JPH0145139B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0145139B2 JPH0145139B2 JP9993380A JP9993380A JPH0145139B2 JP H0145139 B2 JPH0145139 B2 JP H0145139B2 JP 9993380 A JP9993380 A JP 9993380A JP 9993380 A JP9993380 A JP 9993380A JP H0145139 B2 JPH0145139 B2 JP H0145139B2
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- Japan
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- magnetic disk
- layer
- magnetic
- lubricant
- disk
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- Expired
Links
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 9
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
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Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は情報記録装置に使用される磁気デイス
ク装置に関するものである。
ク装置に関するものである。
従来のこの種磁気デイスク装置は第１図に示す
ように、回転自在に設けたスピンドル１にハブ２
を介して固定した磁気デイスク３と、この磁気デ
イスク３に接触する磁気ヘツドスライダ７（以下
スライダと称す）とにより構成されている。
ように、回転自在に設けたスピンドル１にハブ２
を介して固定した磁気デイスク３と、この磁気デ
イスク３に接触する磁気ヘツドスライダ７（以下
スライダと称す）とにより構成されている。
上記磁気デイスク３は例えばアルミニウム製の
デイスク基板４の表面上に、磁性粉末を塗布して
磁性膜５を形成し、さらにその磁性膜５上に液状
潤滑剤を薄く塗布して潤滑層６を形成することに
より、磁気デイスク３の表面が摩耗および損傷す
るのを防止している。また磁気デイスク３の内部
にはクランプリング８が挿入されている。
デイスク基板４の表面上に、磁性粉末を塗布して
磁性膜５を形成し、さらにその磁性膜５上に液状
潤滑剤を薄く塗布して潤滑層６を形成することに
より、磁気デイスク３の表面が摩耗および損傷す
るのを防止している。また磁気デイスク３の内部
にはクランプリング８が挿入されている。
また磁気デイスク３は約2500rpm程度で回転さ
れ、この磁気デイスク３上にスライダ７が微小間
隙0.5〜1.0μmを保つて浮遊しており、その浮遊量
はスライダ７の外周側では大であるに対し、内周
側では小である。
れ、この磁気デイスク３上にスライダ７が微小間
隙0.5〜1.0μmを保つて浮遊しており、その浮遊量
はスライダ７の外周側では大であるに対し、内周
側では小である。
磁気デイスク３の表面に設けた液状の潤滑層６
は磁気デイスク３の回転による遠心力により徐々
に外側へ移動するから内側は不足気味となる。ま
た運動により磁気デイスク３の温度が上昇するた
め、潤滑層６の液状潤滑剤の粘度が低下するの
で、その潤滑層６は遠心力により外周へ流動し易
くなると共に揮発し易くなるから、磁気デイスク
３では潤滑層６の不足が促進される。
は磁気デイスク３の回転による遠心力により徐々
に外側へ移動するから内側は不足気味となる。ま
た運動により磁気デイスク３の温度が上昇するた
め、潤滑層６の液状潤滑剤の粘度が低下するの
で、その潤滑層６は遠心力により外周へ流動し易
くなると共に揮発し易くなるから、磁気デイスク
３では潤滑層６の不足が促進される。
このような状態で長時間運転すると、潤滑層６
はなくなるから、磁気デイスク３は摺動摩耗し易
くなる。特にスライダ７の浮上量が少ない内周側
では、スライダ７と磁気デイスク３の表面が接触
して磁性膜５を破損する恐れがある。
はなくなるから、磁気デイスク３は摺動摩耗し易
くなる。特にスライダ７の浮上量が少ない内周側
では、スライダ７と磁気デイスク３の表面が接触
して磁性膜５を破損する恐れがある。
本発明は上記にかんがみ磁気デイスク表面の潤
滑剤切れを防ぐことにより、磁気デイスク表面の
摩耗および損傷を防止して延命をはかることを目
的とするもので、磁気デイスクの中心部にポーラ
ス層を設けるか、またはスペーサの一部あるいは
全部をポーラス材で作成し、そのポーラス部に液
状潤滑剤を貯えるようにしたものである。
滑剤切れを防ぐことにより、磁気デイスク表面の
摩耗および損傷を防止して延命をはかることを目
的とするもので、磁気デイスクの中心部にポーラ
ス層を設けるか、またはスペーサの一部あるいは
全部をポーラス材で作成し、そのポーラス部に液
状潤滑剤を貯えるようにしたものである。
以下本発明の実施例を図面について説明する。
第２図において、２はスピンドル（図示せず）
に固定された磁気デイスクで、この磁気デイスク
３Ａはデイスク基板４と、このデイスク基板４の
中心部に設けられ、かつ液状潤滑剤を満たしたポ
ーラス層９と、このポーラス層９を除いたデイス
ク基板４の表面上に形成された磁性膜５と、この
磁性膜５の表面上に液状潤滑剤により形成された
潤滑層６とにより構成されている。前記ポーラス
層９はその外側周辺部９Ａを除いた表面上にメツ
キまたはスパツタリングを施した被覆層１０が形
成されている。
に固定された磁気デイスクで、この磁気デイスク
３Ａはデイスク基板４と、このデイスク基板４の
中心部に設けられ、かつ液状潤滑剤を満たしたポ
ーラス層９と、このポーラス層９を除いたデイス
ク基板４の表面上に形成された磁性膜５と、この
磁性膜５の表面上に液状潤滑剤により形成された
潤滑層６とにより構成されている。前記ポーラス
層９はその外側周辺部９Ａを除いた表面上にメツ
キまたはスパツタリングを施した被覆層１０が形
成されている。
本実施例は上記のような構成からなり、磁気デ
イスク３Ａを回転させると、ポーラス層９に貯え
られた液状の潤滑剤が遠心力作用によりポーラス
層９の被覆層１０を備えていない外周周辺部９Ａ
から徐々にしみ出して行き、磁気デイスク３Ａの
回転により生ずる遠心力および温度上昇によるデ
イスク表面の潤滑層６の減少分を補給する。また
ポーラス層９の表面上に設けた被覆層１０によ
り、ポーラス層９内の液状潤滑剤の蒸気を最小限
に止めることができる。
イスク３Ａを回転させると、ポーラス層９に貯え
られた液状の潤滑剤が遠心力作用によりポーラス
層９の被覆層１０を備えていない外周周辺部９Ａ
から徐々にしみ出して行き、磁気デイスク３Ａの
回転により生ずる遠心力および温度上昇によるデ
イスク表面の潤滑層６の減少分を補給する。また
ポーラス層９の表面上に設けた被覆層１０によ
り、ポーラス層９内の液状潤滑剤の蒸気を最小限
に止めることができる。
第３図に示す他の実施例はデイスク基板４、磁
性膜５および潤滑層６からなる磁気デイスク３Ｂ
を、スピンドル（図示せず）に固定されたハブ２
にクランプリング８Ａを介して固定した構造から
なる。そして前記クランプリング８Ａはその一部
または全部がポーラス材で作成され、かつそのポ
ーラス部に液状の潤滑剤を満たしている。このク
ランプリング８Ａは磁気デイスク３Ｂの近傍部１
１を除いた外側周辺周面にメツキまたはスパツタ
リング等による被覆層１０が形成されている。こ
のような構成にしたことにより、ポーラス部で構
成されるクランプリング８Ａに貯えられた潤滑剤
は、遠心力により近傍部１１から徐々に磁気デイ
スク３Ｂの磁性膜５上にしみ出すことができる。
性膜５および潤滑層６からなる磁気デイスク３Ｂ
を、スピンドル（図示せず）に固定されたハブ２
にクランプリング８Ａを介して固定した構造から
なる。そして前記クランプリング８Ａはその一部
または全部がポーラス材で作成され、かつそのポ
ーラス部に液状の潤滑剤を満たしている。このク
ランプリング８Ａは磁気デイスク３Ｂの近傍部１
１を除いた外側周辺周面にメツキまたはスパツタ
リング等による被覆層１０が形成されている。こ
のような構成にしたことにより、ポーラス部で構
成されるクランプリング８Ａに貯えられた潤滑剤
は、遠心力により近傍部１１から徐々に磁気デイ
スク３Ｂの磁性膜５上にしみ出すことができる。
以上説明したように本発明によれば、磁気デイ
スクの回転により生ずる遠心力および温度上昇に
よるデイスク表面の潤滑層の減少分を、ポーラス
層内の潤滑剤により絶えず補給することができる
ので、デイスク面の潤滑層を破断するのを防ぎ、
デイスク面の摩耗および損傷を阻止して磁気デイ
スクの延命をはかることができる。
スクの回転により生ずる遠心力および温度上昇に
よるデイスク表面の潤滑層の減少分を、ポーラス
層内の潤滑剤により絶えず補給することができる
ので、デイスク面の潤滑層を破断するのを防ぎ、
デイスク面の摩耗および損傷を阻止して磁気デイ
スクの延命をはかることができる。
第１図は従来の磁気デイスク装置の断面図、第
２図および第３図は本発明に係わる磁気デイスク
装置の実施例の要部（磁気デイスク）を示す断面
図である。 ３Ａ，３Ｂ……磁気デイスク、８Ａ……スペー
サ、９……ポーラス層、１０……被覆層。
２図および第３図は本発明に係わる磁気デイスク
装置の実施例の要部（磁気デイスク）を示す断面
図である。 ３Ａ，３Ｂ……磁気デイスク、８Ａ……スペー
サ、９……ポーラス層、１０……被覆層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 回転自在に設けた磁気デイスクと、この磁気
デイスクに対設した磁気ヘツドスライダとからな
る磁気デイスク装置において、前記磁気デイスク
の中心部に潤滑剤を満たしているポーラス層部を
設けたことを特徴とする磁気デイスク装置。 ２ ポーラス層部は磁気デイスクの基板に設けら
れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の磁気デイスク装置。 ３ ポーラス層部は磁気デイスクのクランプリン
グに形成したことを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の磁気デイスク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9993380A JPS5727438A (en) | 1980-07-23 | 1980-07-23 | Magnetic disk device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9993380A JPS5727438A (en) | 1980-07-23 | 1980-07-23 | Magnetic disk device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5727438A JPS5727438A (en) | 1982-02-13 |
| JPH0145139B2 true JPH0145139B2 (ja) | 1989-10-02 |
Family
ID=14260523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9993380A Granted JPS5727438A (en) | 1980-07-23 | 1980-07-23 | Magnetic disk device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5727438A (ja) |
-
1980
- 1980-07-23 JP JP9993380A patent/JPS5727438A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5727438A (en) | 1982-02-13 |
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