JPH0143027B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0143027B2
JPH0143027B2 JP18871180A JP18871180A JPH0143027B2 JP H0143027 B2 JPH0143027 B2 JP H0143027B2 JP 18871180 A JP18871180 A JP 18871180A JP 18871180 A JP18871180 A JP 18871180A JP H0143027 B2 JPH0143027 B2 JP H0143027B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wire
shaft
filament
twisted
vapor deposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP18871180A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57110667A (en
Inventor
Hiroshi Inoe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Tungsten Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Tungsten Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Tungsten Co Ltd filed Critical Tokyo Tungsten Co Ltd
Priority to JP18871180A priority Critical patent/JPS57110667A/ja
Publication of JPS57110667A publication Critical patent/JPS57110667A/ja
Publication of JPH0143027B2 publication Critical patent/JPH0143027B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/26Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は複数本のワイヤを撚線してストランド
を製造する方法、特にタングステン等のワイヤに
より蒸着用フイラメントを製造する方法に関す
る。
通常のストランドの製造に使用される撚線機の
要部の概略構成を第1図に示す。
図において、回転軸に沿つて延びるシヤフト1
1にバーレル12が一体的に回転できるように固
定されており、バーレル12にはワイヤ14を巻
回した複数個のスプール13が取付けられてい
る。各スプール13から引出されたワイヤー14
はシヤフト11に固定された第1のガイド15及
び第2のガイド16を介して、捩れることなく撚
線部17に導かれる。撚線部17は回転軸の延長
線上に通孔を有するダイスを備えており、その通
孔はワイヤ14の入口側に、ワイヤ14の引出方
向に漸次狭くなるようなテーパが付けられてい
る。
この形式では、各スプールから引出されたワイ
ヤ14を回転軸上の一点に収束させ、バーレル1
2を回転させることにより収束点で自動的にワイ
ヤ14を撚線し、一本のストランドを形成でき
る。18は巻取スプールである。
勿論、蒸着用フイラメントを製造する場合に
は、ワイヤ14としてタングステン、モリブデン
等のフイラメント材料が用いられるが、これまで
のものは数本のワイヤが密着して撚線されている
ため、蒸着の際にはこのフイラメントに別の蒸着
用金属材料を装着する必要があり、蒸着材料の蒸
発に際してはフイラメントに対する溶融蒸着材料
のぬれにむらが生じ易く、断線に至るまでの寿命
を短かくしたり、蒸着にもむらが生じてしまうと
いう欠点があつた。
本発明はフイラメントに対する蒸着用金属材料
のぬれ性が良好な蒸着用フイラメントの製造方法
を提供しようとするものである。
本発明はまた蒸着用金属材料の装着が容易な蒸
着用フイラメントの製造方法を提供しようとする
ものである。
本発明は、撚線工程時に蒸着用金属材料を心線
としてフイラメント用ワイヤの撚線を行なうよう
にしたものである。
以下に本発明の実施例を説明する。
第2図は本発明の一実施例を撚線部近傍につい
て示す。
第2図において、シヤフト11はその回転軸方
向に沿つて中空部を有し、撚線部におけるダイス
19に近接してノズル部111を有している。ノ
ズル部111はシヤフト11に対し回転軸方向に
移動可能に設けられている。ノズル部111と反
対側のシヤフト11の端部には、支持台を介して
リール(いずれも図示省略)が固定され、このリ
ールにはワイヤ14とは異なるアルミニウムAl、
ニツケルNi、クロムCr等の蒸着用金属材料によ
るワイヤ20が巻回され、このワイヤ20はシヤ
フト11の中空部を経てノズル111から引出さ
れる。
撚線に際しては、使用するタングステン、モリ
ブデン等のワイヤ14の表面に付着した潤滑剤を
あらかじめ除去した(CC仕上げしたもの)もの
をスプールに巻替え、バーレル上に固定して各ス
プールから引出したワイヤ14をノズル111か
ら引出したワイヤ20を心線として回転軸上の一
点に収束させる。そしてこれらのワイヤの先端は
通孔191を通して巻取スプールに固定する。更
に目標とする撚りピツチに合せた位置に通孔19
1の入口が位置するようにダイス19を移動さ
せ、通常はノズル111の先端もワイヤ14の収
束位置に合せる。
このようにワイヤ14の収束位置にノズル11
1の先端を合せることにより、ダイス19の通孔
191から引出される撚線は、第3図に拡大して
示すようにワイヤ20を心線としてここでは2本
のワイヤ14が所定のピツチで撚られたものとな
る。この時ワイヤ20を心線として撚線を行なう
には、ワイヤ20へのバツクテンシヨンを破断荷
重の70〜80%に設定することが要求される。
また撚線ピツチは、バーレルの回転数及び巻取
スプールの回転数によつて定まるが、ワイヤ14
の収束位置とノズル111の先端位置とによつて
撚り状態が変化する。すなわち、第2図に示すよ
うにワイヤ14の収束位置をダイス19の通孔1
91内にしてこれにノズル111の先端を合せた
場合には、第3図のような通常の撚り状態が得ら
れるが、第4図に示すようにダイス19をワイヤ
14の引出方向に移動させると共に、ノズル11
1をバーレル側に移動させて収束位置を通孔19
1外に設定しノズル111の先端もこれから離す
と、第5図に示すようにワイヤ20を心線として
ここでは3本のワイヤ14が一定の配列状態で密
着してしかも一定のピツチで撚られた撚線状態が
得られる。この他、ワイヤ本数、撚線状態等は
様々に変更可能である。
このようにして本発明により得られた蒸着用フ
イラメントは、あらかじめ蒸着材料が撚り込んで
あるので一回目の蒸着に際しては蒸着材料の装着
が不要である。したがつて特に蒸着材料がニツケ
ルNiやクロムCr等で使用回数が一回に限られる
フイラメントの場合に非常に効果的である。蒸着
材料がアルミニウムAlで繰り返し使用すること
ができるものでは、以後の蒸着に使用する際に蒸
着材料が蒸発して中空になつた部分に蒸着材料を
新たに装填でき、この作業は従来の装着方法に比
してはるかに容易である。また一回使用したフイ
ラメントは撚りピツチに隙間ができるが、以後の
蒸着時においてフイラメントを構成している各ワ
イヤ間に隙間を通して蒸着用金属材料が均一に分
布して平均したぬれ状態が得られ、ぬれむらが無
くなる。これによつて被蒸着部に対する均一な蒸
着が期待できるだけでなく、従来のフイラメント
の使用回数寿命がぬれむらのために5〜10回であ
つたのに対し、本発明では20〜30回まで寿命を延
ばせることが確認された。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の撚線機の要部の概略構成図、第
2図は本発明を実施するための撚線部近傍の概略
構成を示した図、第3図はこれによつて得られた
撚線状態を示した図、第4図及び第5図は本発明
の他の実施例の要部及び撚線状態を示した図。 図中、11はシヤフト、12はバーレル、13
はスプール、14,20はワイヤ、15,16は
ガイド、17は撚線部、18は巻取スプール、1
9はダイス。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 回転軸に沿つて延びるシヤフトに取付けられ
    た回転台上に、フイラメント用ワイヤを巻回した
    複数個のスプールが固定され、前記回転軸上に通
    孔を有するダイスを備えた撚線部において前記各
    スプールから引出されたワイヤを前記回転軸上の
    一点に収束させて撚線する装置において、前記シ
    ヤフトを中空になすと共に、前記ダイスに近接し
    て前記シヤフトにノズル部を設け、該シヤフトの
    中空部及びノズル部を通して蒸着用金属材料によ
    るワイヤを前記撚線部における心線として供給し
    て撚線するようにしたことを特徴とする蒸着用フ
    イラメントの製造方法。
JP18871180A 1980-12-26 1980-12-26 Production of filament for vapor deposition Granted JPS57110667A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18871180A JPS57110667A (en) 1980-12-26 1980-12-26 Production of filament for vapor deposition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18871180A JPS57110667A (en) 1980-12-26 1980-12-26 Production of filament for vapor deposition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57110667A JPS57110667A (en) 1982-07-09
JPH0143027B2 true JPH0143027B2 (ja) 1989-09-18

Family

ID=16228450

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18871180A Granted JPS57110667A (en) 1980-12-26 1980-12-26 Production of filament for vapor deposition

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Publication number Publication date
JPS57110667A (en) 1982-07-09

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