JPH0143024B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0143024B2
JPH0143024B2 JP18871080A JP18871080A JPH0143024B2 JP H0143024 B2 JPH0143024 B2 JP H0143024B2 JP 18871080 A JP18871080 A JP 18871080A JP 18871080 A JP18871080 A JP 18871080A JP H0143024 B2 JPH0143024 B2 JP H0143024B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wire
die
wires
filament
twisted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP18871080A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57110666A (en
Inventor
Hiroshi Inoe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Tungsten Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Tungsten Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Tungsten Co Ltd filed Critical Tokyo Tungsten Co Ltd
Priority to JP18871080A priority Critical patent/JPS57110666A/ja
Publication of JPS57110666A publication Critical patent/JPS57110666A/ja
Publication of JPH0143024B2 publication Critical patent/JPH0143024B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/26Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は複数本のワイヤを撚線してストランド
を製造する方法、特にタングステン等のワイヤに
より蒸着用フイラメントを製造する方法に関す
る。
通常のストランドの製造に使用される撚線機の
要部の概略構成を第1図に示す。
図において、回転軸に沿つて延びるシヤフト1
1にバーレル12が一体的に回転できるように固
定されており、バーレル12にはワイヤ14を巻
回した複数個のスプール13が取付けられてい
る。各スプール13から引出されたワイヤ14は
シヤフト11に固定された第1のガイド15及び
第2のガイド16を介して、捩れることなく撚線
部17に導かれる。撚線部17は回転軸の延長線
上に通孔を有するダイスを備えており、その通孔
はワイヤ14の入口側に、ワイヤ14の引出方向
に漸次狭くなるようなテーパが付けられている。
この形式では、各スプールから引出されたワイ
ヤ14を回転軸上の一点に収束させ、バーレル1
2を回転させることにより収束点で自動的にワイ
ヤ14を撚線し、一本のストランドを形成でき
る。18は巻取スプールである。
勿論、蒸着用フイラメントを製造する場合に
は、ワイヤ14としてタングステン、モリブデン
等のフイラメント材料が用いられるが、これまで
のものは数本のワイヤが密着して撚線されている
ため、蒸着の際には、このフイラメントに別の蒸
着用金属材料を装着する必要があり、蒸着材料の
蒸発に際してはフイラメントに対する溶融蒸着材
料のぬれにむらが生じ易く、断線に至るまでの寿
命を短かくしたり、蒸着にもむらが生じてしまう
という欠点があつた。
本発明はフイラメントに対する蒸着用金属材料
のぬれ性が良好な蒸着用フイラメントの製造方法
を提供しようとするものである。
本発明はまた蒸着用金属材料の装着が容易な蒸
着用フイラメントの製造方法を提供しようとする
ものである。
本発明は、撚線工程時に撚線の中心軸部に空間
ができるように撚線する方法である。
以下に本発明の実施例を説明する。
第2図は本発明の一実施例を撚線部近傍につい
て示す。
第2図において、撚線部(全体図示省略)にお
けるダイス19に近接させてシヤフト11に、そ
の延長線上に延びるように固定治具20を介して
テーパピン21を設け、テーパピン21の先端は
回転軸に一致させたダイス19の通孔191内に
挿入している。ピン21としては機械的強度の大
なる20mm長程度の金属性のものが使用される。
撚線に際しては、使用するタングステン、モリ
ブデン等のワイヤ14の表面に付着している潤滑
剤をあらかじめ除去した(CC仕上げしたもの)
ものをスプールに巻替え、バーレル上に固定して
各スプールから引出した2本のワイヤ14をピン
21上の一点に収束させる。そしてワイヤ14と
ピン21とをダイス19の通孔191内に入れ、
撚り始まる部分より5mm程度ダイス19をシヤフ
ト11側に移動させる。
第3図はこの状態を拡大して示す。
このようにワイヤ14の収束位置をピン21上
に設定することにより、ダイス19の通孔191
から引出される撚線は、第4図に拡大して示すよ
うに中心軸部に空間を有するものとなる。
なお撚線ピツチは、バーレルの回転数及び巻取
スプールの回転数によつて定まるが、ピン21上
におけるワイヤ14の収束位置によつて撚り状態
が変化する。すなわち、第3図に示すようにワイ
ヤ14の収束位置をダイス19の通孔191内に
設定した場合には中心軸部に空間を有するだけの
通常の撚り状態が得られるが、第5図に示すよう
にダイス19をワイヤ14の引出方向に移動させ
て収束位置を通孔191外に設定すると、第6図
に示すように中心軸部に空間ができ、しかもここ
では3本のワイヤ14が一定の配列状態で密着し
且つ一定のピツチで撚られた撚線状態が得られ
る。
さてこのようにして本発明により得られた蒸着
用フイラメントは、中心軸部の空間を蒸着用金属
材料装着用のスペースとして利用できるので装着
が非常に容易であり、装着された金属材料はフイ
ラメントを構成している各ワイヤ間に隙間がある
ことにより、蒸着時溶融金属材料が各ワイヤに均
一に分布して平均したぬれ状態が得られ、ぬれむ
らが無くなる。これによつて被蒸着部に対する均
一な蒸着が期待できるだけでなく、ぬれむらの生
じ易い従来のフイラメントに比して3〜4倍の長
寿命化が実現できることが確認された。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の撚線機の要部の概略構成図、第
2図は本発明を実施するための撚線部近傍の概略
構成を示した図、第3図は更にその要部を拡大し
て示した図、第4図はこれによつて得られた撚線
状態を示した図、第5図及び第6図はそれぞれ、
他の実施例の要部を示した図及び撚線状態を示し
た図。 図中、11はシヤフト、12はバーレル、13
はスプール、14はワイヤ、15,16はガイ
ド、17は撚線部、18は巻取スプール、19は
ダイス、21はテーパピン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 回転軸に沿つて延びるシヤフトに取付けられ
    た回転台上に、フイラメント用ワイヤを巻回した
    複数個のスプールが固定され、前記回転軸上に通
    孔を有するダイスを備えた撚線部において前記各
    スプールから引出されたワイヤを撚線する装置に
    おいて、前記ダイスに近接して前記シヤフトにテ
    ーパピンを設け、前記ダイスの通孔内に前記テー
    パピンの先端を挿入した状態にて該テーパピンの
    所定位置に前記ワイヤを収束させて撚線すること
    を特徴とする蒸着用フイラメントの製造方法。
JP18871080A 1980-12-26 1980-12-26 Production of filament for vapor deposition Granted JPS57110666A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18871080A JPS57110666A (en) 1980-12-26 1980-12-26 Production of filament for vapor deposition

Applications Claiming Priority (1)

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JP18871080A JPS57110666A (en) 1980-12-26 1980-12-26 Production of filament for vapor deposition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57110666A JPS57110666A (en) 1982-07-09
JPH0143024B2 true JPH0143024B2 (ja) 1989-09-18

Family

ID=16228434

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JP18871080A Granted JPS57110666A (en) 1980-12-26 1980-12-26 Production of filament for vapor deposition

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JP5729368B2 (ja) * 2012-10-31 2015-06-03 トヨタ自動車株式会社 セグメントコイルの製造方法

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JPS57110666A (en) 1982-07-09

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