JPH0121559B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0121559B2 JPH0121559B2 JP9668883A JP9668883A JPH0121559B2 JP H0121559 B2 JPH0121559 B2 JP H0121559B2 JP 9668883 A JP9668883 A JP 9668883A JP 9668883 A JP9668883 A JP 9668883A JP H0121559 B2 JPH0121559 B2 JP H0121559B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- lubricant
- film
- vapor
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は磁気デイスク表面の潤滑膜安定化法に
係り、特に密封型磁気デイスク装置において、回
転駆動中の磁気デイスク表面の潤滑膜の膜厚、及
び潤滑特性を、常に定常状態に維持し得る安定化
法に関するものである。
係り、特に密封型磁気デイスク装置において、回
転駆動中の磁気デイスク表面の潤滑膜の膜厚、及
び潤滑特性を、常に定常状態に維持し得る安定化
法に関するものである。
(b) 技術の背景
近年、磁気デイスク装置においては、磁気デイ
スクの磁性膜の薄膜化、或いは多層膜化及び磁気
ヘツドの低浮上化等によつて高記録密度化が図ら
れている。そして上記磁気ヘツドの低浮上化に加
えて、更に停止時には磁気ヘツドが磁気デイスク
面上に接触した状態であり、回転速度の上昇と共
に該磁気ヘツドを微小に浮上させるようにした、
所謂CSS（Contact Start Stop）方式の採用が進
むにつれて、回転起動・停止時の接触摺動により
磁気ヘツド及び磁気デイスク表面に摩耗、損傷等
のヘツドクラツシユが発生し易くなり、これを防
止する為、磁気デイスク表面に潤滑剤を塗布する
か、或いは潤滑膜を被覆するなどの特別な表面処
理を施すことが一般に行われている。
スクの磁性膜の薄膜化、或いは多層膜化及び磁気
ヘツドの低浮上化等によつて高記録密度化が図ら
れている。そして上記磁気ヘツドの低浮上化に加
えて、更に停止時には磁気ヘツドが磁気デイスク
面上に接触した状態であり、回転速度の上昇と共
に該磁気ヘツドを微小に浮上させるようにした、
所謂CSS（Contact Start Stop）方式の採用が進
むにつれて、回転起動・停止時の接触摺動により
磁気ヘツド及び磁気デイスク表面に摩耗、損傷等
のヘツドクラツシユが発生し易くなり、これを防
止する為、磁気デイスク表面に潤滑剤を塗布する
か、或いは潤滑膜を被覆するなどの特別な表面処
理を施すことが一般に行われている。
(c) 従来技術と問題点
ところで磁気デイスク装置の高記録密度化に伴
つて磁気ヘツドの低浮上化は益々重要となり、前
記磁気デイスク表面に施された潤滑膜も次第に薄
膜化されて、最近においては100Å前後の極めて
薄い潤滑耐久性の優れた潤滑膜が要求されてい
る。又一方前記のCSS方式の採用により磁気デイ
スク装置としては、塵埃の混入に起因するヘツド
クラツシユを防止するために、密封型に移行され
つつある。しかし、このような密封型磁気デイス
ク装置にあつては、磁気デイスクの高速回転に伴
つて生ずる空気摩擦（風損）によつて密封装置内
の温度が上昇するため、通常該内部の雰囲気を自
己循環空冷方式によつて冷却しているが、それで
もなお装置でいが60〜70℃程度になる温度上昇は
避けられず、かかる温度上昇に起因して磁気デイ
スク表面に施された潤滑膜が蒸発消失して、その
潤滑特性が劣化する不都合があり、このような不
都合を解消し得る耐熱性の優れた潤滑膜の選択が
強く要望されている。
つて磁気ヘツドの低浮上化は益々重要となり、前
記磁気デイスク表面に施された潤滑膜も次第に薄
膜化されて、最近においては100Å前後の極めて
薄い潤滑耐久性の優れた潤滑膜が要求されてい
る。又一方前記のCSS方式の採用により磁気デイ
スク装置としては、塵埃の混入に起因するヘツド
クラツシユを防止するために、密封型に移行され
つつある。しかし、このような密封型磁気デイス
ク装置にあつては、磁気デイスクの高速回転に伴
つて生ずる空気摩擦（風損）によつて密封装置内
の温度が上昇するため、通常該内部の雰囲気を自
己循環空冷方式によつて冷却しているが、それで
もなお装置でいが60〜70℃程度になる温度上昇は
避けられず、かかる温度上昇に起因して磁気デイ
スク表面に施された潤滑膜が蒸発消失して、その
潤滑特性が劣化する不都合があり、このような不
都合を解消し得る耐熱性の優れた潤滑膜の選択が
強く要望されている。
ちなみに、このような諸要求に対して、従来磁
気デイスク表面に潤滑膜を形成するに用いられて
いる一般的な潤滑剤としては、例えばパラフイ
ン、高級脂肪酸族アルコール、高級脂肪酸、高級
脂肪酸エステル等の炭化水素系の潤滑剤、又はそ
の弗化物であるフロロカーボン系油、Si−Si結合
基から成るシリコン系油等からなる潤滑剤、更に
二硫化モリブデン、二硫化タングステン、黒鉛、
弗化黒鉛等からなる固体潤滑剤が単独、又は複合
の形で用いられている。しかし上記潤滑剤の内、
炭化水素系の潤滑剤、特に高級脂肪酸やそのエス
テル化物によつて形成された潤滑膜は、潤滑特性
が優れているため、潤滑耐久性の向上に優れた効
果がある反面、60℃程度の雰囲気中において徐々
に蒸発消失して潤滑性を失つて行くといつた耐熱
性が劣る欠点がある。またフロロカーボン系油や
シリコン系油等によつて形成された潤滑膜は、耐
熱性では優れた特性を有しているが、潤滑特性が
劣る。更に二硫化モリブデン等からなる固体潤滑
剤は、微粉末状である為、一般に液状又は半固体
グリース状の潤滑剤と混合して用いられている
が、該潤滑剤の粒径がミクロンオーダであるため
薄膜化が難しく、又ヘツド付着（Head Stick）、
或いはヘツド面に前記潤滑剤が堆積する等の現象
が起き易く、何れも一長一短の膜特性しか持合せ
ていない欠点がある。
気デイスク表面に潤滑膜を形成するに用いられて
いる一般的な潤滑剤としては、例えばパラフイ
ン、高級脂肪酸族アルコール、高級脂肪酸、高級
脂肪酸エステル等の炭化水素系の潤滑剤、又はそ
の弗化物であるフロロカーボン系油、Si−Si結合
基から成るシリコン系油等からなる潤滑剤、更に
二硫化モリブデン、二硫化タングステン、黒鉛、
弗化黒鉛等からなる固体潤滑剤が単独、又は複合
の形で用いられている。しかし上記潤滑剤の内、
炭化水素系の潤滑剤、特に高級脂肪酸やそのエス
テル化物によつて形成された潤滑膜は、潤滑特性
が優れているため、潤滑耐久性の向上に優れた効
果がある反面、60℃程度の雰囲気中において徐々
に蒸発消失して潤滑性を失つて行くといつた耐熱
性が劣る欠点がある。またフロロカーボン系油や
シリコン系油等によつて形成された潤滑膜は、耐
熱性では優れた特性を有しているが、潤滑特性が
劣る。更に二硫化モリブデン等からなる固体潤滑
剤は、微粉末状である為、一般に液状又は半固体
グリース状の潤滑剤と混合して用いられている
が、該潤滑剤の粒径がミクロンオーダであるため
薄膜化が難しく、又ヘツド付着（Head Stick）、
或いはヘツド面に前記潤滑剤が堆積する等の現象
が起き易く、何れも一長一短の膜特性しか持合せ
ていない欠点がある。
従つて、高記録密度化の為の潤滑耐久性、耐熱
性に優れた超薄膜の潤滑膜を得ることが至難であ
ることはもとより、このような潤滑膜を被覆形成
した磁気デイスクは密封型磁気デイスク装置にお
いて、ヘツドクラツシユ障害がなく、安定した高
密度記録或いは再生を行うことが困難であつた。
性に優れた超薄膜の潤滑膜を得ることが至難であ
ることはもとより、このような潤滑膜を被覆形成
した磁気デイスクは密封型磁気デイスク装置にお
いて、ヘツドクラツシユ障害がなく、安定した高
密度記録或いは再生を行うことが困難であつた。
(d) 発明の目的
本発明は上記従来の欠点に鑑み、密封型磁気デ
イスク装置内で回転駆動中の磁気デイスク表面の
潤滑膜を、潤滑剤蒸気の雰囲気に曝すようにして
蒸発消失を抑制し、もつて該潤滑膜の膜厚及び潤
滑特性を、常に良好な定常状態に維持し得る新規
な磁気デイスク表面の潤滑剤安定化法を提供する
ことを目的とするものである。
イスク装置内で回転駆動中の磁気デイスク表面の
潤滑膜を、潤滑剤蒸気の雰囲気に曝すようにして
蒸発消失を抑制し、もつて該潤滑膜の膜厚及び潤
滑特性を、常に良好な定常状態に維持し得る新規
な磁気デイスク表面の潤滑剤安定化法を提供する
ことを目的とするものである。
(e) 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、表面に潤滑
膜を被覆してなる磁気デイスクが回転駆動機構に
装着され、該磁気デイスクを気密収容容器により
密封して成る装置構成において、上記磁気デイス
クの回転駆動に際して、前記気密収容容器内に、
潤滑剤蒸気を充満せしめ、該潤滑剤蒸気雰囲気中
で前記磁気デイスクを回転駆動するようにしたこ
とを特徴とする磁気デイスク表面の潤滑膜安定化
法を提供することによつて達成される。
膜を被覆してなる磁気デイスクが回転駆動機構に
装着され、該磁気デイスクを気密収容容器により
密封して成る装置構成において、上記磁気デイス
クの回転駆動に際して、前記気密収容容器内に、
潤滑剤蒸気を充満せしめ、該潤滑剤蒸気雰囲気中
で前記磁気デイスクを回転駆動するようにしたこ
とを特徴とする磁気デイスク表面の潤滑膜安定化
法を提供することによつて達成される。
(f) 発明の実施例
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細
に説明する。
に説明する。
本図は実施例に係る磁気デイスク表面の潤滑膜
安定化法の一実施例を説明する磁気デイスク装置
の概略要部断面図である。図において、１は磁気
ヘツドが対向する表面に例えば高級脂肪酸の一種
であるステアリン酸からなる潤滑剤を用いて図示
しない潤滑膜を、約100Åの厚さに被覆形成して
成る磁気デイスク、２は複数の磁気デイスク１が
一体に支持され、かつデイスク回転駆動機構５に
装着されたハブ機構、３はハブ機構２の中心に穿
設された中心通気穴、４は中心通気穴３と連通し
て各磁気デイスク１相互間に循環雰囲気を流出さ
せる通気小孔、６はヘツド位置決め機構、７は気
密収容容器、８はハブ機構２の中心に穿設された
中心通気穴３と連通するように、ベース部９に設
けられた循環雰囲気流通穴である。そしてこのよ
うに構成された前記流通穴８内にステアリン酸か
らなる潤滑剤を収容した潤滑剤蒸気発生源１０
と、該潤滑剤蒸気発生源１０位置より右側方に図
示のようにフイルタ１１を配置しておく。
安定化法の一実施例を説明する磁気デイスク装置
の概略要部断面図である。図において、１は磁気
ヘツドが対向する表面に例えば高級脂肪酸の一種
であるステアリン酸からなる潤滑剤を用いて図示
しない潤滑膜を、約100Åの厚さに被覆形成して
成る磁気デイスク、２は複数の磁気デイスク１が
一体に支持され、かつデイスク回転駆動機構５に
装着されたハブ機構、３はハブ機構２の中心に穿
設された中心通気穴、４は中心通気穴３と連通し
て各磁気デイスク１相互間に循環雰囲気を流出さ
せる通気小孔、６はヘツド位置決め機構、７は気
密収容容器、８はハブ機構２の中心に穿設された
中心通気穴３と連通するように、ベース部９に設
けられた循環雰囲気流通穴である。そしてこのよ
うに構成された前記流通穴８内にステアリン酸か
らなる潤滑剤を収容した潤滑剤蒸気発生源１０
と、該潤滑剤蒸気発生源１０位置より右側方に図
示のようにフイルタ１１を配置しておく。
このように磁気デイスク装置内に潤滑剤蒸気発
生源１０を配置した状態で、前記デイスク回転駆
動機構５を駆動して磁気デイスク１を高速回転さ
せれば、該磁気デイスク１の高速回転により生ず
る空気摩擦によつて温度上昇した熱空気流が図中
矢印で示すように、気密収容容器７内の空間より
ベース部９に設けられた循環雰囲気流通穴８内に
流入し、この熱空気流によつて前記潤滑剤蒸気発
生源１０が加熱され潤滑剤蒸気を発生させる。発
生した潤滑剤蒸気は該熱空気流と共に、フイルタ
１１を通つて潤滑剤等の粉塵、潤滑剤蒸気の大粒
子等を排除した清浄な潤滑剤蒸気となり、ハブ機
構２の中心に穿設された中心通気穴３内を経由し
てそれと連通する各通気小孔４より各磁気デイス
ク１相互間に流出して該磁気デイスク１を取り巻
くように気密収容容器７内を循環して充満され
る。
生源１０を配置した状態で、前記デイスク回転駆
動機構５を駆動して磁気デイスク１を高速回転さ
せれば、該磁気デイスク１の高速回転により生ず
る空気摩擦によつて温度上昇した熱空気流が図中
矢印で示すように、気密収容容器７内の空間より
ベース部９に設けられた循環雰囲気流通穴８内に
流入し、この熱空気流によつて前記潤滑剤蒸気発
生源１０が加熱され潤滑剤蒸気を発生させる。発
生した潤滑剤蒸気は該熱空気流と共に、フイルタ
１１を通つて潤滑剤等の粉塵、潤滑剤蒸気の大粒
子等を排除した清浄な潤滑剤蒸気となり、ハブ機
構２の中心に穿設された中心通気穴３内を経由し
てそれと連通する各通気小孔４より各磁気デイス
ク１相互間に流出して該磁気デイスク１を取り巻
くように気密収容容器７内を循環して充満され
る。
従つて、回転中の各磁気デイスク１表面の潤滑
膜を取り巻く前記循環潤滑剤蒸気の蒸気圧と、該
潤滑膜が高速回転時の空気摩擦による温度上昇に
起因して蒸発する際の蒸気圧が略平衡状態とな
り、前記回転中の各磁気デイスク１表面の潤滑膜
は、常に良好な潤滑特性を有する定常状態に容易
に維持することが可能となる。このように潤滑剤
蒸気雰囲気中で高速回転した際の磁気デイスク表
面の潤滑膜の摩擦係数は、従来0.45以上あつたの
に対して、0.20〜0.24と良好な潤滑性を有してい
る。
膜を取り巻く前記循環潤滑剤蒸気の蒸気圧と、該
潤滑膜が高速回転時の空気摩擦による温度上昇に
起因して蒸発する際の蒸気圧が略平衡状態とな
り、前記回転中の各磁気デイスク１表面の潤滑膜
は、常に良好な潤滑特性を有する定常状態に容易
に維持することが可能となる。このように潤滑剤
蒸気雰囲気中で高速回転した際の磁気デイスク表
面の潤滑膜の摩擦係数は、従来0.45以上あつたの
に対して、0.20〜0.24と良好な潤滑性を有してい
る。
尚、以上の実施例では、磁気デイスク表面の潤
滑膜の安定化に、該潤滑膜を形成した潤滑剤と同
じ潤滑剤蒸気を用いた場合の例で説明したが、本
発明はこの例に限定されるものではなく、前記潤
滑膜の形成潤滑剤と異なる潤滑剤蒸気を用いた場
合にも同様の効果が得られる。又本発明の安定化
法によれば、前記気密収容容器７内の磁気デイス
ク１表面は勿論のこと、これ以外の機能部分にも
潤滑剤蒸気が当然被着されることになるが、当該
潤滑膜は極めて薄いので装置の機能を損なうこと
はない。更に前記潤滑剤蒸気発生源の設置方法も
ベース部９に設けられた循環雰囲気流通穴８内に
限定するものではなく、例えば装置の気密収容容
器７の内壁面に、潤滑剤蒸気発生用の潤滑剤を塗
着するようにしてもよい。その他、必要に応じて
潤滑剤の蒸気をヒータ加熱等によつて発生させる
ようにしてもよい。
滑膜の安定化に、該潤滑膜を形成した潤滑剤と同
じ潤滑剤蒸気を用いた場合の例で説明したが、本
発明はこの例に限定されるものではなく、前記潤
滑膜の形成潤滑剤と異なる潤滑剤蒸気を用いた場
合にも同様の効果が得られる。又本発明の安定化
法によれば、前記気密収容容器７内の磁気デイス
ク１表面は勿論のこと、これ以外の機能部分にも
潤滑剤蒸気が当然被着されることになるが、当該
潤滑膜は極めて薄いので装置の機能を損なうこと
はない。更に前記潤滑剤蒸気発生源の設置方法も
ベース部９に設けられた循環雰囲気流通穴８内に
限定するものではなく、例えば装置の気密収容容
器７の内壁面に、潤滑剤蒸気発生用の潤滑剤を塗
着するようにしてもよい。その他、必要に応じて
潤滑剤の蒸気をヒータ加熱等によつて発生させる
ようにしてもよい。
(g) 発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明に係る
磁気デイスク表面の潤滑膜安定化法によれば、装
置内に装着され、かつ回転駆動中の磁気デイスク
表面の潤滑膜の蒸発消失が抑制され、該潤滑膜の
膜厚、及び潤滑特性を常に良好な定常状態に維持
することができる優れた利点を有する。依つて潤
滑膜の薄膜化に対する信頼性が向上し、高記録密
度化に顕著なる効果が発揮され、磁気ヘツドの低
浮上化、CSS方式等を採用した密封型磁気デイス
ク装置などに適用して極めて有利である。
磁気デイスク表面の潤滑膜安定化法によれば、装
置内に装着され、かつ回転駆動中の磁気デイスク
表面の潤滑膜の蒸発消失が抑制され、該潤滑膜の
膜厚、及び潤滑特性を常に良好な定常状態に維持
することができる優れた利点を有する。依つて潤
滑膜の薄膜化に対する信頼性が向上し、高記録密
度化に顕著なる効果が発揮され、磁気ヘツドの低
浮上化、CSS方式等を採用した密封型磁気デイス
ク装置などに適用して極めて有利である。
図面は本発明に係る磁気デイスク表面の潤滑膜
安定化法の一実施例を説明するための磁気デイス
ク装置の概略要部断面図である。 図面において、１は潤滑膜が被覆された磁気デ
イスク、２はハブ機構、３は中心通気穴、４は通
気小孔、５はデイスク回転駆動機構、６はヘツド
位置決め機構、７は気密収容容器、８は循環雰囲
気流通穴、９はベース部、１０は潤滑剤蒸気発生
源、１１はフイルタを示す。
安定化法の一実施例を説明するための磁気デイス
ク装置の概略要部断面図である。 図面において、１は潤滑膜が被覆された磁気デ
イスク、２はハブ機構、３は中心通気穴、４は通
気小孔、５はデイスク回転駆動機構、６はヘツド
位置決め機構、７は気密収容容器、８は循環雰囲
気流通穴、９はベース部、１０は潤滑剤蒸気発生
源、１１はフイルタを示す。
Claims (1)
- １ 表面に潤滑膜を被覆してなる磁気デイスクが
回転駆動機構に装着され、該磁気デイスクを気密
収容容器により密封して成る装置構成において、
上記磁気デイスクの回転駆動に際して、前記気密
収容容器内に潤滑剤蒸気を充満せしめ、該潤滑剤
蒸気雰囲気中で前記磁気デイスクを回転駆動する
ことにより、装置内部の温度上昇に伴つて生じる
当該磁気デイスク表面上の潤滑膜の蒸発と、潤滑
剤蒸気の磁気デイスク表面上への吸着とを平衡状
態にするようにして、該潤滑膜の蒸発消失を抑制
することを特徴とする磁気デイスク表面の潤滑膜
安定化法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9668883A JPS59221873A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 磁気デイスク表面の潤滑膜安定化法 |
| US06/618,078 US4626941A (en) | 1983-05-26 | 1984-05-22 | Method and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of a disk storage |
| DE8484303511T DE3462190D1 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | Lubricant film coated magnetic disks |
| AU28569/84A AU548076B2 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | The mehod and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of disk storage |
| EP84303511A EP0127444B1 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | Lubricant film coated magnetic disks |
| CA000455122A CA1217561A (en) | 1983-05-26 | 1984-05-25 | Method and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of disk storage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9668883A JPS59221873A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 磁気デイスク表面の潤滑膜安定化法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59221873A JPS59221873A (ja) | 1984-12-13 |
| JPH0121559B2 true JPH0121559B2 (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=14171727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9668883A Granted JPS59221873A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-30 | 磁気デイスク表面の潤滑膜安定化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59221873A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0782698B2 (ja) * | 1987-02-24 | 1995-09-06 | 株式会社日立製作所 | 磁気デイスク装置 |
| US4789913A (en) * | 1987-08-03 | 1988-12-06 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for lubricating a magnetic disk continuously in a recording file |
| JP2796852B2 (ja) * | 1988-10-31 | 1998-09-10 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 磁気記憶装置及び方法 |
| JP2803688B2 (ja) * | 1990-05-24 | 1998-09-24 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 磁気ディスク記憶装置 |
| US5329412A (en) * | 1990-06-01 | 1994-07-12 | Conner Peripherals, Inc. | Two and one half inch diameter disk drive having 0.6 inch height |
| US5202803A (en) * | 1991-07-02 | 1993-04-13 | International Business Machines Corporation | Disk file with liquid film head-disk interface |
| US5331487A (en) * | 1992-01-16 | 1994-07-19 | International Business Machines Corporation | Direct access storage device with vapor phase lubricant system and a magnetic disk having a protective layer and immobile physically bonded lubricant layer |
| CA2089793A1 (en) * | 1992-05-18 | 1993-11-19 | Thomas Allen Gregory | Spacer ring reservoir for magnetic recording disk lubricant |
-
1983
- 1983-05-30 JP JP9668883A patent/JPS59221873A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59221873A (ja) | 1984-12-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0127444B1 (en) | Lubricant film coated magnetic disks | |
| JP2796852B2 (ja) | 磁気記憶装置及び方法 | |
| JP2694088B2 (ja) | データ記録用ディスクファイル | |
| US5650900A (en) | Magnetic disc with zoned lubricant thickness | |
| JPH05151735A (ja) | ヘツド−デイスク間に液体膜界面を有するデイスクフアイル用の変換器アセンブリ | |
| JPH0121559B2 (ja) | ||
| JPS6363995B2 (ja) | ||
| JPH0121557B2 (ja) | ||
| JPS6363996B2 (ja) | ||
| JPH0121558B2 (ja) | ||
| JPS60133538A (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH03119580A (ja) | 磁気ディスク装置 | |
| JPH09169992A (ja) | 軸受及び軸受の製造方法並びに軸受を用いた磁気ディスク装置 | |
| JPS6363998B2 (ja) | ||
| JP4081297B2 (ja) | 表面型相変化記録媒体、及びそれを用いた光記録システム | |
| JPS6363997B2 (ja) | ||
| JPS63308775A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH07211045A (ja) | 磁気ディスク装置 | |
| JPH11134626A (ja) | 磁気ディスク装置の製造方法 | |
| JPH04319594A (ja) | 潤滑剤安定供給磁気記録装置 | |
| JPH01144208A (ja) | 薄膜磁気ディスク媒体およびその製造方法 | |
| JPS58115631A (ja) | 磁気デイスク媒体への固体潤滑剤塗布方法 | |
| JPS63276712A (ja) | 磁気ディスク媒体 | |
| JPH03165313A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH064856A (ja) | 磁気記録媒体 |