JPH01320625A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH01320625A JPH01320625A JP63155294A JP15529488A JPH01320625A JP H01320625 A JPH01320625 A JP H01320625A JP 63155294 A JP63155294 A JP 63155294A JP 15529488 A JP15529488 A JP 15529488A JP H01320625 A JPH01320625 A JP H01320625A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- film
- plasma polymerized
- layer
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体に関するものである。
気記録層とする磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術
近年の磁気記録密度向上の進歩は著しく、強磁性金属薄
膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実用化が待望され
ている。かかる磁気記録媒体の課題は、耐久性の確保と
耐食性の確保を、高密度記録性能を低下させる程度をい
かにして小さくして実現するかにあり、各方面で種々の
試みがなされている。
膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実用化が待望され
ている。かかる磁気記録媒体の課題は、耐久性の確保と
耐食性の確保を、高密度記録性能を低下させる程度をい
かにして小さくして実現するかにあり、各方面で種々の
試みがなされている。
中でも、強磁性金属薄膜自身の改良は、高密度記録性能
確保に必要な残留磁化量、保磁力の大きさに制約がある
ことから、バランスよく改善するのが容易でないことか
ら、表面酸化の利用〔特開昭５９−１１９５４２号公報
、特開昭６１−１５３８５６号公報〕磁性体の材料組成
を改良する〔特開昭６０−３５３２９号公報、特開昭５
７−１９６５０８号公報、特開昭６２−３４１９号公報
〕２層ないし３層構成により上層に耐食性の良好な材料
を配する方法〔特開昭６１−１３９９２０号公報、特開
昭５９−１１９５３１ 号公報、特開昭５９−１１９５
３４号公報〕等が検討され、かつ保護膜、潤滑剤との組
み合わせで更に補強すること〔特開昭６１−１９４８２
４号公報、特公昭５８−９４８９号公報、特開昭６１−
１３１２３１ 号公報〕での改善がはかられている。
確保に必要な残留磁化量、保磁力の大きさに制約がある
ことから、バランスよく改善するのが容易でないことか
ら、表面酸化の利用〔特開昭５９−１１９５４２号公報
、特開昭６１−１５３８５６号公報〕磁性体の材料組成
を改良する〔特開昭６０−３５３２９号公報、特開昭５
７−１９６５０８号公報、特開昭６２−３４１９号公報
〕２層ないし３層構成により上層に耐食性の良好な材料
を配する方法〔特開昭６１−１３９９２０号公報、特開
昭５９−１１９５３１ 号公報、特開昭５９−１１９５
３４号公報〕等が検討され、かつ保護膜、潤滑剤との組
み合わせで更に補強すること〔特開昭６１−１９４８２
４号公報、特公昭５８−９４８９号公報、特開昭６１−
１３１２３１ 号公報〕での改善がはかられている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、これまで提案されている構成では、耐食
性、耐久性を実用レベルに改善すると、短波長域でのＣ
／Ｎ が低下し、限定された条件での実用性しか得られ
ないといった課題があった。
性、耐久性を実用レベルに改善すると、短波長域でのＣ
／Ｎ が低下し、限定された条件での実用性しか得られ
ないといった課題があった。
本発明は一ト記した事情に鑑み、なされたもので、耐食
性、耐久性、 Ｃ／Ｎ の実用性をバランスよく改良
した磁気記録媒体を提供するものである。
性、耐久性、 Ｃ／Ｎ の実用性をバランスよく改良
した磁気記録媒体を提供するものである。
課題を解決するための手段
上記した課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体は
、高分子フィルム上に積層した強磁性金属薄膜に隣接し
てプラズマ重合膜を配するようにしたものである。
、高分子フィルム上に積層した強磁性金属薄膜に隣接し
てプラズマ重合膜を配するようにしたものである。
作 用
本発明の磁気記録媒体は、Ｌ記した構成により磁性層を
構成する柱状微粒子がプラズマ重合膜で被覆される度合
が大きくなることから、外部から影Ｉを与える腐食性ガ
スや水分の磁性層へのアタックを抑制できることから耐
食性が向Ｊ二し、ヘッドから受ける急しゅんな応力をプ
ラズマ重合被覆部かかんしよう剤として作用し、耐久性
を向トさせ、磁気分離が良好となることで雑音が改善さ
れＣ／Ｎ も改良されることになる。
構成する柱状微粒子がプラズマ重合膜で被覆される度合
が大きくなることから、外部から影Ｉを与える腐食性ガ
スや水分の磁性層へのアタックを抑制できることから耐
食性が向Ｊ二し、ヘッドから受ける急しゅんな応力をプ
ラズマ重合被覆部かかんしよう剤として作用し、耐久性
を向トさせ、磁気分離が良好となることで雑音が改善さ
れＣ／Ｎ も改良されることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について、説
明する１、図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の拡大
断面図である。図で１はポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート。
明する１、図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の拡大
断面図である。図で１はポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート。
ポリサルフォン、ポリフェニレンサルファイド。
ポリエーテルサルフォン ｇ リエーテルエーテルケト
ン、ポリアミド、ポリイミド等の高分子フィルムで、必
要に応じて、微粒子塗布層や、水溶性高分子の凹凸層な
どの下塗り層を配したものを用いてもよい。２は、プラ
ズマ重合膜で、これは模式的に層状構成で示したが、後
述する柱状微粒子の表面を被覆するように粒界に侵入し
ていることが推察されるものである。プラズマ重合膜ば
、適当なモノマーガス単独又はキャリアーガスとの混合
でガスを系外よりプラズマ中に導入しながら、目的とす
る重合物質を［１として形成することで得られるもので
、モノマーガスとしては、ＣＦ４゜ｃ２Ｆ４．ｃ２Ｈ２
Ｆ２．ＣＦ３Ｎ０等ノフッ等化フッ素化メチルアミン、
トリエチルアミン、ヘキサメチレンジアミン等の有洟ア
ミン化合物をはじめ、有機ケイ素化合物、有機不飽和化
合物等数多くの材料が用いられる。
ン、ポリアミド、ポリイミド等の高分子フィルムで、必
要に応じて、微粒子塗布層や、水溶性高分子の凹凸層な
どの下塗り層を配したものを用いてもよい。２は、プラ
ズマ重合膜で、これは模式的に層状構成で示したが、後
述する柱状微粒子の表面を被覆するように粒界に侵入し
ていることが推察されるものである。プラズマ重合膜ば
、適当なモノマーガス単独又はキャリアーガスとの混合
でガスを系外よりプラズマ中に導入しながら、目的とす
る重合物質を［１として形成することで得られるもので
、モノマーガスとしては、ＣＦ４゜ｃ２Ｆ４．ｃ２Ｈ２
Ｆ２．ＣＦ３Ｎ０等ノフッ等化フッ素化メチルアミン、
トリエチルアミン、ヘキサメチレンジアミン等の有洟ア
ミン化合物をはじめ、有機ケイ素化合物、有機不飽和化
合物等数多くの材料が用いられる。
３は磁性層Ａ、４は磁性層Ｂで、いずれも柱状微粒子で
粒界がはっきりみられないものは比較的耐食性も良好で
あることから、粒界がみられるものの方が本発明の実施
例の効果を明確に認識できる。３，４は高周波スパッタ
リング法、イオンブレーティング法、電子ビーム蒸着法
、電界蒸着法等で形成した薄膜で、３ばＮ ｆ −Ｆ
ｅ 、 Ｎ ｉ −Ｆ ｅ −Ｍ。
粒界がはっきりみられないものは比較的耐食性も良好で
あることから、粒界がみられるものの方が本発明の実施
例の効果を明確に認識できる。３，４は高周波スパッタ
リング法、イオンブレーティング法、電子ビーム蒸着法
、電界蒸着法等で形成した薄膜で、３ばＮ ｆ −Ｆ
ｅ 、 Ｎ ｉ −Ｆ ｅ −Ｍ。
等の軟磁性金属薄、漢、又はＣｏ−Ｃｒ 、Ｃｏ−Ｎｉ
。
。
Ｇｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ−Ｎ１−ｏ 等の強磁性金
属薄膜のいずれかで溝成し、４はＣｏ−０、Ｃｏ−Ｃｒ
。
属薄膜のいずれかで溝成し、４はＣｏ−０、Ｃｏ−Ｃｒ
。
Ｃｏ −Ｎ ｉ 、Ｃｏ −Ｔ ｉ 、Ｃｏ −Ｍｏ
、Ｃｏ−３ｍ 、Ｃｏ −Ｎｄ 。
、Ｃｏ−３ｍ 、Ｃｏ −Ｎｄ 。
Ｃｏ−Ｎｉ −０、Ｃｏ−Ｃｒ −Ｎｂ 、Ｃｏ−Ｎ１
−Ｐ等の強磁性金属薄膜で、面内、垂直いずれの磁化容
易軸をもったものでもよい。５は高級アルコール、脂肪
酸アミド、パーフルオロポリエーテル等の潤滑刑１−で
あり、スペーシング損失の面からプラズマ重合膜とあわ
せて実効的な模厚が１００人から２００人の範囲とする
のが好ましい。
−Ｐ等の強磁性金属薄膜で、面内、垂直いずれの磁化容
易軸をもったものでもよい。５は高級アルコール、脂肪
酸アミド、パーフルオロポリエーテル等の潤滑刑１−で
あり、スペーシング損失の面からプラズマ重合膜とあわ
せて実効的な模厚が１００人から２００人の範囲とする
のが好ましい。
以下、更に具体的に本発明の実施例について比較例との
対比で、説明する。厚み１重μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム」二に：直径１５０ＡのＴ ！ ０２
微粒子を１０ケ／（μｍ） 配してから、プラズマ重
合ｊ漠Ａを形成し、引き続き直径１ｍの円筒キャンに沿
わせて、最小入射角４６度でＣｏ −Ｎｉ（Ｃｏ：８６
ｗｔ％）を５ｘ１ｏ ”’ 〜５ｘ１ｏ ”（Ｔｏ
ｒｒ）の浚素雰囲気中にて、電子ビーム蒸着し０．０９
１ＩｍのＣｏ−Ｎ１−Ｑ層を磁性層Ａとして形成し、更
にプラズマ重合膜Ｂを形成し、更にＣｏ−Ｎ１（Ｃｏ：
８０ｗｔ％） を最小入射角３６度、８Ｘ１０”〜１
ｘ１ｏ （Ｔｏｒｒ）でｏ、ｏｓμｍ ｚ子ビーム
蒸着し、磁性層Ｂを形成し、そのトにプラズマ重合膜Ｃ
を形成し、疲陵に真空蒸着法で、パーフルオロステアリ
ン酸を６０人配し、８ミリ１品の磁気テープに仕上げた
。
対比で、説明する。厚み１重μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム」二に：直径１５０ＡのＴ ！ ０２
微粒子を１０ケ／（μｍ） 配してから、プラズマ重
合ｊ漠Ａを形成し、引き続き直径１ｍの円筒キャンに沿
わせて、最小入射角４６度でＣｏ −Ｎｉ（Ｃｏ：８６
ｗｔ％）を５ｘ１ｏ ”’ 〜５ｘ１ｏ ”（Ｔｏ
ｒｒ）の浚素雰囲気中にて、電子ビーム蒸着し０．０９
１ＩｍのＣｏ−Ｎ１−Ｑ層を磁性層Ａとして形成し、更
にプラズマ重合膜Ｂを形成し、更にＣｏ−Ｎ１（Ｃｏ：
８０ｗｔ％） を最小入射角３６度、８Ｘ１０”〜１
ｘ１ｏ （Ｔｏｒｒ）でｏ、ｏｓμｍ ｚ子ビーム
蒸着し、磁性層Ｂを形成し、そのトにプラズマ重合膜Ｃ
を形成し、疲陵に真空蒸着法で、パーフルオロステアリ
ン酸を６０人配し、８ミリ１品の磁気テープに仕上げた
。
プラズマ重合膜の形成は、２０ｋ１２の高周波を用い、
各１重のモノマーガスを導入し、０．０１ （Ｔｏｒｒ
）〜０．２ （Ｔｏｒ ｒ ）の範囲で２５０ （Ｗ
） 〜２２５０ （Ｗ）の範囲で条件設定して行−〕た
。テチーの評価は、初１１、Ｊｌ評価と、４２°Ｃ８２
％ＲＨ、ＳＣ２，３，５ｐ、ｐ、ｍの環境に４週間保存
した後の評価を行った。評価デツキは８ミリビデオでド
ロップアウトは３（μ５ｅｃ）。
各１重のモノマーガスを導入し、０．０１ （Ｔｏｒｒ
）〜０．２ （Ｔｏｒ ｒ ）の範囲で２５０ （Ｗ
） 〜２２５０ （Ｗ）の範囲で条件設定して行−〕た
。テチーの評価は、初１１、Ｊｌ評価と、４２°Ｃ８２
％ＲＨ、ＳＣ２，３，５ｐ、ｐ、ｍの環境に４週間保存
した後の評価を行った。評価デツキは８ミリビデオでド
ロップアウトは３（μ５ｅｃ）。
−１ｏ （ｄＢ ）の１分間当りの個数で、Ｃハは輝度
信号に関するもので、スチル耐久は、ノイズが画面で明
らかに目立つようになるまでの時間で示した。テープの
条件と評価結果について表に示した。
信号に関するもので、スチル耐久は、ノイズが画面で明
らかに目立つようになるまでの時間で示した。テープの
条件と評価結果について表に示した。
発明の効果
以上のように本発明によれば、耐食性、耐久性。
Ｃ／Ｎ のバランスのとれた高密度磁気記録媒体が得
られるといったすぐれた効果がある。
られるといったすぐれた効果がある。
図は本発明の実施例の磁気記録媒体の拡大断面図である
。 １・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・プラズマ
重合膜、３・・・・・磁性層Ａ、４・・・・・磁性層Ｂ
０代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名！
−高分子フイルム と−プラズマ望桑屓 ３−滋社ＪＡ ４Ｌ−一−り Ｂ
。 １・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・プラズマ
重合膜、３・・・・・磁性層Ａ、４・・・・・磁性層Ｂ
０代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名！
−高分子フイルム と−プラズマ望桑屓 ３−滋社ＪＡ ４Ｌ−一−り Ｂ
Claims (1)
- 高分子フィルム上に積層した磁性金属薄膜に隣接して、
プラズマ重合膜を配したことを特徴とする磁気記録媒体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63155294A JPH01320625A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63155294A JPH01320625A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01320625A true JPH01320625A (ja) | 1989-12-26 |
Family
ID=15602750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63155294A Pending JPH01320625A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01320625A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998029578A1 (fr) * | 1996-12-27 | 1998-07-09 | Tdk Corporation | Procede de formation de film par polymerisation au plasma et appareil de fabrication correspondant |
-
1988
- 1988-06-23 JP JP63155294A patent/JPH01320625A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998029578A1 (fr) * | 1996-12-27 | 1998-07-09 | Tdk Corporation | Procede de formation de film par polymerisation au plasma et appareil de fabrication correspondant |
| US5972435A (en) * | 1996-12-27 | 1999-10-26 | Tdk Corporation | Method for forming film by plasma polymerization and apparatus for forming film by plasma polymerization |
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