JPS6210267A - イオンプレーティング装置 - Google Patents
イオンプレーティング装置Info
- Publication number
- JPS6210267A JPS6210267A JP14770585A JP14770585A JPS6210267A JP S6210267 A JPS6210267 A JP S6210267A JP 14770585 A JP14770585 A JP 14770585A JP 14770585 A JP14770585 A JP 14770585A JP S6210267 A JPS6210267 A JP S6210267A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- materials
- vapor deposition
- voltage
- range
- ion plating
- Prior art date
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- Granted
Links
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 30
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 28
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 13
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 13
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 9
- 238000007788 roughening Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、時計用ケース、ネクタイビンなどの装飾品お
よび刃具などに対して薄膜処理を行なうイオンプレーテ
ィング方法の改良に関するものである。
よび刃具などに対して薄膜処理を行なうイオンプレーテ
ィング方法の改良に関するものである。
第３図に示すように、内歯車と外歯車などを用いて被蒸
着物を自公転させ、かつ電圧を内歯車と外歯車などとを
介して被蒸着物に印加しながらイオンプレーティング処
理（以下ＩＰ処理という）を行なっている。
着物を自公転させ、かつ電圧を内歯車と外歯車などとを
介して被蒸着物に印加しながらイオンプレーティング処
理（以下ＩＰ処理という）を行なっている。
ＩＰ処理においては、蒸着範囲で被蒸着物に電圧を印加
することが必要である。しかしながら従来では非蒸着範
囲においても被蒸着物に電圧が印加されているため逆ス
パッタリングを起こし、被蒸着物表面があれてしまい、
特に装飾品等においては著しく膜品質を低下させるとい
う欠点があった。
することが必要である。しかしながら従来では非蒸着範
囲においても被蒸着物に電圧が印加されているため逆ス
パッタリングを起こし、被蒸着物表面があれてしまい、
特に装飾品等においては著しく膜品質を低下させるとい
う欠点があった。
上記問題点を解決するために本発明では、蒸着範囲にお
いて、被蒸着物に電圧を印加してＩＰ処理を行ない、非
蒸着範囲では電圧を解除して被蒸着物表面のあれを防ぐ
。
いて、被蒸着物に電圧を印加してＩＰ処理を行ない、非
蒸着範囲では電圧を解除して被蒸着物表面のあれを防ぐ
。
上記の方法により、蒸着範囲においてＩＰ処理を行ない
、非蒸着範囲では電圧が解除されるため逆スパッタリン
グを防止することができる。
、非蒸着範囲では電圧が解除されるため逆スパッタリン
グを防止することができる。
以下に、本発明の実施例をチェーンを例にとって説明す
る。
る。
第１図において、イオンプレーティング装置の真空槽ｌ
の内部に回転枠２が外部動力により回転している。回転
枠２には被蒸着物取付治具３を複数個はぼ等間隔に軸支
して設け、かつ被蒸着物取付治具３の一方にスプロケッ
ト４を付設する。スプロケット４は有端のチェーン５と
かみ合っている。またチェーン５はセラミックスなどの
絶縁材料でつくられたチェーン取付具６によって真空槽
１に絶縁しながら固定されている。
の内部に回転枠２が外部動力により回転している。回転
枠２には被蒸着物取付治具３を複数個はぼ等間隔に軸支
して設け、かつ被蒸着物取付治具３の一方にスプロケッ
ト４を付設する。スプロケット４は有端のチェーン５と
かみ合っている。またチェーン５はセラミックスなどの
絶縁材料でつくられたチェーン取付具６によって真空槽
１に絶縁しながら固定されている。
また第２図に示すように被蒸着物取付治具３は回転枠２
に、セラミックスなどの絶縁材料でつくられたブツシュ
７によって、絶縁されながら軸支されている。
に、セラミックスなどの絶縁材料でつくられたブツシュ
７によって、絶縁されながら軸支されている。
またチェーン５には電圧が印加されるようになっている
。
。
まず被蒸着物取付治具３に被蒸着物８を取付け、真空槽
ｌ内を真空にした後、外部動力を加える。
ｌ内を真空にした後、外部動力を加える。
動力が入ると回転枠２は時計方向に回転し、回転枠２に
取付けられた被蒸着物取付治具３の一方に取付けられた
スプロケット４はチェーン５に接する直前までは回転し
ないが、チェーン５に接すると同時に回転を始めるので
、被蒸着物取付治具３と被蒸着物取付治具３に取付けら
れた被蒸着物８が回転（自転）を始める。被蒸着物８が
自転している間はチェーン５からスプロケット４と被蒸
着物取付治具３を介して、被蒸着物８に電圧が印加され
ており、蒸着範囲Ａに達すると、蒸着試料容器９に入っ
ている蒸着試料１０がヒーター１１によって加熱される
ことにより被蒸着物８がＩＰ処理される。そしてスプロ
ケット４が蒸着範囲Ａを越え、チェーン５から離れると
自転は解除される。
取付けられた被蒸着物取付治具３の一方に取付けられた
スプロケット４はチェーン５に接する直前までは回転し
ないが、チェーン５に接すると同時に回転を始めるので
、被蒸着物取付治具３と被蒸着物取付治具３に取付けら
れた被蒸着物８が回転（自転）を始める。被蒸着物８が
自転している間はチェーン５からスプロケット４と被蒸
着物取付治具３を介して、被蒸着物８に電圧が印加され
ており、蒸着範囲Ａに達すると、蒸着試料容器９に入っ
ている蒸着試料１０がヒーター１１によって加熱される
ことにより被蒸着物８がＩＰ処理される。そしてスプロ
ケット４が蒸着範囲Ａを越え、チェーン５から離れると
自転は解除される。
これと同時に被蒸着物８から電圧が解除され逆スパッタ
リングが防止される。
リングが防止される。
以上の作用を繰り返し行ない、必要な膜厚まで被蒸着物
８にＩＰ処理することができる。
８にＩＰ処理することができる。
内歯車と外歯車を使用する方式では、外歯車を被蒸着物
取付冶具にセラミックス等の絶縁材料を介して取付ける
。また被蒸着物取付治具は回転枠に絶縁して軸支される
。内歯車も絶縁して取付ける。被蒸着物取付治具の外歯
車を取付けた側の軸は延長されており、前記軸にブラシ
によって電圧を印加することにより蒸着範囲で被蒸着物
にＩＰ処理を行ない、被蒸着範囲では電圧を印加しない
構造をとる。
取付冶具にセラミックス等の絶縁材料を介して取付ける
。また被蒸着物取付治具は回転枠に絶縁して軸支される
。内歯車も絶縁して取付ける。被蒸着物取付治具の外歯
車を取付けた側の軸は延長されており、前記軸にブラシ
によって電圧を印加することにより蒸着範囲で被蒸着物
にＩＰ処理を行ない、被蒸着範囲では電圧を印加しない
構造をとる。
本発明は以上のように、蒸着範囲で被蒸着物にＩＰ処理
を行ない、非蒸着範囲で被蒸着物の電圧を解除して逆ス
パッタリングを防止して被蒸着物の表面膜あれを防止し
て良質の膜を作成できるという効果がある。
を行ない、非蒸着範囲で被蒸着物の電圧を解除して逆ス
パッタリングを防止して被蒸着物の表面膜あれを防止し
て良質の膜を作成できるという効果がある。
第１図は本発明のイオンプレーティング方法の実施例の
正面図、第２図は本発明のイオンプレーティング方法の
被蒸着物取付治具部分の横断面図、第３図は従来のイオ
ンプレーティング方法の正面図である。 １−・・−・真空槽 ２−・−回転枠 ３−・・・・・・被蒸着物取付治具 ４−・−・・−スプロケット ５−・−チェーン ６−・〜・・チェーン取付具 ７・−・・−・−ブツシュ ８−・・−・・被蒸着物 ９・−・−・−蒸着試料容器 １０・・・・−・・蒸着試料 １１−・・・−・−ヒーター １２・・・−・・・内歯車 １３−・−・・外歯車 以上
正面図、第２図は本発明のイオンプレーティング方法の
被蒸着物取付治具部分の横断面図、第３図は従来のイオ
ンプレーティング方法の正面図である。 １−・・−・真空槽 ２−・−回転枠 ３−・・・・・・被蒸着物取付治具 ４−・−・・−スプロケット ５−・−チェーン ６−・〜・・チェーン取付具 ７・−・・−・−ブツシュ ８−・・−・・被蒸着物 ９・−・−・−蒸着試料容器 １０・・・・−・・蒸着試料 １１−・・・−・−ヒーター １２・・・−・・・内歯車 １３−・−・・外歯車 以上
Claims (1)
- 真空槽の上方部を蒸着範囲とし、残り下方部を非蒸着範
囲として、被蒸着物を真空槽の外周に沿って回転移動さ
せてなるイオンプレーティング装置において、蒸着範囲
にだけ被蒸着物に電圧を印加し、非蒸着範囲では電圧を
解除することによって非蒸着範囲での逆スパッタリング
を防止して被蒸着物の表面のあれを大幅に減少させたこ
とを特徴とするイオンプレーティング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14770585A JPS6210267A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | イオンプレーティング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14770585A JPS6210267A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | イオンプレーティング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6210267A true JPS6210267A (ja) | 1987-01-19 |
| JPH0136553B2 JPH0136553B2 (ja) | 1989-08-01 |
Family
ID=15436370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14770585A Granted JPS6210267A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | イオンプレーティング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6210267A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5896047B1 (ja) * | 2015-01-26 | 2016-03-30 | 三菱マテリアル株式会社 | 成膜装置、コーティング膜付き切削工具の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5253778A (en) * | 1975-10-29 | 1977-04-30 | Yoichi Murayama | Ion plating apparatus |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP14770585A patent/JPS6210267A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5253778A (en) * | 1975-10-29 | 1977-04-30 | Yoichi Murayama | Ion plating apparatus |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5896047B1 (ja) * | 2015-01-26 | 2016-03-30 | 三菱マテリアル株式会社 | 成膜装置、コーティング膜付き切削工具の製造方法 |
| WO2016121121A1 (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 三菱マテリアル株式会社 | 成膜装置、コーティング膜付き切削工具の製造方法 |
| CN107208260A (zh) * | 2015-01-26 | 2017-09-26 | 三菱综合材料株式会社 | 成膜装置、带涂膜切削工具的制造方法 |
| CN107208260B (zh) * | 2015-01-26 | 2019-07-19 | 三菱综合材料株式会社 | 成膜装置、带涂膜切削工具的制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0136553B2 (ja) | 1989-08-01 |
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