JPH0134237B2 - - Google Patents
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- JPH0134237B2 JPH0134237B2 JP56140041A JP14004181A JPH0134237B2 JP H0134237 B2 JPH0134237 B2 JP H0134237B2 JP 56140041 A JP56140041 A JP 56140041A JP 14004181 A JP14004181 A JP 14004181A JP H0134237 B2 JPH0134237 B2 JP H0134237B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規化合物群、７―オキソピリド
〔２，１―ｉ〕プリンリボヌクレオシド誘導体お
よびその合成法に関するものである。 本発明化合物の７―オキソピリド〔２，１―
ｉ〕プリンリボヌクレオシド誘導体は一般式
〔〕 で表わされるものである。一般式〔〕中のR1
は水素、低級アルキル基（たとえば、メチル、エ
チル、プロピルなど）アリール基（たとえばフエ
ニルなど）、アシル基（たとえば、アセチル基な
ど）アロイルアミノ基（たとえば、ベンズアミノ
基など）を示す。また、R2，R3およびR4は、水
素または保護基を示す。保護基としては一般のヌ
クレオシド化学において使用されているものが任
意に適用され、具体的にはアセチル、ベンゾイル
などのアシル基、イソプロピリデン、エチリデン
などのアルキリデン基、トリチル、ベンジルなど
のアルアルキル基が例示される。 本発明化合物は、末梢血管拡張作用、抗アレル
ギー作用、抗腫瘍作用などの生理活性を有する３
―アミノ―２―（９―β―Ｄ―リボフラノシルプ
リン―６―イル）―アクリロニトリルの新規誘導
体であり、優れた末梢血管拡張作用、抗アレルギ
ー作用、抗腫瘍作用などを有し、生化学研究用試
薬として有用であるばかりでなく、医薬としての
開発も期待されるものである。また、強い紫外線
吸収性および発蛍光性を有することから、紫外線
吸収剤もしくは発蛍光物質としての有用性も期待
される。 本発明化合物の製造は、一般式〔〕 で表わされる３―置換アミノ―２―（９―β―Ｄ
―リボフラノシルプリン―６―イル）―アクリロ
ニトリルと酸無水物またはラクトンを加熱反応さ
せ、次いで必要に応じて脱保護する方法によれば
よい。 原料化合物の一般式〔〕中のR2，R3，R4は
前記一般式〔〕の場合と同意義の水素または保
護基を示す。R5は置換アミノ基であり、たとえ
ば任意の置換基を有することあるアルキルアミノ
基（たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、プ
ロピルアミノ、ブチルアミノなど）、ジアルキル
アミノ基（たとえばジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジプロピルアミノなど）、アルアルキルア
ミノ基（たとえば、ベンジルアミノ、フエネチル
アミノなど）、アリルアミノ基（たとえばフエニ
ルアミノなど）、ピロリジノ基、ピペリジノ基ま
たはモルホリノ基などが適用できる。任意の置換
基としては、ヒドロキシル基、ハロゲノ基、アル
キル基、アルコキシル基、ニトロ基などが挙げら
れる。 反応試薬の酸無水物またはラクトンとしては、
カニボニルオキシ基に隣接して求核性のカルバニ
オンを有するものを目的化合物に応じて選択して
用いられる。酸無水物の具体例としては、無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、
無水フエニル酢酸などが挙げられ、またラクトン
としてはジケテン、フエニルアズラクトンなどが
例示される。 反応は、加熱条件下、無溶媒もしくは溶媒中で
行なわれる。反応溶媒の種類には特に限定はない
が、たとえば、ベンゼン、クロルベンゼン、トリ
エン、キシレンなどの炭化水素をはじめ、ピリジ
ン、ジメチルホルムアミドなどが用いられる。 かくして目的物を合成することができるが、脱
保護を行う場合には、目的物が酸およびアルカリ
条件下で不安定であるため、緩和な条件を設定す
る必要がある。したがつて、目的物として無保護
のものを製造する場合には、緩和な条件で脱保護
が可能な保護基を有する原料化合物を選択する。
たとえば、保護基としてアセチル基を用いて、ジ
―ｎ―ブチルチンオキシドで脱保護する方法を採
用すれば目的を達成することができる。 目的化合物の反応液からの単離は常法によれば
よく、たとえば、吸着クロマトグラフイー、分
配、再結晶などの公知の分離手段を適宜に選択、
応用して実施する。 次に本発明方法の原料化合物の調製例を示す参
考例、ならびに本発明化合物およびその製造法を
例示する実施例を挙げて本発明のより具体的な説
明とする。 参考例 ３―（Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノ）―２―（９―
β―Ｄ―リボフラノシルプリン―６―イル）―ア
クリロニトリル100mgを無水酢酸10mlに懸濁させ、
ピリジンを0.5mlに加えた後、80℃で１時間攪拌
反応させた。減圧下無水酢酸を留去した後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製
し、４％メタノール―クロロホルム流分より３―
（Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノ）―２―（2′，3′，5′―
トリ―Ｏ―アセチル―９―β―Ｄ―リボフラノシ
ルプリン―６―イル）―アクリロニトリル（以下
「化合物Ａ」と称す）136mg（収率99％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δ 2.10（6H，ｓ，OAc×２） 2.14（3H，ｓ，OAc） 3.38（6H，ｓ，ジメチルアミノ） 4.40（3H，ｍ，C4′，C5′―Ｈ） 5.67（1H，ｍ，C3′―Ｈ） 5.92（1H，ｍ，C2′―Ｈ） 6.22（1H，ｄ，5.0Hz，C1′―Ｈ） 8.05（1H，ｓ，C8―Ｈ） 8.69（1H，ｓ，C2―Ｈ） 9.10（1H，ｓ，ビニル―Ｈ） 実施例 １ 化合物A866mgを無水酢酸20ml中に加え、27時
間還流反応させた。反応終了後、無水酢酸を減圧
下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイーに付し、0.5％メタノール―クロロホルム
流分より７―オキソ―10―シアノ―３―（２，
３，５―トリ―Ｏ―アセチル―β―Ｄ―リボフラ
ノシル）―ピリド〔２，１―ｉ〕プリン（化合物
〔〕）573mg（収率66.3％）を得た。エタノール
―塩化メチレンより再結晶して分析に供した。 融点 174〜175℃ 元素分析 C21H19N5O8として 計算値（％）：Ｃ，53.73；Ｈ，4.08； Ｎ，14.92 実測値（％）：Ｃ，53.72；Ｈ，3.95； Ｎ，15.32 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 256（7750）、272（6650） 281（6650）、343（10500） 383（15000）、402（14700） 化合物〔）86mgとジ―ｎ―ブチルチンオキシ
ド91mgをメタノール10mlに加え、５時間煮沸還流
させた。反応終了後、シリカゲル600mgを加えて
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーにより精製し、５％メタノール―
クロロホルム流分より７―オキソ―10―シアノ―
３―β―Ｄ―リボフラノシルピリド〔２，１―
ｉ〕プリン28mg（収率44.5％）を得た。メタノー
ル―塩化メチレンより再結晶して分析に供した。 融点 201〜203℃ 元素分析 C15H13N5O5として 計算値（％）：Ｃ，52.48；Ｈ，3.82； Ｎ，20.40 実測値（％）：Ｃ，52.49；Ｈ，3.75； Ｎ，20.14 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 256（8000）、272（7100） 281（6800）、341（11000） 382（16200）、401（16500） 実施例 ２ 化合物A207mgを無水プロピオン酸２ml中に加
え、120〜140℃で22時間加熱反応させた。反応終
了後、クロロホルム50mlを加え、５％炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄し（50ml×３）、クロロホ
ルム層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、溶
媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーに付し、0.5％メタノール―クロ
ロホルム流分より７―オキソ―８―メチル―10―
シアノ―３―（２，３，５―トリ―Ｏ―アセチル
―β―Ｄ―リボフラノシル）―ピリド〔２，１―
ｉ〕プリン（化合物〔２〕）141mg（収率66.3％）
を得た。エタノール―塩化メチレンより再結晶し
て分析に供した。 融点 211〜212℃ 元素分析 C22H21N5O8として 計算値（％）：Ｃ，54.66；Ｈ，4.38； Ｎ，14.49 実測値（％）：Ｃ，54.27；Ｈ，4.25； Ｎ，14.79 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 256（8200）、278（5700） 287（6100）、347（12600） 389（13500）、408（11300） 化合物〔２〕60mgおよびジ―ｎ―ブチルチンオ
キシド62mgをメタノール10ml中に加え、５時間煮
沸還流させた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、５％メタ
ノール―クロロホルム流分より７―オキソ―８―
メチル―10―シアノ―３―β―Ｄ―リボフラノシ
ルピリド〔２，１―ｉ〕プリン26mg（収率58.6
％）を得た。メタノール―塩化メチレンより再結
晶して分析に供した。 融点 238〜240℃（分解） 元素分析 C16H15N5O5として 計算値（％）：Ｃ，53.78；Ｈ，4.23； Ｎ，19.60 実測値（％）：Ｃ，53.59；Ｈ，4.24； Ｎ，19.33 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 255（8000）、277（5500） 287（5700）、345（11900） 388（13400）、407（11700） 実施例 ３ 化合物A308mgを無水酪酸３ml中に加え、130〜
140℃で26時間攪拌下加熱反応させた。反応終了
後、クロロホルム50mlを加え、５％炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗浄し（50ml×３）、クロロホル
ム層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、次い
で溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーに付し、クロロホルム流分より
７―オキソ―８―エチル―10―シアノ―３―
（２，３，５―トリ―Ｏ―アセチル―β―Ｄ―リ
ボフラノシル）―ピリド〔２，１―ｉ〕プリン
（化合物〔３〕）211mg（収率64.8％）を得た。エ
タノール―塩化メチレンより再結晶して分析に供
した。 融点 172〜174℃ 元素分析 C23H23N5O8として 計算値（％）：Ｃ，55.53；Ｈ，4.66； Ｎ，14.08 実測値（％）：Ｃ，55.30；Ｈ，4.62； Ｎ，14.44 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 255（8200）、277（5800） 287（6200）、347（13100） 388（14200）、407（11900） 化合物〔３〕122mgとジ―ｎ―ブチルチンオキ
シド122mgをメタノール10ml中に加え、５時間煮
沸還流させた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、５％メタ
ノール―クロロホルム流分より７―オキソ―８―
エチル―10―シアノ―３―β―Ｄ―リボフラノシ
ルピリド〔１，２―ｉ〕プリン59mg（収率64.8
％）を得た。メタノール―塩化メチレンより再結
晶して分析に供した。 融点 238〜240℃（分解） 元素分析 C17H17N5O5として 計算値（％）：Ｃ，54.98；Ｈ，4.61； Ｎ，18.86 実測値（％）：Ｃ，54.95；Ｈ，4.56； Ｎ，18.54 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 255（7800）、277（5400） 287（5700）、346（12100） 389（13700）、407（12000） 実施例 ４ 化合物A300mgを無水ベンゼン５mlに溶解させ、
ジケテン３mlを加えて６時間煮沸還流させ、さら
にジケテン３mlとベンゼン３mlを加え14時間還流
させた。反応終了後ベンゼンおよび過剰のジケテ
ンを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーに付し、0.5％メタノール―クロロ
ホルム流分より７―オキソ―８―アセチル―10―
シアノ―３―（２，３，５―トリ―Ｏ―アセチル
―β―Ｄ―リボフラノシル）―ピリド〔２，１―
ｉ〕プリン（化合物〔４〕）268mg（収率82.2％）
を得た。エタノールより再結晶して分析に供し
た。 融点 112〜113℃ 元素分析 C23H21N5O9として 計算値（％）：Ｃ，54.01；Ｈ，4.14； Ｎ，13.69 実測値（％）：Ｃ，53.72；Ｈ，4.05； Ｎ，13.88 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 263（8300）、340（8400）、419（33700） 化合物〔４〕40mgおよびジ―ｎ―ブチルチンオ
キシド39mgをメタノール10ml中に加え、５時間煮
沸還流させた。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、２％メタ
ノール―クロロホルム流分より７―オキソ―８―
アセチル―10―シアノ―３―β―Ｄ―リボフラノ
シルピリド〔２，１―ｉ〕プリン4.5mg（収率
15.0％）を得た。メタノール―塩化メチレンより
再結晶して分析に供した。 融点 210〜212℃（分解） 分質分析スペクトル C12H7N5O2（Ｂ＋Ｈ）とし
て 計算値 253.0598 実測値 253.0576 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 218（19700）、263（8900）、340（5900） 400（sh、23000）、419（32600） 実施例 ５ ａ 化合物A60mgとフエニルアズラクトン300mg
を混合し、120℃で２時間溶融反応させた。反
応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーに付し、５％メタノール―クロロホルムに流
分を分取し、さらに再びシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーに付し、２％メタノール―クロ
ロホルム流分より７―オキソ―８―ベンズアミ
ノ―10―シアノ―３―（２，３，５―トリ―Ｏ
―アセチル―β―Ｄ―リボフラノシル）ピリド
〔２，１―ｉ〕プリン（化合物〔５〕）41mg（収
率55％）を得た。 ｂ 化合物A60mgとフエニルアズラクトン300mg
をクロルベンゼン５mlに加え、９時間煮沸還流
させた。反応終了後、クロルベンゼンを減圧留
去し、残渣をシルカゲルカラムクロマトグラフ
イーに付し、５％メタノール―クロロホルム流
分を分取し、エタノール―塩化メチレンより再
結晶して化合物〔５〕35mg（収率47％）を得
た。 融点 236〜238℃ 元素分析 C28H24N6O9として 計算値（％）：Ｃ，57.14；Ｈ，4.11； Ｎ，14.28 実測値（％）：Ｃ，57.14；Ｈ，4.02； Ｎ，14.51 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 259（16700）、300（3800）、368（18700） 408（18950）、430（sh、13200） 化合物〔５〕25mgとジ―ｎ―ブチルチンオキシ
ド22mgをメタノール10ml中に加え、５時間煮沸還
流させた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーに付し、４％メタノー
ル―クロロホルム流分より７―オキソ―８―ベン
ズアミノ―10―シアノ―３―β―Ｄ―リボフラノ
シルピリド〔１，２―ｉ〕プリン10mg（収率50.9
％）を得た。メタノール―塩化メチレンより再結
晶して分析に供した。 融点 250〜252℃（分解） 元素分析 C22H18N6O6として 計算値（％）：Ｃ，57.14；Ｈ，3.92；Ｎ，18.18 実測値（％）：Ｃ，57.48；Ｈ，3.90；Ｎ，17.82 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 260（15800）、300（4100）、368（17400） 408（18700）、429（sh、13600）
〔２，１―ｉ〕プリンリボヌクレオシド誘導体お
よびその合成法に関するものである。 本発明化合物の７―オキソピリド〔２，１―
ｉ〕プリンリボヌクレオシド誘導体は一般式
〔〕 で表わされるものである。一般式〔〕中のR1
は水素、低級アルキル基（たとえば、メチル、エ
チル、プロピルなど）アリール基（たとえばフエ
ニルなど）、アシル基（たとえば、アセチル基な
ど）アロイルアミノ基（たとえば、ベンズアミノ
基など）を示す。また、R2，R3およびR4は、水
素または保護基を示す。保護基としては一般のヌ
クレオシド化学において使用されているものが任
意に適用され、具体的にはアセチル、ベンゾイル
などのアシル基、イソプロピリデン、エチリデン
などのアルキリデン基、トリチル、ベンジルなど
のアルアルキル基が例示される。 本発明化合物は、末梢血管拡張作用、抗アレル
ギー作用、抗腫瘍作用などの生理活性を有する３
―アミノ―２―（９―β―Ｄ―リボフラノシルプ
リン―６―イル）―アクリロニトリルの新規誘導
体であり、優れた末梢血管拡張作用、抗アレルギ
ー作用、抗腫瘍作用などを有し、生化学研究用試
薬として有用であるばかりでなく、医薬としての
開発も期待されるものである。また、強い紫外線
吸収性および発蛍光性を有することから、紫外線
吸収剤もしくは発蛍光物質としての有用性も期待
される。 本発明化合物の製造は、一般式〔〕 で表わされる３―置換アミノ―２―（９―β―Ｄ
―リボフラノシルプリン―６―イル）―アクリロ
ニトリルと酸無水物またはラクトンを加熱反応さ
せ、次いで必要に応じて脱保護する方法によれば
よい。 原料化合物の一般式〔〕中のR2，R3，R4は
前記一般式〔〕の場合と同意義の水素または保
護基を示す。R5は置換アミノ基であり、たとえ
ば任意の置換基を有することあるアルキルアミノ
基（たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、プ
ロピルアミノ、ブチルアミノなど）、ジアルキル
アミノ基（たとえばジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジプロピルアミノなど）、アルアルキルア
ミノ基（たとえば、ベンジルアミノ、フエネチル
アミノなど）、アリルアミノ基（たとえばフエニ
ルアミノなど）、ピロリジノ基、ピペリジノ基ま
たはモルホリノ基などが適用できる。任意の置換
基としては、ヒドロキシル基、ハロゲノ基、アル
キル基、アルコキシル基、ニトロ基などが挙げら
れる。 反応試薬の酸無水物またはラクトンとしては、
カニボニルオキシ基に隣接して求核性のカルバニ
オンを有するものを目的化合物に応じて選択して
用いられる。酸無水物の具体例としては、無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、
無水フエニル酢酸などが挙げられ、またラクトン
としてはジケテン、フエニルアズラクトンなどが
例示される。 反応は、加熱条件下、無溶媒もしくは溶媒中で
行なわれる。反応溶媒の種類には特に限定はない
が、たとえば、ベンゼン、クロルベンゼン、トリ
エン、キシレンなどの炭化水素をはじめ、ピリジ
ン、ジメチルホルムアミドなどが用いられる。 かくして目的物を合成することができるが、脱
保護を行う場合には、目的物が酸およびアルカリ
条件下で不安定であるため、緩和な条件を設定す
る必要がある。したがつて、目的物として無保護
のものを製造する場合には、緩和な条件で脱保護
が可能な保護基を有する原料化合物を選択する。
たとえば、保護基としてアセチル基を用いて、ジ
―ｎ―ブチルチンオキシドで脱保護する方法を採
用すれば目的を達成することができる。 目的化合物の反応液からの単離は常法によれば
よく、たとえば、吸着クロマトグラフイー、分
配、再結晶などの公知の分離手段を適宜に選択、
応用して実施する。 次に本発明方法の原料化合物の調製例を示す参
考例、ならびに本発明化合物およびその製造法を
例示する実施例を挙げて本発明のより具体的な説
明とする。 参考例 ３―（Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノ）―２―（９―
β―Ｄ―リボフラノシルプリン―６―イル）―ア
クリロニトリル100mgを無水酢酸10mlに懸濁させ、
ピリジンを0.5mlに加えた後、80℃で１時間攪拌
反応させた。減圧下無水酢酸を留去した後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製
し、４％メタノール―クロロホルム流分より３―
（Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノ）―２―（2′，3′，5′―
トリ―Ｏ―アセチル―９―β―Ｄ―リボフラノシ
ルプリン―６―イル）―アクリロニトリル（以下
「化合物Ａ」と称す）136mg（収率99％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δ 2.10（6H，ｓ，OAc×２） 2.14（3H，ｓ，OAc） 3.38（6H，ｓ，ジメチルアミノ） 4.40（3H，ｍ，C4′，C5′―Ｈ） 5.67（1H，ｍ，C3′―Ｈ） 5.92（1H，ｍ，C2′―Ｈ） 6.22（1H，ｄ，5.0Hz，C1′―Ｈ） 8.05（1H，ｓ，C8―Ｈ） 8.69（1H，ｓ，C2―Ｈ） 9.10（1H，ｓ，ビニル―Ｈ） 実施例 １ 化合物A866mgを無水酢酸20ml中に加え、27時
間還流反応させた。反応終了後、無水酢酸を減圧
下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイーに付し、0.5％メタノール―クロロホルム
流分より７―オキソ―10―シアノ―３―（２，
３，５―トリ―Ｏ―アセチル―β―Ｄ―リボフラ
ノシル）―ピリド〔２，１―ｉ〕プリン（化合物
〔〕）573mg（収率66.3％）を得た。エタノール
―塩化メチレンより再結晶して分析に供した。 融点 174〜175℃ 元素分析 C21H19N5O8として 計算値（％）：Ｃ，53.73；Ｈ，4.08； Ｎ，14.92 実測値（％）：Ｃ，53.72；Ｈ，3.95； Ｎ，15.32 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 256（7750）、272（6650） 281（6650）、343（10500） 383（15000）、402（14700） 化合物〔）86mgとジ―ｎ―ブチルチンオキシ
ド91mgをメタノール10mlに加え、５時間煮沸還流
させた。反応終了後、シリカゲル600mgを加えて
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーにより精製し、５％メタノール―
クロロホルム流分より７―オキソ―10―シアノ―
３―β―Ｄ―リボフラノシルピリド〔２，１―
ｉ〕プリン28mg（収率44.5％）を得た。メタノー
ル―塩化メチレンより再結晶して分析に供した。 融点 201〜203℃ 元素分析 C15H13N5O5として 計算値（％）：Ｃ，52.48；Ｈ，3.82； Ｎ，20.40 実測値（％）：Ｃ，52.49；Ｈ，3.75； Ｎ，20.14 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 256（8000）、272（7100） 281（6800）、341（11000） 382（16200）、401（16500） 実施例 ２ 化合物A207mgを無水プロピオン酸２ml中に加
え、120〜140℃で22時間加熱反応させた。反応終
了後、クロロホルム50mlを加え、５％炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄し（50ml×３）、クロロホ
ルム層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、溶
媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーに付し、0.5％メタノール―クロ
ロホルム流分より７―オキソ―８―メチル―10―
シアノ―３―（２，３，５―トリ―Ｏ―アセチル
―β―Ｄ―リボフラノシル）―ピリド〔２，１―
ｉ〕プリン（化合物〔２〕）141mg（収率66.3％）
を得た。エタノール―塩化メチレンより再結晶し
て分析に供した。 融点 211〜212℃ 元素分析 C22H21N5O8として 計算値（％）：Ｃ，54.66；Ｈ，4.38； Ｎ，14.49 実測値（％）：Ｃ，54.27；Ｈ，4.25； Ｎ，14.79 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 256（8200）、278（5700） 287（6100）、347（12600） 389（13500）、408（11300） 化合物〔２〕60mgおよびジ―ｎ―ブチルチンオ
キシド62mgをメタノール10ml中に加え、５時間煮
沸還流させた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、５％メタ
ノール―クロロホルム流分より７―オキソ―８―
メチル―10―シアノ―３―β―Ｄ―リボフラノシ
ルピリド〔２，１―ｉ〕プリン26mg（収率58.6
％）を得た。メタノール―塩化メチレンより再結
晶して分析に供した。 融点 238〜240℃（分解） 元素分析 C16H15N5O5として 計算値（％）：Ｃ，53.78；Ｈ，4.23； Ｎ，19.60 実測値（％）：Ｃ，53.59；Ｈ，4.24； Ｎ，19.33 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 255（8000）、277（5500） 287（5700）、345（11900） 388（13400）、407（11700） 実施例 ３ 化合物A308mgを無水酪酸３ml中に加え、130〜
140℃で26時間攪拌下加熱反応させた。反応終了
後、クロロホルム50mlを加え、５％炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗浄し（50ml×３）、クロロホル
ム層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、次い
で溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーに付し、クロロホルム流分より
７―オキソ―８―エチル―10―シアノ―３―
（２，３，５―トリ―Ｏ―アセチル―β―Ｄ―リ
ボフラノシル）―ピリド〔２，１―ｉ〕プリン
（化合物〔３〕）211mg（収率64.8％）を得た。エ
タノール―塩化メチレンより再結晶して分析に供
した。 融点 172〜174℃ 元素分析 C23H23N5O8として 計算値（％）：Ｃ，55.53；Ｈ，4.66； Ｎ，14.08 実測値（％）：Ｃ，55.30；Ｈ，4.62； Ｎ，14.44 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 255（8200）、277（5800） 287（6200）、347（13100） 388（14200）、407（11900） 化合物〔３〕122mgとジ―ｎ―ブチルチンオキ
シド122mgをメタノール10ml中に加え、５時間煮
沸還流させた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、５％メタ
ノール―クロロホルム流分より７―オキソ―８―
エチル―10―シアノ―３―β―Ｄ―リボフラノシ
ルピリド〔１，２―ｉ〕プリン59mg（収率64.8
％）を得た。メタノール―塩化メチレンより再結
晶して分析に供した。 融点 238〜240℃（分解） 元素分析 C17H17N5O5として 計算値（％）：Ｃ，54.98；Ｈ，4.61； Ｎ，18.86 実測値（％）：Ｃ，54.95；Ｈ，4.56； Ｎ，18.54 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 255（7800）、277（5400） 287（5700）、346（12100） 389（13700）、407（12000） 実施例 ４ 化合物A300mgを無水ベンゼン５mlに溶解させ、
ジケテン３mlを加えて６時間煮沸還流させ、さら
にジケテン３mlとベンゼン３mlを加え14時間還流
させた。反応終了後ベンゼンおよび過剰のジケテ
ンを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーに付し、0.5％メタノール―クロロ
ホルム流分より７―オキソ―８―アセチル―10―
シアノ―３―（２，３，５―トリ―Ｏ―アセチル
―β―Ｄ―リボフラノシル）―ピリド〔２，１―
ｉ〕プリン（化合物〔４〕）268mg（収率82.2％）
を得た。エタノールより再結晶して分析に供し
た。 融点 112〜113℃ 元素分析 C23H21N5O9として 計算値（％）：Ｃ，54.01；Ｈ，4.14； Ｎ，13.69 実測値（％）：Ｃ，53.72；Ｈ，4.05； Ｎ，13.88 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 263（8300）、340（8400）、419（33700） 化合物〔４〕40mgおよびジ―ｎ―ブチルチンオ
キシド39mgをメタノール10ml中に加え、５時間煮
沸還流させた。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、２％メタ
ノール―クロロホルム流分より７―オキソ―８―
アセチル―10―シアノ―３―β―Ｄ―リボフラノ
シルピリド〔２，１―ｉ〕プリン4.5mg（収率
15.0％）を得た。メタノール―塩化メチレンより
再結晶して分析に供した。 融点 210〜212℃（分解） 分質分析スペクトル C12H7N5O2（Ｂ＋Ｈ）とし
て 計算値 253.0598 実測値 253.0576 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 218（19700）、263（8900）、340（5900） 400（sh、23000）、419（32600） 実施例 ５ ａ 化合物A60mgとフエニルアズラクトン300mg
を混合し、120℃で２時間溶融反応させた。反
応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーに付し、５％メタノール―クロロホルムに流
分を分取し、さらに再びシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーに付し、２％メタノール―クロ
ロホルム流分より７―オキソ―８―ベンズアミ
ノ―10―シアノ―３―（２，３，５―トリ―Ｏ
―アセチル―β―Ｄ―リボフラノシル）ピリド
〔２，１―ｉ〕プリン（化合物〔５〕）41mg（収
率55％）を得た。 ｂ 化合物A60mgとフエニルアズラクトン300mg
をクロルベンゼン５mlに加え、９時間煮沸還流
させた。反応終了後、クロルベンゼンを減圧留
去し、残渣をシルカゲルカラムクロマトグラフ
イーに付し、５％メタノール―クロロホルム流
分を分取し、エタノール―塩化メチレンより再
結晶して化合物〔５〕35mg（収率47％）を得
た。 融点 236〜238℃ 元素分析 C28H24N6O9として 計算値（％）：Ｃ，57.14；Ｈ，4.11； Ｎ，14.28 実測値（％）：Ｃ，57.14；Ｈ，4.02； Ｎ，14.51 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 259（16700）、300（3800）、368（18700） 408（18950）、430（sh、13200） 化合物〔５〕25mgとジ―ｎ―ブチルチンオキシ
ド22mgをメタノール10ml中に加え、５時間煮沸還
流させた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーに付し、４％メタノー
ル―クロロホルム流分より７―オキソ―８―ベン
ズアミノ―10―シアノ―３―β―Ｄ―リボフラノ
シルピリド〔１，２―ｉ〕プリン10mg（収率50.9
％）を得た。メタノール―塩化メチレンより再結
晶して分析に供した。 融点 250〜252℃（分解） 元素分析 C22H18N6O6として 計算値（％）：Ｃ，57.14；Ｈ，3.92；Ｎ，18.18 実測値（％）：Ｃ，57.48；Ｈ，3.90；Ｎ，17.82 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxnm（ε） 260（15800）、300（4100）、368（17400） 408（18700）、429（sh、13600）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式〔〕 〔式中、R1は水素、低級アルキル基、アセチ
ル基またはベンズアミノ基を示し、R2，R3およ
びR4は水素または保護基を示す。〕で表わされる
７―オキソピリド〔２，１―ｉ〕プリンリボヌク
レオシド誘導体。 ２ 一般式〔〕 〔式中、R2，R3およびR4は水素または保護基
を示し、R5は、置換基を有することもあるアル
キルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルアルキ
ルアミノ基、アリルアミノ基、ピロリジノ基、ピ
ペリジノ基またはモルホリノ基を示す。〕で表わ
される３―置換アミノ―２―（９―β―Ｄ―リボ
フラノシルプリン―６―イル）―アクリロニトリ
ルと酸無水物またはラクトンを加熱反応させ、次
いで必要により脱保護して一般式〔〕 〔式中、R1は水素、低級アルキル基、アセチ
ル基またはベンズアミノ基を示し、R2，R3，R4
は前記と同意義である。〕で表わされる７―オキ
ソピリド〔２，１―ｉ〕プリンリボヌクレオシド
誘導体を合成することを特徴とする７―オキソピ
リド〔２，１―ｉ〕プリンリボヌクレオシド誘導
体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56140041A JPS5841895A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | ７−オキソピリド〔２，１−ｉ〕プリンリボヌクレオシド誘導体およびその合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56140041A JPS5841895A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | ７−オキソピリド〔２，１−ｉ〕プリンリボヌクレオシド誘導体およびその合成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5841895A JPS5841895A (ja) | 1983-03-11 |
| JPH0134237B2 true JPH0134237B2 (ja) | 1989-07-18 |
Family
ID=15259589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56140041A Granted JPS5841895A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | ７−オキソピリド〔２，１−ｉ〕プリンリボヌクレオシド誘導体およびその合成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5841895A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3872098A (en) * | 1972-10-10 | 1975-03-18 | Syntex Inc | 1,n{hu 6{b ethenoadenosine cyclophosphate compounds |
-
1981
- 1981-09-04 JP JP56140041A patent/JPS5841895A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5841895A (ja) | 1983-03-11 |
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