JPH0136095B2 - - Google Patents
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- JPH0136095B2 JPH0136095B2 JP56083843A JP8384381A JPH0136095B2 JP H0136095 B2 JPH0136095 B2 JP H0136095B2 JP 56083843 A JP56083843 A JP 56083843A JP 8384381 A JP8384381 A JP 8384381A JP H0136095 B2 JPH0136095 B2 JP H0136095B2
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- JP
- Japan
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- photosensitive glass
- glass plate
- light source
- light beam
- chemically
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J17/00—Gas-filled discharge tubes with solid cathode
- H01J17/38—Cold-cathode tubes
- H01J17/48—Cold-cathode tubes with more than one cathode or anode, e.g. sequence-discharge tube, counting tube, dekatron
- H01J17/49—Display panels, e.g. with crossed electrodes, e.g. making use of direct current
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/002—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by ultraviolet light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は化学切削性感光ガラスにテーパー付き
の孔又はスリツトを加工する際に採用される平行
紫外域光束の照射方法に関する。
の孔又はスリツトを加工する際に採用される平行
紫外域光束の照射方法に関する。
化学切削性感光ガラスはその上面にマスク（ネ
ガ）を置いて紫外線を照射した後加熱すると、照
射部分にリチウムメタシリケート（SiO2−Li2O）
の微細な結晶が生長する。そこでこれをフツ酸溶
液で処理すれば、結晶部分とガラス部分との溶解
速度の差によつて、被照射部分のみを選択的に溶
解し去ることができる。この性質を利用して化学
切削性感光ガラスにマスクの模様に応じた孔又は
スリツトなどを加工することは公知である。
ガ）を置いて紫外線を照射した後加熱すると、照
射部分にリチウムメタシリケート（SiO2−Li2O）
の微細な結晶が生長する。そこでこれをフツ酸溶
液で処理すれば、結晶部分とガラス部分との溶解
速度の差によつて、被照射部分のみを選択的に溶
解し去ることができる。この性質を利用して化学
切削性感光ガラスにマスクの模様に応じた孔又は
スリツトなどを加工することは公知である。
しかしながら、従来採用されてきた紫外線の照
射方法は、感光ガラス板と光源との位置関係を変
えることなく、平行光束にて感光ガラス板を露光
する方式であるため、フツ酸処理によつて最終的
に得られるガラス板の孔又はスリツト部分は、第
１図ａにその拡大断面図を示す如く、ガラス面に
対して垂直であるか傾斜するかの違いはあつて
も、孔径又はスリツトの幅がガラスの厚さ方向に
関して一様であり、第１図ｂに示す拡大断面図の
如く、孔又はスリツトにテーパーを付けることが
できない。
射方法は、感光ガラス板と光源との位置関係を変
えることなく、平行光束にて感光ガラス板を露光
する方式であるため、フツ酸処理によつて最終的
に得られるガラス板の孔又はスリツト部分は、第
１図ａにその拡大断面図を示す如く、ガラス面に
対して垂直であるか傾斜するかの違いはあつて
も、孔径又はスリツトの幅がガラスの厚さ方向に
関して一様であり、第１図ｂに示す拡大断面図の
如く、孔又はスリツトにテーパーを付けることが
できない。
本発明は紫外線照射後加熱しフツ酸溶液で処理
すれば、第１図ｂに示すようなテーパー付きの孔
又はスリツトが加工できる化学切削性感光ガラス
の露出方法を提供する。すなわち、本発明の露光
方法は、化学切削性感光ガラスに一方向に開いた
テーパー付きの孔又はスリツトを設けるに当り、
小さい方の喉又はスリツトの形状に対応した円形
又は多角形の開口部を有するマスクを表面に載置
した化学切削性感光ガラス板と、紫外域の平行光
束を発する光源とを前記のマスクを介して対向さ
せ、平行光束を垂直に横切る平面と感光ガラス板
として形成される角度が、所望するテーパーの角
度に一致する位置関係に、前記の感光ガラス板と
光源とを配置、感光ガラスの垂直中心線を回転軸
として感光ガラス板又は光源を回転させるか、あ
るいは平行光束の中心線を回転軸として感光ガラ
ス板を回転させながら、紫外域の平行光束にて感
光ガラス板を露光することからなる。
すれば、第１図ｂに示すようなテーパー付きの孔
又はスリツトが加工できる化学切削性感光ガラス
の露出方法を提供する。すなわち、本発明の露光
方法は、化学切削性感光ガラスに一方向に開いた
テーパー付きの孔又はスリツトを設けるに当り、
小さい方の喉又はスリツトの形状に対応した円形
又は多角形の開口部を有するマスクを表面に載置
した化学切削性感光ガラス板と、紫外域の平行光
束を発する光源とを前記のマスクを介して対向さ
せ、平行光束を垂直に横切る平面と感光ガラス板
として形成される角度が、所望するテーパーの角
度に一致する位置関係に、前記の感光ガラス板と
光源とを配置、感光ガラスの垂直中心線を回転軸
として感光ガラス板又は光源を回転させるか、あ
るいは平行光束の中心線を回転軸として感光ガラ
ス板を回転させながら、紫外域の平行光束にて感
光ガラス板を露光することからなる。
以下本発明の実施の状況を第２図で説明する。
第２図のａ及びｂに於て、１は紫外域の平行光束
を発する光源、３は化学切削性感光ガラス板、３
は任意形状の開口部を有するマスクであつて、マ
スク３は図示の通り感光ガラス板２の表面に載置
される。光源１と感光ガラス２とは、マスク３を
介して対向すると共に、光源１から発せられる平
行光束を垂直に横切る平面（第２図ではＡで示
す）と、感光ガラス２とで形成される鋭角αが、
所望するテーパーの角度α（第１図ｂ参照）と一
致する位置関係にある。
第２図のａ及びｂに於て、１は紫外域の平行光束
を発する光源、３は化学切削性感光ガラス板、３
は任意形状の開口部を有するマスクであつて、マ
スク３は図示の通り感光ガラス板２の表面に載置
される。光源１と感光ガラス２とは、マスク３を
介して対向すると共に、光源１から発せられる平
行光束を垂直に横切る平面（第２図ではＡで示
す）と、感光ガラス２とで形成される鋭角αが、
所望するテーパーの角度α（第１図ｂ参照）と一
致する位置関係にある。
而して本発明の第１実施例によれば、第２図ａ
に示す如く感光ガラス板２の垂直中心線Ｂを回転
軸として、光源１又は感光ガラス板２を回転させ
ながら、光源１からの平行紫外域光束よつて感光
ガラス板２を露光する。また第２実施例によれ
ば、第２図ｂに示す如く平行光束の中心線Ｃを回
転軸として、感光ガラス板２を回転させながら、
光源１からの平行紫外域光束によつて感光ガラス
板２を露光する。一般に光源を円運動させること
は難しく、感光ガラス板を回転させることに比較
して運動量も多いので、実装置では、感光ガラス
板２を上記の中心線Ｂ又はＣを回転軸として回転
させる方式が推奨される。
に示す如く感光ガラス板２の垂直中心線Ｂを回転
軸として、光源１又は感光ガラス板２を回転させ
ながら、光源１からの平行紫外域光束よつて感光
ガラス板２を露光する。また第２実施例によれ
ば、第２図ｂに示す如く平行光束の中心線Ｃを回
転軸として、感光ガラス板２を回転させながら、
光源１からの平行紫外域光束によつて感光ガラス
板２を露光する。一般に光源を円運動させること
は難しく、感光ガラス板を回転させることに比較
して運動量も多いので、実装置では、感光ガラス
板２を上記の中心線Ｂ又はＣを回転軸として回転
させる方式が推奨される。
感光ガラス板又は光源の回転速度は、使用する
光源の出力及び感光ガラス板の厚さなどによつて
調節することを可とするが、例えば600WのXe−
Hg灯を光源に使用した場合は、回転速度１回／
分で感光ガラス板又は光源を回転させながら１分
間露孔後、590℃で１時間熱処理し、しかる後こ
れを５％フツ酸溶液中で３時間エツチングすれ
ば、厚さ１mmの感光ガラスに対して第３図に示す
ようなテーパー付きの孔を加工することができ
る。尚、エツチング処理に際しては、ガラスの両
面からエツチングを施すと、孔の断面中央付近に
ふくらみができ、一定角度のテーパーに仕上げる
ことができないので、片面からエツチングを施す
方が好ましい。
光源の出力及び感光ガラス板の厚さなどによつて
調節することを可とするが、例えば600WのXe−
Hg灯を光源に使用した場合は、回転速度１回／
分で感光ガラス板又は光源を回転させながら１分
間露孔後、590℃で１時間熱処理し、しかる後こ
れを５％フツ酸溶液中で３時間エツチングすれ
ば、厚さ１mmの感光ガラスに対して第３図に示す
ようなテーパー付きの孔を加工することができ
る。尚、エツチング処理に際しては、ガラスの両
面からエツチングを施すと、孔の断面中央付近に
ふくらみができ、一定角度のテーパーに仕上げる
ことができないので、片面からエツチングを施す
方が好ましい。
以上のように本発明の露光方法を採用すれば、
第２図で説明した鋭角αの角度を任意に調節する
ことにより、任意の角度のテーパーを持つた孔又
はスリツトを感光ガラスに加工することができる
ので、例えばプラズマデイスプレー用セルシート
等を製造するうえで、本発明は非常に有益であ
る。
第２図で説明した鋭角αの角度を任意に調節する
ことにより、任意の角度のテーパーを持つた孔又
はスリツトを感光ガラスに加工することができる
ので、例えばプラズマデイスプレー用セルシート
等を製造するうえで、本発明は非常に有益であ
る。
第１図ａは従来の露光方法による感光ガラス穿
孔部分の拡大断面図、第１図ｂは本発明の露光方
法による感光ガラスの穿孔部分の拡大断面図であ
る。第２図ａ，ｂは本発明の実施状況説明図であ
る。第３図は本発明の露光方法を採用して穿孔加
工を施した感光ガラスの斜視図である。 １……光源、２……感光ガラス、３……マス
ク。
孔部分の拡大断面図、第１図ｂは本発明の露光方
法による感光ガラスの穿孔部分の拡大断面図であ
る。第２図ａ，ｂは本発明の実施状況説明図であ
る。第３図は本発明の露光方法を採用して穿孔加
工を施した感光ガラスの斜視図である。 １……光源、２……感光ガラス、３……マス
ク。
Claims (1)
- １ 化学切削性感光ガラスに一方向に開いたテー
パー付きの孔又はスリツトを設けるに当り、小さ
い方の孔又はスリツトの形状に対応した円形又は
多角形の開口部を有するマスクを表面に載置した
化学切削性感光ガラス板と、平行光束を発する光
源とを前記のマスクを介して対向させると共に、
平行光束を垂直に横切る平面と感光ガラス板とで
形成される鋭角が、所望するテーパーの角度と一
致する位置関係に、前記の感光ガラス板と光源と
を配置し、感光ガラス板の垂直中心線を回転軸と
して感光ガラス板又は光源を回転させるか、ある
いは平行光束の中心線を回転軸として感光ガラス
板を回転させながら、平行光束にて感光ガラス板
を露光する化学切削性感光ガラスの露光方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56083843A JPS57200042A (en) | 1981-06-02 | 1981-06-02 | Exposure method for chemically machinable photosensitive glass |
| US06/384,111 US4444616A (en) | 1981-06-02 | 1982-06-01 | Method for exposure of chemically machinable light-sensitive glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56083843A JPS57200042A (en) | 1981-06-02 | 1981-06-02 | Exposure method for chemically machinable photosensitive glass |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57200042A JPS57200042A (en) | 1982-12-08 |
| JPH0136095B2 true JPH0136095B2 (ja) | 1989-07-28 |
Family
ID=13813983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56083843A Granted JPS57200042A (en) | 1981-06-02 | 1981-06-02 | Exposure method for chemically machinable photosensitive glass |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4444616A (ja) |
| JP (1) | JPS57200042A (ja) |
Families Citing this family (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60230601A (ja) * | 1984-05-01 | 1985-11-16 | Masayasu Negishi | 膜処理方法 |
| JPS61202426A (ja) * | 1985-03-05 | 1986-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| US4662985A (en) * | 1985-03-27 | 1987-05-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of smoothing out an irregular surface of an electronic device |
| USRE35036E (en) * | 1986-06-13 | 1995-09-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of making symmetrically controlled implanted regions using rotational angle of the substrate |
| US4771012A (en) * | 1986-06-13 | 1988-09-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of making symmetrically controlled implanted regions using rotational angle of the substrate |
| US4906594A (en) * | 1987-06-12 | 1990-03-06 | Agency Of Industrial Science And Technology | Surface smoothing method and method of forming SOI substrate using the surface smoothing method |
| US5086297A (en) * | 1988-06-14 | 1992-02-04 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Plasma display panel and method of forming fluorescent screen thereof |
| DE3842354A1 (de) * | 1988-12-16 | 1990-06-21 | Kernforschungsz Karlsruhe | Verfahren zur lithographischen herstellung von galvanisch abformbaren mikrostrukturen mit dreieckigem oder trapezfoermigem querschnitt |
| JPH0459628A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-26 | Seikosha Co Ltd | ガラス板の加工方法 |
| US6127279A (en) * | 1994-09-26 | 2000-10-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Solution applying method |
| EP1416325A1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-05-06 | Corning Incorporated | A master and method of manufacturing a master for molds used to produce microstructured devices |
| FR2858694B1 (fr) * | 2003-08-07 | 2006-08-18 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation de motifs a flancs inclines par photolithographie |
| JP4802093B2 (ja) * | 2004-04-09 | 2011-10-26 | 株式会社クラレ | 微細構造体の製造方法、該微細構造体を用いたスタンパの製造方法、及び該スタンパを用いた樹脂製の微細構造体の製造方法 |
| US7132054B1 (en) * | 2004-09-08 | 2006-11-07 | Sandia Corporation | Method to fabricate hollow microneedle arrays |
| JP4758200B2 (ja) * | 2005-10-28 | 2011-08-24 | 京セラキンセキ株式会社 | 露光装置、及び露光方法 |
| JP4911682B2 (ja) * | 2006-07-20 | 2012-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 露光装置 |
| JP4984736B2 (ja) * | 2006-08-18 | 2012-07-25 | 凸版印刷株式会社 | 露光装置及び方法 |
| JP5070764B2 (ja) * | 2006-08-18 | 2012-11-14 | 凸版印刷株式会社 | マイクロニードルのパッチの製造方法 |
| EP2060950A4 (en) * | 2006-08-18 | 2014-06-25 | Toppan Printing Co Ltd | METHOD FOR PRODUCING AN ORGINAL PLATE, METHOD FOR PRODUCING A MICRONADEL PATCH, MICRONADEL PATCH AND EXPOSURE DEVICE |
| CN100483161C (zh) * | 2007-04-13 | 2009-04-29 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种狭缝装置制作方法 |
| WO2010080115A2 (en) | 2008-12-18 | 2010-07-15 | Claros Diagnostics, Inc. | Improved reagent storage in microfluidic systems and related articles and methods |
| ES2695039T3 (es) | 2009-02-02 | 2018-12-28 | Opko Diagnostics, Llc | Estructuras para controlar la interacción de luz con dispositivos microfluídicos |
| US10665377B2 (en) | 2014-05-05 | 2020-05-26 | 3D Glass Solutions, Inc. | 2D and 3D inductors antenna and transformers fabricating photoactive substrates |
| US12165809B2 (en) | 2016-02-25 | 2024-12-10 | 3D Glass Solutions, Inc. | 3D capacitor and capacitor array fabricating photoactive substrates |
| KR102479144B1 (ko) | 2016-02-25 | 2022-12-20 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 3d 커패시터 및 커패시터 어레이 제작용 광활성 기재 |
| WO2017177171A1 (en) * | 2016-04-08 | 2017-10-12 | 3D Glass Solutions, Inc. | Methods of fabricating photosensitive substrates suitable for optical coupler |
| US11101532B2 (en) | 2017-04-28 | 2021-08-24 | 3D Glass Solutions, Inc. | RF circulator |
| AU2018297035B2 (en) | 2017-07-07 | 2021-02-25 | 3D Glass Solutions, Inc. | 2D and 3D RF lumped element devices for RF system in a package photoactive glass substrates |
| US10854946B2 (en) | 2017-12-15 | 2020-12-01 | 3D Glass Solutions, Inc. | Coupled transmission line resonate RF filter |
| AU2018399638B2 (en) | 2018-01-04 | 2021-09-02 | 3D Glass Solutions, Inc. | Impedance matching conductive structure for high efficiency RF circuits |
| AU2019344542B2 (en) | 2018-09-17 | 2022-02-24 | 3D Glass Solutions, Inc. | High efficiency compact slotted antenna with a ground plane |
| EP3903347A4 (en) | 2018-12-28 | 2022-03-09 | 3D Glass Solutions, Inc. | HETEROGENE INTEGRATION FOR HF, MICROWAVE AND MM WAVE SYSTEMS ON PHOTOACTIVE GLASS SUBSTRATES |
| AU2019416327B2 (en) | 2018-12-28 | 2021-12-09 | 3D Glass Solutions, Inc. | Annular capacitor RF, microwave and MM wave systems |
| KR20210147040A (ko) | 2019-04-05 | 2021-12-06 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 유리 기반의 빈 기판 집적 도파관 디바이스 |
| CA3136642C (en) | 2019-04-18 | 2023-01-03 | 3D Glass Solutions, Inc. | High efficiency die dicing and release |
| JP2023516817A (ja) | 2020-04-17 | 2023-04-20 | スリーディー グラス ソリューションズ，インク | 広帯域誘導 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2628160A (en) * | 1951-08-30 | 1953-02-10 | Corning Glass Works | Sculpturing glass |
| JPS49133782A (ja) * | 1973-04-28 | 1974-12-23 | ||
| US4276335A (en) * | 1978-03-13 | 1981-06-30 | General Electric Company | Electron beam matrix deflector and method of fabrication |
-
1981
- 1981-06-02 JP JP56083843A patent/JPS57200042A/ja active Granted
-
1982
- 1982-06-01 US US06/384,111 patent/US4444616A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57200042A (en) | 1982-12-08 |
| US4444616A (en) | 1984-04-24 |
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