノイズレベルが橿めて高
いことが判る。
本発明は、上述の実施例に限られるものではなく、例え
ば抵抗体10u、 10dを導管9に対して上記図示側
以外の方向に巻回してもよく、又、弁体駆動部36はサ
ーマル駆動方式等積々のもので構成することができる。
ば抵抗体10u、 10dを導管9に対して上記図示側
以外の方向に巻回してもよく、又、弁体駆動部36はサ
ーマル駆動方式等積々のもので構成することができる。
更に、ノルマルクローズタイプのマスフローコントロー
ラにも適用すること力(できる。
ラにも適用すること力(できる。
〔発明の効果]
以上説明したように、本発明に係るマスフローコントロ
ーラは、流体制御部に設けられる流量制御部材の流量制
御部分を鏡面仕上げすると共に、前記マスフローメータ
部における導管に巻段された2つの抵抗体にそれぞれ生
ずる磁界の向きが前記導管内を流れる流体の方向と逆に
なるように、前記各抵抗体に電流を流すようにしてpz
るので、例えば最大制御流量の0.1%といった微小流
量領域に゛おいても精度よく、しかも、高速応答性をも
って制御することができる。
ーラは、流体制御部に設けられる流量制御部材の流量制
御部分を鏡面仕上げすると共に、前記マスフローメータ
部における導管に巻段された2つの抵抗体にそれぞれ生
ずる磁界の向きが前記導管内を流れる流体の方向と逆に
なるように、前記各抵抗体に電流を流すようにしてpz
るので、例えば最大制御流量の0.1%といった微小流
量領域に゛おいても精度よく、しかも、高速応答性をも
って制御することができる。
第1図は本発明の一実施例に係るマスフローコントロー
ラを示す継断面図、第2図は抵抗体に電力を供給する回
路の一例を示すブロック図である。 第3図(A)〜(D)は2つの抵抗体に電流を供給する
場合における電流供給方向と前記電流によって各抵抗体
に生じる磁界の向きと導管内を流れる流体の方向とを示
す説明図、第4図(A)〜(D)は出力波形図である。 第5図は従来技術を説明するための断面図である。 l・・・基体、2・・・流体入口、3・・・流体出口、
5・・・マスフローメータ部、6・・・法体制i11部
、9・・・導管、10u、 10d・・・抵抗体、32
・・・弁座(流量制御部材)、33・・・弁体(流量制
御部材)、32a、 33a・・・流量制御部分、F・
・・流体、1..1.・・・電流、Φ1.Φ4・・・磁
界。 (A) (C) Iu Id 3図 (B) (D) Iu Id 第4図 (A) (C) (B) (D)
ラを示す継断面図、第2図は抵抗体に電力を供給する回
路の一例を示すブロック図である。 第3図(A)〜(D)は2つの抵抗体に電流を供給する
場合における電流供給方向と前記電流によって各抵抗体
に生じる磁界の向きと導管内を流れる流体の方向とを示
す説明図、第4図(A)〜(D)は出力波形図である。 第5図は従来技術を説明するための断面図である。 l・・・基体、2・・・流体入口、3・・・流体出口、
5・・・マスフローメータ部、6・・・法体制i11部
、9・・・導管、10u、 10d・・・抵抗体、32
・・・弁座(流量制御部材)、33・・・弁体(流量制
御部材)、32a、 33a・・・流量制御部分、F・
・・流体、1..1.・・・電流、Φ1.Φ4・・・磁
界。 (A) (C) Iu Id 3図 (B) (D) Iu Id 第4図 (A) (C) (B) (D)
Claims (1)
- 基体に形成された流体入口と流体出口との間に、流体流
量を測定するマスフローメータ部と、流体流量を制御す
る流体制御部とを設けてなるマスフローコントローラに
おいて、前記流体制御部に設けられる流量制御部材の流
量制御部分を鏡面仕上げすると共に、前記マスフローメ
ータ部における導管に巻段された2つの抵抗体にそれぞ
れ生ずる磁界の向きが前記導管内を流れる流体の方向と
逆になるように、前記各抵抗体に電流を流すようにした
ことを特徴とするマスフローコントローラ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15267488A JP2814379B2 (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | マスフローコントローラ |
| US07/366,618 US4921005A (en) | 1988-06-20 | 1989-06-15 | Mass flow controller |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15267488A JP2814379B2 (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | マスフローコントローラ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01318925A true JPH01318925A (ja) | 1989-12-25 |
| JP2814379B2 JP2814379B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=15545627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15267488A Expired - Lifetime JP2814379B2 (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | マスフローコントローラ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4921005A (ja) |
| JP (1) | JP2814379B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003052356A1 (en) * | 2001-12-19 | 2003-06-26 | Wook Hyun Kim | Mass flow measurment sensor for mass flow controller |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5080131A (en) * | 1989-09-26 | 1992-01-14 | Lintec Co., Ltd. | Mass flow controller |
| JP3047184B2 (ja) * | 1989-11-27 | 2000-05-29 | 株式会社エステック | 質量流量計 |
| US5359878A (en) * | 1991-02-26 | 1994-11-01 | Dxl International, Inc. | Apparatus and method for in-line calibration verification of mass flow meters |
| US5141021A (en) * | 1991-09-06 | 1992-08-25 | Stec Inc. | Mass flow meter and mass flow controller |
| US5203537A (en) * | 1992-03-09 | 1993-04-20 | Teledyne Industries, Inc. | Piezoceramic valve actuator sandwich assembly and valve incorporating such an assembly |
| WO1993025950A1 (en) * | 1992-06-12 | 1993-12-23 | Unit Instruments, Inc. | Mass flow controller |
| JPH0784650A (ja) * | 1993-07-23 | 1995-03-31 | Hitachi Metals Ltd | マスフローコントローラ、その運転方法及び電磁弁 |
| US5792952A (en) * | 1996-05-23 | 1998-08-11 | Varian Associates, Inc. | Fluid thermal mass flow sensor |
| US6269692B1 (en) * | 1999-02-01 | 2001-08-07 | Dxl Usa Inc. | Mass flow measuring assembly having low pressure drop and fast response time |
| EP1046887A1 (de) * | 1999-04-19 | 2000-10-25 | Gamperl Gastechnik | Vorrichtung zum Messen eines Fluidmassendurchflusses |
| DE19934398A1 (de) * | 1999-07-22 | 2001-02-08 | Horst Jungkeit | Modularer-Massedurchflussmesser in Blockbauweise |
| KR102150579B1 (ko) * | 2014-03-31 | 2020-09-01 | 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 | 열식 질량 유량 측정 방법, 당해 방법을 사용하는 열식 질량 유량계 및 당해 열식 질량 유량계를 사용하는 열식 질량 유량 제어 장치 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61128123A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-16 | Esutetsuku:Kk | 質量流量計 |
| JPS6194906U (ja) * | 1984-11-29 | 1986-06-19 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3938384A (en) * | 1972-10-13 | 1976-02-17 | Tylan Corporation | Mass flow meter with reduced attitude sensitivity |
| US4519246A (en) * | 1981-12-21 | 1985-05-28 | Advanced Semiconductor Materials International, N.V. | Improved flow meter |
| US4487213A (en) * | 1982-09-09 | 1984-12-11 | Omicron Technology Corporation | Mass flow controller apparatus |
| JPS5988622A (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-22 | Ohkura Electric Co Ltd | 熱式質量流量計 |
| US4695034A (en) * | 1984-11-27 | 1987-09-22 | Stec Inc. | Fluid control device |
-
1988
- 1988-06-20 JP JP15267488A patent/JP2814379B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-06-15 US US07/366,618 patent/US4921005A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61128123A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-16 | Esutetsuku:Kk | 質量流量計 |
| JPS6194906U (ja) * | 1984-11-29 | 1986-06-19 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003052356A1 (en) * | 2001-12-19 | 2003-06-26 | Wook Hyun Kim | Mass flow measurment sensor for mass flow controller |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4921005A (en) | 1990-05-01 |
| JP2814379B2 (ja) | 1998-10-22 |
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