JPH0134234B2 - - Google Patents

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JPH0134234B2
JPH0134234B2 JP56160780A JP16078081A JPH0134234B2 JP H0134234 B2 JPH0134234 B2 JP H0134234B2 JP 56160780 A JP56160780 A JP 56160780A JP 16078081 A JP16078081 A JP 16078081A JP H0134234 B2 JPH0134234 B2 JP H0134234B2
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Japan
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JP56160780A
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JPS5862191A (ja
Inventor
Sada Myasaka
Hiromichi Tanaka
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Yamasa Shoyu KK
Original Assignee
Yamasa Shoyu KK
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Saccharide Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な6―置換ウリジン誘導体およ
びその製造法に関するものである。 本発明の6―置換ウリジン誘導体は次の一般式
〔〕で表わされる。 該式中、R1,R2は低級アルキル基、アリール
基またはアルキレン基を示す。低級アルキル基と
してはさらに具体的には炭素数1〜4のもの、メ
チル、エチル、プロピル、ブチルなどが挙げられ
る。アリール基としてはフエニル、ナフチルなら
びにこれらの任意の置換基(たとえばメチル、エ
チルなどの低級アルキル基、塩素、ヨウ素、臭素
などのハロゲン、メトキシル、エトキシルなどの
アルコキシル基、アミノ基、ニトロ基、水酸基な
ど)を一以上有するものが例示される。また、
R1およびR2がアルキレン基である場合は、6位
置換基は
【式】で表わされ、具体的には n=5〜8のアルキレンが例示できる。R3,R4
R5は水素または保護基を示す。その保護基の種
類には特に限定はないが、たとえばR3とR4とし
てはイソプロピリデン、エチリデンなどのアルキ
リデン基、メトキシメチレン、エトキシメチレ
ン、エトキシエチレンなどのアルコキシアルキリ
デン基、R5としてはメトキシメチル、エトキシ
エチルなどのアルコキシアルキル基、ベンジル、
p―メチルベンジル、トリチルなどのアルアルキ
ル基などが挙げられる。 6―置換ピリミジンヌクレオシドは、その合成
が困難である理由もあつて、5―置換ピリミジン
ヌクレオシドに比べて合成例が少ないが、本発明
化合物は、公知の6―メチルウリジンおよび6―
メチルシチジンと同様に抗ウイルス活性を有し、
抗ウイルス剤として有用である。また、チミジ
ン、オロチン酸等のピリジン系核酸関連物質代謝
に関与しているたとえばチミジンキナーゼなどの
種々の酵素についてその酵素的性質を研究する上
での基質としてなど生化学研究用試薬として有用
である。 本発明化合物は、一般式〔〕 〔式中、R3′,R4′保護基、R5′はリチウムまた
は保護基を示す。〕で表わされるN1,6―ジ―も
しくはN1,6,5′―トリ―リチオウリジンに一
般式〔〕 〔式中、R1,R2は低級アルキル基、アリール
基またはアルキレン基を示す。〕で表わされるケ
トンを反応させ、必要に応じて脱保護処理する方
法により製造することができる。 原料化合物であるN1,6―ジ―もしくはN1
6,5′―トリ―リチオウリジン(前記一般式
〔〕)は公知の方法により調製することができる
(昭和56年3月10日、社団法人日本薬学会発行、
日本薬学会第101年会講演要旨集、第394頁、およ
びH.Tanaka etal:Tetrahedron Lett.,4755
(1979)参照)。該一般式〔〕中のR3′,R4′,
R5′の保護基の種類は、前記一般式〔〕におけ
るR3,R4,R5の保護基の種類と対応する。R5′が
保護基であるものの方が溶解性の改善により原料
調製工程におけるリチウム化反応をはじめ以後の
反応を均一に進行させることができるので、予め
5′位水酸基を保護したものを原料として反応に
供し、目的物の取得にあたつて酸処理により一挙
に脱保護する方法がより有利である。 反応試薬のケトンは前記一般式〔〕で表わさ
れ、該式中のR1およびR2は目的化合物(一般式
〔〕)のものに対応して選択する。 反応は、通常、無水条件および−78〜0℃の低
温条件下、反応溶媒中で行われる。反応溶媒に
は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒を用
いることができる。 脱保護反応は常法により実施することができ、
たとえば、前記例示保護基の場合は、トリフルオ
ロ酢酸、過塩素酸、希硫酸、希塩酸などの酸によ
る酸処理が適用される。 目的化合物の単離精製は常法を適宜に採用して
行えばよく、たとえば吸着カラムクロマトグラフ
イー、再結晶などの精製手段によつて実施する。 以下、本発明化合物の一実施態様を示す実施例
を挙げて、本発明のより具体的な説明する。 実施例 1 2′,3′――イソプロピリデン―5′――メト
キシメチルウリジン691mgのテトラヒドロフラン
10ml溶液をリチウムジイソプロピルアミド
5.25mmoleのテトラヒドロフラン10ml溶液に窒素
ガス陽圧下、−70℃以下に保ちながら滴下し、1
時間攪拌した(N1,6―ジリチオ体の調製)。 この反応液に、ベンゾフエノン765mgのテトラ
ヒドロフラン5ml溶液を−70℃以下に保ちながら
滴下し、3時間反応させた。反応液に酢酸を加え
て室温に戻し、減圧下乾固し、残渣をエタノール
に溶解させ、適量のシリカゲルを加えて減圧乾固
し、シリカゲルカラムに負荷し、0.5%エタノー
ル―クロロホルムで溶出し、溶出液を減圧乾固し
て6―ジフエニルヒドロキシメチル―2′,3′―
―イソプロピリデン―5′――メトキシメチルウ
リジン798mgを得た(収率74.4%)。 質量分析スペクトル(m/z) 510(M+)495(M―15)294(B+1) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm 3.64〜3.91(2H,m,CH2―5′) 4.16〜4.30(1H,m,H―4′) 4.50〜4.87(4H,m,H―2′,H―3′CH2
OCH3) 4.97(1H,d,J=2.4Hz,H―5) 6.41(1H,d,H―1′) 7.10〜7.38(10H,m,2Ph) 9.30(1H,br,NH) 実施例 2 2′,3′――イソプロピリデン―5′――メト
キシメチルウリジン764mgのテトラヒドロフラン
10ml溶液、リチウムジイソプロピルアミド
5.82mmoleのテトラヒドロフラン10ml溶液、およ
びアセトン0.34mlを用いて実施例1と同様にして
反応させ、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
(溶出液:3%エタノール―クロロホルム)で精
製して6―ジメチルヒドロキシメチル―2′,3′―
O―イソプロピリデン―5′―メトキシメチルウリ
ジン279mgを得た(収率31.0%)。 質量分析スペクトル(m/z) 387(M+1)、371(M−15)、171(B+2) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm 1.59(3H,s,C(OH)Me2 ) 1.62(3H,s,C(OH)Me2 ) 3.80〜3.95(2H,m,CH2−5′) 4.20〜4.42(1H,m,H―4′) 4.79(1H,dd,H―3′) 5.15(1H,dd,J=1.5Hz,5.4Hz,H―2′) 5.61(1H,d,J=2.0Hz,H―5) 7.07(1H,d,J=1.5Hz,H―1′) 9.43(1H,br,NH) 実施例 3 2′,3′――イソプロピリデン―5′――メト
キシメチルウリジン598mgのテトラヒドロフラン
10ml溶液、リチウムジイソプロピルアミド
4.55mmoleのテトラヒドロフラン10ml溶液、およ
びシクロヘキサノン0.38mlを用いて実施例1と同
様にして反応させ(反応時間は3.5時間)、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー(溶出液:1.5%
エタノール―クロロホルム)で精製して6―(シ
クロヘキサノール―1―イル)―2′,3′――イ
ソプロピリデン―5′――メトキシメチルウリジ
ン236mgを得た(収率30.4%)。 質量分析スペクトル(m/z) 427(M+1)、411(M−15)、210(B+1) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm 1.0〜2.2(10H,m,―(CH25―) 3.80〜3.94(2H,m,CH2―5′) 4.25〜4.38(1H,m,H―4′) 4.78(1H,t,H―3′) 5.14(1H,dd,J=1.5Hz,6.8Hz,H―2′) 5.58(1H,d,J=1.5Hz,H―5) 7.11(1H,d,J=1.5Hz,H―1′) 9.16(1H,br,NH)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式〔〕 〔式中、R1,R2は低級アルキル基、フエニル
    基、または【式】(ただし、nは5〜 8)で表わされるアルキレン基を示し、R3,R4
    R5は水素または保護基を示す。〕で表わされる6
    ―置換ウリジン誘導体。 2 一般式〔〕 〔式中、R3′,R4′は保護基、R5′はリチウムま
    たは保護基を示す。〕で表わされるN1,6―ジ―
    もしくはN1,6,5′―トリ―リチオウリジンに
    一般式〔〕 〔式中、R1,R2は低級アルキル基、フエニル
    基、または【式】(ただし、nは5〜 8)で表わされるアルキレン基を示す。〕で表わ
    されるケトンを反応させ、必要に応じて脱保護処
    理して一般式〔1〕 〔式中、R1,R2は前記と同意義、R3,R4,R5
    は水素または保護基を示す。〕で表される6―置
    換ウリジン誘導体を得ることを特徴とする6―置
    換ウリジン誘導体の製造法。
JP56160780A 1981-10-07 1981-10-07 6−置換ウリジン誘導体およびその製造法 Granted JPS5862191A (ja)

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JPS5862191A JPS5862191A (ja) 1983-04-13
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JPS4955675A (ja) * 1972-09-30 1974-05-30

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JPS5862191A (ja) 1983-04-13

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