JPH0136553B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0136553B2 JPH0136553B2 JP60147705A JP14770585A JPH0136553B2 JP H0136553 B2 JPH0136553 B2 JP H0136553B2 JP 60147705 A JP60147705 A JP 60147705A JP 14770585 A JP14770585 A JP 14770585A JP H0136553 B2 JPH0136553 B2 JP H0136553B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chain
- evaporation
- deposition
- vacuum chamber
- voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、時計用ケース、ネクタイピンなどの
装飾品および刃具などに対して薄膜処理を行うイ
オンプレーテイング装置の改良に関するものであ
る。
装飾品および刃具などに対して薄膜処理を行うイ
オンプレーテイング装置の改良に関するものであ
る。
第３図に示すように、内歯車１２と外歯車１３
などを用いて被蒸着物を自・公転させ、かつ電圧
を内歯車と外歯車などとを介して被蒸着物に印加
し蒸発粒子を加速しながらイオンプレーテイング
処理（以下IP処理という）を行つている。
などを用いて被蒸着物を自・公転させ、かつ電圧
を内歯車と外歯車などとを介して被蒸着物に印加
し蒸発粒子を加速しながらイオンプレーテイング
処理（以下IP処理という）を行つている。
IP処理においては、蒸着範囲で被蒸着物に電
圧を印加することが必要である。しかしながら従
来では非蒸着範囲においても被蒸着物に電圧が印
加されているため逆スパツタリングを起こし、被
蒸着物表面があれてしまい、特に装飾品等におい
ては著しく膜品質を低下させるという欠点があつ
た。
圧を印加することが必要である。しかしながら従
来では非蒸着範囲においても被蒸着物に電圧が印
加されているため逆スパツタリングを起こし、被
蒸着物表面があれてしまい、特に装飾品等におい
ては著しく膜品質を低下させるという欠点があつ
た。
上記問題点を解決するために本発明では、蒸着
範囲において、被蒸着物に電圧を印加してIP処
理を行い、非蒸着範囲では電圧を解除して被蒸着
物表面のあれを防ぐもので、特に被蒸着物の移送
の構造に関するものである。
範囲において、被蒸着物に電圧を印加してIP処
理を行い、非蒸着範囲では電圧を解除して被蒸着
物表面のあれを防ぐもので、特に被蒸着物の移送
の構造に関するものである。
上記の構造により、蒸着範囲においてIP処理
を行い、非蒸着範囲では電圧が解除されるため逆
スパツタリングを防止することができる。
を行い、非蒸着範囲では電圧が解除されるため逆
スパツタリングを防止することができる。
以下に、本発明の実施例をチエーンを適用した
構造を例にとつて説明する。
構造を例にとつて説明する。
第１図において、イオンプレーテイング装置の
真空槽１の内部に回転枠２が図示してない外部動
力により回転している。回転枠２には被蒸着物取
付治具３を複数個ほぼ等間隔に回動自在に軸支し
て設け、かつ被蒸着物取付治具３の一方にスプロ
ケツト４を付設する。スプロケツト４は略山形を
なす有端の固定チエーン５と噛み合つている。ま
たチエーン５の両端はセラミツクスなどの絶縁材
料でつくられたチエーン取付具６によつて真空槽
１に絶縁しながら固定されている。
真空槽１の内部に回転枠２が図示してない外部動
力により回転している。回転枠２には被蒸着物取
付治具３を複数個ほぼ等間隔に回動自在に軸支し
て設け、かつ被蒸着物取付治具３の一方にスプロ
ケツト４を付設する。スプロケツト４は略山形を
なす有端の固定チエーン５と噛み合つている。ま
たチエーン５の両端はセラミツクスなどの絶縁材
料でつくられたチエーン取付具６によつて真空槽
１に絶縁しながら固定されている。
また第２図に示すように被蒸着物取付治具３は
回転枠２に、セラミツクスなどの絶縁材料でつく
られたブツシユ７によつて、絶縁されながら回動
自在に軸支されている。
回転枠２に、セラミツクスなどの絶縁材料でつく
られたブツシユ７によつて、絶縁されながら回動
自在に軸支されている。
またチエーン５には電圧が印加されるようにな
つている。
つている。
次に本発明の動作について説明する。
まず被蒸着物取付治具３に被蒸着物８を取付
け、真空槽１内を真空にした後、図示してない外
部動力を加える。動力が入ると回転枠２は時計方
向に回転（公転）し、回転枠２に取付けられた被
蒸着物取付治具３の一方に取付けられたスプロケ
ツト４はチエーン５に接する直前までは回転しな
いが、チエーン５に接すると同時に回転を始める
ので、被蒸着物取付治具３と被蒸着物取付治具３
に取付けられた被蒸着物８が回転（公転）を始め
る。被蒸着物８が自転している間はチエーン５か
らスプロケツト４と被蒸着物取付治具３を介し
て、被蒸着物８に電圧が印加されており、蒸着範
囲Ａに達すると、蒸着材料容器９に入つている蒸
着材料１０がヒーター１１によつて加熱され蒸発
粒子は、前記印加電圧により加速されて被着し被
蒸着物８はIP処理される。そしてスプロケツト
４が蒸着範囲Ａを超え、蒸着領域の暗部に入る。
そしてチエーン５から離れると自転は解除され
る。これと同時に被蒸着物８から電圧が解除され
逆スパツタリングが防止される。
け、真空槽１内を真空にした後、図示してない外
部動力を加える。動力が入ると回転枠２は時計方
向に回転（公転）し、回転枠２に取付けられた被
蒸着物取付治具３の一方に取付けられたスプロケ
ツト４はチエーン５に接する直前までは回転しな
いが、チエーン５に接すると同時に回転を始める
ので、被蒸着物取付治具３と被蒸着物取付治具３
に取付けられた被蒸着物８が回転（公転）を始め
る。被蒸着物８が自転している間はチエーン５か
らスプロケツト４と被蒸着物取付治具３を介し
て、被蒸着物８に電圧が印加されており、蒸着範
囲Ａに達すると、蒸着材料容器９に入つている蒸
着材料１０がヒーター１１によつて加熱され蒸発
粒子は、前記印加電圧により加速されて被着し被
蒸着物８はIP処理される。そしてスプロケツト
４が蒸着範囲Ａを超え、蒸着領域の暗部に入る。
そしてチエーン５から離れると自転は解除され
る。これと同時に被蒸着物８から電圧が解除され
逆スパツタリングが防止される。
以上の作用を繰り返し行い、必要な膜厚まで被
蒸着物８にIP処理することができる。
蒸着物８にIP処理することができる。
これに対し従来からの内歯車と外歯車を使用す
る方式では、外歯車を被蒸着物取付治具にセラミ
ツクス等の絶縁材料を介して取付ける。また被蒸
着物取付治具は回転枠に絶縁して軸支される。内
歯車も絶縁して取付ける。被蒸着物取付治具の外
歯車を取付けた側の軸は延長されており、前記軸
にブラシによつて電圧を印加すると言う複雑な構
造により蒸着範囲で被蒸着物にIP処理を行い、
非蒸着範囲では電圧を印加しない構造をとること
により、本発明のチエーン方式と同等の機能を得
ることになる。
る方式では、外歯車を被蒸着物取付治具にセラミ
ツクス等の絶縁材料を介して取付ける。また被蒸
着物取付治具は回転枠に絶縁して軸支される。内
歯車も絶縁して取付ける。被蒸着物取付治具の外
歯車を取付けた側の軸は延長されており、前記軸
にブラシによつて電圧を印加すると言う複雑な構
造により蒸着範囲で被蒸着物にIP処理を行い、
非蒸着範囲では電圧を印加しない構造をとること
により、本発明のチエーン方式と同等の機能を得
ることになる。
本発明は以上のように、蒸着槽内に絶縁支持さ
れたチエーン構造と、それに電気的と機構的に係
合することにより定められた蒸着範囲でむらなく
被蒸着物にIP処理を行い、非蒸着範囲にあつて
は被蒸着物の電圧を解除して逆スパツタリングを
防止して被蒸着物の表面膜あれを防止して良質の
膜を簡単な構造で作成できるという効果がある。
れたチエーン構造と、それに電気的と機構的に係
合することにより定められた蒸着範囲でむらなく
被蒸着物にIP処理を行い、非蒸着範囲にあつて
は被蒸着物の電圧を解除して逆スパツタリングを
防止して被蒸着物の表面膜あれを防止して良質の
膜を簡単な構造で作成できるという効果がある。
第１図は本発明のイオンプレーテイング装置の
実施例の正面図、第２図は本発明のイオンプレー
テイング装置の被蒸着物取付治具部分の横断面
図、第３図は従来のイオンプレーテイング装置の
正面図である。 １……真空槽、２……回転枠、３……被蒸着物
取付治具、４……スプロケツト、５……チエー
ン、６……チエーン取付具、７……ブツシユ、８
……被蒸着物、９……蒸着材料容器、１０……蒸
着材料、１１……ヒーター、１２……内歯車、１
３……外歯車。
実施例の正面図、第２図は本発明のイオンプレー
テイング装置の被蒸着物取付治具部分の横断面
図、第３図は従来のイオンプレーテイング装置の
正面図である。 １……真空槽、２……回転枠、３……被蒸着物
取付治具、４……スプロケツト、５……チエー
ン、６……チエーン取付具、７……ブツシユ、８
……被蒸着物、９……蒸着材料容器、１０……蒸
着材料、１１……ヒーター、１２……内歯車、１
３……外歯車。
Claims (1)
- １ 真空槽の上方部を蒸着範囲とし、残り下方部
を非蒸着範囲として、被蒸着物を真空槽の外周に
沿つて公転移動させてなるイオンプレーテイング
装置において、前記真空槽の外周に沿つた略山形
の固定チエーンは前記真空槽に絶縁して支持さ
れ、前記チエーンに係合して自転する複数個の被
蒸着物取付治具は回転枠に回動自在に絶縁して軸
支され、前記回転枠の公転に伴つて定められた回
転領域で前記チエーンと前記被蒸着物とが電気的
接続を形成することを特徴とするイオンプレーテ
イング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14770585A JPS6210267A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | イオンプレーティング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14770585A JPS6210267A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | イオンプレーティング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6210267A JPS6210267A (ja) | 1987-01-19 |
| JPH0136553B2 true JPH0136553B2 (ja) | 1989-08-01 |
Family
ID=15436370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14770585A Granted JPS6210267A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | イオンプレーティング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6210267A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5896047B1 (ja) * | 2015-01-26 | 2016-03-30 | 三菱マテリアル株式会社 | 成膜装置、コーティング膜付き切削工具の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5253778A (en) * | 1975-10-29 | 1977-04-30 | Yoichi Murayama | Ion plating apparatus |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP14770585A patent/JPS6210267A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6210267A (ja) | 1987-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4284033A (en) | Means to orbit and rotate target wafers supported on planet member | |
| US5108574A (en) | Cylindrical magnetron shield structure | |
| US3799110A (en) | Device for vacuum coating | |
| JPS59208069A (ja) | 多くの物質を蒸着させるための放射加熱部を有する蒸発装置 | |
| JPH0136553B2 (ja) | ||
| US20060137968A1 (en) | Oscillating shielded cylindrical target assemblies and their methods of use | |
| US3395674A (en) | Apparatus for vapor coating tumbling substrates | |
| JPH04329869A (ja) | 蒸着装置及び蒸着方法 | |
| JPH0428860A (ja) | イオンプレーティング装置用回転テーブル | |
| JPH01184277A (ja) | 基板回転装置 | |
| KR0123917Y1 (ko) | 진공증착 및 이온플레이팅용 시편 공,자전장치 | |
| FR2559507A1 (fr) | Procede de fabrication de materiau stratifie ou de pieces stratifiees | |
| JPH04165073A (ja) | 真空蒸着装置用治具 | |
| JPH05271911A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH01136966A (ja) | 物理蒸着装置 | |
| JPH0226935Y2 (ja) | ||
| JPH0299959U (ja) | ||
| JP2590367B2 (ja) | スパッタリング装置 | |
| JPS63312969A (ja) | 粉末粒子の真空蒸着法 | |
| JPH0765159B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH0542505B2 (ja) | ||
| JPS62149870A (ja) | 蒸着装置 | |
| JPH04110749U (ja) | アークイオンプレーテイング装置における回転テーブル | |
| KR910006920Y1 (ko) | 저항가열 진공증착장치 | |
| JPS63277760A (ja) | 蒸着装置 |