JPH0132358Y2 - - Google Patents

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JPH0132358Y2
JPH0132358Y2 JP1984171236U JP17123684U JPH0132358Y2 JP H0132358 Y2 JPH0132358 Y2 JP H0132358Y2 JP 1984171236 U JP1984171236 U JP 1984171236U JP 17123684 U JP17123684 U JP 17123684U JP H0132358 Y2 JPH0132358 Y2 JP H0132358Y2
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JP
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nozzle
processing liquid
tip
substrate
processing
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JP1984171236U
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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は、ウエハ等基板の処理に使用される回
転処理装置に関し、さらに詳しくは、チヤンバー
内にあつて基板を保持し回転させる回転体と、基
板の表面に処理液を供給するノズルと、ノズル先
端部の処理液の変質を防止する手段とを具備して
成る基板の回転処理装置に関する。
〈従来技術〉 ウエハやガラス基板等の薄板状の基板を高速回
転させながら、基板表面にフオトレジストや現像
液等を供給する技術が周知である。
しかるに、処理液供給用ノズルの先端部が大気
にさらされているため、ノズル先端部の処理液は
溶剤の揮発や酸化等によつて変質するとともに、
粘度の変化を伴ない、処理液の供給を均一にする
ことができない等の不都合を生じていた。
かかる不都合を解消するものとして、ノズル先
端部の処理液の変質を防止する手段を具備した回
転処理装置が特開昭57−135066号公報あるいは特
開昭57−173839号公報に開示されている。
即ち、前者は、ノズルにキヤツプを設け、その
キヤツプ内を処理液の溶剤蒸気で満たしたもので
あり、後者は、ノズル先端部に揮発分の溶剤蒸気
を補給する別体のノズルを配設したものである。
そして両者はいずれも処理液の溶剤揮発分を補
うための溶剤を別途準備しておく構造を有するも
のである。
〈考案が解決しようとする問題点〉 上記従来技術においては、ノズル先端部の処理
液中の溶剤揮発分を補給するために溶剤を別途準
備しなければならず、 イ 余分の溶剤を消費することとなるから不経済
であること、 ロ 当該回転処理装置を比較的長期に亘つて連続
的に稼動する場合、別途準備した溶剤の補充を
失念したとき、ノズル先端部の処理液の変質を
防止することができないこと、 ハ また、上記(ロ)のように万一ノズル先端部の処
理液が変質してしまつたとき、その変質した処
理液部分を放出流下させると、それが回転体の
上面に付着し、基板を載置する際の障害となり
引き続き基板の処理をすることができない等の
難点があつた。
本考案はこのような事情に鑑みてなされたもの
で、その目的は余分の溶剤を別途準備する必要が
なく経済的で、溶剤の補充をしなくても長期に亘
つて連続的に安定して稼動することができ、か
つ、万一ノズル先端部の変質を生じた処理部分を
放出しても障害を生ずることがないように、ノズ
ル先端部の処理液の変質を防止するように構成し
た基板の回転処理装置を提供することである。
〈問題点を解決するための手段〉 本考案は上記目的を達成するために冒述の〈産
業上の利用分野〉の項に記載した基板の回転処理
装置において、ノズル先端部の処理液の変質を防
止する手段が、チヤンバーの下方に設けられチヤ
ンバーの排液管より流下する処理液を回収する処
理液回収箱と、この処理液回収箱に連通しノズル
退行位置でノズル先端部に対向すべく配置された
ノズル受けと、処理液供給位置とノズル退行位置
との間でノズルを移動するノズル移動手段とによ
つて構成されたことを特徴とするものである。
〈作用〉 基板表面に供給された処理液は余剰液又は使用
済みの廃液となつて、チヤンバーの排液管より流
下した処理液回収箱に回収される。
この処理液回収箱に回収された処理液の溶剤が
揮発して、処理液回収箱内及びこの処理液回収箱
に連通するノズル受け内は当該溶剤蒸気によつて
飽和状態となる。
基板に処理液を供給しないとき、ノズルはノズ
ル移動手段によつて退行位置に稼動され、ノズル
先端部は上記ノズル受けに対向して配置され、ノ
ズル受け内に満たれた溶剤蒸気が、このノズル先
端部に供給されることとなり、ノズル先端部の処
理液の変質を防止することができる。
また、万一ノズル先端部の処理液の変質が懸念
される場合には、当該ノズル先端部の処理液部分
をあらかじめ放出させて、前記ノズル受けを介し
て流下させ、処理液回収箱に回収させることによ
り、ノズル先端部の変質した処理液部分を廃棄す
ることができる。
〈実施例〉 以下、本考案に係る基板の回転処理装置の実施
例を図面に基づいて説明する。
図面は、本考案の実施例を示す縦断側面図で、
符号1は処理液を供給するノズル、2は基板、3
は基板1を載置し吸着保持し回転させる回転体、
4は回転体3を回転駆動する回転手段、5は回転
体3を包囲するように設けられたチヤンバー、6
はチヤンバー5内の空気を強制的に排気するため
の排気管、7はチヤンバー5の底面に設けられ、
使用済みの処理液を流下させる排液管である。
以下、本考案に係る回転処理置の特徴的構造に
ついて説明する。
チヤンバー5の下方に処理液回収箱8を設け、
この処理液回収箱8内に回収容器9を取出し可能
に設け、上記チヤンバー5の排液管7より流下す
る余剰液又は使用済みの廃液10をこの回収容器
9に回収するように構成されている。
ノズル1はノズル移動手段、例えばエアーシリ
ンダ11のロツド12に連結され、基板1に処理
液を供給する処理液供給位置Aと処理液を供給し
ない退行位置Bとの間で往復移動することができ
るように構成されている。
ノズル1の退行位置Bの下方に、ノズル先端部
1aに対向するようにノズル受け13が設けら
れ、このノズル受け13は、前記処理液回収箱8
と連通連結され、回収された処理液10の溶剤蒸
気が処理液回収箱8及びノズル受け13を満た
し、この溶剤蒸気がノズル先端部1aに供給され
ることによつてノズル先端部1aの処理液の変質
を防止するように構成されている。
なお、ノズル1とノズル受け13とはできるだ
け密接させて、空気がノズル先端部1aの処理液
に触れにくくする構造とするのが好ましく、ま
た、処理液回収箱8内の溶剤蒸気が排気管6を経
て強制排気されることがないように、チヤンバー
5の排液管7と処理液回収箱8とは密接させない
構造とすることが好ましい。
本考案は、フオトレジスト液を塗布する回転塗
布装置に限るものではなく、本考案の目的に沿う
ものであるならば回転現像装置等にも適用するこ
とができる。
〈考案の効果〉 本考案によれば、前記のように構成され作用す
るから次のような優れた効果を奏する。
イ 処理液回収箱内に回収した余剰液又は使用済
みの処理液を利用するように構成したものであ
り、余分の溶剤を消費しなくてもよいからラン
ニングコストの低減を図ることができ経済的で
ある。
ロ 比較的長期に亘つて連続的に回転処理装置を
稼動する場合でも、順次使用済みの処理液が処
理液回収箱内に供給されるから、溶剤の補充を
失念する等の不安も解消され、ノズル先端部の
処理液の変質を防止し、極めて安定した状態に
維持することができる。
ハ 空中に晒される時間が長くなり、万一ノズル
先端部の処理液が変質しても、その処理液部分
を放出流下させノズル受けを介して処理液回収
箱に回収することができるから、従来のよう
に、放出した処理液部分が回転体に付着したり
基板を載置する際の障害となることもなく、引
き続き基板の処理をすることができる。
【図面の簡単な説明】
図面は、本考案による基板の回収処理装置の縦
断側面図である。 1……ノズル、1a……ノズル先端部、2……
基板、3……回転体、4……回転手段、5……チ
ヤンバー、6……排気管、7……排液管、8……
処理液回収箱、9……回収容器、10……回収さ
れた処理液、11……エアーシリンダ、12……
ロツド、13……ノズル受け、A……処理液供給
位置、B……退行位置。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 チヤンバー内にあつて基板を保持し回転させ
    る回転体と、基板の表面に処理液を供給するノ
    ズルと、ノズル先端部の処理液の変質を防止す
    る手段とを具備して成る基板の回転処理装置に
    おいて、 ノズル先端部の処理液の変質を防止する手段
    が、チヤンバーの下方に設けられチヤンバーの
    排液管より流下する処理液を回収する処理液回
    収箱と、この処理液回収箱に連通しノズル退行
    位置でノズル先端部に対向すべく配置されたノ
    ズル受けと、処理液供給位置とノズル退行位置
    との間でノズルを移動するノズル移動手段とに
    よつて構成されたことを特徴とする基板の回転
    処理装置。 2 処理液がフオトレジスト液である実用新案登
    録請求の範囲第1項に記載した基板の回転処理
    装置。
JP1984171236U 1984-11-12 1984-11-12 Expired JPH0132358Y2 (ja)

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JP1984171236U JPH0132358Y2 (ja) 1984-11-12 1984-11-12

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Publication Number Publication Date
JPS6186930U JPS6186930U (ja) 1986-06-07
JPH0132358Y2 true JPH0132358Y2 (ja) 1989-10-03

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JP2815064B2 (ja) * 1988-05-27 1998-10-27 東京エレクトロン 株式会社 半導体ウエハに液を塗布する塗布装置及び塗布方法
JP2604010B2 (ja) * 1988-07-13 1997-04-23 株式会社日立製作所 塗布装置

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Also Published As

Publication number Publication date
JPS6186930U (ja) 1986-06-07

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