JPH0136832B2 - - Google Patents

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JPH0136832B2
JPH0136832B2 JP58047313A JP4731383A JPH0136832B2 JP H0136832 B2 JPH0136832 B2 JP H0136832B2 JP 58047313 A JP58047313 A JP 58047313A JP 4731383 A JP4731383 A JP 4731383A JP H0136832 B2 JPH0136832 B2 JP H0136832B2
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JP
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quaternary ammonium
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carboxylic acid
polydimethylsiloxane
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JP58047313A
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JPS58206596A (ja
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Rei Maatein Yuujin
Ee Toritsupu Jefurii
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ESU DABURYUU ESU SHIRIKOONZU CORP
Original Assignee
ESU DABURYUU ESU SHIRIKOONZU CORP
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Publication date
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Publication of JPH0136832B2 publication Critical patent/JPH0136832B2/ja
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    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06MTREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M13/00Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment
    • D06M13/50Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment with organometallic compounds; with organic compounds containing boron, silicon, selenium or tellurium atoms
    • D06M13/51Compounds with at least one carbon-metal or carbon-boron, carbon-silicon, carbon-selenium, or carbon-tellurium bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
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    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/1892Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/38Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • C08G77/382Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
    • C08G77/388Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/42Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences

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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は第四アンモニりム化合物に関するもの
であり、さらに詳现には第四アンモニりム−珪玠
化合物ならびに該化合物を繊維材料の垯電防止剀
ずしお䜿甚する方法に関するものである。 第四アンモニりム珪玠化合物は䟋えば、モアハ
りムMorehouseの米囜特蚱第3471541号に蚘
茉されおいる。この特蚱では第䞉ヒドロキシポリ
アルキレンオキシアルキルアミンのアルケニル゚
ヌテルを癜金觊媒存圚䞋に氎玠化珪玠化合物す
なわち珪玠に結合した氎玠を有するシランたたは
シロキサンず反応させるこずにより第䞉アミン
が぀くられおいる。埗られた第䞉アミンを次にハ
ロゲン化炭化氎玠、モノカルボン酞およびハロア
ルカン酞の炭化氎玠゚ステルず反応させお察応す
る第四アンモニりム珪玠化合物を圢成する。 ペペPepeらの米囜特蚱第3661963号には、
垯電防止剀ずしお有甚なクロロメチル化したシラ
ン類たたはシロキサン類の第四アンモニりム塩が
蚘茉されおいる。これらの第四アンモニりム塩は
䞀般匏R3N匏䞭は䞀䟡の有機基であるで衚
わされる第䞉アミンをクロロメチルアリヌルシラ
ンたたはクロロメチルアルアルキルシランず反応
させるこずにより補造される。 プルヌデマンPlueddemannの米囜特蚱第
3734763号には、ガラス繊維に適甚し、ガラス繊
維の静電荷の蓄積を最小にするこずができるよう
な陜むオン性䞍飜和アミノ−シランカツプリング
剀が蚘茉されおいる。これらのアミノ−シランカ
ツプリング剀は、共圹䞍飜和アルキルハラむドに
アミノ−シランを反応させるこずにより補造する
こずができる。 䞊蚘第四アンモニりム珪玠化合物ずは察照的
に、本発明の第四アンモニりム−珪玠化合物は繊
維材料に察し、繰返し掗濯に耐久性の垯電防止性
を付䞎する。さらに、この第四アンモニりム−珪
玠化合物、特に第四アンモニりム−オルガノポリ
シロキサン類は商業的に入手し埗る材料から぀く
るこずができる。 埓぀お本発明の目的は新芏な第四アンモニりム
−珪玠化合物の補造法を提䟛するこずである。本
発明の他の目的は繊維材料に垯電防止性を付䞎す
る第四アンモニりム−珪玠化合物を提䟛するこず
である。本発明のさらに他の目的は繰返し掗濯し
た埌も繊維材料に付着しおいる第四アンモニりム
−珪玠化合物を提䟛するこずである。本発明のさ
らに他の目的は繊維材料に垯電防止性を付䞎する
第四アンモニりム−オルガノポリシロキサン類の
補造方法を提䟛するこずである。 䞊蚘目的およびその他の目的は以䞋の説明から
明らかになろう。たた䞊蚘目的およびその他の目
的はカルボン酞−第四アンモニりム化合物をアミ
ノ−珪玠化合物ず反応させるこずを特城ずする第
四アンモニりム−珪玠化合物の補造方法を提䟛す
る本発明により達成される。これらの組成物を繊
維に適甚するず垯電防止性が埗られる。 アミノ−珪玠化合物ず反応させるカルボン酞−
第四アンモニりム化合物は次匏によ぀お衚わすこ
ずができる。 および 䞊蚘匏䞭、は同䞀でも異な぀おいおもよく、
炭玠原子数〜22の䞀䟡のアルキル又はアルケニ
ル炭化氎玠基であり、R1は匏−CnH2nO 匏䞭、末端炭玠原子は、窒玠原子に結合しおい
る。で衚わされるヒドロカルボノキシ基であり、
R2は同䞀でも異な぀おいおもよく、CH2y、
CHCHからなる矀から遞ばれた二䟡炭化氎玠
基、およびC6H4、C6H8、C6H10及びC10H8から
なる矀から遞ばれた環状二䟡炭化氎玠基であり、
R3は、炭玠原子数〜10の二䟡の炭化氎玠基で
あり、はハロゲン、アセテヌト及びメチルスル
プヌトのような陰むオン基であり、は〜
の数、は〜の数、は〜の数、は
〜の数であり、の和はを越えるこずが
できず、の和はを越えるこずができず、
は、たたはであり、は〜の数であ
り、は〜10の数である。 カルボン酞−第四アンモニりム化合物は次匏 䞊蚘匏䞭、R1、R3、、およびは䞊蚘
の通りであるで衚わされるカルビノヌル−第四
アンモニりム化合物を、カルボン酞たたはその環
状無氎物ず反応させるこずにより補造するこずが
できる。 このようにしお埗られたカルボン酞−第四アン
モニりム化合物を、次に (a) 次匏を有するシラン類 (b) 次匏の少なくずも䞀単䜍を有するシロキサン
類 (c) およびこれらの混合物 䞊蚘匏䞭は䞊蚘の通りであり、ORは炭化氎
玠オキシ基で、炭化氎玠基はからの炭玠原
子をも぀䟡炭化氎玠基であり、R4は同䞀でも
異な぀おいおもよく、炭玠原子数10以䞋の飜和二
䟡炭化氎玠基、酞玠が゚ヌテル結合の圢態にある
二䟡のヒドロカルボノキシ基および炭玠原子数
〜10の䞍飜和二䟡炭化氎玠基からなる矀から遞ば
れ、は、たたは、は、、たたは
である、 からなる矀から遞ばれたアミノ−化合物ず反応さ
せる。 シロキサン類(b)たたは匏 䞊蚘匏䞭およびは䞊蚘の通りであるで衚
わされる単䜍を含むこずができる。 シロキサン類はたたシラノヌル基、アルコキシ
基、アリヌルオキシ基たたはトリオルガノシロキ
シ基によ぀お末端が保護されおいおもよい。 カルボン酞−第四アンモニりム化合物ずアミノ
−珪玠化合物ずの反応は、玄℃〜玄175℃、さ
らに奜たしくは玄25℃〜玄140℃の枩床で行われ
る。必須の芁件ではないが、反応は䞭性溶媒存圚
に行うこずが望たしい。䞭性溶媒の適切な䟋ずし
おは、ヘキサンおよびヘプタンのような脂肪族炭
化氎玠溶媒ベンれン、トル゚ンおよびキシレン
のような芳銙族炭化氎玠溶媒ゞグリムおよびゞ
゚チル゚ヌテルのような゚ヌテル類−ト
リクロロ゚タン、パヌクロロ゚タンおよび四塩化
炭玠のような塩玠化炭化氎玠溶媒がある。 反応時間は広い範囲で倉えるこずができるが第
四アンモニりム化合物の分解を防止するために玄
100℃以䞊の枩床では反応時間を制限するこずが
望たしい。 第四アンモニりム化合物に結合しおいるカルボ
ン酞基察珪玠化合物に結合しおいるアミノ基のモ
ル比は、少なくずも぀のカルボン酞基が぀の
アミノ基ず反応するこずを条件ずしお䟋えば玄
〜の範囲で広範囲に倉えるこずがで
きる。 反応終了埌溶媒を玄25℃〜150℃の枩床で、奜
たしくは枛圧䞋に陀去する。 カルボン酞−第四アンモニりム化合物ずアミノ
−珪玠化合物ずの反応によりアンモニりムカルボ
キシレヌトが生成する。このアンモニりムカルボ
キシレヌトを高枩に加熱するずアンモニりムカル
ボキシレヌトモル圓り氎モルが陀去されお察
応するアミドを生成する。 氎ず共沞するトル゚ンのような䞭性溶媒を甚い
お氎を陀去するこずができる。あるいは氎は枛圧
䞋に陀去するこずもできる。しかしながらアンモ
ニりムカルボキシレヌトが必芁な堎合には、氎の
陀去ならびにアミドの生成は避けなければならな
い。 本発明に䜿甚されるカルボン酞−第四アンモニ
りム化合物は、ゞカルボン酞たたはその環状無氎
物を50℃〜175℃さらに奜たしくは75℃〜150℃の
枩床でカルビノヌル−第四アンモニりム化合物ず
反応させるこずにより補造するこずができる。䞀
般にこの反応は䞭性溶媒存圚䞋に行うこずが望た
しい。 䞊蚘䞭性溶媒をこのカルボン酞−第四アンモニ
りム化合物の補造においお甚いるこずができる。
この溶媒は25℃〜150℃で枛圧䞋に陀去するこず
ができる。 環状無氎物察カルビノヌル基のモル比は広範囲
で倉えるこずができる。䟋えば環状無氎物察カル
ビノヌル基のモル比は、少なくずも぀のカルビ
ノヌル基が環状無氎物分子ず反応するこずを条件
ずしお、〜の範囲で倉えるこずがで
きる。 ゞカルボン酞ずカルビノヌル−第四アンモニり
ム化合物を反応させる堎合には、この反応は副生
する氎ず共沞するこずができるような䞭性溶媒存
圚䞋に行うこずが望たしい。次に溶媒を25℃〜
150℃で枛圧䞋に陀去する。䞭性溶媒䞍存圚䞋に
この反応を行う堎合には氎は枛圧䞋に陀去するこ
ずができる。 觊媒を甚いおゞカルボン酞ずカルビノヌル−第
四アンモニりム化合物ずの反応を加速するこずも
できる。適切な觊媒の䟋ずしおは、アルカリ金属
氎酞化物たたはアルカリ金属アルコキシドのよう
な塩基塩酞のような酞四塩化チタンのような
チタネヌトおよびゞブチル錫ゞラりレヌトのよう
な錫化合物がある。䞀般に反応䜓の重量に察しお
箄0.1〜10の觊媒濃床が反応を促進する。 カルボン酞基察カルビノヌル基のモル比は広範
囲に倉えるこずができる。䟋えばカルボン酞基察
カルビノヌル基のモル比は、少なくずも぀のカ
ルボン酞基が぀のカルビノヌル基ず反応するこ
ずを条件ずしお〜の範囲で倉えるこ
ずができる。 カルボン酞−第四アンモニりム化合物を生成す
るのに甚いるこずができるゞカルボン酞の適切な
䟋ずしおは、シナり酞、マロン酞、コハク酞、グ
ルタル酞、フタル酞、アゞピン酞、ピメリン酞、
スベリン酞、アれラむン酞、セバシン酞がある。
環状無氎物の適切な䟋ずしおは無氎コハク酞、無
氎グルタコン酞、無氎マレむン酞、−シク
ロヘキサンゞカルボン酞無氎物、−シクロヘキ
セン−−ゞカルボン酞無氎物、−シクロ
ヘキセン−−ゞカルボン酞無氎物、−シ
クロヘキセン−−ゞカルボン酞無氎物、
−ナフタリン酞無氎物および無氎フタル酞
がある。 カルビノヌル−第四アンモニりム化合物はこの
技術分野に公知の䞀般的な方法により補造するこ
ずができる。䟋えば䞊蚘化合物はアルコヌル基を
有するアルキルハラむドをアミンたたはアンモニ
アず反応させるこずにより補造するこずができ
る。 カルビノヌル−第四アンモニりム化合物䞭の察
むオンは任意の陰むオン基ずするこずができる。
陰むオンの適切な䟋ずしおはハロゲン、アセテヌ
ト、メチルスルプヌトおよびホスプヌトむオ
ンがある。 によ぀お衚わされる䞀䟡の炭化氎玠基の適切
な䟋ずしおはアルキル基、䟋えばメチル基、゚チ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基アルケニル基䟋えばビニル
基、アリル基、オクタデセニル基アリヌル基䟋
えばプニル基およびナフチル基アルカリヌル
基䟋えばトリル基、キシリル基、゚チルプニル
基シクロアルキル基䟋えばシクロブチル基、シ
クロヘキシル基およびシクロデシル基アルアル
キル基䟋えばベンゞル基、−プニル゚チル基
および−プニルプロピル基がある。 R1によ぀お瀺される二䟡のヒドロカルボノキ
シ基の適切な䟋ずしおは、匏CnH2nO末
端炭玠原子は、窒玠原子に結合し、は〜の
平均数であり、は、たたはであるで衚
わされる基がある。 炭玠原子数10以䞋のR2によ぀お衚わされる二
䟡の炭化氎玠基の適切な䟋ずしおはメチレン基、
゚チレン基、トリメチレン基、テトラメチレン
基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オク
タメチレン基およびデカメチレン基がある。二䟡
のアリヌル基の䟋ずしおはプニレン基、シクロ
ヘキセニレン基およびナフテニレン基がある。
R3によ぀お衚わされる適切な二䟡の炭化氎玠基
の䟋ずしおぱチレン基、トリメチレン基、テト
ラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレ
ン基、オクタメチレン基およびデカメチレン基が
ある。 R4によ぀お衚わされる適切な二䟡の基の䟋ず
しおぱチレン基、トリメチレン基、ヘキサメチ
レン基およびオクタメチレン基のような炭化氎玠
基および匏 C2H4OrCH2z′C3H6Or CH2zandC4H8OrCH2z は〜、は〜10の数である で衚わされる基を含むヒドロカルボノキシ基があ
る。 R4によ぀お衚わされる䞍飜和の二䟡の基の適
切な䟋ずしおはプロペニレン基、む゜プロペニレ
ン基、−ブテニレン基、む゜ブテニレン基、
sec−ブテニレン基、−ペンテニレン基、−
ペンテニレン基、ヘキセニレン基、オクテニレン
基およびデセニレン基がある。 本発明の組成物を補造するのに䜿甚するこずが
できるアミノ−シラン類の適切な䟋ずしおはベヌ
タ−アミノプロピルトリ゚トキシシラン、ガンマ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、メチル−
ベヌタヌアミノ゚チル−ガンマ−アミノプロ
ピルゞメトキシシラン、オメガ−アミノヘキシル
トリブトキシシラン、ベヌタヌアミノ゚トキ
シプロピルトリメトキシシラン、ベヌタ−ア
ミノ゚トキシヘキシルトリ゚トキシシラン、ベ
ヌタ−アミノプロポキシブチルトリブトキシ
シランがある。䜿甚できるその他のアミノ−シラ
ン類ずしおは匏 を有する化合物がある。 本発明の方法に䜿甚されるアミノ−シロキサン
類はこの技術分野においおよく知られおいる。こ
れらの化合物はベむレむBailayの米囜特蚱
第2947771号に蚘茉された方法によ぀お補造する
こずができる。この方法ではアミノ−シランはア
ルカリ金属氎酞化物の存圚䞋でシロキサンず平衡
にある。たたこれらの化合物はフリヌドマン
Friedmanらの米囜特蚱第3598853号に蚘茉さ
れた方法により補造するこずができる。この特蚱
ではアミノ−シランはシラノヌル末端を有するポ
リゞオルガノシロキサンず瞮合する。アミノ−シ
ロキサン液を補造する別の方法が、マヌチン
Martinの米囜特蚱第3890269号ゞ゚ツクス
Jexらの第2930809号およびゞ゚ツクスJex
らの第3045036号に蚘茉されおいる。これらの特
蚱に蚘茉されたアミノ−シロキサン類ならびにそ
の補造方方法に぀いおはこれらの特蚱を参照され
たい。 これらの第四アンモニりム−珪玠化合物は各皮
の垌釈剀ず混合するこずができる。適切な垌釈剀
の䟋ずしおはアルコヌル類䟋えば゚タノヌルおよ
び−プロパノヌルのような有機溶媒ヘプタン
およびむ゜オクタンのような脂肪族溶媒トル゚
ンおよびキシレンのような芳銙族溶媒、クロロホ
ルムおよび−トリクロロ゚タンのよう
な塩玠化溶媒がある。その他の垌釈剀ずしおは、
氎、および25℃で100000mPa・以䞋の粘床を
有するオルガノシロキサン類䟋えばヘキサメチル
ゞシロキサン、ゞオルガノポリシロキサン類、䟋
えばゞメチルポリシロキサン類、環状シロキサン
類、オルガノ−ポリシロキサン類、䟋えばアミノ
−ポリシロキサン類、メルカプト−ポリシロキサ
ン類、カルボン酞−ポリシロキサン類がある。 本発明の第四アンモニりム−珪玠化合物を甚い
お繊維材料を凊理し、繊維材料を垯電防止性を付
䞎するこずができる。 これらの第四アンモニりム−珪玠化合物は濃厚
な状態で、あるいは垌釈剀の存圚䞋に繊維材料に
適甚するこずができる。垌釈剀䞭に存圚する第四
アンモニりム−珪玠化合物の量は第四アンモニり
ム−珪玠化合物ず垌釈剀の重量に察しお玄0.25〜
99重量、奜たしくは玄〜50重量の範囲ずす
るこずができる。 本発明の第四アンモニりム−珪玠化合物は必芁
な堎合にはその他の物質ず共にあらゆる皮類の繊
維材料に、奜たしくはポリオルガノシロキサン類
を適甚したあるいは適甚するこずができた有機繊
維材料に適甚するこずができる。このような繊維
材料の䟋ずしおは矊毛、綿、レヌペン、倧麻、
絹、ポリプロピレン、ポリ゚チレン、ポリ゚ステ
ル、ポリりレタン、ポリアミド、セルロヌスアセ
テヌト、ポリアクリロニトリルなどの繊維および
これらの繊維の混合物がある。このような繊維材
料はステヌプルフアむバヌたたはモノフむラメン
トから構成するこずができる。 本発明の第四アンモニりム−珪玠化合物ならび
に必芁な堎合にはその他の物質は噎霧、浞挬、パ
デむング、カレンダリングなどのこの技術分野に
公知の手段により、あるいはたた本発明の第四ア
ンモニりム−珪玠化合物および必芁によりその他
の材料を飜和したベヌスに繊維を滑べらせるこず
により繊維材料に適甚するこずができる。 䞀般に付着させる固圢物の量は繊維材料の初め
の重さに察しお0.001〜20、さらに奜たしくは
箄0.05〜10の範囲である。 繊維材料を凊理した埌、これを高枩で䟋えば玄
50゜〜200℃で短時間䟋えば玄〜15分間也燥す
る。 以䞋の実斜䟋により本発明の具䜓的な実斜態様
をさらに説明する。実斜䟋においおすべおの郚は
他の明蚘しない限り重量郚による。 実斜䟋  (a) カルボン酞−第四アンモニりム化合物の調
補。 匏 で衚わされるカルビノヌル−第四アンモニりム
化合物320郚が入぀たフラスコに、無氎コハク
酾158.8郚ずトル゚ン925郚を加え85℃で10時間
加熱する。生成物の赀倖分析は、無氎コハク酞
が存圚しおいないこずを瀺しおいる。この溶液
の酞含有量は1.1ミリ圓量蚈算倀1.1ミリ
圓量である。 (b) アミノ−珪玠化合物の調補 −アミノプロピルトリ゚トキシシラン221
郚が入぀たフラスコにオクタメチルシクロテト
ラシロキサン2220郚ずテトラメチルアンモニり
ムヒドロキシドの25重量メタノヌル溶液2.5
郚を加え、80℃で2.5時間加熱する。次に枩床
を140℃に䞊げ時間保぀。埗られた生成物は
末端が゚トキシ基で保護された−アミノプロ
ピル−ゞメチルポリシロキサンであり、その粘
床は25℃で27cs.であ぀た。塩基圓量は0.42ミリ
圓量である蚈算倀0.4ミリ圓量。 (c) 第四アンモニりム−ポリゞメチルシロキサン
の調補。 䞊蚘実斜䟋(a)で調補したカルボン酞−第四
アンモニりム化合物を含むトル゚ン溶液152.8
郚が入぀たフラスコに、䞊蚘実斜䟋(b)で調補
した−アミノプロピル−ゞメチルポリシロキ
サン400郚を加える。わずかに発熱があ぀た埌、
反応䜓を65℃で時間加熱し次に過する。え
られた生成物は匏 で瀺されその塩玠含有量は500ppm蚈算倀
5500ppmで、25℃で80000csの粘床を有した。 実斜䟋  実斜䟋(a)で調補したカルボン酞−第四アンモ
ニりム化合物を含む溶液343郚が入぀たフラスコ
に、アミノプロピルトリ゚トキシラン84郚を加え
る。20℃の発熱が芳察される。次に反応䜓をさら
に加熱するこずなく時間混合する。溶媒を60℃
で枛圧留去するず黄耐色のタフむヌ状液䜓が埗ら
れる。赀倖分析はこの生成物が第四アンモニりム
化合物であるこずを瀺しおいる。埗られた生成物
の塩玠含有量は玄3.2であるこずがわか぀た
蚈算倀3.1。この生成物を倧気䞭の湿気にさ
らすず硬化しおガラス状のフむルムになる。 実斜䟋  (a) −アミノ゚チル−−アミノプロピル−ポ
リゞメチルシロキサンの調補。 −アミノ゚チル−−アミノプロピルトリ
メトキシシラン222郚、オクタメチルシクロテ
トラシロキサン1110郚および氎酞化カリりム
1.5郚を含むフラスコを、145℃で時間加熱
し、次に100℃に冷华する。氷酢酞玄1.5をこ
の反応混合物に加えた埌過する。塩基圓量が
1.5ミリ圓量の透明な液䜓が埗られる。 (b) 䞊蚘実斜䟋(b)で調敎した−アミノプロピ
ル−ポリゞメチルシロキサンの代わりに、䞊蚘
(a)で調敎した−アミノ゚チル−−アミノ
プロピル−ポリゞメチルシロキサン113.8郚を
䜿甚した他は実斜䟋(c)の操䜜を繰返す。 透明な琥珀色の液䜓が埗られる。この液䜓は
倧気䞭の湿気の存圚䞋に溶媒を陀去するずガム
状のポリマヌを圢成する。生成物は赀倖分析か
ら第四アンモニりム−ポリゞメチルシロキサン
であるこずが同定される。 実斜䟋  (a) アミノ−ポリゞメチルシロキサンの調補。 オクタメチルシクロテトラシロキサン1802.8
郚、アむコサメチルノナシロキサン850郚およ
び氎酞化カリりム2.5郚を含むフラスコを150℃
に加熱する。−アミノ゚チル−−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン玄278郚を氎278郚ず
混合し、次にゆ぀くりフラスコに加え150℃で
時間保持する。添加終了埌反応混合物を100
℃たで冷华し次に氷酢酞2.5郚を加える。埗ら
れた生成物を宀枩たで冷华し過する。25℃に
おける粘床が71.9cs.であり、塩基圓量が0.75ミ
リ圓量の透明な液䜓が回収される。 (b) 第四アンモニりム−ポリゞメチルシロキサン
の調補。 䞊蚘実斜䟋(b)で調補された−アミノ矀−
プロピル−ゞメチルポリシロキサンの代わりに
䞊蚘(a)で調補された−アミノ゚チル−−
アミノプロピル−ポリゞメチルシロキサン224
郚を甚いた他は実斜䟋(c)の操䜜を繰返す。 えられた生成物はあたりの第四アンモニり
ム基のミリ圓量は0.3及び比重1.06氎をず
す、25℃で200000csの粘床を瀺す䞍透明琥珀
色の液䜓でその赀倖分析は2150cm-1〜3400cm-1
にアンモニりムむオンNHの吞収を800cm
-1〜1240cm-1にSi−−Siの吞収を、800cm-1
〜1240cm-1にSiCH3の吞収を、1720cm-1にCO
基の吞収を2980cm-1に脂肪族基の吞収を瀺し、
生成物が であるこずを瀺した。 実斜䟋  (a) −アミノ゚チル−−アミノプロピル−ポ
リゞメチルシロキサンの調補。 −アミノ゚チル−−アミノプロピルトリ
メトキシシランをゞメチルポリシロキサンゞオ
ヌルず反応させお−アミノ゚チル−−アミ
ノプロピル−ポリゞメチルシロキサンを調補す
る。埗られたポリゞメチルシロキサンは次の匏
で衚わされる。 (b) 第四アンモニりム−オルガノポリシロキサン
の調補。 実斜䟋(b)で調補された末端が゚トキシ基で
保護された−アミノプロピル−ゞメチルポリ
シロキサンの代わりに䞊蚘(a)で調補された
−アミノ゚チル−−アミノプロピル−ポリゞ
メチルシロキサン72.6郚を甚いる他は実斜䟋
(c)の操䜜を繰返す。 かくしお埗られた第四アンモニりム−ポリゞ
メチルシロキサンを85℃で時間枛圧䞋にスト
リツピング凊理する。 埗られた生成物は琥珀色のガム状ポリマヌで
あり、倧気䞭の湿気にさらすずゎム状のフむル
ムを圢成した。 実斜䟋  (a) カルボン酞−第四アンモニりム化合物の調
補。 無氎フタル酞234.7郚をカルビノヌル−第四
アンモニりム化合物ず反応させる他は実斜䟋
(a)の操䜜を繰返す。この溶液の酞含有量は玄
1.0ミリ圓量である蚈算倀1.07ミリ圓量
。 (b) 第四アンモニりム−ポリゞメチルシロキサン
の調補。 䞊蚘実斜䟋(a)で調補されたカルボン酞−第
四アンモニりム化合物を含む溶液玄168郚ず実
斜䟋(b)で調補された−アミノプロピル−ポ
リゞメチルシロキサン400郚が入぀たフラスコ
を65℃で時間加熱し、次に過する。埗られ
た液の塩玠含有量は玄5000ppmである蚈算
倀5620ppm。その窒玠含有量は玄6000ppmで
ある蚈算倀6373ppm。 実斜䟋  (a) カルボン酞−第四アンモニりム化合物の調
補。 匏 で衚わされるカルビノヌル−第四アンモニりム
化合物320郚、コハク酞187.3郚およびトル゚ン
925郚が入぀たフラスコを氎玄27郚が共沞され
お出お来るたで還流する。この反応混合物は宀
枩たで冷华する。混合物の酞含有量は1.17ミリ
圓量である蚈算倀1.1ミリ圓量。塩
玠含有量は1.8である塩玠含有量の蚈算倀
は2.0である。 (b) 第四アンモニりム−珪玠化合物の調補。 䞊蚘実斜䟋(a)で調補したカルボン酞−第四
アンモニりム化合物を含む溶液玄343郚が入぀
たフラスコに、−アミノ゚チル−−アミノ
プロピルトリメトキシシラン45郚を加える。反
応混合物の枩床は発熱反応により玄40℃たで䞊
昇した。加熱するこずなく時間撹拌した埌、
溶媒を60℃で枛圧留去する。黄耐色のタフむヌ
状液䜓が埗られ、この液䜓は倧気䞭の湿気に觊
れるず硬化しおガラス状フむルムになる。 実斜䟋  (a) カルボン酞−第四アンモニりム化合物の調
補。 匏 で衚わされるカルビノヌル−第四アンモニりム
化合物320郚、12−ドデカンゞカルボン酞
365.2郚およびキシレン925郚が入぀たフラスコ
を氎玄27郚が共沞しお出お来るたで還流する。
次に反応混合物を宀枩たで冷华する。埗られた
溶液の酞含有量は0.9ミリ圓量である蚈
算倀0.96ミリ圓量。塩玠含有量は1.60
蚈算倀1.8であり、埗られる生成物の窒玠
含有量は0.6蚈算倀0.7である。 (b) 第四アンモニりム−珪玠化合物の調補。 䞊蚘実斜䟋(a)で調補されたカルボン酞−第
四アンモニりム化合物を含む溶液玄350郚が入
぀たフラスコに、−アミノ゚チル−−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン35郚を加える。
箄12℃の発熱が芳察される。反応混合物を玄36
℃で時間混合する。次に溶媒を100℃で枛圧
留去する。黄耐色のタフむヌ状の液䜓が埗られ
る。この液䜓は倧気䞭の湿気に觊れるず硬化し
おガラス状のフむルムになる。埗られた生成物
の塩玠含有量は玄1.4である塩玠含有量の
蚈算倀は1.6である。 実斜䟋  無氎コハク酞の代わりに無氎グルタコン酞を甚
いる他は実斜䟋の操䜜を繰返す。第四アンモニ
りム−ポリゞメチルシロキサンが埗られる。 実斜䟋 10 無氎コハク酞の代わりに−シクロヘキサ
ンゞカルボン酞無氎物を甚いる他は実斜䟋の操
䜜を繰返す。第四アンモニりム−ポリゞメチルシ
ロキサンが埗られる。 実斜䟋 11 (a) カルボン酞−第四アンモニりム化合物の調
補。 匏 で衚わされるカルビノヌル−アンモニりム化合
物玄129.8郚を含むフラスコに無氎コハク酞玄
110.3郚を加え100℃で10時間加熱する。埗られ
た第四アンモニりム化合物の塩玠含有量は5.1
である蚈算倀5.7。その窒玠含有量は
2.0蚈算倀2.2であり、酞含有量は5.0ミ
リ圓量である蚈算倀4.6ミリ圓量。 (b) 第四アンモニりム−ポリゞメチルシロキサン
の調補。 実斜䟋11(a)で調補された生成物65.4郚が入぀
たフラスコに、塩基含有量が0.2ミリ圓量
であり、末端がトリメチルシロキシ基で保護さ
れた−アミノプロピル−ポリゞメチルシロキ
サン500郚を添加する。 埗られた生成物は琥珀色のガムであり、その
酞含有量は0.4ミリ圓量蚈算倀0.36ミリ
圓量であり、塩玠含有量は5550ppm蚈
算倀6600ppmである。 実斜䟋 12 本発明の第四アンモニりム−珪玠化合物の垯電
防止性を瀺すために各実斜䟋で調補された化合物
の重量−プロパノヌル溶液を100ポリ゚
ステル繊維に含浞率70でパツドする。凊理した
繊維を175℃で60秒間也燥する。凊理した繊維の
衚面抵抗率を次衚に瀺す。
【衚】 実斜䟋 13 (a) カルボン酞第四アンモニりム化合物の調補。 匏 を有するカルビノヌル第四アンモニりム化合物
526郚を含むフラスコに、無氎こはく酞500.5
郚、キシレン1000郚が加えられ、それから100
℃で18時間加熱された。生成物の赀倖分析は無
氎こはく酞の存圚しないこずを瀺しおいる。溶
液の酞含量は2.5ミリ圓量であるこずを瀺
しおいる。蚈算倀2.48ミリ圓量 (b) 第四アンモニりムポリゞメチルシロキサンの
調補 䞊蚘䟋13(a)で調補されたカルボン酞第四アン
モニりム化合物のキシレン溶液100郚を含むフ
ラスコに、䟋(b)で調補されたアミノシリコン
化合物の玄640郚が添加された。僅かな発熱の
あず、反応物は時間65℃で加熱され、それか
ら濟過された。80℃枛圧䞋に溶媒を陀去したあ
ず、タフむtaffy様物質がえられる。赀倖
分析は、生成物が第四アンモニりムポリゞメチ
ルシロキサンであるこずを瀺しおいる。栞磁気
共鳎分析はアセテヌトアニオンの存圚を瀺しお
いる。 実斜䟋 14 (a) カルボン酞第四アンモニりム化合物の調補 匏 により瀺されるカルビノヌル第四アンモニりム
化合物の661郚が䟋13(a)のカルビノヌル第四ア
ンモニりム化合物に察しお眮換されおいるこず
を陀倖しお、䟋13(a)の凊理が繰返されおいる。
溶液の酞含量は2.25ミリ圓量であるず発芋
されおいる蚈算倀2.31 (b) 第四アンモニりムポリゞメチルシロキサンの
調補 䞊の䟋14(a)で調補されたカルボン酞第四アン
モニりム化合物を含んでいるキシレン溶液100
郚が䟋(b)で調補されたアミノシリコン化合物
箄536郚に加えられおいる。赀倖分析は第四ア
ンモニりムポリゞメチルポリシロキサンが生成
しおいるこずを瀺しおいる。塩化物分析は、ア
ニオンが玄理論量存圚しおいるこずを瀺しおい
る。 実斜䟋 15 (a) カルボン酞第四アンモニりム化合物の調補 䟋(a)で調補されたカルビノヌル第四アンモ
ニりム化合物320郚を含んでいるフラスコに、
無氎−ナフタリン酞、313郚及びトル゚
ン1000郚が添加される。埗られた混合物は10時
間85℃で加熱される。赀倖分析は、本質的に党
無氎物が反応したこずを瀺しおいる。 (b) 第四アンモニりムゞメチルシロキサンの調補 䞊蚘䟋15(a)で調補されたカルボン酞第四アン
モニりム化合物のトル゚ン溶液100郚を含むフ
ラスコに、䟋(b)で調補されたアミノシリコン
化合物玄250郚が加えられる。僅かな発熱のあ
ず、反応物は時間65℃で加熱され、濟過され
る。80℃枛圧䞋溶媒を陀去したあず、倧倉粘皠
な液䜓がえられる。赀倖分析は、生成物が第四
アンモニりムポリゞメチルシロキサンであるこ
ずを瀺しおいる。 実斜䟋 16 (a) −アミノ゚トキシ−シクロペンタメ
チレンプロペニレンポリゞメチルシロキサンの
調補 匏 の−アミノ゚トキシ−−シクロペンタ
メチレンプロペニレン−トリメトキシシランの
290郚を含むフラスコにオクタメチルシクロテ
トラシロキサン2220郚及びメタノヌルに溶かさ
れたテトラメチルアンモニりムハむドロオキサ
むドの25重量溶液の2.5郚が加えられ、80℃
で2.5時間加熱される。それから枩床は140℃に
増加され、時間保持される。埗られた生成物
は、0.38ミリ圓量の塩基圓量をも぀−ア
ミノ゚トキシ−−シクロペンタメチレン
プロペニレンポリゞメチルシロキサンである。 (b) 第四アンモニりムポリゞメチルシロキサンの
調補 䞊蚘䟋16(a)で調補された−アミノ゚トキシ
−−シクロペンタメチレンプロペニレン
ポリゞメチルシロキサンの411郚が−アミノ
プロピルポリゞメチルシロキサンの代りに䜿わ
れるこずを陀倖しお、䟋(c)の凊理が繰返され
おいる。赀倖分析及び塩化物分析は、第四アン
モニりムゞメチルポリシロキサンが生成されお
いるこずを瀺しおいる。 実斜䟋 17 (a) −アミノプロポキシ−−プロペニレンポ
リゞメチルシロキサンの調補 −アミノプロポキシ−−プロペニレント
リメトキシシラン219郚が−アミノ゚トキシ
−−シクロペンタメチレンプロペニレン
トリメトキシシランに察し眮換されおいるこず
を陀倖しお、䟋16(a)の凊理が繰返されおいる。
埗られた生成物は0.39ミリ圓量の塩基圓量
をも぀−アミノプロポキシ−−プロペニレ
ンポリゞメチルシロキサンである。 (b) 第四アンモニりムポリゞメチルシロキサンの
調補 䞊蚘䟋17(a)で調補された−アミノプロキシ
−−プロペニレンポリゞメチルシロキサン
399郚が、−アミノプロピルポリゞメチルシ
ロキサンに察し眮換されおいるこずを陀倖し
お、䟋(c)の凊理が繰返されおいる。匕続きの
赀倖及び塩化物分析は、第四アンモニりムゞメ
チルポリシロキサンが調補されおいるこずを瀺
しおいる。 実斜䟋 18 (a) 匏 により瀺されたカルビノヌル第四アンモニりム
化合物380郚が、䟋(a)で䜿甚されたカルビノ
ヌル第四アンモニりム化合物に眮換されおいる
こずを陀倖しお、䟋(a)及び(b)の凊理が繰返
されおいる。 (c) 䟋(b)で調補された−アミノプロピルゞメ
チルポリシロキサンの404郚が、−アミノプ
ロピルゞメチルポリシロキサンの400郚に眮換
されおいるこずを陀倖しお、䟋(c)の凊理が繰
返されおいる。赀倖分析及び栞磁気共鳎分析は
メチルサルプむトアニオンをも぀第四アンモ
ニりム化合物がえられおいるこずを瀺しおい
る。 実斜䟋 19 䟋(b)における−−アミノプロポキシ−
−ゞメチル−−プロペニル−トリメトキ
シシラン231.4郚が−アミノプロピルトリメト
キシシラン221郚に眮換されおいる以倖は䟋(a)
及び(b)の凊理が繰返される。反応生成物はメトキ
シ末端シダ閉−−アミノロポキシ−
−ゞメチル−−プロペニルゞメチルポリシロキ
サンである。 (c) 第四アンモニりムポリゞメチルシロキサンの
調補 (a)により調補されたカルボン酞第四アンモ
ニりム化合物を含んでいるトル゚ン溶液150郚
を含んでいるフラスコに、䞊蚘(b)で調補された
メトキシ末端シダ閉−−アミノプロポキ
シ−−ゞメチル−−プロペニルゞメ
チルポリシロキサン400郚が加えられる。僅か
な発熱埌、反応物は時間玄65℃に加熱され
る。それから濟過される。反応生成物は第四ア
ンモニりムポリシロキサンず確認されおいる。 実斜䟋 20 −シクロヘキセン−−ゞカルボン酞が
無氎こはく酞に察し代えられおいる以倖は、䟋
の凊理が繰返えされおいる。第四アンモニりムポ
リゞメチルシロキサンがえられおいる。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  第四アンモニりム−珪玠化合物の補造法にお
    いお、䞀般匏 をも぀カルボン酞第四アンモニりム化合物を (a) 匏NH2R4NHbSiOR3をも぀シラン及び (b) 次匏の少くずも単䜍をも぀シロキサン NH2R4−NHbR4−SiO3/2 からなる矀からえらばれたアミノ珪玠化合物ず
    25℃から140℃の枩床、カルボン酞矀アミノ
    矀のモル比からで反応させるこず
    を特城ずする第四アンモニりム−珪玠化合物の
    補造法。䜆し少くずも぀のカルボン酞矀が
    ぀のアミノ矀ず反応する。 〔ここで、はから18の炭玠原子をも぀䟡
    炭化氎玠基R1は又はの炭玠原子をも぀
    炭化氎玠オキシ基R2はからの炭玠原子
    をも぀䟡の炭化氎玠基R4は又はの炭
    玠原子をも぀飜和䟡炭化氎玠基及び
    OR矀は炭化氎玠オキシ基、ここでOR
    矀の炭化氎玠基は又はの炭玠原子をも぀
    䟡炭化氎玠基で、は又はである。〕
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