JPH0145973B2

JPH0145973B2 -

Info

Publication number: JPH0145973B2
Application number: JP58159652A
Authority: JP
Inventors: Akyoshi Suzuki; Hideki Ine
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1983-08-31
Filing date: 1983-08-31
Publication date: 1989-10-05
Also published as: DE3431739A1; US4641035A; GB2147411A; JPS6052021A; GB2147411B; GB8421876D0; DE3431739C2

Description

【発明の詳細な説明】（技術分野）本発明は、半導体焼付け装置のフオトマスクと
ウエハの相対的アライメントのための位置検出、
あるいはウエハー検査装置のウエハーの絶対アラ
イメントのための位置検出等に使われる高精度の
位置検出装置と方法に関する。

（従来技術）２物体の相対位置合わせに適した方法は特開昭
53−90872や91754号で知られている。例えばアラ
イメントマーク・パターンを有する半導体製造用
フオトマスクとウエハーを微小間隔を置いて、又
は投影光学系を挾んで配置し、フオトマスクとウ
エハーのマーク・パターンをスポツト状又は線状
のレーザービームで走査し、各マーク・パターン
の相対位置を検出することでマスクとウエハーの
位置ずれを測定する。

第１図Ａはオートアライメントマーク・パター
ン（以下、AAパターン）の縁を形成する段差を
示し、Ｂ，Ｃは段差で得られるオートアライメン
ト信号（以下、AA信号）を示す。第１図ａはウ
エハーの断面を拡大視しており、レーザービーム
を図面に平行に走査すると、レーザービームは段
差のエツジで回折散乱する。不図示の受光系で回
折散乱光を受光し、これを電気信号に変換したも
のをＢ図に示しており、段差によるパルスが１′
と２′である。これを所定の識閾値Ｖで制限し、
二値化して整形したパルスが１″と２″である。こ
のパルスを、不図示のマスクからの信号あるいは
受光系内に基準と比較することで、アライメント
を完了させるのに必要な誤差信号を測定できる。

処で半導体焼付け工程ではアライメント完了
後、マスクを照明してマスクの実素子パターンを
ウエハーに転写する。そして位置検出の時に既に
ウエハー上にフオトレジストが一様に塗布されて
おり、この様な透光層を通してAAパターンを検
出する場合、透光層の影響を無視できないことが
わかつて来た。例えばAAパターンのエツジ部か
ら来る信号の幅が、フオトレジストを塗布する以
前より広がる現象が発生し、これは信号検出精度
を低下させる。

第２図はこの現象のメカニズムを考察したもの
である。第２図Ａで、１は段差のエツジで、フオ
トレジスト３がこれを覆う様に塗布されているも
のとし、段差に従つてフオトレジストの表面は右
下がりに傾斜している。上述した公開特許に提案
した、暗視野下の走査方法では、走査用のレーザ
ービームをウエハー表面に対して垂直に入射させ
る。従つてエツジが無い時には入射光は鏡面反射
し、入射した４の領域を再び戻つて行く。一方、
パターンのエツジがある時には入射光は散乱、回
折し、広く５〜６の領域にまでまたがつた角度で
反射し、広がる。位置合せ光学系（アライメント
スコーブ）の瞳面で空間周波数フイルタリングす
ることにより領域４で示される鏡面反射による直
接反射光（エツジで回折されていない反射光）を
塞ぎエツジからの光５，６を透過させ光電検出器
に導く事ができる。従来公知の方法はこの様にし
て散乱光を検知器に導き、AA信号として用いて
いた。

ここでレジストが塗布されている事によるエツ
ジ検出の影響について考える。レジストが斜めに
塗布されている事で、例えばレーザービーム、
７，８はウエハーの真のエツジには当らない所で
もレジスト面のプリズム作用で方向を曲げられ、
領域５或いは６の方向に向う様になる。この為第
２図Ｂに示す様なレジスト塗布前のAA信号は、
塗布後はＣに示す様に信号幅が広がつてしまう。
この信号幅の広がりはレジストの塗られ方によつ
て変化するので各AAマークのエツジ部での信号
の幅の変動はエツジの位置検出の際重大な誤差要
因となる。

この為、AAパターンの箇所のみレジストをつ
けない様にする事が考えられるが、工程の中に、
AAパターン部のレジストを除去するという余分
な工程が入るという欠点がある。

（目的）本発明は、被検物体上に透光層を設けたことに
よる検出信号の悪化を防止することにある。

そしてこの目的を達成するための後述の実施例
は、物体上の検出用パターンを走査線に沿つてス
ポツト状又は線状のビームで光走査するための走
査系と、検出用パターンから来る情報光を受光す
るための受光系と、検出用パターンが物体面から
突出又は窪んでいること、更には検出用パターン
と他領域との段差のエツジの方向性に応じて情報
光の不要部分が排除されるように受光系を制御す
る系を設けている。この制御系は情報光を取り入
れて信号化した後、必要な信号のみを検出信号と
して選択するか、あるいは情報光の不要な部分が
受光系の検出器へ入射しない様に制限する。

（実施例）以下、本発明の実施例を説明する。

第２図Ａに示すエツジ１を再び例として考え
る。入射光線７，８について考えるとレジストに
よる影響は次の様な２つの現象に分解される。そ
の１つは７′，８′で示され、レジストを透過し
て、ウエハー基板で反射し、レジストを透過して
行く直接反射光である。もう１つはレジスト表面
で表面反射する光７″，８″である。良く知られて
いる様にレジストと空気の界面での反射率は４％
前後と著しく小さく、殆どの光は直接反射光成分
７′，８′と考えて良い。一方エツジで散乱、回折
される光は中心光線１００で示される様に広い範
囲の角度にわたつて広がる。従つて従来、領域
５，６で示される光を一括してとつてきたのであ
るが、この方式をそのまま使用している場合、第
２図Ｃの様にパルス幅を大きくしてきた主要因な
透過反射光成分７′，８′である事がわかる。この
７′，８′は反射してから進む方向が領域５の方向
である。従つてこの時従来検出していた領域５の
光を無視し、領域６からの光のみを検出すれば、
エツジに対応したＳ／Ｎの良い信号が得られる事
になる。

尚第２図のエツジは高い方から低い方への段差
の場合であるが、第３図の例は低い方から高い方
への段差のエツジの場合である。この時パルス幅
を広げる主要因となる透過反射光９′は反射した
後右側の方向へ進む為、領域６′に入る光に対応
する。この場合には第２図の場合と逆に領域５′
の方の回折光を検知信号光とする事によつてエツ
ジとの対応の良い信号を得る事ができる。

以上の要求を実現するための系を第４図に示
す。図中、ASはレーザー光源と光走査器から成
る周知の走査光学系で、光源はレーザー以外のも
のも、可視不可視を問わず使用でき、光走査器を
回転多面鏡、ガルバノミラー、音響光学素子等
種々のものが使用できる。Ｗはウエハーで、左段
差１と右段差２はAAパターンを構成する。マス
クとウエハーの相対アライメントの場合、ウエハ
ーＷから若干離れてマスクが配置されるが、マス
クの検知については従来と同様であるから、これ
を省略した。１０は顕微鏡対物レンズ、１１はコ
ンデンサーレンズであり、１６はハーフミラー
で、投影光路と受光光路を分岐させる。Ｄは対物
レンズ１１の焦点面に設けた絞りである。

１２は空間周波数フイルターで、不透明部１５
と透明部１３と１４を持つ。この部材の詳細は後
述する。

走査光学系ASを発し斜線を施したビームは走
査時間の前と後のものを同時に描いている。レー
ザービームがレジストの塗布されたウエハーＷを
走査し、段差１と２に入射すると、段差から回折
した光５，６、５′，６′はASの瞳面に置かれた
空間周波数フイルター（以下フイルター）１２の
透明部１３，１４を透過する。被走査部に段差が
ない時の反射光はフイルター１２の不透明部１５
により遮ぎられる。図示してある様にフイルター
１２は走査面に対してフーリエ変換面（瞳面）に
配置してあるので被走査面から反射してくる角度
成分が等しいもの（例えば回折光５と５′、６と
６′）はフイルターの同じ部分を通過する。第４
図では回折光５，５′は透明部１４、回折光６，
６′は透明部１３をそれぞれ通過することになる。
第２図、第３図で示した様にレジストによる段差
部からの直接反射光は、段差１では、回折光５の
中に、段差２では回折光６′の中に含まれてしま
う。この為フイルター１２において、段差１の信
号としては透明部１３からの光のみを、段差２の
信号としては透明部１４からの光のみを検出する
ことにより段差部の検出の高精度に行なうことが
可能となる。

第５図はAAパターンの１例を示し、AAパタ
ーンを構成するマークエレメント１７と１８は走
査線SLに対して45゜と−45゜を成している。レーザ
ービームのスポツト状又は線型の照明域は走査線
SLに沿つてAAパターンを走査する。この時、４
つの段差による回折光は矢印２１，２１′，２２，
２２′，２３，２３′，２４，２４′に示される方
向に回折される。このAAパターンでは段差のエ
ツジが走査線に対して斜の方向性を持つため、回
折光は走査線に対して斜方向（エツジの線に垂直
方向）へ進む。

そしてAAパターンがウエハー表面から突出し
ているか窪んでいるかによつてレジスト表面の傾
きが異なるから、段差近傍で反射し、レジスト層
で屈折された透過反射光の方向は異なる。第６図
Ａは凹部でAAパターンを作成した場合、Ｂは凸
部でAAパターンを作成した場合である。図中の
矢印は直接反射光がレジスト層で屈折されて進む
方向を指示しており、例えばＡ図の左端の段差で
は２１の方向へ進み、Ｂ図では２１′の方向へ進
む。

従つて、ウエハー上にAAパターンを作成する
際に、凹形にするか凸形にするかを決定すれば、
各段差ごとの直接反射光の進む方向、従つてAA
パターンから来る光の内、どの領域に混入される
か予測できることになる。

第７図は瞳面に配置したフイルター１２の平面
形態を描いており、１３，１３′，１４，１４′は
回折光を透過させる透明部で、括弧で囲んで番号
は、第５図の矢印に付した番号と対応し、その方
向の光がその透明部を通過する。

本例では、レジストで屈折された直接反射光を
取り込まないように、フイルターの透明部１３，
１４，１３′，１４′の内の１つからの光を検出す
る。即ち第６図Ａの凹形AAパターンの場合、こ
の図に矢印を書いた回折光を取りこまない様に、
レーザービームが走査される段差の順序に従つて
１３′―１３―１４′―１４の透明部の順に回折光
を取り込むことにより、正規のAA信号（検出信
号）を形成することができる。また第６図Ｂの凸
部AAパターンの場合、１３―１３′―１４―１
４′の透明部の順に回折光を取り込むことにより、
正規のAA信号（検出信号）を形成することがで
きる。この様にAAパターンの凹凸に応じて瞳面
を透過する光を選択検出することで正規のAA信
号（検出信号）が得られる。

AAパターンからの光を選択する場合、各透明
部に対して独立の受光素子を設け、素子からの信
号を選択する方式と、受光素子は１個で透明部を
通過する光を選択する方式が取り得る。また独立
の受光素子を使用するときにも、デイスクリート
の部材を個々独立に設けても良いし、４分割デイ
テクターを使用しても良い。

第５図に形状を示すAAパターンで、凹形と凸
形で形成した場合の透明部１３，１４，１３′，
１４′（第７図）を通過した信号を第８図（凹形）
と第９図（凸形）に順に示す。第８図Ａは透明部
１３の信号に対応し、Ｂは１４の信号にＣは１
３′の信号に、Ｄは１４′の信号に対応し、第９図
Ａは１３の信号に、Ｂは１４の信号に、Ｃは１
３′の信号に、Ｄは１４′の信号に対応する。

第８図において、Ａ，Ｃに、第５図左下りのマ
ークエレメント１７のエツジからの回折光がそれ
ぞれ２１，２２と２１′，２２′として取り込まれ
る。

AAパターンの回折方向はエツジの方向により
定まつているため、この時には透明部１４と１
４′（第７図）からの光は検出されない。次に右
下りのマークエレメント１８のエツジからの回折
光が透明部１４と１４′を透過して第８図のＢ，
Ｄに２３′，２４′と２３，２４として取り込まれ
る。そしてＡ〜Ｄまでの信号２１′，２２，２３，
２４′を合成して図Ｅに示す検出信号を作り、こ
れを基に演算すれば良い。凸形のAAパターンの
場合も同様にして、直接反射光を避け、第９図Ｅ
に示す様に２１，２２，２３′，２４の合成信号
（検出信号）を基に演算すれば良い。

第１０図は、第４図のコンデンサーレンズ１１
以降の構成例を示す。図Ａはフイルター１２の透
明部１４と１５をプリズム３２と３２′でそれぞ
れ独立の光路に結合し、集光レンズ３０と３０′
を介して受光素子３１と３１′へ導出する。また
図面と直交する方向には同様のプリズム、集光レ
ンズ、受光素子を設けるものとし、４つの透明部
はそれぞれカバーされる。

図Ｂはフイルター１２の直後に４分割デイテク
ター（一体化されているが、４つの区域が独立に
測定できるデイテクター）の２区域３３，３３′
を配置した例である。本図には２つの区域しか示
されていないが、図Ｃに描く様に、４つの透明部
１３，１４，１３′，１４′が４区域３３，３４，
３３′，３４′に重なつている。なお、４分割デイ
テクターの感応域の形状をフイルター１２の透明
部の形状に一致させれば、フイルターは省略でき
る。図Ｄはこの様な形状の感応域を持つた４分割
デイテクターの側面図であり、図Ｅが正面図で、
付番３５の部分が感応域である。他方、図Ｆの構
成では受光素子を１個とする替りに液晶等のシヤ
ツターでフイルター１２の透明部を選択的に開閉
する。フイルター１２の後にはシヤツター４０を
配置し、その後の集光レンズ３０でシヤツターを
通過した光は受光素子３１へ入射する。

レーザービームの走査で、段差からの信号が検
出された直後に交換的にシヤツター４０の一部を
開放又は透明にしてフイルター１２（第７図）の
透明域１３，１４，１３′，１４′中の１つの透明
部の通過光のみを受光することで、上の配置と同
じ作用を達成する。例えばフイルター１２の透明
部を１３′―１３―１４′―１４の順に開放しよう
とすると、図Ｇに示す順序でビーム走査に期させ
て例えば液晶の各区域を透光性に変えれば良い。
仮にシヤツターの開放に比べてビームの走査を高
速にした場合は１回の走査で１つの区域を開放
し、４回走査することで全ての信号を取込むこと
ができる。この場合は第８図あるいは第９図のＡ
〜Ｄ信号を順に記憶しておき、４つ検出した後、
図Ｅの様に合成すれば良い。また４個独立に測定
する場合は透明部を通過する順序にこだわる必要
がなく、要は特定の段差と使用する透明部とが関
連付けられていれば良く、またそれ程高速を要求
されないから、シヤツターは図Ｈに示す通りに切
欠きを持つた円板を回転させて、不要な透明部を
遮断すれば良い。

以上の例は、著しく微細なAAパターンを使
い、またミクロン、サブミクロンオーダーの許容
誤差でアライメントする場合の構成を述べたが、
若干許容誤差が大きい場合には、瞳面で正確にフ
イルタリングしなくても正確な信号検出が可能で
ある。

第１１図で、PMはポリゴンミラー、Ｌは走査
レンズ、P₁とP₂は回折光の進む方向に直接配さ
れた受光素子である。またＥ１とＥ２は段差であ
る。図においてポリゴンミラーが回転し、レーザ
ービームが物体上を走査すると、レーザービーム
が段差に当つたとき、回折光は所定の方向へ進
む。図の場合、AAマークのエツジ線は図面に垂
直であるから受光素子は走査方向に２個配されて
いるが、第５図のAAパターンの場合は走査線に
対して斜になる様に４個設ける。

段差Ｅ１，Ｅ２を順に走査した時の信号を第１
２図に示す。図Ｂはレジストを塗布してない時、
図Ｃはレジストを塗布した時のものである。レジ
スト層がない時の信号で、Ｐ１が検出した信号の
Ｅ１の出力はＥ２の出力より大きく、Ｐ２が検出
した信号のＥ２の出力はＥ１の出力より大きい。

しかしながら、レジスト層を設けた時の信号、
図Ｃでレジスト層で屈折した直接反射光が、段差
Ｅ１では素子Ｐ２に入射し、Ｅ２では素子Ｐ１に
入射する為、Ｐ１信号ではＥ２の出力が、Ｐ２信
号ではＥ１の出力が大きくなることがある。その
ため、段差Ｅ１は素子Ｐ１の出力を、段差Ｅ２は
素子Ｐ２の出力を正規の検出信号として採用すれ
ば正しい計測が可能となる。第１３図は本発明を
ステツパー型の半導体焼付装置に適用した例を示
す。

図中、５０はマスク、５１はウエハーで、投影
レンズ５２はマスク５０の像をウエハー５１上に
等倍又は縮少投影する。またアライメント光と露
光々を別波長光にした場合は、アライメント時に
λ／４板５２ａを挿着し、露光時はレンズ５２ｂ
を交換的に挿着する。レンズ５２ｂは波長を異な
らせたことによるピストンのずれを補償し、λ／
４板は偏光方向によつてマスク反射とウエハー反
射を分けるために設ける。なお、アライメント光
と露光々が同一波長でである時又は投影レンズが
２波長補正されている時は、レンズ５２ｂは不要
となり、λ／４板５２ａを固設する。

マスク５０とウエハー５１には、第１４図に示
すAAパターンを各２個ずつ設ける。例えば実線
のエレメントをウエハーに、破線のエレメントを
マスクに設ける。

５３はレーザー光源で、紙面に垂直方向に直線
偏光しているものを使用する。５４ポリゴンミラ
ーで等速回転する。５５はｆ−θレンズで、レー
ザービームを等速走査するのに役立つ。５６は観
察系であり、５７はビームスプリツターである。
５８は走査範囲分割プリズムで、このプリズムは
ビームの一回の走査の前半と後半を２つのAAパ
ターンのそれぞれに充当する。以下の系は左手系
と右手系が対称であるから同じ番号を付ける。

５９は偏光ビームスプリツターで、直線偏光状
態に応じて反射と透過に分ける作用を持つ、６０
は光路を曲折けるための反射部材、６１は集光レ
ンズ、６２は第７図に示すようなフイルター、６
３は分割デイテクターである。フイルター６２の
透明部はAAマークの方向に応じて設定する。４
分割デイテクター６３の感応区域はフイルター６
２の透明域に合わせて配置するものとし、ウエハ
ー５１から来る光を受光する。６４は反射率の小
さな半透鏡、６５は偏光ビームスプリツター、６
６はコンデンサーレンズ、６７は観察用光源であ
る。６８はリレーレンズ、６９は反射部材、７０
は空間周波数フイルター、７１は集光レンズ、７
２は受光素子で、マスク５０から来る光を受光す
る。７３は顕微鏡対物レンズ（以下、対物レン
ズ）で、マスク５０とウエハー５１とのAAマー
クを見込む位置にセツトされている。

以上の構成で、レーザー光源からのレーザービ
ームはポリゴンミラー５４へ入射してここで走査
される。振れ走査されたレーザービームはｆ−θ
レンズ５５で平行走査に変換された後、ビームス
プリツター５７を透過してプリズム５８へ入射
し、例えば始めプリズム５８の左斜面で反射して
左側へ向い、途中から右斜面で反射して右側へ向
う。プリズム５８で反射したビームは偏光ビーム
スプリツターで反射し、半透鏡６４を透過して対
物レンズ７３へ入射してマスク５０上に集光さ
れ、更に投影レンズ５２を介してウエハー５１上
に集光され、両者を走査する。まずマスク５０の
AAパターンで反射された光は対物レンズ７３へ
入射し、続いて半透鏡６４で反射する。その際、
半透鏡６４を透過した光は、ウエハー検出用の４
分割デイテクター６３へ向うが、この光は図面に
垂直な直線偏光であるから偏光ビームスプリツタ
ー５９で阻止される。半透鏡６４で反射した光は
偏光ビームスプリツター６５へ入射し、マスク５
０で反射し図面に垂直な直線偏光は反射するが雑
音（後述するウエハー５１で反射し図面に平行な
直線偏光）は阻止される。反射光はリレーレンズ
６８と反射部材６９を経た後、直接反射成分はフ
イルター７０で遮断され、AAパターンで散乱さ
れた成分は集光レンズ７１で集光されて受光素子
７２に入射し、マスク側のAA信号となる。

次にマスク５０を透過した走査ビームは投影レ
ンズ５２は屈折透過する際にλ／４板５２ａに入
射し、円偏光に変換され、ウエハー５１上を走査
する。ウエハー５１のAAパターンで反射された
光は逆方向からλ／４板５２ａを透過する際に先
程とは位相が90゜回転した直線偏光となり、対物
レンズ７３と半透鏡６４を経て偏光ビームスプリ
ツター５９へ入射する。λ／４板５２ａによつて
図面に平行な直線偏光になつているからウエハー
５１の反射光は偏光ビームスプリツター５９を透
過し、反射部材６１と集光レンズ６１を経てフイ
ルター６２の透明部で通過して４分割デイテクタ
ー６３へ入射する。

制御演算回路８０は４分割デイテクター６３か
らの出力信号を選択してウエハー５１に関する
AA信号を確定するが、これは上述して来た規則
に従つて４分割デイテクター６３の感応区域を順
次作動させるか、あるいは全ての感応区域の出力
信号を全て記憶した後、選択構成するかあるいは
両者の中間的な方法のいずれも採用し得る。この
様にして取り入れたAA信号と受光素子７２のマ
スク側AA信号に基づいて演算を実行し、その結
果（ｘ、ｙ、θ誤差）により補正機構８１を駆動
し、マスクチヤツク８２を移動させてマスク５０
とウエハー５１のアライメントを達成する。但
し、マスク５０の替りにウエハー側を移動しても
良い。

なお、AAパターンとフイルターは上述のもの
に限られるわけではなく、AAパターンを構成す
る非平行のエレメント数の２倍の透明部を設けれ
ば、種々の形状に対処できる。

また、仮に信号のＳ／Ｎ特性を厳しく制限しな
くても良い場合には、第５図のAAパターンでも
信号を４つに分けて取込まずに所望の信号を得る
こともできる。例えば、第８図のＡとＢに示す信
号を一緒に、またＣとＤの信号を一緒に取り込ん
でも良く、その場合は２分割デイテクターで済む
わけである。

（効果）以上述べた本発明によれば被検出物体上にレジ
スト層の様な透光層が設けられている場合でも、
冗長な信号を信号処理に使用することがないか
ら、アライメントマークパターンの位置を極めて
正確に決定することが可能となる効果があり、更
にアライメント操作を行つた場合、著しく高い精
度で達成され、あるいは信号が正確であるからア
ライメント完了までの動作時間や繰作回数を減少
させられる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａはウエハーの段差の断面図で、Ｂ，Ｃ
は出力信号図。第２図Ａは光学挙動を説明する図
で、Ｂ，Ｃは出力信号図。第３図は光学挙動を説
明する図。第４図は本発明の実施例の要部を示す
光学断面図。第５図はAAパターン例を示す平面
図。第６図Ａ，ＢはAAパターン部の断面図。第
７図はフイルターの平面図。第８図Ａ〜Ｅは出力
信号図。第９図Ａ〜Ｅは出力信号図。第１０図
Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｆは受光部の断面図で、Ｃ，Ｅは平
面図、Ｇ，Ｈはシヤツターの変化を示す図。第１
１図は変形例の断面図、第１２図Ａは合成系のブ
ロツク図で、Ｂ，Ｃ，Ｄは出力信号図。第１３図
は別実施例の光学断面図。第１４図はAAパター
ンの平面図。図中１と２は段差、４は鏡面反射の領域、５と
６は散乱反射の領域、７′と８′，９′は屈折され
た直接反射光、ASは走査光学系、１０は顕微鏡
対物レンズ、１１はコンデンサーレンズ、１２は
空間周波数フイルター、１３と１４，１３′，１
４′は透明部、１５は不透明部、１７と１８は
AAパターンのエレメント、２１〜２４と２１′
〜２４′は光の進行方向とパルス名、３１と３
１′は受光素子、３３と３３′は４分割デイテクタ
ーの区域、４０は液晶シヤツターである。

Claims

【特許請求の範囲】

１透光層で覆われた段差マークを有する物体を
該透光層を介して光で照明し、該物体からの回折
光を受光して信号を形成し、該信号に基いて前記
マークの位置を検出する位置検出方法において、
前記マークのエツジ近傍の物体面で反射し前記透
光層の斜面で屈折して所定の方向へ射出した屈折
光を遮光するか或は該屈折光による信号を用いな
いようにし、前記エツジで生じて前記所定の方向
とは異なる方向へ射出した回折光を受光し、前記
マークの位置を検出することを特徴とする位置検
出方法。