JPH0133184Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0133184Y2 JPH0133184Y2 JP1984093120U JP9312084U JPH0133184Y2 JP H0133184 Y2 JPH0133184 Y2 JP H0133184Y2 JP 1984093120 U JP1984093120 U JP 1984093120U JP 9312084 U JP9312084 U JP 9312084U JP H0133184 Y2 JPH0133184 Y2 JP H0133184Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coated
- coating
- auxiliary plate
- rotation
- fluid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Coating Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、回転に依り被塗布体への流動性塗布
体の塗布を均一にする回転塗布装置に関する。
体の塗布を均一にする回転塗布装置に関する。
回転に依り塗布を均一にする装置は既に公知で
ある。然しこの装置に依る塗布では、被塗布体の
縁辺より粒飛した流動塗布体が回転依り遅れ、次
の被塗布体の突端部に捕えられて再付着しその部
分の膜厚が厚くなつていた。
ある。然しこの装置に依る塗布では、被塗布体の
縁辺より粒飛した流動塗布体が回転依り遅れ、次
の被塗布体の突端部に捕えられて再付着しその部
分の膜厚が厚くなつていた。
そこで上記の現象を抑える特許として特公昭53
−37708が有つた。
−37708が有つた。
然し上記特許の欠点として、塗布終了後の被塗
布体の取り出しが困難である事と、補助板と被塗
布体との間隙の許容誤差範囲が小さいというもの
があつた。
布体の取り出しが困難である事と、補助板と被塗
布体との間隙の許容誤差範囲が小さいというもの
があつた。
被塗布体の四囲より三角柱の補助板で被塗布体
を囲むよう補助板を塗布台に設ける。
を囲むよう補助板を塗布台に設ける。
〔作用〕
流動性塗布体の縁辺の盛り上りが補助板に発生
して被塗布体には発生しない。
して被塗布体には発生しない。
本考案の実施例の一つを図を用いて詳細に説明
する。
する。
第２図は、本考案に係る回転塗布装置の一実施
例の平面図であり、第３図は、第２図のＡ−Ａ線
に於ける断面図であり、第１図は、第２図の使用
状態の平面図であり、第４図は、第１図のＢ−Ｂ
線に於ける断面図である。
例の平面図であり、第３図は、第２図のＡ−Ａ線
に於ける断面図であり、第１図は、第２図の使用
状態の平面図であり、第４図は、第１図のＢ−Ｂ
線に於ける断面図である。
本考案に於ける回転塗布装置は、塗布台２、補
助板１、駆動棒３依りなる。また、使用状態に於
いては補助板１と塗布台２に依り被塗布体１１を
支持している。
助板１、駆動棒３依りなる。また、使用状態に於
いては補助板１と塗布台２に依り被塗布体１１を
支持している。
被塗布体１１は方形とする。前記被塗布体１１
の四囲には上面が三角形である三角柱形の補助板
１がある。被塗布体１１と接しない補助板１の角
が直角をなし、四つの三角柱の被塗布体１１と接
しない柱側が塗布台２の側面と同一平面上にあ
り、かつ塗布台２のなす方形の辺の一部をわずか
被塗体１１の四隅が突き出す形状をしている。補
助板１の回転進行方向の角は15゜〜45゜の角度をな
している。補助板１と被塗布体１１の間隙は、０
乃至0.5mmである。被塗布体１１と補助板１の高
低差については、±0.5mm以内である。
の四囲には上面が三角形である三角柱形の補助板
１がある。被塗布体１１と接しない補助板１の角
が直角をなし、四つの三角柱の被塗布体１１と接
しない柱側が塗布台２の側面と同一平面上にあ
り、かつ塗布台２のなす方形の辺の一部をわずか
被塗体１１の四隅が突き出す形状をしている。補
助板１の回転進行方向の角は15゜〜45゜の角度をな
している。補助板１と被塗布体１１の間隙は、０
乃至0.5mmである。被塗布体１１と補助板１の高
低差については、±0.5mm以内である。
塗布台２は方形をなし、補助板１と駆動棒３と
は接合している。
は接合している。
駆動棒３は回転塗布装置を支持し、かつ回転を
駆動している。
駆動している。
使用状態では回転塗布装置と共に被塗布体１１
が回転方向２１に沿つて回転する。
が回転方向２１に沿つて回転する。
回転塗布装置の材質としては、少なくとも回転
で変形しない剛体である事が全ての部材について
必要である。
で変形しない剛体である事が全ての部材について
必要である。
流動性塗布体の盛り上りが補助板上に表われる
為、被塗布体上の流動性塗布体の膜厚一定性を落
とさずに寸法誤差の許容範囲を広くし、かつ塗布
後の被塗布体の取り出しを容易にできる。
為、被塗布体上の流動性塗布体の膜厚一定性を落
とさずに寸法誤差の許容範囲を広くし、かつ塗布
後の被塗布体の取り出しを容易にできる。
また、今迄何らかの補助板を設けても四囲が全
て囲まれていた為に容易に塗布後被塗布体を取り
出す事が出来ず、吸引等の手段が取り出しに必要
であつた。
て囲まれていた為に容易に塗布後被塗布体を取り
出す事が出来ず、吸引等の手段が取り出しに必要
であつた。
そこで本考案は、塗布台２より被塗布体１１が
四囲に突き出している為、塗布台２より突出して
いる被塗布体１１の隅をつまみ上げれば、容易に
取り出す事が出来る。
四囲に突き出している為、塗布台２より突出して
いる被塗布体１１の隅をつまみ上げれば、容易に
取り出す事が出来る。
また、本考案による膜厚への影響を見る為に流
動性塗布体としてフオトレジストである西独ヘス
スト社の製品名AZ1350を用いて2000rpmにて塗
布した後、被塗布体上の塗布面に於ける回転半径
に応じた位置の流動性塗布体の膜厚をエリプソメ
ーターによ測定した結果を表わした分布図を第５
図に示す。
動性塗布体としてフオトレジストである西独ヘス
スト社の製品名AZ1350を用いて2000rpmにて塗
布した後、被塗布体上の塗布面に於ける回転半径
に応じた位置の流動性塗布体の膜厚をエリプソメ
ーターによ測定した結果を表わした分布図を第５
図に示す。
但し、Ａは従来の回転塗布装置を用いて塗布し
たときの流動性塗布体の膜厚の分布曲線を、Ｂは
本考案に係る回転塗布装置を用いたときの流動性
塗布体の膜厚分布曲線を表わす。
たときの流動性塗布体の膜厚の分布曲線を、Ｂは
本考案に係る回転塗布装置を用いたときの流動性
塗布体の膜厚分布曲線を表わす。
第５図に示される様、従来の補助板のない回転
塗布装置で塗布した場合と比し、本考案に係る回
転塗布装置で塗布の場合、膜厚を一定化しうる効
果が存し実用しうる。
塗布装置で塗布した場合と比し、本考案に係る回
転塗布装置で塗布の場合、膜厚を一定化しうる効
果が存し実用しうる。
第２図は、本考案に係る回転塗布装置の一実施
例の平面図であり、第３図は第２図のＡ−Ａ線に
於ける断面図であり、第１図は、第２図の使用状
態の平面図であり、第４図は、第１図のＢ−Ｂ線
に於ける断面図であり、第５図は、横軸が半径、
縦軸が流動性塗布体厚を示す膜厚のグラフであ
る。 １：補助板、２：塗布台、３：駆動棒、１１：
被塗布体、２１：回転方向、Ａ：補助板がない回
転塗布装置に依る塗布曲線、Ｂ：本考案に係る回
転塗布装置に依る塗布曲線。
例の平面図であり、第３図は第２図のＡ−Ａ線に
於ける断面図であり、第１図は、第２図の使用状
態の平面図であり、第４図は、第１図のＢ−Ｂ線
に於ける断面図であり、第５図は、横軸が半径、
縦軸が流動性塗布体厚を示す膜厚のグラフであ
る。 １：補助板、２：塗布台、３：駆動棒、１１：
被塗布体、２１：回転方向、Ａ：補助板がない回
転塗布装置に依る塗布曲線、Ｂ：本考案に係る回
転塗布装置に依る塗布曲線。
Claims (1)
- 方形の被塗布体１１の四囲に前記被塗布体１１
と高低差±0.5mm以内で回転進行方向２１の角が
15乃至45度の角度を持ち前記被塗布体１１との間
隔が0.5mm以内である四つの三角柱よりなる補助
基板１を、方形の被塗布台２上の四隅に各々離間
して有することを特徴とする回転塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9312084U JPS618481U (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 回転塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9312084U JPS618481U (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 回転塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS618481U JPS618481U (ja) | 1986-01-18 |
| JPH0133184Y2 true JPH0133184Y2 (ja) | 1989-10-09 |
Family
ID=30650510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9312084U Granted JPS618481U (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 回転塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS618481U (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS591386B2 (ja) * | 1980-10-02 | 1984-01-11 | 富士通株式会社 | 回転塗布装置 |
-
1984
- 1984-06-21 JP JP9312084U patent/JPS618481U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS618481U (ja) | 1986-01-18 |
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