JPH04110749U - アークイオンプレーテイング装置における回転テーブル - Google Patents
アークイオンプレーテイング装置における回転テーブルInfo
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- JPH04110749U JPH04110749U JP1103191U JP1103191U JPH04110749U JP H04110749 U JPH04110749 U JP H04110749U JP 1103191 U JP1103191 U JP 1103191U JP 1103191 U JP1103191 U JP 1103191U JP H04110749 U JPH04110749 U JP H04110749U
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- JP
- Japan
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- rotating
- rotates
- fixed
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 公転テーブル上の支持台を回転させるキッカ
ーの絶縁を不要にすると共に、良品質の製品を多量に処
理する。 【構成】 中心軸32に自転テーブル50が回転自在に支持
され、この自転テーブル50に、固定軸54廻りに回転自在
な公転テーブル53が複数個設けられる。中心軸32は絶縁
材31を介して固定フレーム30から電気的に絶縁され、ま
た自転テーブル50の回転に連動させて各公転テーブル53
を回転させるチェーン58,60 は導電性を有する。そし
て、中心軸32からチェーン58,60 を経由して各公転テー
ブル53にバイアス電圧を印加するようになっている。公
転テーブル53上に、被コーティング物64を支持する支持
台63が周方向に複数個設けられる。各支持台63は回転自
在であって、公転テーブル53の回転時に、固定軸54上の
キッカー65によりけられて回転する。
ーの絶縁を不要にすると共に、良品質の製品を多量に処
理する。 【構成】 中心軸32に自転テーブル50が回転自在に支持
され、この自転テーブル50に、固定軸54廻りに回転自在
な公転テーブル53が複数個設けられる。中心軸32は絶縁
材31を介して固定フレーム30から電気的に絶縁され、ま
た自転テーブル50の回転に連動させて各公転テーブル53
を回転させるチェーン58,60 は導電性を有する。そし
て、中心軸32からチェーン58,60 を経由して各公転テー
ブル53にバイアス電圧を印加するようになっている。公
転テーブル53上に、被コーティング物64を支持する支持
台63が周方向に複数個設けられる。各支持台63は回転自
在であって、公転テーブル53の回転時に、固定軸54上の
キッカー65によりけられて回転する。
Description
【0001】
本考案は、アークイオンプレーティング装置における回転テーブルに関する。
【0002】
図5はアークイオンプレーティング装置の基本的な構成を示す。図5において
、1 は真空容器、2 は蒸発源で、アーク電源の陰極に接続されている。3 は回転
テーブルで、バイアス電源の陰極に接続されており、この回転テーブル3 上に被
コーティング物4 が載置されている。5 はプロセスガス入口、6 は排気口である
。
【0003】
真空中で蒸発源2 を陰極としてアーク放電を起こすと、アークは蒸発源2 表面
上にアークスポットを形成し、その表面上をランダムに走り廻る。そして、アー
クスポットに集中するアーク電流のエネルギにより、蒸発材料が瞬時に溶融蒸発
すると同時に金属イオンとなり、真空中に飛び出す。一方、バイアス電圧を被コ
ーティング物4 に印加すると、金属イオンが加速されて反応ガス粒子と共に被コ
ーティング物4 の表面に密着し、緻密な膜を生成する。
【0004】
回転テーブル3 は、従来、図6及び図7に示すように、自転テーブル7 と、そ
の周縁部に配置された複数個の公転テーブル8 とを備え、自転テーブル7 上の被
コーティング物4 が金属イオン流に対して均一にさらされ、また被コーティング
物4 に、真空容器1 等から絶縁した状態でバイアス電圧が印加されるようになっ
ている。
【0005】
即ち、図6及び図7において、9 は中空状の中心軸で、この中心軸9 に軸受10
を介して遊星枠11が回転自在に支持されている。遊星枠11の周縁部には軸受12を
介して回転軸13が等間隔おきに配置され、また各回転軸13の上下に、回転台14と
、フレーム15に固定の内歯ギヤー16に咬合する遊星ギヤー17とが設けられている
。そして、各回転台14上に、絶縁ガイシ18を介して公転テーブル8 が取付けられ
ている。
【0006】
中心軸9 上には絶縁ガイシ19を介して固定台20が、遊星枠11上には絶縁ガイシ
21を介して中間台22が夫々取付けられており、その中間台22上に絶縁ガイシ23を
介して自転テーブル7 が取付けられている。固定台20にはバイアス電源のテーブ
ルが接続され、この固定台20から第1ブラシ24、中間台22、第2ブラシ25を介し
て各公転テーブル8 にバイアス電圧を印加するように構成されている。第1ブラ
シ24は図8に示すように固定台20に、第2ブラシ25は図9に示すように中間台22
に夫々設けられている。
【0007】
各公転テーブル8 上には、図6に示すように、その周縁部に突起付き支持台26
が周方向に等間隔をおいて複数個設けられており、この支持台26上に被コーティ
ング物4 がセットされている。各支持台26は軸心廻りに回転自在であって、公転
テーブル8 の回転時に、自転テーブル7 等に設けられたキッカー27によりけられ
て回転するようになっている。
【0008】
この回転テーブル3 においては、遊星枠11が中心軸9 廻りに回転すると、これ
と一体に自転テーブル7 が自転する。一方、回転軸13の遊星ギヤー17が内歯ギヤ
ー16に咬合しているので、遊星枠11の自転と共に回転軸13廻りに公転テーブル8
が公転する。また、この時、バイアス電圧は、固定台20、ブラシ24、中間台22、
ブラシ25を経て公転テーブル8 に印加される。
【0009】
1個の公転テーブル8 上に多数の被コーティング物4 を乗せる場合、図6に示
すように、突起付き支持台26を利用し、キッカー27により各支持台26をその軸心
廻りに回転させる。
しかし、従来の回転テーブル3 は、自転テーブル7 と公転テーブル8 が絶縁さ
れているので、キッカー27も絶縁材を介して設ける必要があり、強度的に弱くな
るという問題がある。
【0010】
また、従来は支持台26が回転するのは、公転テーブル8 の側方に設けられたキ
ッカー27と接触する時のみであるため、停止時間の方がはるかに長い。従って、
蒸発源2 から発生するイオンに対して影となる部分ができ、コーティング斑が生
じる。そのため、これを防止するには、支持台26相互間の間隔lを広く採る必要
があり、処理量が減少する。
【0011】
本考案は、このような従来の課題に鑑み、キッカー取付部分の機械的な強度の
低下を防止できると共に、支持台相互の間隔を小さくして処理量を増大できるよ
うにすることを目的とする。
【0012】
本考案は、自転テーブル50に複数個の公転テーブル53を備え、各公転テーブル
53上に、被コーティング物64を支持する支持台63を周方向に複数個備えたアーク
イオンプレーティング装置における回転テーブルにおいて、自転テーブル50及び
公転テーブル53を他部位から電気的に絶縁すると共に、自転テーブル50の回転に
連動させて各公転テーブル53を駆動する駆動系を導電性材料により構成し、各公
転テーブル53を回転自在に支持する固定軸54に、公転テーブル53の回転時に各支
持台63を回転させるためのキッカー65を設けたものである。
【0013】
自転テーブル50が自転すると、駆動系を介して各公転テーブル53が固定軸54廻
りに回転しながら公転する。この時、各支持台63は固定軸54に設けたキッカー65
によりけられ、その軸心廻りに回転する。従って、各支持台63は常に回転するた
め、支持台63相互の間隔を小さくしても、被コーティング物64に対するコーティ
ング斑を防止でき、処理量の増大が図れる。
【0014】
また駆動系を介して自転テーブル50、公転テーブル53に電圧を印加する。この
ため、キッカー65に絶縁構造を付加する必要がなく、機械的な強度の低下を防止
できる。
【0015】
以下、本考案の実施例を図面に基いて詳述する。図1乃至図3において、30は
固定フレームで、この固定フレーム30上に絶縁材31を介して中空状の中心軸32が
ボルトにより取付けられている。33は回転枠で、中心のボス部34及び軸受35を介
して中心軸32に回転自在に套嵌支持されており、ボス部34の下端に入力スプロケ
ット36が固定されている。37は駆動軸で、固定フレーム30に軸受38を介して回転
自在に支持されている。また駆動軸37の上端にはフランジ部39上に絶縁材40を介
して駆動スプロケット41が、下端には伝動スプロケット42が夫々固定されている
。駆動スプロケット41はチェーン43を介して入力スプロケット36に、伝動スプロ
ケット42はチェーン44、中間スプロケット45、中心軸46、ベベルギヤー47等を介
して図外の駆動モータに夫々連動連結されている。中間スプロケット45、ベベル
ギヤー47は中心軸46の上下にあり、また中心軸46は下部フレーム48に回転自在に
支持されている。49はテンションスプロケットである。
【0016】
50は自転テーブルであって、回転枠33上にスペーサ51を介して固定されている
。この自転テーブル50の周縁部には周方向に等間隔おきに8個の丸孔52が形成さ
れており、その各孔52に公転テーブル53が夫々配置されている。
各公転テーブル53はその上面側に被コーティング物を載置するためのものであ
って、回転枠33に固定された中空状の固定軸54に軸受55を介して回転自在に支持
されている。そして、各公転テーブル53の下端には連動スプロケット56が固設さ
れ、また1個の公転テーブル53には上下中間部に回動スプロケット57が固設され
ている。各連動スプロケット56には、周方向に隣合う各公転テーブル53を互いに
逆方向に回転させるように導電性のチェーン58がジグザグ状に巻掛けられている
。また、回動スプロケット57には中心軸32の上端部に固定された固定スプロケッ
ト59との間に導電性のチェーン60が巻掛けられている。なお、スプロケット56,5
7,60、チェーン58,60 により駆動系が構成されている。
【0017】
中心軸32は固定フレーム30との間に介在された絶縁材31により固定フレーム30
から電気的に絶縁され、また駆動スプロケット41は絶縁材40により駆動軸37、固
定フレーム30等から電気的に絶縁されている。従って、中心軸32、回転枠33、自
転テーブル50及び公転テーブル53は、固定フレーム30側から電気的に完全に絶縁
されており、その中心軸32の下端部にバイアス電源のケーブルが接続されている
。
【0018】
各公転テーブル53上には、固定軸54を中心とする同心円上に周方向に等間隔を
おいて複数個の支持部61が設けられ、この各支持部61に、突起62付きの支持台63
がその軸心廻りに回転自在に取付けられている。各支持台63は工具等の長尺の被
コーティング物64を縦方向にセットするためのものである。一方、固定軸54の上
端には、公転テーブル53の回転時に、突起62をけって各支持台63を回転させるた
めのキッカー65が、その中心の角孔67に挿入して取付けられている。キッカー65
は十字状にキック部66を有する。
【0019】
上記構成において、駆動モータを起動すると、ベベルギヤー47、中間軸46、中
間スプロケット45、チェーン44、伝動スプロケット42を介して駆動軸37が回転す
る。そして、この駆動軸37の駆動スプロケット41からチェーン43、入力スプロケ
ット36を介して回転枠33が中心軸32廻りに回転し、自転テーブル50が回転枠33と
一体に自転する。
【0020】
この時、各公転テーブル53は回転枠33、自転テーブル50と共に中心軸32廻りに
回転し公転するが、その公転テーブル53の1個に設けられた回動スプロケット57
と固定スプロケット59との間にチェーン60が巻掛けられ、また各公転テーブル53
の連動スプロケット56にチェーン58がジグザグ状に巻掛けられているため、自転
テーブル50の自転に伴なって各公転テーブル53が固定軸54廻りに回転する。従っ
て、各公転テーブル53は固定軸54廻りに回転しながら、中心軸32廻りに公転する
。
【0021】
一方、バイアス電源からケーブルを経て中心軸32の下部にバイアス電圧が印加
される。そして、この中心軸32の電圧は、固定スプロケット59、チェーン60、回
動スプロケット57を経て1個の公転テーブル53に印加されると共に、この1個の
公転テーブル53から連動スプロケット56、チェーン58を介して他の各公転テーブ
ル53に印加される。
【0022】
このようにチェーン58,60 を介して中心軸32から各公転テーブル53に電圧を印
加すれば、チェーン58,60 とスプロケット56,57,59間に、スパークを発生するこ
となく各公転テーブル53に電圧を印加できる(チェーン駆動はスプロケットの2
歯以上の噛合が必要であり、歯車のように接触点がポイントでないため確実に電
気を伝え、常に接触点が存在するためスパークの心配がない)。即ち、中心軸32
から軸受35、回転枠33、固定軸54、軸受55を経て各公転テーブル53に印加する場
合には、軸受35,55 を経由するため、スパーク発生の恐れがあるが、チェーン58
,60 を経由して電圧を印加することによりスパークの発生を防止できる。
【0023】
公転テーブル53が固定軸54廻りに回転すると、固定軸54にキッカー65が設けら
れているので、各支持台63の突起62がキッカー65のキック部66によってけられ、
各支持台63がその軸心廻りに回転する。このため、各支持台63は公転テーブル53
の回転中、殆んど回転することになり、イオンに対して影となる部分が被コーテ
ィング物64にできないので、コーティング斑の発生を防止できる。従って、支持
台63相互間の間隔を小さくできるため、処理量が増大する利点があり、良品質の
製品を多量に処理できる。
【0024】
また自転テーブル50、公転テーブル53にバイアス電圧が印加しているので、キ
ッカー65に絶縁構造を設ける必要がなく、機械的な強度も大になる。
なお、チェーン58は、図4に示すように、各連動スプロケット56を外側から取
囲むように巻付けても良く、このようにすれば、各公転テーブル53は同方向に回
転する。
【0025】
本考案によれば、自転テーブル50及び公転テーブル53を他部位から電気的に絶
縁すると共に、自転テーブル50の回転に連動させて各公転テーブル53を駆動する
駆動系を導電性材料により構成し、各公転テーブル53を回転自在に支持する固定
軸54に、公転テーブル53の回転時に各支持台63を回転させるためのキッカー65を
設けているので、キッカー65の絶縁構造が不要になり、強度の低下を防止できる
と共に、支持台63相互の間隔を小さくしてコーティング斑のない良品質の製品を
多量に処理でき、処理量が増大する。
【図1】本考案の一実施例を示す回転テーブルの断面図
である。
である。
【図2】本考案の一実施例を示す回転テーブルの部分平
面図である。
面図である。
【図3】本考案の一実施例を示す回転テーブルの平面図
である。
である。
【図4】本考案の他の実施例を示す回転テーブルの平面
図である。
図である。
【図5】アークイオンプレーティング装置の断面図であ
る。
る。
【図6】従来の回転テーブルの平面図である。
【図7】従来の回転テーブルの断面図である。
【図8】従来の第1ブラシ部分の平面図である。
【図9】従来の第2ブラシ部分の平面図である。
31 絶縁材
32 中心軸
33 回転枠
50 自転テーブル
53 公転テーブル
54 固定軸
56 連動スプロケット
57 回動スプロケット
58 チェーン
59 固定スプロケット
60 チェーン
63 支持台
64 被コーティング物
65 キッカー
Claims (1)
- 【請求項1】 自転テーブル(50)に複数個の公転テーブ
ル(53)を備え、各公転テーブル(53)上に、被コーティン
グ物(64)を支持する支持台(63)を周方向に複数個備えた
アークイオンプレーティング装置における回転テーブル
において、自転テーブル(50)及び公転テーブル(53)を他
部位から電気的に絶縁すると共に、自転テーブル(50)の
回転に連動させて各公転テーブル(53)を駆動する駆動系
を導電性材料により構成し、各公転テーブル(53)を回転
自在に支持する固定軸(54)に、公転テーブル(53)の回転
時に各支持台(53)を回転させるためのキッカー(65)を設
けたことを特徴とするアークイオンプレーティング装置
の回転テーブル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1103191U JPH04110749U (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | アークイオンプレーテイング装置における回転テーブル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1103191U JPH04110749U (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | アークイオンプレーテイング装置における回転テーブル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04110749U true JPH04110749U (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=31900597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1103191U Pending JPH04110749U (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | アークイオンプレーテイング装置における回転テーブル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04110749U (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015134950A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 株式会社デンソー | 成膜装置 |
| WO2024194995A1 (ja) * | 2023-03-20 | 2024-09-26 | 京セラ株式会社 | ワーク回転装置、pvd処理装置および被覆工具の製造方法 |
| WO2024194994A1 (ja) * | 2023-03-20 | 2024-09-26 | 京セラ株式会社 | ワーク回転装置、pvd処理装置および被覆工具の製造方法 |
-
1991
- 1991-03-04 JP JP1103191U patent/JPH04110749U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015134950A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 株式会社デンソー | 成膜装置 |
| WO2024194995A1 (ja) * | 2023-03-20 | 2024-09-26 | 京セラ株式会社 | ワーク回転装置、pvd処理装置および被覆工具の製造方法 |
| WO2024194994A1 (ja) * | 2023-03-20 | 2024-09-26 | 京セラ株式会社 | ワーク回転装置、pvd処理装置および被覆工具の製造方法 |
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