JPH0146852B2 - - Google Patents
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- JPH0146852B2 JPH0146852B2 JP54090677A JP9067779A JPH0146852B2 JP H0146852 B2 JPH0146852 B2 JP H0146852B2 JP 54090677 A JP54090677 A JP 54090677A JP 9067779 A JP9067779 A JP 9067779A JP H0146852 B2 JPH0146852 B2 JP H0146852B2
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- Japan
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- electrode
- gap
- liquid crystal
- alignment film
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は液晶表示セルの製造方法に関するも
のである。
のである。
液晶表示セルは、シール材を介して接着重合さ
れた一対の電極基板間の微小間隙内に液晶を封入
したものであり、この液晶表示セルにおいては液
晶層を透過する光の干渉を防止するために前記両
電極基板間の間隙をセル全体にわたつて均一にす
ることが重要である。
れた一対の電極基板間の微小間隙内に液晶を封入
したものであり、この液晶表示セルにおいては液
晶層を透過する光の干渉を防止するために前記両
電極基板間の間隙をセル全体にわたつて均一にす
ることが重要である。
このため、従来は、第１図に示すように両電極
基板１，２間を周縁部においてシールするシール
材３中に前記両電極基板１，２間の間隙を規定す
る所定径の間隙材（ビーズまたはフアイバー）４
を入れておいて前記両電極基板１，２を接着重合
することが考えられている。
基板１，２間を周縁部においてシールするシール
材３中に前記両電極基板１，２間の間隙を規定す
る所定径の間隙材（ビーズまたはフアイバー）４
を入れておいて前記両電極基板１，２を接着重合
することが考えられている。
しかしながら、このようにして製造された従来
の液晶表示セルは、両電極基板１，２間の間隙を
周縁部のみで規定しているために、前記両電極基
板１，２の接着重合（両電極基板１，２を重合さ
せて加圧しながらシール材３の溶融温度で加熱す
ることによつて行なわれる）の際に電極基板１，
２が内側にたわみ変形するのを防ぐことができ
ず、このためにセル中央部における両電極基板
１，２間の間隙が周縁部の間隙より小さくなつて
しまう欠点があり、特に薄厚な電極基板１，２を
使用している薄型セルにおいてはそれがより顕著
であつた。
の液晶表示セルは、両電極基板１，２間の間隙を
周縁部のみで規定しているために、前記両電極基
板１，２の接着重合（両電極基板１，２を重合さ
せて加圧しながらシール材３の溶融温度で加熱す
ることによつて行なわれる）の際に電極基板１，
２が内側にたわみ変形するのを防ぐことができ
ず、このためにセル中央部における両電極基板
１，２間の間隙が周縁部の間隙より小さくなつて
しまう欠点があり、特に薄厚な電極基板１，２を
使用している薄型セルにおいてはそれがより顕著
であつた。
この発明は上記のような実情にかんがみてなさ
れたものであつて、その目的とするところは、電
極基板の電極形成面に被覆形成される配向膜を利
用して液晶封入部に間隙材を配置した、両電極基
板間の間隙がセル全体にわたつて均一な液晶表示
セルの製造方法を提供することにある。
れたものであつて、その目的とするところは、電
極基板の電極形成面に被覆形成される配向膜を利
用して液晶封入部に間隙材を配置した、両電極基
板間の間隙がセル全体にわたつて均一な液晶表示
セルの製造方法を提供することにある。
以下、この発明の一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
第２図及び第３図ｅにおいて、１は上部電極基
板、２は下部電極基板であり、上部電極基板１の
下面及び下部電極基板２の上面にはそれぞれその
全面に保護膜３，３が形成され、その上に透明電
極４，５が形成されている。なお４ａは前記上部
電極基板１の下面側縁部に導出形成された電極端
子である。また、前記保護膜３，３は、電極基板
１，２を接着重合する際の熱により電極基板１，
２を構成するガラス基板１ａ，２ａから放出され
るアルカリイオン（例えばNa+）を捕獲してアル
カリイオンから後述する配向膜を保護するための
ものである。６，６は前記両電極基板１，２の電
極形成面を被覆する配向膜、７，７は前記両電極
基板１，２の一方例えば下部電極基板２の電極形
成面を被覆する前記配向膜６に混入された間隙材
であり、この間隙材７，７は例えば透明なガラス
ビーズであつて、下部が前記配向膜６に埋込まれ
た状態で配向膜６に固着され、前記配向膜６面に
広く分散させて配置されている。また、８は前記
両電極基板１，２間の間隙をその周縁部において
シールするシール材であり、前記両電極基板１，
２は下部電極基板２上に突出している前記間隙材
７，７の径と同じ間隙をもつて対向され、前記シ
ール材８を介して接着重合されており、また前記
シール材８によつて囲まれた両電極基板１，２間
の間隙ａ内には液晶（図示せず）が封入されてい
る。なお、第２図において９は前記シール材８の
一部に形成された液晶注入口であり、この液晶注
入口９は液晶注入後に封止される。
板、２は下部電極基板であり、上部電極基板１の
下面及び下部電極基板２の上面にはそれぞれその
全面に保護膜３，３が形成され、その上に透明電
極４，５が形成されている。なお４ａは前記上部
電極基板１の下面側縁部に導出形成された電極端
子である。また、前記保護膜３，３は、電極基板
１，２を接着重合する際の熱により電極基板１，
２を構成するガラス基板１ａ，２ａから放出され
るアルカリイオン（例えばNa+）を捕獲してアル
カリイオンから後述する配向膜を保護するための
ものである。６，６は前記両電極基板１，２の電
極形成面を被覆する配向膜、７，７は前記両電極
基板１，２の一方例えば下部電極基板２の電極形
成面を被覆する前記配向膜６に混入された間隙材
であり、この間隙材７，７は例えば透明なガラス
ビーズであつて、下部が前記配向膜６に埋込まれ
た状態で配向膜６に固着され、前記配向膜６面に
広く分散させて配置されている。また、８は前記
両電極基板１，２間の間隙をその周縁部において
シールするシール材であり、前記両電極基板１，
２は下部電極基板２上に突出している前記間隙材
７，７の径と同じ間隙をもつて対向され、前記シ
ール材８を介して接着重合されており、また前記
シール材８によつて囲まれた両電極基板１，２間
の間隙ａ内には液晶（図示せず）が封入されてい
る。なお、第２図において９は前記シール材８の
一部に形成された液晶注入口であり、この液晶注
入口９は液晶注入後に封止される。
すなわち、この実施例の液晶表示セルは、一対
の電極基板１，２の一方に、その電極形成面を被
覆する配向膜６に固着させて間隙材７，７を分散
配置することにより、この間隙材７，７によつて
両電極基板１，２間の間隙を規定するようにした
ものであり、前記間隙材７は液晶封入部の中央付
近にも配置されているから、両電極基板１，２が
その接着重合の際に内側にたわみ変形するのを防
ぐことができ（両電極基板１，２は外面側から加
圧しながら接着重合されるから外側にたわみ変形
することはない）、従つて両電極基板１，２間の
間隙はセル全体にわたつて均一になるし、しかも
前記間隙材７，７は配向膜６に埋込まれた状態で
固着されているから、この間隙材７，７がずれ動
くこともない。
の電極基板１，２の一方に、その電極形成面を被
覆する配向膜６に固着させて間隙材７，７を分散
配置することにより、この間隙材７，７によつて
両電極基板１，２間の間隙を規定するようにした
ものであり、前記間隙材７は液晶封入部の中央付
近にも配置されているから、両電極基板１，２が
その接着重合の際に内側にたわみ変形するのを防
ぐことができ（両電極基板１，２は外面側から加
圧しながら接着重合されるから外側にたわみ変形
することはない）、従つて両電極基板１，２間の
間隙はセル全体にわたつて均一になるし、しかも
前記間隙材７，７は配向膜６に埋込まれた状態で
固着されているから、この間隙材７，７がずれ動
くこともない。
なお、上記実施例では間隙材７，７を液晶封入
部に広く分散配置するようにしているが、この間
隙材７，７は液晶封入部の中央付近にのみ配置す
るようにしてもよく、また前記間隙材７，７はシ
ール材８中にも設けてもよい。
部に広く分散配置するようにしているが、この間
隙材７，７は液晶封入部の中央付近にのみ配置す
るようにしてもよく、また前記間隙材７，７はシ
ール材８中にも設けてもよい。
次に前記液晶表示セルの製造方法について第３
図ａ〜ｅを参照して説明する。
図ａ〜ｅを参照して説明する。
第３図ａは下部電極基板２を示したもので、こ
の下部電極基板２はガラス基板２ａ面にSiO2を
コーテイングしてアルカリイオンを捕獲するため
の保護膜３を形成し、その上に酸化スズまたは酸
化インジウム等により透明電極５を形成して製作
されたものである。
の下部電極基板２はガラス基板２ａ面にSiO2を
コーテイングしてアルカリイオンを捕獲するため
の保護膜３を形成し、その上に酸化スズまたは酸
化インジウム等により透明電極５を形成して製作
されたものである。
しかして、前記下部電極基板２を製作した後
は、まずこの下部電極基板２の電極形成面上に間
隙材（ビーズ）７，７を混入した配向剤溶液を十
分に撹拌しておいて滴下し、電極基板２を回転さ
せるスピンナーコーテイング法によつて前記配向
剤溶液を基板全面に均等厚にコーテイングした
後、これを乾燥させて配向膜６を形成する〔第３
図ｂ参照〕。この場合、前記配向膜６がＰ型ネマ
テイツク液晶を水平配向させるためのものである
場合は、前記配向剤はポリイミド等の有機樹脂と
され、前記配向膜６はこの配向剤の溶液をスピン
ナーコーテイングし、約320℃で約20分ベークし
た後、その表面をラビングする方法（ラビングは
綿などで軽くこするだけであるから間隙材７，７
が突出していてもラビング処理は可能である）で
形成される。また前記配向膜６がＮ型ネマテイツ
ク液晶を垂直配向させるためのものである場合
は、前記配向剤はDMOAP（NN―ジメチル―Ｎ
―オクタデシル―３―アミノプロポキシルトリメ
トキシシリルクロライド）やクロム錯体等の液晶
分子を垂直に立たせる性質をもつたものとされ、
前記配向膜６はこの配向剤の溶液をスピンナーコ
ーテイングした後ベーク（プリベークでよい）す
る方法で形成される（ただし、この場合は電圧印
加時における液晶分子の回転方向を一律にするた
めに、配向膜６を形成する前に電極基板面にSiO
等の斜方蒸着を施すことが必要となる）。
は、まずこの下部電極基板２の電極形成面上に間
隙材（ビーズ）７，７を混入した配向剤溶液を十
分に撹拌しておいて滴下し、電極基板２を回転さ
せるスピンナーコーテイング法によつて前記配向
剤溶液を基板全面に均等厚にコーテイングした
後、これを乾燥させて配向膜６を形成する〔第３
図ｂ参照〕。この場合、前記配向膜６がＰ型ネマ
テイツク液晶を水平配向させるためのものである
場合は、前記配向剤はポリイミド等の有機樹脂と
され、前記配向膜６はこの配向剤の溶液をスピン
ナーコーテイングし、約320℃で約20分ベークし
た後、その表面をラビングする方法（ラビングは
綿などで軽くこするだけであるから間隙材７，７
が突出していてもラビング処理は可能である）で
形成される。また前記配向膜６がＮ型ネマテイツ
ク液晶を垂直配向させるためのものである場合
は、前記配向剤はDMOAP（NN―ジメチル―Ｎ
―オクタデシル―３―アミノプロポキシルトリメ
トキシシリルクロライド）やクロム錯体等の液晶
分子を垂直に立たせる性質をもつたものとされ、
前記配向膜６はこの配向剤の溶液をスピンナーコ
ーテイングした後ベーク（プリベークでよい）す
る方法で形成される（ただし、この場合は電圧印
加時における液晶分子の回転方向を一律にするた
めに、配向膜６を形成する前に電極基板面にSiO
等の斜方蒸着を施すことが必要となる）。
この後は、まず第３図ｃに示すようにシール部
（電極基板周縁部）上の配向膜６をエツチングに
よつて除去し、この後前記シール部上に第３図ｄ
に示すようにシール材８を印刷する。なおこのシ
ール材８中にも間隙材７，７を設ける場合は間隙
材７，７をシール材８に混入しておいてこれを印
刷すればよい。
（電極基板周縁部）上の配向膜６をエツチングに
よつて除去し、この後前記シール部上に第３図ｄ
に示すようにシール材８を印刷する。なおこのシ
ール材８中にも間隙材７，７を設ける場合は間隙
材７，７をシール材８に混入しておいてこれを印
刷すればよい。
一方、前記下部電極基板２と同様にガラス基板
１ａ面に保護膜３を形成し、その上に透明電極４
を形成して製作された上部電極基板１には、その
電極形成面上に下部電極基板２にコーテイングさ
れる配向剤溶液と同一の配向剤溶液（ただし間隙
材７，７は混入させない）を全く同じ方法で塗布
した後乾燥（ベーク）させて配向膜６を形成し、
この後シール部上の配向膜６をエツチングによつ
て除去しておく。
１ａ面に保護膜３を形成し、その上に透明電極４
を形成して製作された上部電極基板１には、その
電極形成面上に下部電極基板２にコーテイングさ
れる配向剤溶液と同一の配向剤溶液（ただし間隙
材７，７は混入させない）を全く同じ方法で塗布
した後乾燥（ベーク）させて配向膜６を形成し、
この後シール部上の配向膜６をエツチングによつ
て除去しておく。
しかして、この後は、前記両電極基板１，２を
対向させて加圧し、前記間隙材７，７を介して両
電極基板１，２を重合させ、さらにこの加圧状態
で加熱して両電極基板１，２の周縁部をシール材
８によりシールし、この後前記シール材８によつ
て周縁部がシールされた両電極基板１，２間の間
隙ａ内に液晶を封入して第３図ｅに示した液晶表
示セルを完成する。
対向させて加圧し、前記間隙材７，７を介して両
電極基板１，２を重合させ、さらにこの加圧状態
で加熱して両電極基板１，２の周縁部をシール材
８によりシールし、この後前記シール材８によつ
て周縁部がシールされた両電極基板１，２間の間
隙ａ内に液晶を封入して第３図ｅに示した液晶表
示セルを完成する。
なお、前記配向膜６がポリイミド等の耐熱性の
ものである場合は前記シール材８としてエポキシ
樹脂等を使用するシールはもちろん、フリツドガ
ラスなどを使用する高温（400〜500℃）でのシー
ルも可能である。また前記配向膜６がDMOAP
やクロム錯体等である場合は前記シール材８とし
てエポキシ樹脂等を使用するシールを行なえばよ
く、エポキシ樹脂を使用する場合のシール温度は
約130℃程度であり、これはDMOAPやクロム錯
体を乾燥させる温度とほぼ同じであるから、この
シール時にプリベークしておいた配向膜６を完全
に乾燥させることができる。また、前記配向膜６
をプリベークしておいてシール時に完全乾燥させ
るようにした場合は、両電極基板１，２を重合し
て加圧することによつて間隙材７，７が上部電極
基板１側の配向剤６中にも埋込まれるから、間隙
材７，７のずれ動きをさらに確実に防止すること
ができる。
ものである場合は前記シール材８としてエポキシ
樹脂等を使用するシールはもちろん、フリツドガ
ラスなどを使用する高温（400〜500℃）でのシー
ルも可能である。また前記配向膜６がDMOAP
やクロム錯体等である場合は前記シール材８とし
てエポキシ樹脂等を使用するシールを行なえばよ
く、エポキシ樹脂を使用する場合のシール温度は
約130℃程度であり、これはDMOAPやクロム錯
体を乾燥させる温度とほぼ同じであるから、この
シール時にプリベークしておいた配向膜６を完全
に乾燥させることができる。また、前記配向膜６
をプリベークしておいてシール時に完全乾燥させ
るようにした場合は、両電極基板１，２を重合し
て加圧することによつて間隙材７，７が上部電極
基板１側の配向剤６中にも埋込まれるから、間隙
材７，７のずれ動きをさらに確実に防止すること
ができる。
すなわち、この実施例の液晶表示セルの製造方
法は、一対の電極基板１，２に所定径の間隙材
７，７を混入した配向剤溶液と間隙材７，７を混
入しない配向剤溶液とをそれぞれ塗布して乾燥さ
せ、こうして配向膜６，６を形成した両電極基板
１，２を前記間隙材７，７を介して重合し、加圧
して前記間隙材７，７を前記配向膜６に押込ま
せ、その周縁部をシール材８にてシールするよう
にしたものであり、この製造方法によれば前記間
隙材７，７を一方の電極基板２に被覆された配向
膜６の形成と同時に電極基板面に配置することが
できるから、間隙材７，７の配置を簡単に行なう
ことができる。そして、一方の電極基板に間隙材
を配置したので、間隙材が重なり合うことが少な
くなり、セル全体にわたつて間隙を均一にするこ
とができる。また配向剤溶液を塗布した後にこれ
を乾燥させることによつてセルを完成するまでの
工程における間隙材７，７のずれ動きも防ぐこと
ができる。
法は、一対の電極基板１，２に所定径の間隙材
７，７を混入した配向剤溶液と間隙材７，７を混
入しない配向剤溶液とをそれぞれ塗布して乾燥さ
せ、こうして配向膜６，６を形成した両電極基板
１，２を前記間隙材７，７を介して重合し、加圧
して前記間隙材７，７を前記配向膜６に押込ま
せ、その周縁部をシール材８にてシールするよう
にしたものであり、この製造方法によれば前記間
隙材７，７を一方の電極基板２に被覆された配向
膜６の形成と同時に電極基板面に配置することが
できるから、間隙材７，７の配置を簡単に行なう
ことができる。そして、一方の電極基板に間隙材
を配置したので、間隙材が重なり合うことが少な
くなり、セル全体にわたつて間隙を均一にするこ
とができる。また配向剤溶液を塗布した後にこれ
を乾燥させることによつてセルを完成するまでの
工程における間隙材７，７のずれ動きも防ぐこと
ができる。
なお、上記実施例では間隙材７，７としてビー
ズを使用しているが、この間隙材７はグラスフア
イバーなどであつてもよく、また前記間隙材７は
上下いずれの電極基板に配置してもよい。
ズを使用しているが、この間隙材７はグラスフア
イバーなどであつてもよく、また前記間隙材７は
上下いずれの電極基板に配置してもよい。
この発明の液晶表示セルの製造方法は、上述し
た様に、電極基板の電極形成面を被覆する配向材
に間隙材を混入させて一方の電極基板に塗布する
ことによつて、液晶封入部に間隙材を配置させ、
また、重合させた一対の電極基板を加圧すること
により、前記間隙材を前記配向膜に押込ませたの
で、液晶封入部に配置された間隙材のずれ動きを
確実に防ぐことができ、両電気基板間の間隙をセ
ル全体にわたつて均一にすることができる。ま
た、この発明によれば、間隙材を一方の基板にの
み配置し、且つ配向膜の形成工程で電極基板間に
配置固定することができるので、均一な基板間隙
をもつた液晶表示セルを能率良く製造することが
できる。
た様に、電極基板の電極形成面を被覆する配向材
に間隙材を混入させて一方の電極基板に塗布する
ことによつて、液晶封入部に間隙材を配置させ、
また、重合させた一対の電極基板を加圧すること
により、前記間隙材を前記配向膜に押込ませたの
で、液晶封入部に配置された間隙材のずれ動きを
確実に防ぐことができ、両電気基板間の間隙をセ
ル全体にわたつて均一にすることができる。ま
た、この発明によれば、間隙材を一方の基板にの
み配置し、且つ配向膜の形成工程で電極基板間に
配置固定することができるので、均一な基板間隙
をもつた液晶表示セルを能率良く製造することが
できる。
第１図は従来の液晶表示セルを示す分解斜視
図、第２図はこの発明の一実施例を示す液晶表示
セルの分解斜視図、第３図ａ〜ｅは同じく製造方
法を工程順に示す断面図である。 １，２……電極基板、３……保護膜、４，５…
…透明電極、６……配向膜、７……間隙材、８…
…シール材。
図、第２図はこの発明の一実施例を示す液晶表示
セルの分解斜視図、第３図ａ〜ｅは同じく製造方
法を工程順に示す断面図である。 １，２……電極基板、３……保護膜、４，５…
…透明電極、６……配向膜、７……間隙材、８…
…シール材。
Claims (1)
- １ 電極形成面が配向膜で被覆されている一対の
電極基板間に間隙材を配置し、前記一対の電極基
板間に液晶を封入してなる液晶表示セルを製造す
る方法において、前記一対の電極基板のうち一方
の電極基板面に所定径の間隙材を混入した配向剤
溶液を塗布して前記間隙材が配置された配向膜を
形成する工程と、前記両電極基板の少なくとも一
方の電極基板の周縁部にシール材を形成する工程
と、前記間隙材を配置した配向膜が形成された一
方の電極基板と配向膜のみが形成された他方の電
極基板とを重合して加圧することにより、前記間
隙材を前記配向膜へ押込ませる工程と、前記両電
極基板の周縁部を前記シール材にて接着重合する
工程と、前記シール材にて周縁部が接着重合され
た両電極基板間に液晶を封入する工程とを備えた
ことを特徴とする液晶表示セルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9067779A JPS5614218A (en) | 1979-07-17 | 1979-07-17 | Liquid crystal display cell and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9067779A JPS5614218A (en) | 1979-07-17 | 1979-07-17 | Liquid crystal display cell and its manufacture |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5614218A JPS5614218A (en) | 1981-02-12 |
| JPH0146852B2 true JPH0146852B2 (ja) | 1989-10-11 |
Family
ID=14005162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9067779A Granted JPS5614218A (en) | 1979-07-17 | 1979-07-17 | Liquid crystal display cell and its manufacture |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5614218A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH652512A5 (de) * | 1981-05-27 | 1985-11-15 | Videlec Ag | Anzeigevorrichtung mit fluessigkristall. |
| JPS57204027A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-14 | Alps Electric Co Ltd | Liquid-crystal cell substrate and its manufacture |
| JPS58142316A (ja) * | 1982-02-18 | 1983-08-24 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示素子 |
| JPS5986027A (ja) * | 1982-11-08 | 1984-05-18 | Sharp Corp | 液晶表示セル及びその製造方法 |
| KR20070002554A (ko) | 2005-06-30 | 2007-01-05 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| JP4564472B2 (ja) * | 2006-07-11 | 2010-10-20 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6054656B2 (ja) * | 1978-03-27 | 1985-11-30 | 自動車機器技術研究組合 | 液晶表示素子の製造方法 |
| JPS55153919A (en) * | 1979-05-18 | 1980-12-01 | Hitachi Ltd | Manufacture of liquid crystal display element |
-
1979
- 1979-07-17 JP JP9067779A patent/JPS5614218A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5614218A (en) | 1981-02-12 |
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