JPH0145896B2 - - Google Patents
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- JPH0145896B2 JPH0145896B2 JP56181747A JP18174781A JPH0145896B2 JP H0145896 B2 JPH0145896 B2 JP H0145896B2 JP 56181747 A JP56181747 A JP 56181747A JP 18174781 A JP18174781 A JP 18174781A JP H0145896 B2 JPH0145896 B2 JP H0145896B2
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- JP
- Japan
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- layer
- metal
- photosensitive resin
- image
- photosensitive
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0047—Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属画像を形成させるための材料に
関し、特にハイコントラストの画像形成能を有
し、ラインワーク、網点用に適した金属画像形成
材料に関する。
関し、特にハイコントラストの画像形成能を有
し、ラインワーク、網点用に適した金属画像形成
材料に関する。
金属画像形成材料においては、一般に金属薄層
（蒸着層やラミネート箔層など）を用いた場合の
欠点として、レジストが浸されない程度の弱いエ
ツチング液ではエツチングされにくいことが挙げ
られる。そのため、通常エツチング時間が長くか
かり、したがつてレジストとしては耐蝕性の極め
て強いものを用いなければならず、しかも鮮鋭な
画像が得にくく、さらに画像のエツヂの乱れを生
ずる欠点がみられる。
（蒸着層やラミネート箔層など）を用いた場合の
欠点として、レジストが浸されない程度の弱いエ
ツチング液ではエツチングされにくいことが挙げ
られる。そのため、通常エツチング時間が長くか
かり、したがつてレジストとしては耐蝕性の極め
て強いものを用いなければならず、しかも鮮鋭な
画像が得にくく、さらに画像のエツヂの乱れを生
ずる欠点がみられる。
一方、これを改良する手段として特開昭56−
9736号公報に、アルミニウムと蒸着可能な有機物
質とが混在する蒸着層が開示されている。しか
し、ここに開示された有機物質は、レジストを浸
さない程度の弱い現像液を用いたのでは、いまだ
十分短かいエツチング時間でエツチングすること
ができず実用的でない。
9736号公報に、アルミニウムと蒸着可能な有機物
質とが混在する蒸着層が開示されている。しか
し、ここに開示された有機物質は、レジストを浸
さない程度の弱い現像液を用いたのでは、いまだ
十分短かいエツチング時間でエツチングすること
ができず実用的でない。
他方、感光性樹脂組成物中にキレート化剤を含
有せしめる技術が知られているし、特開昭50−
95004号、同55−38510号公報参照）。
有せしめる技術が知られているし、特開昭50−
95004号、同55−38510号公報参照）。
しかし感光性樹脂層と支持体の間に金属薄層を
設けた画像形成材料において、該感光性樹脂層中
に特開昭50−95004号に記載のアルミニウムアル
コラートを用いてもエツチング時間が長くかか
り、同55−38510号に記載のポリアミノカルボン
酸を用いた場合にはさらにエツチング時間が長く
かかる欠点がある。
設けた画像形成材料において、該感光性樹脂層中
に特開昭50−95004号に記載のアルミニウムアル
コラートを用いてもエツチング時間が長くかか
り、同55−38510号に記載のポリアミノカルボン
酸を用いた場合にはさらにエツチング時間が長く
かかる欠点がある。
また金属キレート化剤をエツチング処理液中に
含有せしめエツチング時間の短縮をはかる技術が
知られているが（英国特許第1434894号及び同第
1562586号明細書参照）、特定のキレート化剤であ
つてもエツチング処理液中に含有せしめた場合に
は解像力が劣る欠点がある（比較例１参照）。
含有せしめエツチング時間の短縮をはかる技術が
知られているが（英国特許第1434894号及び同第
1562586号明細書参照）、特定のキレート化剤であ
つてもエツチング処理液中に含有せしめた場合に
は解像力が劣る欠点がある（比較例１参照）。
そこで、本発明の目的は、金属薄層を短時間に
エツチングするための強力なエツチング液を使用
するまでもなく、解像力を低下せしめることなく
短時間に金属薄層をエツチングすることが可能で
あり、しかも鮮鋭な画像を得ることができる金属
画像形成材料を提供するにある。
エツチングするための強力なエツチング液を使用
するまでもなく、解像力を低下せしめることなく
短時間に金属薄層をエツチングすることが可能で
あり、しかも鮮鋭な画像を得ることができる金属
画像形成材料を提供するにある。
本発明の目的は、支持体上に金属薄層を有し、
その上に感光性樹脂層を有する金属画像形成材料
において、支持体上の前記金属薄層以外の少なく
とも一層に下記金属キレート化剤の少なくとも１
種を含有せしめたことを特徴とする金属画像形成
材料によつて達成される。
その上に感光性樹脂層を有する金属画像形成材料
において、支持体上の前記金属薄層以外の少なく
とも一層に下記金属キレート化剤の少なくとも１
種を含有せしめたことを特徴とする金属画像形成
材料によつて達成される。
［金属キレート化剤］
フエノール誘導体
アントラキノン誘導体
オルトオキシアゾ化合物
以下、本発明について詳述する。
本発明に係る金属画像形成材料の層構成の具体
例としては、支持体上に金属薄層が設けられ、そ
の上に感光性樹脂層が設けられてなるものである
が、上記構成に他の付加的構成要素をもたせた態
様、たとえば支持体と金属薄層または、金属薄層
と感光性樹脂層との間など支持体上に設けられて
いる各種の層の間に、下引層が中間層が設けられ
た態様、さらに感光性樹脂層上にたとえば保護層
が設けられた態様などがあり、本発明の金属画像
形成材料はきわめて多種多様な態様の層構成とす
ることができるものである。
例としては、支持体上に金属薄層が設けられ、そ
の上に感光性樹脂層が設けられてなるものである
が、上記構成に他の付加的構成要素をもたせた態
様、たとえば支持体と金属薄層または、金属薄層
と感光性樹脂層との間など支持体上に設けられて
いる各種の層の間に、下引層が中間層が設けられ
た態様、さらに感光性樹脂層上にたとえば保護層
が設けられた態様などがあり、本発明の金属画像
形成材料はきわめて多種多様な態様の層構成とす
ることができるものである。
本発明の金属画像形成材料に用いられる金属薄
層の金属は、従来公知のエツチング処理液によつ
てエツチングされ得る金属によつて形成された層
であり、該金属としてはたとえば特開昭50−
139720号公報に記載されているアルミニウムを主
体とする金属や特開昭48−65927号、同48−65928
号、同50−2925号及び同50−14161号の各公報に
記載されているごときテルル、モリブテン、ボロ
ニウム、コバルト、亜鉛、銅、ニツケル、鉄、
錫、バナジウム、ゲルマニウム、銀及び銀エマル
ジヨンなどを挙げることができる。この金属薄層
の厚さは得られる画像に必要な光学濃度によつて
決まつてくるが、両者はほぼ比例関係にあり、た
とえば画像が線画や網点の場合は比較的高濃度が
必要であつて少なくとも光学濃度で2.0以上、特
に本発明の材料をPS印刷版に焼き付けを行なう
ためのマスクとして用いる場合には少なくとも
3.0の光学濃度が必要であるので、それに相応し
た厚さに決めるのである。この金属薄層の厚さと
光学濃度との関係は、金属薄層を形成させる方
法、たとえば真空蒸着の条件によつて多少異なる
ことはあるが大体においてほゞ同様である。所望
の光学濃度を得るために金属薄層の厚さを必要以
上にすることは特に禁止されることはないが、金
属薄層の素材の浪費や後述するごとき画像形成の
ためのエツチングに過大な時間が要することにな
るので望ましいことではない。さらに過大なエツ
チング時間のためにレジストを劣化させることが
あることを考慮すれば金属薄層の必要以上の厚さ
はむしろ避けるべきである。
層の金属は、従来公知のエツチング処理液によつ
てエツチングされ得る金属によつて形成された層
であり、該金属としてはたとえば特開昭50−
139720号公報に記載されているアルミニウムを主
体とする金属や特開昭48−65927号、同48−65928
号、同50−2925号及び同50−14161号の各公報に
記載されているごときテルル、モリブテン、ボロ
ニウム、コバルト、亜鉛、銅、ニツケル、鉄、
錫、バナジウム、ゲルマニウム、銀及び銀エマル
ジヨンなどを挙げることができる。この金属薄層
の厚さは得られる画像に必要な光学濃度によつて
決まつてくるが、両者はほぼ比例関係にあり、た
とえば画像が線画や網点の場合は比較的高濃度が
必要であつて少なくとも光学濃度で2.0以上、特
に本発明の材料をPS印刷版に焼き付けを行なう
ためのマスクとして用いる場合には少なくとも
3.0の光学濃度が必要であるので、それに相応し
た厚さに決めるのである。この金属薄層の厚さと
光学濃度との関係は、金属薄層を形成させる方
法、たとえば真空蒸着の条件によつて多少異なる
ことはあるが大体においてほゞ同様である。所望
の光学濃度を得るために金属薄層の厚さを必要以
上にすることは特に禁止されることはないが、金
属薄層の素材の浪費や後述するごとき画像形成の
ためのエツチングに過大な時間が要することにな
るので望ましいことではない。さらに過大なエツ
チング時間のためにレジストを劣化させることが
あることを考慮すれば金属薄層の必要以上の厚さ
はむしろ避けるべきである。
本発明の金属画像形成材料に用いられる金属薄
層が設けられる支持体は、その上に直接あるいは
間接（他の層を介して）に設けられる画像形成層
としての金属薄層を保持するものであつて、しか
も本発明になる金属画像形成材料の目的とする用
途を考慮して各種の形態のものとすることができ
る。従つて通常の画像形成材料の形態からして本
発明の金属画像形成材料の場合もシート状、フイ
ルム状あるいは板状といつた形態とすることが好
ましく、その用途によつて透明なもの、半透明の
ものあるいは不透明のものとすることができる。
そして支持体は金属薄層を腐蝕させるエツチング
液に侵されず、かつエツチング液によりその上に
設けられている層が剥離しやすくなつたりするよ
うなものであつてはならない。支持体の素材とし
ては従来公知の多くのものが用いられ、例えば陶
磁器、無定形ガラス、結晶性ガラス、金属、合
金、プラスチツク及びこれらの複合材料などを挙
げることができる。これらの素材は不透明なもの
や透明なものがあるが、必要によつては透明なも
のに着色剤や不透明化剤を加えて、半透明化ある
いは不透明化させることができる。しかしながら
考えられる多くの用途の分野は、本発明の画像形
成材料に金属層による画像を形成せしめ、金属層
がなくて支持体が画面に露出している非画線部分
に光を透化せしめ、画像部分は金属層によつて光
を遮断するいわゆる透過型の応用分野であり、そ
のような分野に用いられる画像形成材料の場合は
その支持体が透明であることが必要である。他方
形成された画像を反射光によつて認識する応用分
野に適用されるものにあつては、その支持体は透
明であることを要しない。
層が設けられる支持体は、その上に直接あるいは
間接（他の層を介して）に設けられる画像形成層
としての金属薄層を保持するものであつて、しか
も本発明になる金属画像形成材料の目的とする用
途を考慮して各種の形態のものとすることができ
る。従つて通常の画像形成材料の形態からして本
発明の金属画像形成材料の場合もシート状、フイ
ルム状あるいは板状といつた形態とすることが好
ましく、その用途によつて透明なもの、半透明の
ものあるいは不透明のものとすることができる。
そして支持体は金属薄層を腐蝕させるエツチング
液に侵されず、かつエツチング液によりその上に
設けられている層が剥離しやすくなつたりするよ
うなものであつてはならない。支持体の素材とし
ては従来公知の多くのものが用いられ、例えば陶
磁器、無定形ガラス、結晶性ガラス、金属、合
金、プラスチツク及びこれらの複合材料などを挙
げることができる。これらの素材は不透明なもの
や透明なものがあるが、必要によつては透明なも
のに着色剤や不透明化剤を加えて、半透明化ある
いは不透明化させることができる。しかしながら
考えられる多くの用途の分野は、本発明の画像形
成材料に金属層による画像を形成せしめ、金属層
がなくて支持体が画面に露出している非画線部分
に光を透化せしめ、画像部分は金属層によつて光
を遮断するいわゆる透過型の応用分野であり、そ
のような分野に用いられる画像形成材料の場合は
その支持体が透明であることが必要である。他方
形成された画像を反射光によつて認識する応用分
野に適用されるものにあつては、その支持体は透
明であることを要しない。
本発明に係る金属画像形成材料の感光性樹脂層
の素材である感光性樹脂としては、オルトキノ
ンジアジド類とノボラツク樹脂とを組合せた感光
性樹脂、ジアゾ樹脂と水溶性樹脂あるいはアル
カリ可溶樹脂とを組合せた感光性樹脂、アジド
化合物と、天然ゴム、合成ゴム又はそれらの環化
ゴムとを組合せたゴム−アジド系感光性樹脂、
アジド基を分子の中に組み入れた感光性樹脂、
桂皮酸系感光性樹脂、エチレン性不飽和二重結
合を有する光重合系感光性樹脂などのフオトエツ
チング用レジストとして用いられる各種の感光性
樹脂を挙げることができる。
の素材である感光性樹脂としては、オルトキノ
ンジアジド類とノボラツク樹脂とを組合せた感光
性樹脂、ジアゾ樹脂と水溶性樹脂あるいはアル
カリ可溶樹脂とを組合せた感光性樹脂、アジド
化合物と、天然ゴム、合成ゴム又はそれらの環化
ゴムとを組合せたゴム−アジド系感光性樹脂、
アジド基を分子の中に組み入れた感光性樹脂、
桂皮酸系感光性樹脂、エチレン性不飽和二重結
合を有する光重合系感光性樹脂などのフオトエツ
チング用レジストとして用いられる各種の感光性
樹脂を挙げることができる。
以下、これらの感光性樹脂を詳細に述べる。
前記オルトキノンジアジド類とノボラツク樹
脂とを組合せた感光性樹脂としては、２，３，４
−トリオキシベンゾフエノン−ビス−〔ナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−５，５−スルホン酸エ
ステル〕、２−ナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホニルオキシ〕−ヒドロキシ−７−ナ
フタリン、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５
−スルフアニリド、ナフトキノン−１，２−ジア
ジド−５−スルホン酸ノボラツクエステルなどの
オルトキノンジアジド類をノボラツク樹脂と組合
せた感光性樹脂を挙げることができる。このオル
トキノンジアジド類は光を受けるとアルカリ可溶
性になるのでボジ・ワーク用素材として重要であ
る。
脂とを組合せた感光性樹脂としては、２，３，４
−トリオキシベンゾフエノン−ビス−〔ナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−５，５−スルホン酸エ
ステル〕、２−ナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホニルオキシ〕−ヒドロキシ−７−ナ
フタリン、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５
−スルフアニリド、ナフトキノン−１，２−ジア
ジド−５−スルホン酸ノボラツクエステルなどの
オルトキノンジアジド類をノボラツク樹脂と組合
せた感光性樹脂を挙げることができる。このオル
トキノンジアジド類は光を受けるとアルカリ可溶
性になるのでボジ・ワーク用素材として重要であ
る。
前記ジアゾ樹脂と水溶性樹脂あるいはアルカ
リ可溶性樹脂とを組み合せた感光性樹脂として
は、芳香族ジアゾニウム塩と活性カルボニル含有
化合物、殊にアルデヒド類例えばホルムアルデヒ
ドとを酸性媒体中で縮合した水溶性ジアゾ樹脂、
あるいは前記水溶性ジアゾ樹脂のアニオン成分を
BF4 -，PF6 -，SiF6 --，SbF6 --，BeF4 --，IO4 -
または有機スルホン酸塩で置換した油溶性ジアゾ
樹脂とゼラチン、ポリビニルアルコール、部分ケ
ン化ポリ酢酸ビニル、メチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポ
リエチレングリコール、ポリビニルピロリドン等
の水溶性樹脂、スチレン、メチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリ
シジルメタクリレートとアクリル酸メタクリル酸
との共重合体等のアルカリ可溶性樹脂を挙げるこ
とができる。
リ可溶性樹脂とを組み合せた感光性樹脂として
は、芳香族ジアゾニウム塩と活性カルボニル含有
化合物、殊にアルデヒド類例えばホルムアルデヒ
ドとを酸性媒体中で縮合した水溶性ジアゾ樹脂、
あるいは前記水溶性ジアゾ樹脂のアニオン成分を
BF4 -，PF6 -，SiF6 --，SbF6 --，BeF4 --，IO4 -
または有機スルホン酸塩で置換した油溶性ジアゾ
樹脂とゼラチン、ポリビニルアルコール、部分ケ
ン化ポリ酢酸ビニル、メチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポ
リエチレングリコール、ポリビニルピロリドン等
の水溶性樹脂、スチレン、メチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリ
シジルメタクリレートとアクリル酸メタクリル酸
との共重合体等のアルカリ可溶性樹脂を挙げるこ
とができる。
前記ゴム−アジド系感光性樹脂としては、ｐ
−フエニレンビスアジド、ｐ−アジドベンゾフエ
ノン、４，4′−ジアジドベンゾフエノン、４，
4′−ジアジドフエニルメタン、４，4′−ジアジド
スチルベン、４，4′−ジアジドカルコン、２，６
−ジ−（4′−アジドベンザル）シクロヘキサノン、
２，６−ジ−（4′−アジドベンザル）−４−メチル
シクロヘキサノンなどのアジド化合物と、天然ゴ
ム、合成ゴム又はそれらを環化したゴムを組合せ
た感光性樹脂を挙げることができる。
−フエニレンビスアジド、ｐ−アジドベンゾフエ
ノン、４，4′−ジアジドベンゾフエノン、４，
4′−ジアジドフエニルメタン、４，4′−ジアジド
スチルベン、４，4′−ジアジドカルコン、２，６
−ジ−（4′−アジドベンザル）シクロヘキサノン、
２，６−ジ−（4′−アジドベンザル）−４−メチル
シクロヘキサノンなどのアジド化合物と、天然ゴ
ム、合成ゴム又はそれらを環化したゴムを組合せ
た感光性樹脂を挙げることができる。
前記アジド基を分子の中に組み入れた感光性
樹脂としては、ポリアジド安息香酸ビニル、ポリ
アジドフタル酸ビニル、ポリアジドスチレン、ポ
リビニルアジドベンザルアセタール、ポリビニル
アジドナフチルアセタール、アジドベンズアルデ
ヒドフエノール樹脂、アジドフエニルアミン・ホ
ルマリン縮合重合体ポリビニルアルコールのアジ
ド高分子、部分的に加水分解されたセルロースア
セテートのアジドフタレートのごときセルロース
のアジド高分子、及びゼラチンやカゼインのアジ
ド高分子などを挙げることができる。
樹脂としては、ポリアジド安息香酸ビニル、ポリ
アジドフタル酸ビニル、ポリアジドスチレン、ポ
リビニルアジドベンザルアセタール、ポリビニル
アジドナフチルアセタール、アジドベンズアルデ
ヒドフエノール樹脂、アジドフエニルアミン・ホ
ルマリン縮合重合体ポリビニルアルコールのアジ
ド高分子、部分的に加水分解されたセルロースア
セテートのアジドフタレートのごときセルロース
のアジド高分子、及びゼラチンやカゼインのアジ
ド高分子などを挙げることができる。
前記桂皮酸系感光性樹脂としては、ポリ桂皮
酸ビニル、ポリ（ｍ−ニトロ桂皮酸ビニル）、ポ
リ−α−シアノ桂皮酸ビニル、ポリ−α−ニトロ
桂皮酸ビニル、ポリ−β−ニトロ桂皮酸ビニル、
ポリ−α−クロロ桂皮酸ビニル、ポリ−β−クロ
ロ桂皮酸ビニル、ポリシンナミリデン酢酸ビニ
ル、ポリビニルオキシエチルシンナメート、ポリ
ビニルチオエチルシンナメート、ポリ（２−シン
ナモイルオキシエチルアクリレート）、ポリ（２
−シンナモイルオキシエチルメタアクリレート）、
ポリ（シンナモイルオキシ酢酸ビニル）、ポリ
（ｐ−シンナモイルオキシビニルベンゼン）。ポリ
（ｐ−シンナモイルスチレン）等のビニル重合
体；これらと他の重合体との共重合体；ポリ桂皮
酸グリシジル、ポリシンナミリデン酢酸グリシジ
ル等のオキシラン環の開環重合体；側鎖にハロゲ
ン化アルキルを含む重合体に感光基を有するカル
ボン酸塩を非プロトン性極性溶媒中で、高分子反
応を行つて全部あるいは部分的に感光基を導入し
た重合体、例えばポリクロルエチルビニルエーテ
ル、ポリクロル酢酸ビニル、ポリ（β−クロルエ
チルアクリル酸エステル）、ポリエピクロルヒド
リン、ポリエピブロムヒドリン等に桂皮酸若しく
はその誘導体の塩を反応させて得た重合体；ビニ
ルエーテル類のカチオン重合体、例えばポリビニ
ロキシエチルシンナメートなどを挙げることがで
きる。
酸ビニル、ポリ（ｍ−ニトロ桂皮酸ビニル）、ポ
リ−α−シアノ桂皮酸ビニル、ポリ−α−ニトロ
桂皮酸ビニル、ポリ−β−ニトロ桂皮酸ビニル、
ポリ−α−クロロ桂皮酸ビニル、ポリ−β−クロ
ロ桂皮酸ビニル、ポリシンナミリデン酢酸ビニ
ル、ポリビニルオキシエチルシンナメート、ポリ
ビニルチオエチルシンナメート、ポリ（２−シン
ナモイルオキシエチルアクリレート）、ポリ（２
−シンナモイルオキシエチルメタアクリレート）、
ポリ（シンナモイルオキシ酢酸ビニル）、ポリ
（ｐ−シンナモイルオキシビニルベンゼン）。ポリ
（ｐ−シンナモイルスチレン）等のビニル重合
体；これらと他の重合体との共重合体；ポリ桂皮
酸グリシジル、ポリシンナミリデン酢酸グリシジ
ル等のオキシラン環の開環重合体；側鎖にハロゲ
ン化アルキルを含む重合体に感光基を有するカル
ボン酸塩を非プロトン性極性溶媒中で、高分子反
応を行つて全部あるいは部分的に感光基を導入し
た重合体、例えばポリクロルエチルビニルエーテ
ル、ポリクロル酢酸ビニル、ポリ（β−クロルエ
チルアクリル酸エステル）、ポリエピクロルヒド
リン、ポリエピブロムヒドリン等に桂皮酸若しく
はその誘導体の塩を反応させて得た重合体；ビニ
ルエーテル類のカチオン重合体、例えばポリビニ
ロキシエチルシンナメートなどを挙げることがで
きる。
桂皮酸系感光性樹脂のうち、米国特許第
3030208号明細書に記載されている不飽和感光性
ポリエステル化合物と下記の化学構造式によつて
表わされる感光性樹脂との混合物はきわめて好適
なものである。後者の感光性樹脂は、 〔Ａ〕 −CH2−CR1COOR2CO（−CR3＝CH）a――−（CH＝
CH））−bR4 （式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、ニト
リル基、又は低級アルキル基、R2は２価の脂肪
族基、R3は水素原子又はニトリル基、R4は芳香
核、ａ及びｂは０又は１で、かつａ＋ｂは１又は
２である。）及び〔Ｂ〕アクリル酸又はメタクリ
ル酸を単位とする重合物である。
3030208号明細書に記載されている不飽和感光性
ポリエステル化合物と下記の化学構造式によつて
表わされる感光性樹脂との混合物はきわめて好適
なものである。後者の感光性樹脂は、 〔Ａ〕 −CH2−CR1COOR2CO（−CR3＝CH）a――−（CH＝
CH））−bR4 （式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、ニト
リル基、又は低級アルキル基、R2は２価の脂肪
族基、R3は水素原子又はニトリル基、R4は芳香
核、ａ及びｂは０又は１で、かつａ＋ｂは１又は
２である。）及び〔Ｂ〕アクリル酸又はメタクリ
ル酸を単位とする重合物である。
前記エチレン性不飽和二重結合を有する光重
合型の感光性樹脂の例としては、モノマーとその
重合性結合体に関して米国特許第276083号および
第3060026号明細書などに詳述されているが、モ
ノマーの一例として多価アルコールのアクリル酸
エステル及びメタクリル酸エステルが適当であ
り、たとえばエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、プロピ
レングリコール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ネオペンチルグリコール等の
アクリル酸あるいはメタクリル酸エステルを例と
して挙げることができる。ビスフエノールＡから
変性誘導されたアクリル酸、メタクリル酸のエス
テル、例えばビスフエノールＡ−エピクロルヒド
リン系エポキシ樹脂プレポリマーとアクリル酸あ
るいはメタクリル酸との反応生成物、ビスフエノ
ールＡのアルキレンオキシド付加体あるいはその
水素添加物のアクリル酸、メタクリル酸エステル
等を使用し得る。その他メチレンビスアクリルア
ミド、エチレンビスアクリルアミドならびにエチ
レンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジ
アミン、ペンタメチレンジアミン等のジアミンの
ビスアクリルアミド又はビスメタクリルアミド、
ジオールモノアクリレートもしくはジオールモノ
メタクリレートとジイソシアネートとの反応生成
物、トリアクリルホルマール又はトリアリルシア
ヌレート等も使用することができる。
合型の感光性樹脂の例としては、モノマーとその
重合性結合体に関して米国特許第276083号および
第3060026号明細書などに詳述されているが、モ
ノマーの一例として多価アルコールのアクリル酸
エステル及びメタクリル酸エステルが適当であ
り、たとえばエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、プロピ
レングリコール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ネオペンチルグリコール等の
アクリル酸あるいはメタクリル酸エステルを例と
して挙げることができる。ビスフエノールＡから
変性誘導されたアクリル酸、メタクリル酸のエス
テル、例えばビスフエノールＡ−エピクロルヒド
リン系エポキシ樹脂プレポリマーとアクリル酸あ
るいはメタクリル酸との反応生成物、ビスフエノ
ールＡのアルキレンオキシド付加体あるいはその
水素添加物のアクリル酸、メタクリル酸エステル
等を使用し得る。その他メチレンビスアクリルア
ミド、エチレンビスアクリルアミドならびにエチ
レンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジ
アミン、ペンタメチレンジアミン等のジアミンの
ビスアクリルアミド又はビスメタクリルアミド、
ジオールモノアクリレートもしくはジオールモノ
メタクリレートとジイソシアネートとの反応生成
物、トリアクリルホルマール又はトリアリルシア
ヌレート等も使用することができる。
本発明の画像形成材料に用いられる金属キレー
ト化剤とは支持体上に設けられた金属薄層の金属
とエツチング時にキレート化合物を作りうるもの
をいう。
ト化剤とは支持体上に設けられた金属薄層の金属
とエツチング時にキレート化合物を作りうるもの
をいう。
本発明に用いられるキレート化剤は、フエノー
ル誘導体、アントラキノン誘導体、オルトオキシ
アゾ化合物の少なくとも１種である。
ル誘導体、アントラキノン誘導体、オルトオキシ
アゾ化合物の少なくとも１種である。
フエノール誘導体としては、８−オキシキノリ
ン、オルトオキシキノリン、２，４−ジオキシキ
ノリン、５−ニトロキノリン、５−ニトロ−２−
アミノフエノール、４−ニトロ−２−アミノフエ
ノール及びそれらの塩等が挙げられる。
ン、オルトオキシキノリン、２，４−ジオキシキ
ノリン、５−ニトロキノリン、５−ニトロ−２−
アミノフエノール、４−ニトロ−２−アミノフエ
ノール及びそれらの塩等が挙げられる。
アントラキノン誘導体としては、アントラキノ
ン−α−スルホン酸、アントラキノン−β−スル
ホン酸、アントラキノン−１，５−ジスルホン
酸、アントラキノン−１，８−ジスルホン酸、ア
ントラキノン−２，６−ジスルホン酸、アントラ
キノン−２，７−ジスルホン酸及びそれらの塩等
が挙げられる。
ン−α−スルホン酸、アントラキノン−β−スル
ホン酸、アントラキノン−１，５−ジスルホン
酸、アントラキノン−１，８−ジスルホン酸、ア
ントラキノン−２，６−ジスルホン酸、アントラ
キノン−２，７−ジスルホン酸及びそれらの塩等
が挙げられる。
オルトオキシアゾ化合物としてはエリオクロム
ブラツクＴ、エリオクロムブラツクＡ等が挙げら
れる。
ブラツクＴ、エリオクロムブラツクＡ等が挙げら
れる。
前記金属キレート化剤を、前記金属薄層以外の
少くとも一層に含有せしめる態様は、金属薄層上
に設けられた感光性樹脂層中に混入する場合、中
間層（金属薄層と感光性樹脂層の間）に混入する
場合、下引層（支持体と金属薄層の間）に混入す
る場合、感光性樹脂層上に設けられる保護層に混
入する場合の４通りの場合が代表的具体例である
が、これらの２以上の組合せの場合もあり、その
他具体的には、きわめて多種多様な態様の層構成
とすることができる。
少くとも一層に含有せしめる態様は、金属薄層上
に設けられた感光性樹脂層中に混入する場合、中
間層（金属薄層と感光性樹脂層の間）に混入する
場合、下引層（支持体と金属薄層の間）に混入す
る場合、感光性樹脂層上に設けられる保護層に混
入する場合の４通りの場合が代表的具体例である
が、これらの２以上の組合せの場合もあり、その
他具体的には、きわめて多種多様な態様の層構成
とすることができる。
金属キレート化剤の添加量については、前記層
構成のそれぞれの場合により添加量は異なるが、
約0.001ｇ／m2以上、特に好ましくは約0.01ｇ／
m2以上である。
構成のそれぞれの場合により添加量は異なるが、
約0.001ｇ／m2以上、特に好ましくは約0.01ｇ／
m2以上である。
本発明に係る金属画像形成材料を調製するに
は、まず特定した支持体表面に真空蒸着法やスパ
ツタリング法、イオンプレーテイング法、電着
法、電気泳動法、気相析出法、スプレー法など各
種の方法によつて所望の金属層を形成せしめ、さ
らにその上に（必要に応じ中間層を介して）感光
性樹脂層（必要に応じ保護層）を形成せしめるこ
とによつて行なわれる。感光性樹脂層中に金属キ
レート化剤を混入させる場合、感光性樹脂層を形
成せしめる塗布液としては、前述した各種の感光
性樹脂から選ばれた１つ又は複数個の樹脂と共に
金属キレート化剤を水あるいは有機溶媒によつて
溶液とする。必要に応じて設けられる感光層と金
属薄層間の中間層支持体と金属薄層の間の下塗層
あるいは感光性樹脂層上の保護層中に金属キレー
ト化剤を混入する場合は、それら各層に使用され
る材料と共に金属キレート化剤を水あるいは有機
溶媒によつて溶液とする。このようにして調製し
た塗布液は、たとえばローラー塗布法、エアナイ
フ塗布法、浸漬法、カーテン塗布法、スプレー塗
布法など公知の塗布方法によつて前記の金属層上
に塗布し乾燥せしめることによつて感光性樹脂層
を形成せしめるのである。感光性樹脂層の乾燥厚
さとしては0.1〜10μ程度であればよい。薄すぎる
場合にはレジスト層として弱いものであり、厚す
ぎる場合はエツチングに過大な時間がかかり、か
つ露光像に対応した正確な画像のレジスト画像が
できなくなるという問題を生ずることがある。金
属キレート化剤の混入場所の選定は、使用する感
光性樹脂の種類、エツチング液あるいはエツチン
グ方法（一浴か二浴か）等によつて行なうが、金
属薄層のためのエツチング液の供給時に非画像部
に金属キレート化剤が存在していることが必要で
ある。
は、まず特定した支持体表面に真空蒸着法やスパ
ツタリング法、イオンプレーテイング法、電着
法、電気泳動法、気相析出法、スプレー法など各
種の方法によつて所望の金属層を形成せしめ、さ
らにその上に（必要に応じ中間層を介して）感光
性樹脂層（必要に応じ保護層）を形成せしめるこ
とによつて行なわれる。感光性樹脂層中に金属キ
レート化剤を混入させる場合、感光性樹脂層を形
成せしめる塗布液としては、前述した各種の感光
性樹脂から選ばれた１つ又は複数個の樹脂と共に
金属キレート化剤を水あるいは有機溶媒によつて
溶液とする。必要に応じて設けられる感光層と金
属薄層間の中間層支持体と金属薄層の間の下塗層
あるいは感光性樹脂層上の保護層中に金属キレー
ト化剤を混入する場合は、それら各層に使用され
る材料と共に金属キレート化剤を水あるいは有機
溶媒によつて溶液とする。このようにして調製し
た塗布液は、たとえばローラー塗布法、エアナイ
フ塗布法、浸漬法、カーテン塗布法、スプレー塗
布法など公知の塗布方法によつて前記の金属層上
に塗布し乾燥せしめることによつて感光性樹脂層
を形成せしめるのである。感光性樹脂層の乾燥厚
さとしては0.1〜10μ程度であればよい。薄すぎる
場合にはレジスト層として弱いものであり、厚す
ぎる場合はエツチングに過大な時間がかかり、か
つ露光像に対応した正確な画像のレジスト画像が
できなくなるという問題を生ずることがある。金
属キレート化剤の混入場所の選定は、使用する感
光性樹脂の種類、エツチング液あるいはエツチン
グ方法（一浴か二浴か）等によつて行なうが、金
属薄層のためのエツチング液の供給時に非画像部
に金属キレート化剤が存在していることが必要で
ある。
上記の如くして調製された金属画像形成材料に
は、公知の技術により感光性樹脂層に対して像露
光を行ない、エツチング処理液により感光性樹脂
層を現像し、同時に（１浴法）又は次いで（２浴
法）金属薄層のエツチングを行ない、所望により
感光性樹脂層によるレジストを除去することによ
り、目的の金属画像を得ることができる。
は、公知の技術により感光性樹脂層に対して像露
光を行ない、エツチング処理液により感光性樹脂
層を現像し、同時に（１浴法）又は次いで（２浴
法）金属薄層のエツチングを行ない、所望により
感光性樹脂層によるレジストを除去することによ
り、目的の金属画像を得ることができる。
本発明に係る金属画像形成材料は、支持体上の
金属薄層以外の少なくとも一層に特定の金属キレ
ート化剤を含有しているため、レジストを浸さな
い程度の弱いアルカリ、酸、酸化剤水溶液等の金
属エツチング液を用いても充分短時間のエツチン
グ処理が可能で作業時間が大巾に短縮される一
方、エツチング部分のエツヂのシヤープネスが良
好で、解像力の高い画像が得られる。
金属薄層以外の少なくとも一層に特定の金属キレ
ート化剤を含有しているため、レジストを浸さな
い程度の弱いアルカリ、酸、酸化剤水溶液等の金
属エツチング液を用いても充分短時間のエツチン
グ処理が可能で作業時間が大巾に短縮される一
方、エツチング部分のエツヂのシヤープネスが良
好で、解像力の高い画像が得られる。
以下、実施例を挙げて本発明を例証するが、本
発明の実施態様は、これらに限定されない。
発明の実施態様は、これらに限定されない。
実施例 １
Al約400mgを真空蒸着装置内に配置されている
Al2O3ボート中に入れ、厚さ100μのポリエチレン
テレフタレートフイルム（支持体）を、上記蒸発
源からの距離が約30cmになるように真空蒸着装置
内に配置し、真空度５×10-5Torrのもとで厚さ
800ÅのAl蒸着膜を得た。この蒸着膜上に下記の
感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が2.5μとなるよ
うにホワラー塗布し、100℃乾燥器中で５分間乾
燥した。
Al2O3ボート中に入れ、厚さ100μのポリエチレン
テレフタレートフイルム（支持体）を、上記蒸発
源からの距離が約30cmになるように真空蒸着装置
内に配置し、真空度５×10-5Torrのもとで厚さ
800ÅのAl蒸着膜を得た。この蒸着膜上に下記の
感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が2.5μとなるよ
うにホワラー塗布し、100℃乾燥器中で５分間乾
燥した。
スチレンとメタクリル酸共重合体 ５ｇ
（スチレン／メタクリル酸＝70／30）
ペンタエリスリトールトリアクリレート ５ｇ
２−イソプロピルチオキサントン １ｇ
アントラキノン−２，６−ジスルホン酸 ２ｇ
メチルセロソルブ 100ml
このようにして得られた金属画像形成材料の試
料を明室プリンターUp−６（3kWメタルハライド
ランプ、上野化学製）を行い、網点原稿を通して
20秒間パターン露光し、0.1Nの水酸化ナトリウ
ム水溶液中に、液温25℃で30秒間浸漬した。未露
光部の金属薄層は完全に除去される一方、露光部
の金属薄層は原稿とほぼ完全に明暗が逆転し、網
点のエツヂのシヤープネスも良好であることが確
認された。
料を明室プリンターUp−６（3kWメタルハライド
ランプ、上野化学製）を行い、網点原稿を通して
20秒間パターン露光し、0.1Nの水酸化ナトリウ
ム水溶液中に、液温25℃で30秒間浸漬した。未露
光部の金属薄層は完全に除去される一方、露光部
の金属薄層は原稿とほぼ完全に明暗が逆転し、網
点のエツヂのシヤープネスも良好であることが確
認された。
これに対し、上記感光性樹脂組成物中からアン
トラキノン−２，６−ジスルホン酸を除いた感光
性樹脂組成物で同様に金属画像形成材料を作成
し、上記エツチング液で処理したところ、エツチ
ング時間も３分間の長時間を要し、出来上がつた
網点画像のエツヂのシヤープネスが悪いことが確
認された。
トラキノン−２，６−ジスルホン酸を除いた感光
性樹脂組成物で同様に金属画像形成材料を作成
し、上記エツチング液で処理したところ、エツチ
ング時間も３分間の長時間を要し、出来上がつた
網点画像のエツヂのシヤープネスが悪いことが確
認された。
実施例 ２
Al2Fe合金の適量を真空蒸着装置内に配置され
ているAl2O3ボート中に入れ、厚さ100μのポリエ
チレンテレフタレートフイルム（支持体）を、上
記蒸発源からの距離が約30cmになるように真空蒸
着装置内に配置し、真空度５×10-5Torrのもと
で厚さ800Åのアルミニウム−鉄合金フイルムを
得た。この蒸着膜上に下記の感光性樹脂組成物を
乾燥後の膜厚2.0μの厚さにホワラー塗布した。
ているAl2O3ボート中に入れ、厚さ100μのポリエ
チレンテレフタレートフイルム（支持体）を、上
記蒸発源からの距離が約30cmになるように真空蒸
着装置内に配置し、真空度５×10-5Torrのもと
で厚さ800Åのアルミニウム−鉄合金フイルムを
得た。この蒸着膜上に下記の感光性樹脂組成物を
乾燥後の膜厚2.0μの厚さにホワラー塗布した。
メチルメタクリレートとメタクリル酸共重合
体 ５ｇ （メチルメタクリレート／メタクリル酸＝
80／20） ペンタエリスリトールトリアクリレート ５ｇ ２−イソプロピルチオキサントン １ｇ ジメチルアミノ安息香酸イソアミル 0.5ｇ メチルセロソルブ 100ml 次いで、その上に、保護層として、下記の保護
組成物を2.0μの厚さにホワラー塗布した。
体 ５ｇ （メチルメタクリレート／メタクリル酸＝
80／20） ペンタエリスリトールトリアクリレート ５ｇ ２−イソプロピルチオキサントン １ｇ ジメチルアミノ安息香酸イソアミル 0.5ｇ メチルセロソルブ 100ml 次いで、その上に、保護層として、下記の保護
組成物を2.0μの厚さにホワラー塗布した。
ポリビニルアルコール 10ｇ
（日本合成化学製PVA−GL−05）
４−ニトロ−２−アミノフエノールNa ３ｇ
水 100ml
このようにして得られた試料を実施例１と同様
に露光し、0.1N水酸化ナトリウム水溶液中に浸
漬したところ、液温25℃、浸漬時間10秒において
未露光部の金属薄層は完全に除去される一方、露
光部の金属薄層は原稿とほぼ完全に明暗が逆転
し、網点のエツヂのシヤープネスの良好であるこ
とが確認された。
に露光し、0.1N水酸化ナトリウム水溶液中に浸
漬したところ、液温25℃、浸漬時間10秒において
未露光部の金属薄層は完全に除去される一方、露
光部の金属薄層は原稿とほぼ完全に明暗が逆転
し、網点のエツヂのシヤープネスの良好であるこ
とが確認された。
実施例 ３
実施例１と同様にして作成したAl蒸着膜上に、
下記の組成で接着層（中間層）を乾燥後の膜厚
1μの厚さにホワラー塗布した。
下記の組成で接着層（中間層）を乾燥後の膜厚
1μの厚さにホワラー塗布した。
ヒドロキシフエニルメタクリルアミド、 ５ｇ
アクリロニトリル、メチルメタクリレート、
メタクリル酸の共重合体 ５ｇ （30／40／25／５） ５−ニトロ−２−アミノフエノール ２ｇ メチルセロソルブ 100ml 次いで、その上に下記の感光性樹脂組成物を乾
燥後の膜厚2.0μの厚さにホワラー塗布した。
メタクリル酸の共重合体 ５ｇ （30／40／25／５） ５−ニトロ−２−アミノフエノール ２ｇ メチルセロソルブ 100ml 次いで、その上に下記の感光性樹脂組成物を乾
燥後の膜厚2.0μの厚さにホワラー塗布した。
ポリビニルアセテート／長鎖アクリレート共
重合体 100ml エマルジヨン（Gelva TS−100，Monsanto
Corp製） ジアゾ樹脂（Fairmount＃４） ４ｇ このようにして得られた試料を実施例１と同様
に露光し、水道水で10秒間現像した。次いで、こ
の試料を100℃で５分間熱処理した後、0.1Nの水
酸化ナトリウム水溶液中に浸漬したところ、液温
25℃、浸漬時間30秒において未露光部の金属薄層
は完全に除去される一方、露光部の金属薄層は原
稿とほぼ完全に明暗が逆転し、網点のエツヂのシ
ヤープネスの良好であることが確認された。
重合体 100ml エマルジヨン（Gelva TS−100，Monsanto
Corp製） ジアゾ樹脂（Fairmount＃４） ４ｇ このようにして得られた試料を実施例１と同様
に露光し、水道水で10秒間現像した。次いで、こ
の試料を100℃で５分間熱処理した後、0.1Nの水
酸化ナトリウム水溶液中に浸漬したところ、液温
25℃、浸漬時間30秒において未露光部の金属薄層
は完全に除去される一方、露光部の金属薄層は原
稿とほぼ完全に明暗が逆転し、網点のエツヂのシ
ヤープネスの良好であることが確認された。
実施例 ４
厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフイ
ルム（支持体）上に、下記の組成で、下引層を乾
燥後の膜厚1μになるように塗布した。
ルム（支持体）上に、下記の組成で、下引層を乾
燥後の膜厚1μになるように塗布した。
クレゾールノボラツク樹脂 ５ｇ
（群栄化学(株)製）
エリオクロムブラツクＴ ２ｇ
メチルセロソルブ 100ml
次に、この上に実施例１と同様に、Al蒸着膜
を設け、さらにその上に下記組成の感光性樹脂層
を乾燥後の膜厚2.5μになるように塗布した。
を設け、さらにその上に下記組成の感光性樹脂層
を乾燥後の膜厚2.5μになるように塗布した。
クレゾールノボラツク樹脂 2.5ｇ
（群栄化学(株)製）
クレゾールノボラツク樹脂の１，２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル
５ｇ （エステル化率25モル％） メチルセロソルブ 100ml このようにして得られた感光材料の試料を実施
例１と同様に露光し、現像したところ、液温25
℃、浸漬時間35秒において露光部の金属薄層は完
全に除去される一方、未露光部の金属薄層は原稿
とほぼ完全に明暗が対応し、網点のエツヂのシヤ
ープネス良好な画像が得られた。
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル
５ｇ （エステル化率25モル％） メチルセロソルブ 100ml このようにして得られた感光材料の試料を実施
例１と同様に露光し、現像したところ、液温25
℃、浸漬時間35秒において露光部の金属薄層は完
全に除去される一方、未露光部の金属薄層は原稿
とほぼ完全に明暗が対応し、網点のエツヂのシヤ
ープネス良好な画像が得られた。
比較例 １
実施例１において感光性樹脂組成物からアント
ラキノン−２，６−ジスルホン酸を除いて金属画
像形成材料を得、この材料に同様に露光後、下記
の処理液中に液温25℃で30秒間浸漬した。
ラキノン−２，６−ジスルホン酸を除いて金属画
像形成材料を得、この材料に同様に露光後、下記
の処理液中に液温25℃で30秒間浸漬した。
（処理液）
水酸化ナトリウム ２ｇ
アントラキノン−２，６−ジスルホン酸 ６ｇ
水 １
実施例１では画像の解像力が100本／mmであつ
たのに対し、解像力が70本／mm劣つていた。
たのに対し、解像力が70本／mm劣つていた。
比較例 ２
実施例１の感光性樹脂組成物のアントラキノン
−２，６−ジスルホン酸を特開昭50−95004号に
記載のアルミニウムアルコレート又はアルミニウ
ムキレート化合物に代えた以外は同様にエツチン
グ処理した。
−２，６−ジスルホン酸を特開昭50−95004号に
記載のアルミニウムアルコレート又はアルミニウ
ムキレート化合物に代えた以外は同様にエツチン
グ処理した。
その結果、いずれの場合にもエツチング時間は
25℃で60秒間要した。
25℃で60秒間要した。
比較例 ３
実施例３の接着層の５−ニトロ−２−アミノフ
エノールをポリアミノカルボン酸に代えた以外は
同様にエツチング処理した。
エノールをポリアミノカルボン酸に代えた以外は
同様にエツチング処理した。
その結果、エツチング時間は25℃で75秒間要し
た。
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 支持体上に金属薄層を有し、その上に感光性
樹脂層を有する金属画像形成材料において、支持
体上の前記金属薄層以外の少なくとも一層に下記
金属キレート化剤の少なくとも１種を含有せしめ
たことを特徴とする金属画像形成材料。 ［金属キレート化剤］ フエノール誘導体 アントラキノン誘導体 オルトオキシアゾ化合物
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56181747A JPS5883846A (ja) | 1981-11-14 | 1981-11-14 | 金属画像形成材料 |
| US06/439,427 US4455364A (en) | 1981-11-14 | 1982-11-05 | Process for forming metallic image, composite material for the same |
| GB08232192A GB2113152B (en) | 1981-11-14 | 1982-11-11 | Process for forming metallic image composite material for the same and treating solution for the same( |
| DE19823241980 DE3241980A1 (de) | 1981-11-14 | 1982-11-12 | Verfahren zur erzeugung eines metallischen bildes sowie verbundmaterial und behandlungsloesung dafuer |
| GB08428642A GB2155861A (en) | 1981-11-14 | 1984-11-13 | A treating solution for use in forming metallic images |
| GB8428641A GB2156088B (en) | 1981-11-14 | 1984-11-13 | A composite material for forming metallic images |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56181747A JPS5883846A (ja) | 1981-11-14 | 1981-11-14 | 金属画像形成材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5883846A JPS5883846A (ja) | 1983-05-19 |
| JPH0145896B2 true JPH0145896B2 (ja) | 1989-10-05 |
Family
ID=16106171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56181747A Granted JPS5883846A (ja) | 1981-11-14 | 1981-11-14 | 金属画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5883846A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0450845A (ja) * | 1990-06-14 | 1992-02-19 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | レリーフ樹脂印刷版 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5630534B2 (ja) * | 1973-12-24 | 1981-07-15 | ||
| ZA743293B (en) * | 1974-03-01 | 1975-05-28 | Pennwalt Corp | Non-chromated alkaline etching bath and etching process for aluminium |
| JPS5821257B2 (ja) * | 1974-04-25 | 1983-04-28 | 富士写真フイルム株式会社 | キンゾクガゾウケイセイザイリヨウ |
| GB1562586A (en) * | 1978-05-12 | 1980-03-12 | Pennwalt Corp | Aluminium etching |
| JPS5538510A (en) * | 1978-09-11 | 1980-03-18 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition |
-
1981
- 1981-11-14 JP JP56181747A patent/JPS5883846A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5883846A (ja) | 1983-05-19 |
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