JPH0142584B2 - - Google Patents
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- JPH0142584B2 JPH0142584B2 JP9685884A JP9685884A JPH0142584B2 JP H0142584 B2 JPH0142584 B2 JP H0142584B2 JP 9685884 A JP9685884 A JP 9685884A JP 9685884 A JP9685884 A JP 9685884A JP H0142584 B2 JPH0142584 B2 JP H0142584B2
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- Japan
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- heating chamber
- heated
- opening
- excitation port
- heating
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 69
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 30
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
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- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、電子レンジ等の高周波加熱装置の加
熱分布性能の改善に関するものである。
熱分布性能の改善に関するものである。
従来例の構成とその問題点
一般にマイクロ波を用いて食品等の誘電体を加
熱する電子レンジ等の高周波加熱装置はマイクロ
波個有の波長と加熱室や被加熱物の大きさや形と
の相互関係によつて加熱室内に定在波を生じ被加
熱物の加熱にむらが生じるという問題を有してい
る。この加熱むらを改善するのに被加熱物を回転
させるターンテーブル方式や、加熱室内の電界を
乱すスタラー方式が用いられている。このスタラ
ー方式を用いて加熱室底面にマイクロ波の励振口
を設ける従来例の高周波加熱装置を第１図に示
す。図において、１はマイクロ波を発生する発振
器、２は前記発振器１で発生したマイクロ波を伝
送する導波管、３は被加熱物を加熱する加熱室、
４は前記導波管２によつて伝送されたマイクロ波
で前記加熱室３を励振する励振口、５はアンテ
ナ、６は前記励振口４から供給されたマイクロ波
を前記加熱室３内の特定の方向から放出するため
その端部に開口６−ａを有した回転導波管、７は
被加熱物をその上に置くために前記加熱室３内に
設けられたテーブル、８は前記回転導波管６を回
転するためのモータである。前記回転導波管６は
前記励振口４を覆うような箱形で前記加熱室３の
底壁面との間に隙間を有し端部に加熱室に向う開
口６−ａを有している。このような電波撹拌のた
めの構成をとつている理由は被加熱物を加熱する
際に前記励振口４からのマイクロ波が直接被加熱
物の底面の中央部に到達し、その部分を強く加熱
するのを防ぐためである。すなわち前記励振口４
からのマイクロ波の大部分は前記導波管６の開口
６−ａを通り、誘電体で構成された前記テーブル
７を介して前記加熱室３内に放射される。しかし
このような構成にすると被加熱物の底面中央部の
加熱が弱くなりすぎるという欠点があり、又前記
回転導波管の壁面に開口をあけると強くなりすぎ
るという欠点を有していた。
熱する電子レンジ等の高周波加熱装置はマイクロ
波個有の波長と加熱室や被加熱物の大きさや形と
の相互関係によつて加熱室内に定在波を生じ被加
熱物の加熱にむらが生じるという問題を有してい
る。この加熱むらを改善するのに被加熱物を回転
させるターンテーブル方式や、加熱室内の電界を
乱すスタラー方式が用いられている。このスタラ
ー方式を用いて加熱室底面にマイクロ波の励振口
を設ける従来例の高周波加熱装置を第１図に示
す。図において、１はマイクロ波を発生する発振
器、２は前記発振器１で発生したマイクロ波を伝
送する導波管、３は被加熱物を加熱する加熱室、
４は前記導波管２によつて伝送されたマイクロ波
で前記加熱室３を励振する励振口、５はアンテ
ナ、６は前記励振口４から供給されたマイクロ波
を前記加熱室３内の特定の方向から放出するため
その端部に開口６−ａを有した回転導波管、７は
被加熱物をその上に置くために前記加熱室３内に
設けられたテーブル、８は前記回転導波管６を回
転するためのモータである。前記回転導波管６は
前記励振口４を覆うような箱形で前記加熱室３の
底壁面との間に隙間を有し端部に加熱室に向う開
口６−ａを有している。このような電波撹拌のた
めの構成をとつている理由は被加熱物を加熱する
際に前記励振口４からのマイクロ波が直接被加熱
物の底面の中央部に到達し、その部分を強く加熱
するのを防ぐためである。すなわち前記励振口４
からのマイクロ波の大部分は前記導波管６の開口
６−ａを通り、誘電体で構成された前記テーブル
７を介して前記加熱室３内に放射される。しかし
このような構成にすると被加熱物の底面中央部の
加熱が弱くなりすぎるという欠点があり、又前記
回転導波管の壁面に開口をあけると強くなりすぎ
るという欠点を有していた。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、加
熱分布性能のすぐれた高周波加熱装置を提供する
ことを目的とする。
熱分布性能のすぐれた高周波加熱装置を提供する
ことを目的とする。
発明の構成
上記目的を達するため、本発明の高周波加熱装
置は被加熱物を加熱する加熱室と、マイクロ波を
発生する発振器と、前記加熱室の壁面に設け前記
発振器の出力を前記加熱室に供給する励振口と、
この励振口を覆い、この励振口を中心として前記
加熱室壁面と平行に回転し、端部に開口を有する
回転導波管とを備え、前記回転導波管は加熱室壁
面の励振口を設けた壁面と略平行な平面部を有
し、前記平面部の一部に窪みを有し、前記窪みを
形成する壁面の前記回転導波管の端部の開口と同
じ側にマイクロ波の通過可能な開口を有する構成
であり、前記励振口から前記回転導波管内に供給
されたマイクロ波が前記回転導波管内を進行し加
熱室壁の垂直部等で一部反射して前記励振口の方
へ戻つて来る反射波の一部を前記開口を通つて加
熱室内に置かれた被加熱物へ放射するため、その
マイクロ波の強さが適度に弱められ被加熱物の加
熱分布が良いという効果を有するものである。
置は被加熱物を加熱する加熱室と、マイクロ波を
発生する発振器と、前記加熱室の壁面に設け前記
発振器の出力を前記加熱室に供給する励振口と、
この励振口を覆い、この励振口を中心として前記
加熱室壁面と平行に回転し、端部に開口を有する
回転導波管とを備え、前記回転導波管は加熱室壁
面の励振口を設けた壁面と略平行な平面部を有
し、前記平面部の一部に窪みを有し、前記窪みを
形成する壁面の前記回転導波管の端部の開口と同
じ側にマイクロ波の通過可能な開口を有する構成
であり、前記励振口から前記回転導波管内に供給
されたマイクロ波が前記回転導波管内を進行し加
熱室壁の垂直部等で一部反射して前記励振口の方
へ戻つて来る反射波の一部を前記開口を通つて加
熱室内に置かれた被加熱物へ放射するため、その
マイクロ波の強さが適度に弱められ被加熱物の加
熱分布が良いという効果を有するものである。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について、図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
第２図は本発明の一実施例の高周波加熱装置の
斜視図で、テーブル７を一部切り欠いて示してい
る。図において３は被加熱物を加熱する加熱室、
６はマイクロ波の供給方向を回転させる回転導波
管、７はその上に被加熱物を置くテーブル、９は
被加熱物を出し入れするドア、１０は加熱時間、
加熱出力等を設定する操作パネルである。第３図
は、第２図におけるＡ−A′断面図で、図におい
て１はマイクロ波を発生する発振器、２は前記発
振器１で発生したマイクロ波を伝送する導波管、
４は前記導波管２によつて伝送されたマイクロ波
で前記加熱室３を励振する励振口、５はアンテ
ナ、６は前記励振口４から供給されたマイクロ波
を前記加熱室３内の特定の方向から放出するため
その端部に開口６−ａを有した回転導波管、７は
被加熱物をその上に置くため前記加熱室３内に設
けられた誘電体より成るテーブル、８は前記回転
導波管６を回転するためのモータである。前記回
転導波管６は金属体より成り前記励振口４を覆う
ような箱形で前記加熱室３の底壁面との間に隙間
を有し端部に加熱室に向う開口Ａ６−ａを有して
いる。前記回転導波管は第４図のように前記加熱
室壁面の前記励振口を設けた壁面と略平行な平面
部６−ｂを有し、前記平面部６−ｂの一部に窪み
６−ｃを有し、前記窪み６−ｃを形成する壁面の
前記回転導波管６の端部の開口６−ａと同じ側に
マイクロ波の通過可能な開口Ｂ６−ｄを有してい
る。前記回転導波管６は前記励振口４を中心とし
て前記モータ８により前記加熱室３の底壁面と平
行に回転する。第５図は第３図におけるＢ−
B′断面図で、前記開口Ｂ６−ｄは前記窪み６−
ｃを形成する壁面の傾斜部に長辺の長さがマイク
ロ波の波長の約1/4以上となるスリツト状に設け
られている。
斜視図で、テーブル７を一部切り欠いて示してい
る。図において３は被加熱物を加熱する加熱室、
６はマイクロ波の供給方向を回転させる回転導波
管、７はその上に被加熱物を置くテーブル、９は
被加熱物を出し入れするドア、１０は加熱時間、
加熱出力等を設定する操作パネルである。第３図
は、第２図におけるＡ−A′断面図で、図におい
て１はマイクロ波を発生する発振器、２は前記発
振器１で発生したマイクロ波を伝送する導波管、
４は前記導波管２によつて伝送されたマイクロ波
で前記加熱室３を励振する励振口、５はアンテ
ナ、６は前記励振口４から供給されたマイクロ波
を前記加熱室３内の特定の方向から放出するため
その端部に開口６−ａを有した回転導波管、７は
被加熱物をその上に置くため前記加熱室３内に設
けられた誘電体より成るテーブル、８は前記回転
導波管６を回転するためのモータである。前記回
転導波管６は金属体より成り前記励振口４を覆う
ような箱形で前記加熱室３の底壁面との間に隙間
を有し端部に加熱室に向う開口Ａ６−ａを有して
いる。前記回転導波管は第４図のように前記加熱
室壁面の前記励振口を設けた壁面と略平行な平面
部６−ｂを有し、前記平面部６−ｂの一部に窪み
６−ｃを有し、前記窪み６−ｃを形成する壁面の
前記回転導波管６の端部の開口６−ａと同じ側に
マイクロ波の通過可能な開口Ｂ６−ｄを有してい
る。前記回転導波管６は前記励振口４を中心とし
て前記モータ８により前記加熱室３の底壁面と平
行に回転する。第５図は第３図におけるＢ−
B′断面図で、前記開口Ｂ６−ｄは前記窪み６−
ｃを形成する壁面の傾斜部に長辺の長さがマイク
ロ波の波長の約1/4以上となるスリツト状に設け
られている。
以下上記構成における作用について説明する。
前記発振器１で発生したマイクロ波は前記導波管
２によつて伝送され前記励振口４とアンテナ５で
構成された結合部を通つて前記回転導波管６内に
放射される。前記回転導波管６内に放射されたマ
イクロ波はこの回転導波管内を進行し前記開口Ａ
６−ａから加熱室内に入射する。このときマイク
ロ波の一部は前記開口Ａ６−ａに対向する前記加
熱室３の壁面で反射し、前記回転導波管６の中心
方向へ戻つて行く反射波が発生する。この反射波
の一部が前記窪み６−ｃの前記励振口４から直接
見えない傾斜部に設けられた開口Ｂ６−ｄより加
熱室内に入射する。前記加熱室内に被加熱物を置
いた状態を考えると、回転している前記回転導波
管６の前記開口Ａ６−ａから放射されるマイクロ
波によつて前記被加熱物の上部及び周囲が加熱さ
れ、前記開口Ｂ６−ｄから放射されるマイクロ波
によつて前記被加熱物の底部中央が加熱される。
前記発振器１で発生したマイクロ波は前記導波管
２によつて伝送され前記励振口４とアンテナ５で
構成された結合部を通つて前記回転導波管６内に
放射される。前記回転導波管６内に放射されたマ
イクロ波はこの回転導波管内を進行し前記開口Ａ
６−ａから加熱室内に入射する。このときマイク
ロ波の一部は前記開口Ａ６−ａに対向する前記加
熱室３の壁面で反射し、前記回転導波管６の中心
方向へ戻つて行く反射波が発生する。この反射波
の一部が前記窪み６−ｃの前記励振口４から直接
見えない傾斜部に設けられた開口Ｂ６−ｄより加
熱室内に入射する。前記加熱室内に被加熱物を置
いた状態を考えると、回転している前記回転導波
管６の前記開口Ａ６−ａから放射されるマイクロ
波によつて前記被加熱物の上部及び周囲が加熱さ
れ、前記開口Ｂ６−ｄから放射されるマイクロ波
によつて前記被加熱物の底部中央が加熱される。
このように本実施例によれば、間接的な開口の
効果、すなわち前記励振口４から直接見えない部
分に前記開口Ｂ６−ｄを設ける構成の効果として
次の二つの効果がある。一つめの効果は被加熱物
の底部中央へのマイクロ波の強さが適度に抑制さ
れ被加熱物全体の加熱状態に対する底部中央の加
熱状態が適度になり均一性が増すことである。こ
れは励振口から直接見えない部分に開口Ｂ６−ｄ
を設ける構成によつて反射波として発振器側に戻
つて行くマイクロ波の一部を利用するため比較的
弱いマイクロ波を被加熱物底部中央へ導くことが
できるためであり、ただ単に開口を設ける、すな
わち励振口から直接見える部分に開口を設ける場
合には励振口から直接マイクロ波が加熱室内に出
て行くためその強さが非常に強くなつて被加熱物
底部中央を極端に加熱するし又開口の大きさを小
さくして行つてもマイクロ波の波長の1/4程度の
大きさになると開口部周辺が過熱し損失が大きく
実用できないので底部中央の過熱状態を適度にす
ることができない。二つめの効果は発振器への反
射波が弱くなり発振器の温度が下がり耐久性が増
すことである。これは前記のように反射波の一部
を前記開口Ｂ６−ｄを介して前記加熱室３へ導く
ことにより前記発振器１へ戻る反射波が弱くなる
ためである。次に窪み部を設ける効果として次の
二つの効果がある。一つめの効果は被加熱物底面
から金属体である回転導波管の上面までの距離が
大きくなるためマイクロ波が被加熱物底面中央部
の広い範囲にあたり被加熱物底面の局部的な過熱
を防ぐということである。この効果は一見窪みを
設けなくても回転導波管の高さ寸法すなわち第４
図におけるｌ寸法を小さくすれば得られそうに考
えられるが、このｌ寸法を小さくすると回転導波
管の下面と加熱室壁面とのギヤツプすなわち第４
図におけるｇ寸法との比ｌ／ｇが小さくなる。こ
のｌ／ｇの値が３以下になると前記ギヤツプから
のマイクロ波の漏れが多くなり回転導波管として
の機能を果たさなくなり、一方前記ｇ寸法は放電
を防ぐために小さくできないため前記ｌ寸法を小
さくすることは好ましくない。二つめの効果は前
記回転導波管６を支え、マイクロ波を前記回転導
波管６内に導くための前記アンテナ５の長さを短
くできコストが下がることである。
効果、すなわち前記励振口４から直接見えない部
分に前記開口Ｂ６−ｄを設ける構成の効果として
次の二つの効果がある。一つめの効果は被加熱物
の底部中央へのマイクロ波の強さが適度に抑制さ
れ被加熱物全体の加熱状態に対する底部中央の加
熱状態が適度になり均一性が増すことである。こ
れは励振口から直接見えない部分に開口Ｂ６−ｄ
を設ける構成によつて反射波として発振器側に戻
つて行くマイクロ波の一部を利用するため比較的
弱いマイクロ波を被加熱物底部中央へ導くことが
できるためであり、ただ単に開口を設ける、すな
わち励振口から直接見える部分に開口を設ける場
合には励振口から直接マイクロ波が加熱室内に出
て行くためその強さが非常に強くなつて被加熱物
底部中央を極端に加熱するし又開口の大きさを小
さくして行つてもマイクロ波の波長の1/4程度の
大きさになると開口部周辺が過熱し損失が大きく
実用できないので底部中央の過熱状態を適度にす
ることができない。二つめの効果は発振器への反
射波が弱くなり発振器の温度が下がり耐久性が増
すことである。これは前記のように反射波の一部
を前記開口Ｂ６−ｄを介して前記加熱室３へ導く
ことにより前記発振器１へ戻る反射波が弱くなる
ためである。次に窪み部を設ける効果として次の
二つの効果がある。一つめの効果は被加熱物底面
から金属体である回転導波管の上面までの距離が
大きくなるためマイクロ波が被加熱物底面中央部
の広い範囲にあたり被加熱物底面の局部的な過熱
を防ぐということである。この効果は一見窪みを
設けなくても回転導波管の高さ寸法すなわち第４
図におけるｌ寸法を小さくすれば得られそうに考
えられるが、このｌ寸法を小さくすると回転導波
管の下面と加熱室壁面とのギヤツプすなわち第４
図におけるｇ寸法との比ｌ／ｇが小さくなる。こ
のｌ／ｇの値が３以下になると前記ギヤツプから
のマイクロ波の漏れが多くなり回転導波管として
の機能を果たさなくなり、一方前記ｇ寸法は放電
を防ぐために小さくできないため前記ｌ寸法を小
さくすることは好ましくない。二つめの効果は前
記回転導波管６を支え、マイクロ波を前記回転導
波管６内に導くための前記アンテナ５の長さを短
くできコストが下がることである。
発明の効果
以上のように本発明によれば次の効果を得るこ
とができる。
とができる。
(1) 被加熱物底部中央へのマイクロ波の強さが適
度に抑制され被加熱物全体の加熱状態に対する
底部中央の加熱状態が適度になるとともにマイ
クロ波が被加熱物底面中央部の広い範囲にあた
り被加熱底面の局部的な過熱を防ぎ、加熱分布
性能のすぐれた高周波加熱装置を提供できる。
度に抑制され被加熱物全体の加熱状態に対する
底部中央の加熱状態が適度になるとともにマイ
クロ波が被加熱物底面中央部の広い範囲にあた
り被加熱底面の局部的な過熱を防ぎ、加熱分布
性能のすぐれた高周波加熱装置を提供できる。
(2) 発振器への反射波が弱くなり発振器の温度が
下がり耐久性が向上する。
下がり耐久性が向上する。
(3) 回転導波管を支えるアンテナの寸法を短くで
きコストが低下する。
きコストが低下する。
第１図は従来の高周波加熱装置の断面図、第２
図は本発明の一実施例である高周波加熱装置の斜
視図、第３図は同高周波加熱装置の第２図におけ
るＡ−A′断面図、第４図は第３図の部分拡大図、
第５図は同高周波加熱装置の第３図におけるＢ−
B′断面図である。 １……発振器、２……導波管、３……加熱室、
４……励振口、５……アンテナ、６……回転導波
管、６−ａ……開口Ａ、６−ｂ……平面部、６−
ｃ……窪み、６−ｄ……開口Ｂ、７……テーブ
ル、８……モータ、９……ドア、１０……操作パ
ネル。
図は本発明の一実施例である高周波加熱装置の斜
視図、第３図は同高周波加熱装置の第２図におけ
るＡ−A′断面図、第４図は第３図の部分拡大図、
第５図は同高周波加熱装置の第３図におけるＢ−
B′断面図である。 １……発振器、２……導波管、３……加熱室、
４……励振口、５……アンテナ、６……回転導波
管、６−ａ……開口Ａ、６−ｂ……平面部、６−
ｃ……窪み、６−ｄ……開口Ｂ、７……テーブ
ル、８……モータ、９……ドア、１０……操作パ
ネル。
Claims (1)
- １ 被加熱物を加熱する加熱室と、マイクロ波を
発生する発振器と、前記加熱室の壁面に設け前記
発振器の出力を前記加熱室に供給する励振口と、
この励振口を覆い、この励振口を中心として前記
加熱室壁面と平行に回転し、端部に開口を有する
回転導波管とを備え、前記回転導波管は加熱室壁
面の前記励振口を設けた壁面と略平行な平面部を
有し、前記平面部の一部に窪みを有し、前記窪み
を形成する壁面の前記回転導波管の端部の開口と
同じ側にマイクロ波の通過可能な開口を有する構
成とした高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59096858A JPS60241697A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59096858A JPS60241697A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60241697A JPS60241697A (ja) | 1985-11-30 |
| JPH0142584B2 true JPH0142584B2 (ja) | 1989-09-13 |
Family
ID=14176164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59096858A Granted JPS60241697A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60241697A (ja) |
-
1984
- 1984-05-15 JP JP59096858A patent/JPS60241697A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60241697A (ja) | 1985-11-30 |
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