JPH0154667B2 - - Google Patents
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- JPH0154667B2 JPH0154667B2 JP20849283A JP20849283A JPH0154667B2 JP H0154667 B2 JPH0154667 B2 JP H0154667B2 JP 20849283 A JP20849283 A JP 20849283A JP 20849283 A JP20849283 A JP 20849283A JP H0154667 B2 JPH0154667 B2 JP H0154667B2
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/251—Colorimeters; Construction thereof
- G01N21/253—Colorimeters; Construction thereof for batch operation, i.e. multisample apparatus
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- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
〔発明の利用分野〕
本発明は、抗原抗体反応によつて試料中の抗原
もしくは抗体の濃度を測定して行う血清免疫検査
に係り、特に、自動分析装置において使用するに
好適な抗原又は抗体の濃度測定方法に関する。 〔発明の背景〕 一般に、溶液中での抗原と抗体の反応を、抗体
濃度を一定にして、抗原濃度と生成する免疫複合
体の濃度すなわち比ろう法による光散乱強度又は
比濁法による吸光度の関係で示すと、第１図の如
きシグモイド曲線になる。この第１図によると、
第１図図示Ａ領域の如く抗原濃度が著しく小さい
場合、巨大な免疫複合体分子の生成する率すなわ
ち、散乱強度又は吸光度の増加する率は低い。こ
れは抗原濃度に比較して抗体濃度が過剰で巨大分
子のでき難い抗体過剰域となつているものであ
る。抗原濃度が第１図図示Ｂ領域の如くある程度
大きくなると、抗原濃度に比例して巨大分子の免
疫複合体が生成され、散乱強度又は吸光度は直線
的に増大する。したがつて、この領域が光散乱強
度又は吸光度の測定値より試料中の抗原濃度を正
確に測定し得る至適領域となる。また、抗原濃度
が抗体濃度に近くなると巨大分子の生成する率は
再び減少して散乱強度又は吸光度の増加率は第１
図図示Ｃ領域に示す如く鈍る。さらに抗原濃度が
抗体濃度より大きくなるいわゆる抗原過剰域では
第１図図示Ｄ領域に示す如く抗原濃度が増大する
ほど巨大分子の生成量そのものが減少し、散乱強
度または吸光度が減少する。これはプロゾー現象
といわれるもので周知の現象である。 抗原濃度を一定にして抗体濃度を変化するいわ
ゆる試料中の抗体を測定する場合も、第１図図示
抗原の場合と類似の結果が得られる。 すなわち抗原（又は抗体）を測定する場合、試
薬中の免液反応し得る抗体（又は抗原）の濃度を
充分に大きくすれば測定対象範囲の上限を前述の
第１図図示至適領域内に移動することは可能であ
る。しかしながら抗体濃度（又は抗原濃度）を増
せば増すほど測定対象物の低濃度における検量線
が曲線を描く第１図図示Ａ領域が拡大することに
なる。このため至適領域（第１図図示Ｂ領域）が
移動するだけである。したがつて、抗原抗体反応
を利用する従来の比ろう法や比濁法を用いた血清
免疫検査においては、ほとんどの場合検量線が直
線とならなかつた。 第２図はレーザーネフエフロメーターでトラン
スフエリンを測定する場合の検量線の１例を示し
たものである。すなわち測定対象のトランスフエ
リン（抗原）の濃度に対する散乱強度の関係はト
ランスフエリンの測定対象範囲の０〜1000mg／ｄ
において典型的なシグモイド曲線を呈する。そ
のためレーザーネフエロメーターでは５〜６点の
濃度既知のキヤリブレーターを測定し、各キヤリ
ブレーター間を折れ線で結ぶか、LOG−LOGIT
や３次多項式などの曲線回帰を行つて検量線を求
めている。 したがつて、このような従来の抗原抗体反応を
測定する方法にあつては正確な検量線を求めるた
め多数の濃度既知のキヤリブレーターを必要と
し、その検量線を求めるための測定に多大の時間
を要し、また定データの処理が複雑なため抗原抗
体反応を利用する比ろう法や比濁法を自動化する
ことができないという欠点を有していた。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、抗原抗体反応を利用する場合
に、検量線作成のために準備する標準試料の数が
少なくても高い測定精度が得られる抗原又は抗体
の濃度測定方法を提供することにある。 〔発明の概要〕 上記目的を達成するため、本発明に係る抗原又
は抗体の濃度測定方法は、抗原抗体反応によつて
生ずる免疫複合体による散乱強度又は吸光度を測
定することにより試料中の測定対象成分である被
検抗原又は被検抗体の濃度を測定する方法におい
て、免疫複合体による散乱強度又は吸光度が上記
測定対象成分の濃度に比例して変化する領域の内
の低濃度側となる濃度をもたらすように上記試料
中の測定対象成分と同じ抗原又は抗体を上記試料
に混合し、その後混合液に、上記測定対象成分と
免疫複合体を形成し得る抗体又は抗原からなる対
応物質を測定対象濃度域の上限より高い濃度で含
む試薬液を添加し、免疫複合体が生成された反応
液について散乱強度又は吸光度を測定するように
したものである。 〔発明の実施例〕 以下、本発明の実施例について説明する。 現在市販されているほとんど全ての比ろう法又
は比濁法の試薬は測定対象範囲で第３図に示す如
きシグモイド曲線になる。すなわち、測定対象範
囲の上限付近である第３図図示Ａの曲りは試薬中
の抗体（又は抗原）の濃度を増大することによつ
て解決できる。この第３図に示される試薬中の抗
体（又は抗原）の濃度を増大すると第４図に示す
如く測定対象範囲の上限付近の第３図図示Ａの如
き曲りを修正することができる。しかしながら、
第３図と第４図の比較より明らかなように第３図
Ｂに示される測定対象範囲の下限付近の曲りも試
薬中の抗体（又は抗原）の濃度を増大するほど第
４図Ｂに示す如く拡大される。一方、抗原抗体反
応は両者の濃度の比に左右されるため、検量線が
直線となる至適領域の広さは試薬中の抗体（又は
抗原）濃度を増大するほど拡大され、この拡大は
第３図Ｂに示される測定対象範囲の下限付近の曲
りの拡大よりもはるかに大きい。したがつて、第
３図Ｂに示される測定対象範囲の下限付近の曲り
を解消すれば検量線の直線性は確保できる。 そこで、従来行われている１液系を２液系で行
うようにする。すなわち、第１試薬は、緩衝物質
（例えば、リン酸バツフア等測定対象物の種類に
よつて異る）と第４図図示CBで示される濃度の
測定対象物（抗原又は抗体）の純品を主成分とす
るものとする。第２試薬は、測定対象範囲の上限
濃度CMよりも充分に多量（例えば、２倍以上）
の抗体又は抗原と緩衝物質（第１試薬の緩衝物質
と同じ）より構成される。 まず、測定しようとする試薬中の測定対象免疫
成分（例えば抗原）は何であるか予め解つている
ので、これと同じ免疫成分（この場合は抗原）の
純品を用いて上記の条件で第１試薬を作り、その
抗原と免疫複合体を形成し得る対応の免疫成分
（この場合は対応する抗体）を含む第２試薬を上
記の条件で作る。次に、脱イオン水（濃度０）
と、濃度既知の標準試料を濃度別に複数個用い
て、上述の第１試薬および第２試薬を加えて免疫
反応させ、各試料について散乱強度又は吸光度を
とると、第５図に示す如く測定対象範囲の全領域
において直線となる。したがつて、脱イオン水
（濃度０）と、既知濃度試料を１個用いて検量線
を求めることが可能となる。この検量線が求まれ
ば、この検量線に基づいて抗原又は抗体の濃度を
測定することは、採取した未知濃度の試料を初め
に第１試薬と混合した後、第２試薬と混合させて
反応を開始するようにすることにより容易に行い
うる。つまり、試料側から見れば、第１図のＡ領
域の抗原濃度であつたものが第１試薬の添加によ
つてＢ領域の抗原濃度まで引き上げられたことに
なる。 なお、第２試薬中の抗体又は抗原濃度は測定対
象範囲の上限で検量線の曲りを生じない程度、多
くの場合測定対象濃度の上限濃度の２〜３倍で充
分であり、不必要に大きくすると、下限の検量線
の曲りも増大することから第１試薬の純物質濃度
の増大を引き起し第１試薬、第２試薬を不必要に
消費することになる。 第６図には、本発明の適用される自動分析装置
の概略構成図が示されている。 図において、各測定対象物である試料が複数個
設置できるサンプラ１０、サンプルデイスク１１
が設けられている。この複数個の試料は、測定対
象毎に連続してサンプルデイスク１１上に並べる
ことができるように構成されている。また、反応
部２０の反応デイスク２１は、その円周上に複数
個の測定セルを兼ねた反応容器２２を有し、回転
自在に構成されている。また、試料の移送は、サ
ンプリングロープ４１によつて行われ、試薬の分
注は、分注器３８，３９によつて行われる。ま
た、分光器２７は、複数検知器を有する多波長同
時測光形であり、光源ランプ２５と相対し、反応
デイスク２１が回転状態にあるときに、反応容器
２２の列が光源ランプ２５からの光束２６を通過
する様に構成されている。光束２６は、反応デイ
スク２１が停止状態にあるときに吐出位置４５か
ら時計方向に数えて、例えば、31番目の反応容器
２２の中心を透過する様に配置されている。光束
２６の位置と吐出位置４５の間には排液装置およ
び装浄装置２４が配置されている。 制御装置全体の構成は、マルチプレクサ、対数
変換増幅器５３、Ａ／Ｄ変換器５４、リード・オ
ンリ・メモリ（以下ROMと称する）、ランダ
ム・アクセス・メモリ（以下、RAMと称する）、
プリンタ５５、操作パネル５２、機構部駆動回路
３５からなるが、Ａ／Ｄ変換器５４はさらに、イ
ンターフエイス５０を経て中央処理装置５１に接
続されている。この中央処理装置５１は、機構系
を含めた装置全体の制御と、前述の多重回帰によ
る検量線作成や濃度演算などのデータ処理全般を
行なうものでマイクロコンピユータが使用され
る。試薬設置部３０には、開口３２，３２′を有
する複数の試薬液槽３１，３１′が配置されてい
る。恒温水槽２３には循環器２９によつて恒温水
が循環される。測定室１５には電極１６，１７が
配置されている。２８は反応液撹拌器であり、４
２は試料吸排用シリンダ機構である。 次に、動作を説明する。 まず、測定対象物である抗原又は抗体の種類は
予め解つているため、脱イオン水（濃度０）と既
知濃度の標準試料１個の２つの試料を用いて各試
料の散乱強度又は吸光度を求め、２つの測定値に
基づき測定対象物の検量線を求め記憶させてお
く。 次に、試料を収容した試料容器１２又は１３が
サンプリング位置４４に供給されると、ピペツタ
４０のプローブ４１の先端が上記試料容器中に浸
漬され、血清の一定量を吸入し、プローブ４１内
に保持する。その後、プローブ４１は、反応デイ
スク２１の吐出位置４５まで移動し、吐出位置４
５に移送されている反応容器２２内にプローブ４
１で保持していた血清を吐出する。上記サンプリ
ング動作が終ると、反応デイスク２１は反時計方
向に間欠的な回転移動を開始し、反応デイスク２
１上に、反応容器２２の全数より１つ多い数の反
応容器２２が吐出位置を通過するまで回転して停
止する。 前記反応デイスク２１の回転によつて、上記サ
ンプリング動作でサンプリングされた試料の入つ
た反応容器２２は、吐出位置４５より反応容器１
ピツチ分だけ反時計方向に進んだ位置に来て停止
している。前記反応デイスク２１の回転中に、反
応デイスク２１上の全ての反応容器２２は光束２
６を通過する。従つて、それぞれの反応容器２２
が光束２６を通過するときには、分光器２７によ
る光吸収測定がなされ、分光器２７の出力は、マ
ルチプレクサにより現在必要な測定波長の信号が
選択され、Ａ／Ｄ変換器５４でデイジタル信号に
変換され中央処理装置５１に取込まれて、RAM
に記憶される。 前記の反応デイスク２１の回転および停止して
いる間の時間は、第２液を添加撹拌後測定する時
の反応が一定するように反応時間（測定対象物の
種類によつて異なるが、５〜15分）を考慮して決
められる。この時間を１サイクルとして上記動作
を繰り返す。上記サイクルが進むにつれてサンプ
リングされた特定の被測定試料は反応デイスク２
１が停止している状態での位置が反応容器１ピツ
チ分ずつ反時計方向に進む。分注器３６と分注器
３７からの試薬の吐出は、試料の入つた反応容器
２２が反応容器１ピツチ分ずつ反時計方向に進ん
で、反応デイスク２１上で、それぞれ吐出位置４
６，４７に停止した状態でなされる。特定の被測
試料について見ると、吐出位置４７で第１試薬が
一定量添加され、吐出位置４６で第２試薬が一定
量添加され抗原抗体反応が開始される。以上の動
作で１サイクルにおける反応デイスク２１の特定
試料についてみると、その試料の反応過程は１分
30秒〜５分30秒毎に31回測定され、48〜165分間
の測定データがRAMに記憶される。中央処理装
置はROMのプログラムに従つて作動し、RAM
内の31個の測定データを抽出し、演算処理を行
う。 このように求めた検量線は、被測定物質の濃度
に対して原点を通る直線となり、自動分析装置に
おいて、単一の標液（標準血清）でキヤリブレー
シヨンができるような試薬組成及び測定法が提供
される。特に本発明は試料中の抗原（又は抗体）
と試薬中の抗体（又は抗原）との反応によつて巨
大な免疫複合体を形成させ、それよる散乱強度の
増加又は吸光度の増加を検知する比ろう法や比濁
法において有効である。 次に、本発明を用いて血清中のIgG（免疫グロ
プリンＧ）測定の比濁法による測定結果を説明す
る。 従来法及び本発明による方法の自動分析装置に
おける測定条件は第１表に示されている。
もしくは抗体の濃度を測定して行う血清免疫検査
に係り、特に、自動分析装置において使用するに
好適な抗原又は抗体の濃度測定方法に関する。 〔発明の背景〕 一般に、溶液中での抗原と抗体の反応を、抗体
濃度を一定にして、抗原濃度と生成する免疫複合
体の濃度すなわち比ろう法による光散乱強度又は
比濁法による吸光度の関係で示すと、第１図の如
きシグモイド曲線になる。この第１図によると、
第１図図示Ａ領域の如く抗原濃度が著しく小さい
場合、巨大な免疫複合体分子の生成する率すなわ
ち、散乱強度又は吸光度の増加する率は低い。こ
れは抗原濃度に比較して抗体濃度が過剰で巨大分
子のでき難い抗体過剰域となつているものであ
る。抗原濃度が第１図図示Ｂ領域の如くある程度
大きくなると、抗原濃度に比例して巨大分子の免
疫複合体が生成され、散乱強度又は吸光度は直線
的に増大する。したがつて、この領域が光散乱強
度又は吸光度の測定値より試料中の抗原濃度を正
確に測定し得る至適領域となる。また、抗原濃度
が抗体濃度に近くなると巨大分子の生成する率は
再び減少して散乱強度又は吸光度の増加率は第１
図図示Ｃ領域に示す如く鈍る。さらに抗原濃度が
抗体濃度より大きくなるいわゆる抗原過剰域では
第１図図示Ｄ領域に示す如く抗原濃度が増大する
ほど巨大分子の生成量そのものが減少し、散乱強
度または吸光度が減少する。これはプロゾー現象
といわれるもので周知の現象である。 抗原濃度を一定にして抗体濃度を変化するいわ
ゆる試料中の抗体を測定する場合も、第１図図示
抗原の場合と類似の結果が得られる。 すなわち抗原（又は抗体）を測定する場合、試
薬中の免液反応し得る抗体（又は抗原）の濃度を
充分に大きくすれば測定対象範囲の上限を前述の
第１図図示至適領域内に移動することは可能であ
る。しかしながら抗体濃度（又は抗原濃度）を増
せば増すほど測定対象物の低濃度における検量線
が曲線を描く第１図図示Ａ領域が拡大することに
なる。このため至適領域（第１図図示Ｂ領域）が
移動するだけである。したがつて、抗原抗体反応
を利用する従来の比ろう法や比濁法を用いた血清
免疫検査においては、ほとんどの場合検量線が直
線とならなかつた。 第２図はレーザーネフエフロメーターでトラン
スフエリンを測定する場合の検量線の１例を示し
たものである。すなわち測定対象のトランスフエ
リン（抗原）の濃度に対する散乱強度の関係はト
ランスフエリンの測定対象範囲の０〜1000mg／ｄ
において典型的なシグモイド曲線を呈する。そ
のためレーザーネフエロメーターでは５〜６点の
濃度既知のキヤリブレーターを測定し、各キヤリ
ブレーター間を折れ線で結ぶか、LOG−LOGIT
や３次多項式などの曲線回帰を行つて検量線を求
めている。 したがつて、このような従来の抗原抗体反応を
測定する方法にあつては正確な検量線を求めるた
め多数の濃度既知のキヤリブレーターを必要と
し、その検量線を求めるための測定に多大の時間
を要し、また定データの処理が複雑なため抗原抗
体反応を利用する比ろう法や比濁法を自動化する
ことができないという欠点を有していた。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、抗原抗体反応を利用する場合
に、検量線作成のために準備する標準試料の数が
少なくても高い測定精度が得られる抗原又は抗体
の濃度測定方法を提供することにある。 〔発明の概要〕 上記目的を達成するため、本発明に係る抗原又
は抗体の濃度測定方法は、抗原抗体反応によつて
生ずる免疫複合体による散乱強度又は吸光度を測
定することにより試料中の測定対象成分である被
検抗原又は被検抗体の濃度を測定する方法におい
て、免疫複合体による散乱強度又は吸光度が上記
測定対象成分の濃度に比例して変化する領域の内
の低濃度側となる濃度をもたらすように上記試料
中の測定対象成分と同じ抗原又は抗体を上記試料
に混合し、その後混合液に、上記測定対象成分と
免疫複合体を形成し得る抗体又は抗原からなる対
応物質を測定対象濃度域の上限より高い濃度で含
む試薬液を添加し、免疫複合体が生成された反応
液について散乱強度又は吸光度を測定するように
したものである。 〔発明の実施例〕 以下、本発明の実施例について説明する。 現在市販されているほとんど全ての比ろう法又
は比濁法の試薬は測定対象範囲で第３図に示す如
きシグモイド曲線になる。すなわち、測定対象範
囲の上限付近である第３図図示Ａの曲りは試薬中
の抗体（又は抗原）の濃度を増大することによつ
て解決できる。この第３図に示される試薬中の抗
体（又は抗原）の濃度を増大すると第４図に示す
如く測定対象範囲の上限付近の第３図図示Ａの如
き曲りを修正することができる。しかしながら、
第３図と第４図の比較より明らかなように第３図
Ｂに示される測定対象範囲の下限付近の曲りも試
薬中の抗体（又は抗原）の濃度を増大するほど第
４図Ｂに示す如く拡大される。一方、抗原抗体反
応は両者の濃度の比に左右されるため、検量線が
直線となる至適領域の広さは試薬中の抗体（又は
抗原）濃度を増大するほど拡大され、この拡大は
第３図Ｂに示される測定対象範囲の下限付近の曲
りの拡大よりもはるかに大きい。したがつて、第
３図Ｂに示される測定対象範囲の下限付近の曲り
を解消すれば検量線の直線性は確保できる。 そこで、従来行われている１液系を２液系で行
うようにする。すなわち、第１試薬は、緩衝物質
（例えば、リン酸バツフア等測定対象物の種類に
よつて異る）と第４図図示CBで示される濃度の
測定対象物（抗原又は抗体）の純品を主成分とす
るものとする。第２試薬は、測定対象範囲の上限
濃度CMよりも充分に多量（例えば、２倍以上）
の抗体又は抗原と緩衝物質（第１試薬の緩衝物質
と同じ）より構成される。 まず、測定しようとする試薬中の測定対象免疫
成分（例えば抗原）は何であるか予め解つている
ので、これと同じ免疫成分（この場合は抗原）の
純品を用いて上記の条件で第１試薬を作り、その
抗原と免疫複合体を形成し得る対応の免疫成分
（この場合は対応する抗体）を含む第２試薬を上
記の条件で作る。次に、脱イオン水（濃度０）
と、濃度既知の標準試料を濃度別に複数個用い
て、上述の第１試薬および第２試薬を加えて免疫
反応させ、各試料について散乱強度又は吸光度を
とると、第５図に示す如く測定対象範囲の全領域
において直線となる。したがつて、脱イオン水
（濃度０）と、既知濃度試料を１個用いて検量線
を求めることが可能となる。この検量線が求まれ
ば、この検量線に基づいて抗原又は抗体の濃度を
測定することは、採取した未知濃度の試料を初め
に第１試薬と混合した後、第２試薬と混合させて
反応を開始するようにすることにより容易に行い
うる。つまり、試料側から見れば、第１図のＡ領
域の抗原濃度であつたものが第１試薬の添加によ
つてＢ領域の抗原濃度まで引き上げられたことに
なる。 なお、第２試薬中の抗体又は抗原濃度は測定対
象範囲の上限で検量線の曲りを生じない程度、多
くの場合測定対象濃度の上限濃度の２〜３倍で充
分であり、不必要に大きくすると、下限の検量線
の曲りも増大することから第１試薬の純物質濃度
の増大を引き起し第１試薬、第２試薬を不必要に
消費することになる。 第６図には、本発明の適用される自動分析装置
の概略構成図が示されている。 図において、各測定対象物である試料が複数個
設置できるサンプラ１０、サンプルデイスク１１
が設けられている。この複数個の試料は、測定対
象毎に連続してサンプルデイスク１１上に並べる
ことができるように構成されている。また、反応
部２０の反応デイスク２１は、その円周上に複数
個の測定セルを兼ねた反応容器２２を有し、回転
自在に構成されている。また、試料の移送は、サ
ンプリングロープ４１によつて行われ、試薬の分
注は、分注器３８，３９によつて行われる。ま
た、分光器２７は、複数検知器を有する多波長同
時測光形であり、光源ランプ２５と相対し、反応
デイスク２１が回転状態にあるときに、反応容器
２２の列が光源ランプ２５からの光束２６を通過
する様に構成されている。光束２６は、反応デイ
スク２１が停止状態にあるときに吐出位置４５か
ら時計方向に数えて、例えば、31番目の反応容器
２２の中心を透過する様に配置されている。光束
２６の位置と吐出位置４５の間には排液装置およ
び装浄装置２４が配置されている。 制御装置全体の構成は、マルチプレクサ、対数
変換増幅器５３、Ａ／Ｄ変換器５４、リード・オ
ンリ・メモリ（以下ROMと称する）、ランダ
ム・アクセス・メモリ（以下、RAMと称する）、
プリンタ５５、操作パネル５２、機構部駆動回路
３５からなるが、Ａ／Ｄ変換器５４はさらに、イ
ンターフエイス５０を経て中央処理装置５１に接
続されている。この中央処理装置５１は、機構系
を含めた装置全体の制御と、前述の多重回帰によ
る検量線作成や濃度演算などのデータ処理全般を
行なうものでマイクロコンピユータが使用され
る。試薬設置部３０には、開口３２，３２′を有
する複数の試薬液槽３１，３１′が配置されてい
る。恒温水槽２３には循環器２９によつて恒温水
が循環される。測定室１５には電極１６，１７が
配置されている。２８は反応液撹拌器であり、４
２は試料吸排用シリンダ機構である。 次に、動作を説明する。 まず、測定対象物である抗原又は抗体の種類は
予め解つているため、脱イオン水（濃度０）と既
知濃度の標準試料１個の２つの試料を用いて各試
料の散乱強度又は吸光度を求め、２つの測定値に
基づき測定対象物の検量線を求め記憶させてお
く。 次に、試料を収容した試料容器１２又は１３が
サンプリング位置４４に供給されると、ピペツタ
４０のプローブ４１の先端が上記試料容器中に浸
漬され、血清の一定量を吸入し、プローブ４１内
に保持する。その後、プローブ４１は、反応デイ
スク２１の吐出位置４５まで移動し、吐出位置４
５に移送されている反応容器２２内にプローブ４
１で保持していた血清を吐出する。上記サンプリ
ング動作が終ると、反応デイスク２１は反時計方
向に間欠的な回転移動を開始し、反応デイスク２
１上に、反応容器２２の全数より１つ多い数の反
応容器２２が吐出位置を通過するまで回転して停
止する。 前記反応デイスク２１の回転によつて、上記サ
ンプリング動作でサンプリングされた試料の入つ
た反応容器２２は、吐出位置４５より反応容器１
ピツチ分だけ反時計方向に進んだ位置に来て停止
している。前記反応デイスク２１の回転中に、反
応デイスク２１上の全ての反応容器２２は光束２
６を通過する。従つて、それぞれの反応容器２２
が光束２６を通過するときには、分光器２７によ
る光吸収測定がなされ、分光器２７の出力は、マ
ルチプレクサにより現在必要な測定波長の信号が
選択され、Ａ／Ｄ変換器５４でデイジタル信号に
変換され中央処理装置５１に取込まれて、RAM
に記憶される。 前記の反応デイスク２１の回転および停止して
いる間の時間は、第２液を添加撹拌後測定する時
の反応が一定するように反応時間（測定対象物の
種類によつて異なるが、５〜15分）を考慮して決
められる。この時間を１サイクルとして上記動作
を繰り返す。上記サイクルが進むにつれてサンプ
リングされた特定の被測定試料は反応デイスク２
１が停止している状態での位置が反応容器１ピツ
チ分ずつ反時計方向に進む。分注器３６と分注器
３７からの試薬の吐出は、試料の入つた反応容器
２２が反応容器１ピツチ分ずつ反時計方向に進ん
で、反応デイスク２１上で、それぞれ吐出位置４
６，４７に停止した状態でなされる。特定の被測
試料について見ると、吐出位置４７で第１試薬が
一定量添加され、吐出位置４６で第２試薬が一定
量添加され抗原抗体反応が開始される。以上の動
作で１サイクルにおける反応デイスク２１の特定
試料についてみると、その試料の反応過程は１分
30秒〜５分30秒毎に31回測定され、48〜165分間
の測定データがRAMに記憶される。中央処理装
置はROMのプログラムに従つて作動し、RAM
内の31個の測定データを抽出し、演算処理を行
う。 このように求めた検量線は、被測定物質の濃度
に対して原点を通る直線となり、自動分析装置に
おいて、単一の標液（標準血清）でキヤリブレー
シヨンができるような試薬組成及び測定法が提供
される。特に本発明は試料中の抗原（又は抗体）
と試薬中の抗体（又は抗原）との反応によつて巨
大な免疫複合体を形成させ、それよる散乱強度の
増加又は吸光度の増加を検知する比ろう法や比濁
法において有効である。 次に、本発明を用いて血清中のIgG（免疫グロ
プリンＧ）測定の比濁法による測定結果を説明す
る。 従来法及び本発明による方法の自動分析装置に
おける測定条件は第１表に示されている。
【表】
第１表では１液法と２液法の差はあるが試料
量、最終希釈率、測定波長などは同一である。ま
た第２表に従来法と本発明のの方法の試薬の組成
が示されている。
量、最終希釈率、測定波長などは同一である。ま
た第２表に従来法と本発明のの方法の試薬の組成
が示されている。
【表】
本発明によれば、抗原抗体反応を利用する場合
に、検量線作成のために準備する標準試料の数が
少なくても高い測定精度が得られる。
に、検量線作成のために準備する標準試料の数が
少なくても高い測定精度が得られる。
第１図は従来の抗体濃度を一定にして抗原濃度
を変化させたときの散乱強度（又は吸光度）特性
図、第２図はレーザーネフエロメータでトランス
フエリンを測定する場合の従来の検量線図、第３
図は測定対象範囲を示すシグモイド曲線図、第４
図は第３図図示試薬中の抗体の濃度を増大したと
きの測定図、第５図は本発明による検量線図、第
６図は本発明の適用される自動分析装置の構成
図、第７図は血清中のIgG測定の比濁法による従
来例と本発明による測定結果を示す図である。 ２２……反応容器、２６……分光器、３６，３
７……分注器、４０……ピペツタ、４４……試料
容器。
を変化させたときの散乱強度（又は吸光度）特性
図、第２図はレーザーネフエロメータでトランス
フエリンを測定する場合の従来の検量線図、第３
図は測定対象範囲を示すシグモイド曲線図、第４
図は第３図図示試薬中の抗体の濃度を増大したと
きの測定図、第５図は本発明による検量線図、第
６図は本発明の適用される自動分析装置の構成
図、第７図は血清中のIgG測定の比濁法による従
来例と本発明による測定結果を示す図である。 ２２……反応容器、２６……分光器、３６，３
７……分注器、４０……ピペツタ、４４……試料
容器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 抗原抗体反応によつて生ずる免疫複合体によ
る散乱強度又は吸光度を測定することにより試料
中の測定対象成分である被検抗原又は被検抗体の
濃度を測定する方法において、免疫複合体による
散乱強度又は吸光度が上記測定対象成分の濃度に
比例して変化する領域の内の低濃度側となる濃度
をもたらすように上記試料中の測定対象成分と同
じ抗原又は抗体を上記試料に混合し、その後混合
液に、上記測定対象成分と免疫複合体を形成し得
る抗体又は抗原からなる対応物質を測定対象濃度
域の上限より高い濃度で含む試薬液を添加し、免
疫複合体が生成された反応液について散乱強度又
は吸光度を測定するようにしたことを特徴とする
抗原又は抗体の濃度測定方法。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の発明において、
上記低濃度側の濃度は、至適領域の下限濃度であ
ることを特徴とする抗原又は抗体の濃度測定方
法。 ３ 特許請求の範囲第１項又は第２項記載の発明
において、上記試薬液中の対応物質濃度は、上記
測定対象濃度域の上限濃度の２倍以上の濃度であ
ることを特徴とする抗原又は抗体の濃度測定方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20849283A JPS60100764A (ja) | 1983-11-07 | 1983-11-07 | 抗原又は抗体の濃度測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20849283A JPS60100764A (ja) | 1983-11-07 | 1983-11-07 | 抗原又は抗体の濃度測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60100764A JPS60100764A (ja) | 1985-06-04 |
| JPH0154667B2 true JPH0154667B2 (ja) | 1989-11-20 |
Family
ID=16557053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20849283A Granted JPS60100764A (ja) | 1983-11-07 | 1983-11-07 | 抗原又は抗体の濃度測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60100764A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0617910B2 (ja) * | 1986-03-10 | 1994-03-09 | 日立化成工業株式会社 | 抗原又は抗体の定量法 |
| JPH0635976B2 (ja) * | 1988-09-24 | 1994-05-11 | 株式会社島津製作所 | 免疫反応におけるプロゾーン判定方法 |
| WO1998009172A1 (fr) * | 1996-08-30 | 1998-03-05 | Optimum Research | Procede de dosage de proteines et systeme pour sa mise en oeuvre |
-
1983
- 1983-11-07 JP JP20849283A patent/JPS60100764A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60100764A (ja) | 1985-06-04 |
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