JPH0155261B2 - - Google Patents

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JPH0155261B2
JPH0155261B2 JP1661784A JP1661784A JPH0155261B2 JP H0155261 B2 JPH0155261 B2 JP H0155261B2 JP 1661784 A JP1661784 A JP 1661784A JP 1661784 A JP1661784 A JP 1661784A JP H0155261 B2 JPH0155261 B2 JP H0155261B2
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JP
Japan
Prior art keywords
fluorine
production method
acid derivative
elimination reaction
reduced pressure
Prior art date
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Expired
Application number
JP1661784A
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English (en)
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JPS60158137A (ja
Inventor
Masahiro Suefuji
Shinichi Imazu
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Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、含フツ素アクリル酸誘導体の製法に
関し、更に詳しくは含フツ素プロピオン酸から脱
ハロゲンすることから成る含フツ素アクリル酸誘
導体の製法に関する。
一般式:=CH2=CFCOY (1) (式中、Yはハロゲンまたは低級アルコキシ基を
表わす。) で示される含フツ素アクリル酸誘導体は、医薬
(たとえば抗生物質)の中間体、光学繊維のさや
材用材料の中間体、塗料用材料の中間体、更に半
導体レジスト材料の中間体として有用である。
従来該化合物(1)、たとえば、α−フルオロアク
リル酸エステルは、α,α,β−トリブロモプロ
ピオン酸エステルをフツ化水銀でフツ素化して
α,β−ジブロモ−α−フルオロプロピオン酸を
得、これを脱臭素する方法(ジヤーナル・オブ・
ケミカル・ソサエテイ、第75巻、第479〜481頁、
1954年発行)や、モノクロロ酢酸エステルをフツ
化カリウムでフツ素化してモノフルオロ酢酸を
得、次いでこれをエーテル中シユウ酸ジメチルと
反応させ、さらにパラホルムアルデヒド、メトキ
シナトリウムと反応させる方法(マクロモレキユ
ールズ、第13巻、第1031〜1036頁、1980年発行)
により製造されることが知られている。
しかし、前者の方法では、毒性の強い水銀化合
物を用いなければならず、収率も10%と低く、一
方後者の方法でも、毒性の強いモノフルオロ酢酸
を経由しなければならず、収率も30%程度であ
り、しかも溶媒として引火性の大きなエーテルを
使用することなどの問題がある。
本発明者らは、該化合物(1)の製法について研究
を行ない、対応する含フツ素プロピオン酸誘導体
を脱ハロゲンすることにより該化合物(1)が容易に
得られることを見い出し、本発明を完成するに至
つた。
すなわち、本発明の要旨は、一般式: XCH2CF2COY (2) (式中、Yは前記と同意義。Xはハロゲンを表わ
す。) で示される含フツ素プロピオン酸誘導体から脱ハ
ロゲン化剤の存在下、0〜150℃の温度で 一般式:XF (3) (式中、Xは前記と同意義。) で示されるハロゲン化合物を脱離して 一般式: CH2=CFCOY (1) (式中、Yは前記と同意義。) で示される化合物を得ることを特徴とする含フツ
素アクリル酸誘導体の製法に存する。
出発物質である含フツ素プロピオン酸誘導体(2)
は、たとえば2,2,3,3−テトラフルオロオ
キセタンをヨウ化ナトリウムで処理することによ
り容易に得られる。
脱ハロゲン化剤としては、既知のもの、たとえ
ば亜鉛、ナトリウム、マグネシウム、錫、銅、鉄
などが用いられる。
反応温度は、一般に0〜150℃、好ましくは30
〜80℃、より好ましくは40〜60℃である。
反応圧力は、常圧でもよいが、200mmHg以下、
好ましくは20〜50mmHgの減圧下で行なうと自身
重合しやすい生成物含フツ素アクリル酸誘導体の
重合が防止されてその収率が向上する。
また、反応は溶媒中で行なうのが好ましく、溶
媒としては、極性溶媒、たとえばジメチルホルム
アミド(DMF)、アセトニトリル、アセトンなど
が挙げられる。
本発明においては、反応を環流下に行なつて反
応終了後生成物を減圧蒸留により回収してもよい
が、前記重合防止がより効果的に達成されるとい
う利点から、反応中に生成物を連続的に回収する
のが望ましい。
次ぎに、実施例を示し、本発明の製法を具体的
に説明する。
実施例 1 5l四つ口フラスコ中、亜鉛373gのDMF2500g
懸濁液に50〜60℃でICH2CF2COF1042g(4.378
モル)を滴下した後、1時間撹拌した。次いで、
反応混合物を42〜45℃、50mmHgで減圧単蒸留し
て粗CH2=CFCOF162gを得た。収率37.6%。ガ
スクロマトグラフイによる純度分析は93.5%であ
つた。
実施例 2 実施例1と同様の仕込量を用いたが、
ICH2CF2COFは50〜60℃、20mmHgの減圧下に環
流しながら滴下した。滴下終了後、実施例1と同
様に減圧蒸留して粗CH2=CFCOF274gを得た。
収率62.0%。ガスクロマトグラフイによる純度分
析は91.2%であつた。
実施例 3 減圧度を40mmHg、反応温度を50〜60℃とし、
生成物を蒸留塔頂温度38〜40℃で連続的に回収す
る以外は実施例2の手順を繰り返して、粗CH2
CFCOF343gを得た。収率80.6%。ガスクロマト
グラフイによる純度分析は94.8%であつた。
実施例 4 1l四つ口フラスコ中、亜鉛93gのアセトニトリ
ル500g懸濁液に50〜60℃で
BrCH2CF2COOCH3194g(0.956モル)を滴下し
た後、1時間撹拌した。次いで、反応混合物を減
圧単蒸留して粗CH2=CFCOOCH340.7gを得た。
GC−MS:104(M+)、59(COOCH3)、45(CH2
CF)。
実施例 5 1l四つ口フラスコ中、亜鉛70gのDMF500g懸
濁液に50〜60℃でICH2CF2COCl210g(0.825モ
ル)を滴下した後、1時間撹拌した。次いで、反
応混合物を減圧単蒸留して粗CH2=CFCOCl49.5
gを得た。GC−MS:108(M+)、63(COCl)、45
(CH2=CF)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式: XCH2CF2COY (式中、Xはハロゲン、Yはハロゲンまたは低級
    アルコキシ基を表わす。) で示される含フツ素プロピオン酸誘導体から、脱
    ハロゲン化剤の存在下、0〜150℃の温度で 一般式:XF (式中、Xは前記と同意義。) で示されるハロゲン化合物を脱離して 一般式: CH2=CFCOY (式中、Yは前記と同意義。) で示される化合物を得ることを特徴とする含フツ
    素アクリル酸誘導体の製法。 2 脱離反応を200mmHg以下の減圧下に行なう特
    許請求の範囲第1項記載の製法。 3 脱離反応を20〜50mmHgの減圧下に行なう特
    許請求の範囲第1項または第2項記載の製法。 4 脱離反応中、含フツ素アクリル酸誘導体を連
    続的に回収、取得する特許請求の範囲第1〜3項
    のいずれかに記載の製法。 5 脱ハロゲン化剤が、亜鉛、ナトリウム、マグ
    ネシウム、錫、銅または鉄である特許請求の範囲
    第1〜4項のいずれかに記載の製法。 6 脱離反応を40〜60℃の温度で行なう特許請求
    の範囲第1〜5項のいずれかに記載の製法。 7 Yがハロゲンである特許請求の範囲第1〜6
    項のいずれかに記載の製法。
JP1661784A 1984-01-30 1984-01-30 含フツ素アクリル酸誘導体の製法 Granted JPS60158137A (ja)

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