JPH0160376B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0160376B2 JPH0160376B2 JP56040768A JP4076881A JPH0160376B2 JP H0160376 B2 JPH0160376 B2 JP H0160376B2 JP 56040768 A JP56040768 A JP 56040768A JP 4076881 A JP4076881 A JP 4076881A JP H0160376 B2 JPH0160376 B2 JP H0160376B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- switch
- machining
- discharge
- machining gap
- turned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
- B23H1/024—Detection of, and response to, abnormal gap conditions, e.g. short circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は加工間隙に放電を行なつて加工する放
電加工装置に係る。
電加工装置に係る。
従来の放電加工はスイツチのオン・オフスイツ
チング制御によつて所要パルス巾の加工パルスを
発生し、発生パルスを加工間隙に供給してパルス
放電を行なう方式であつた。しかしながら本発明
はこのような加工パルスによるパルス放電を行な
うものではなく、連続する直流電圧による放電を
利用するものである。
チング制御によつて所要パルス巾の加工パルスを
発生し、発生パルスを加工間隙に供給してパルス
放電を行なう方式であつた。しかしながら本発明
はこのような加工パルスによるパルス放電を行な
うものではなく、連続する直流電圧による放電を
利用するものである。
加工間隙には半導体スイツチ回路、リード線通
電回路、機械装置の絶縁体回路等の各部分の浮遊
静電容量が等価的に加工間隙に並列に存在する。
したがつて本発明は加工間隙にスイツチングパル
スとしない直流電圧を直接加え、浮遊静電容量に
よる微小放電を続けて加工するものである。
電回路、機械装置の絶縁体回路等の各部分の浮遊
静電容量が等価的に加工間隙に並列に存在する。
したがつて本発明は加工間隙にスイツチングパル
スとしない直流電圧を直接加え、浮遊静電容量に
よる微小放電を続けて加工するものである。
本発明の特徴とするところは、加工間隙に加工
電力を供給する直流電源の接続回路に直列にスイ
ツチＢを接続すると共に前記加工間隙に並列にス
イツチＡを接続し、前記加工間隙に於ける放電繰
返し周波数よりも充分に低い周波数で前記スイツ
チＢとスイツチＡを一方がオンのとき他方がオフ
となるように交互にオン・オフ制御しながら加工
を行なうと共に前記加工間隙に発生する高周波を
検出し判別して検出信号レベルが所定レベル以下
に低下したときに前記スイツチＡをオン導通せし
めることにある。
電力を供給する直流電源の接続回路に直列にスイ
ツチＢを接続すると共に前記加工間隙に並列にス
イツチＡを接続し、前記加工間隙に於ける放電繰
返し周波数よりも充分に低い周波数で前記スイツ
チＢとスイツチＡを一方がオンのとき他方がオフ
となるように交互にオン・オフ制御しながら加工
を行なうと共に前記加工間隙に発生する高周波を
検出し判別して検出信号レベルが所定レベル以下
に低下したときに前記スイツチＡをオン導通せし
めることにある。
以下図面により説明すると、１及び２は電極、
被加工体で、相対向により加工間隙を形成する。
３は加工電力を供給する直流電源で、三相交流４
を整流して直流にし加工間隙に直接々続する。
被加工体で、相対向により加工間隙を形成する。
３は加工電力を供給する直流電源で、三相交流４
を整流して直流にし加工間隙に直接々続する。
接続極性は図示する極性とは反対でも、また極
性切換器を設けて適宜切換設定することができ
る。５は加工間隙に並列に接続したスイツチＡ、
６は前記直流電源３の加工間隙への接続回路に直
列に挿入したスイツチＢで、これらスイツチＡ及
びＢはマルチバイブレータから成る中断制御回路
７により交互にオン・オフ制御する。８は加工間
隙に放電により発生する高周波、周波数１〜30M
Hz程度の周波数帯の高周波を検出する検出回路、
９が検出信号を所定のレベルで判別する判別回路
で、例えばシユミツトを用い、設定レベル以下に
なつたとき判別出力を“０”から“１”に反転す
る判別をする。１０はフリツプフロツプで判別回
路９の出力でセツトされスイツチＢに加わるパル
スでリセツトされ、この出力で次の遮断制御回路
１１を制御する。回路１１は信号によりスイツチ
T3がオンし論理和回路を通してスイツチＡに制
御パルスを加える。
性切換器を設けて適宜切換設定することができ
る。５は加工間隙に並列に接続したスイツチＡ、
６は前記直流電源３の加工間隙への接続回路に直
列に挿入したスイツチＢで、これらスイツチＡ及
びＢはマルチバイブレータから成る中断制御回路
７により交互にオン・オフ制御する。８は加工間
隙に放電により発生する高周波、周波数１〜30M
Hz程度の周波数帯の高周波を検出する検出回路、
９が検出信号を所定のレベルで判別する判別回路
で、例えばシユミツトを用い、設定レベル以下に
なつたとき判別出力を“０”から“１”に反転す
る判別をする。１０はフリツプフロツプで判別回
路９の出力でセツトされスイツチＢに加わるパル
スでリセツトされ、この出力で次の遮断制御回路
１１を制御する。回路１１は信号によりスイツチ
T3がオンし論理和回路を通してスイツチＡに制
御パルスを加える。
第２図は第１図の各部作動を説明するタイムチ
ヤートで、マルチバイブレータ７によつてオン・
オフスイツチングするスイツチＢは加工間隙に於
ける放電繰返し周波数よりも充分に低い周波数で
オン・オフし、オン導通時間は例えば100〜500μs
の時間巾で、オフ中断は10〜100μsの時間巾に制
御される。又、スイツチＡもマルチバイブレータ
７によりスイツチＢがオンのときオフとなり、オ
フのときオンとなるように交互にオン・オフ制御
される。勿論この時間巾制御は加工条件、加工状
況等によつて制御することができる。各時間巾制
御は抵抗R1，R2の調整によりスイツチT1，T2の
オン・オフ時間制御を行なう。
ヤートで、マルチバイブレータ７によつてオン・
オフスイツチングするスイツチＢは加工間隙に於
ける放電繰返し周波数よりも充分に低い周波数で
オン・オフし、オン導通時間は例えば100〜500μs
の時間巾で、オフ中断は10〜100μsの時間巾に制
御される。又、スイツチＡもマルチバイブレータ
７によりスイツチＢがオンのときオフとなり、オ
フのときオンとなるように交互にオン・オフ制御
される。勿論この時間巾制御は加工条件、加工状
況等によつて制御することができる。各時間巾制
御は抵抗R1，R2の調整によりスイツチT1，T2の
オン・オフ時間制御を行なう。
スイツチＢがオンする間、直流電源３から加工
間隙に連続的に直流電圧が加えられ、微小に制御
された加工間隙で放電が発生するが直流電源３は
内部抵抗の調整制御により供給し得る電流を充分
絞つており（例えば平均電流0.05〜0.5A程度）、
放電により電流が流れるとその電圧降下により瞬
時に放電が消滅するようになる。加工間隙には前
記したように浮遊静電容量が存在し、それは通常
0.1μF程度又はそれ以下であり、これにもとづい
て充放電の繰返しにより１〜30MHz程度の高周波
の微細放電が繰返され、これにより精密放電加工
が行なわれる。放電はスイツチＢがオン導通する
間休むことなく行なわれ、高周波をもつて繰返さ
れるが、この高周波放電によつて加工屑、発生ガ
ス等が増加するから所定の時間巾でスイツチＢオ
フにより放電休止を行なわせる。スイツチＢオフ
による中断時間巾は前記放電中のオン導通時間よ
り充分短かくてよく、この間に間隙の洗浄、アー
ク遮断等の制御が行なわれ、次にまたスイツチＢ
オンして加工間隙に直流電圧を加えて放電を行な
う。又、スイツチＢオフのときスイツチＡがオン
することにより、加工間隙が橋絡されて加工間隙
の電荷が瞬時に放出され加工間隙の浄化による絶
縁度の回復が迅速に行なわれるため、スイツチＢ
がオンしたときに良好な高周波微細放電が生起し
て安定した加工が行なわれる。
間隙に連続的に直流電圧が加えられ、微小に制御
された加工間隙で放電が発生するが直流電源３は
内部抵抗の調整制御により供給し得る電流を充分
絞つており（例えば平均電流0.05〜0.5A程度）、
放電により電流が流れるとその電圧降下により瞬
時に放電が消滅するようになる。加工間隙には前
記したように浮遊静電容量が存在し、それは通常
0.1μF程度又はそれ以下であり、これにもとづい
て充放電の繰返しにより１〜30MHz程度の高周波
の微細放電が繰返され、これにより精密放電加工
が行なわれる。放電はスイツチＢがオン導通する
間休むことなく行なわれ、高周波をもつて繰返さ
れるが、この高周波放電によつて加工屑、発生ガ
ス等が増加するから所定の時間巾でスイツチＢオ
フにより放電休止を行なわせる。スイツチＢオフ
による中断時間巾は前記放電中のオン導通時間よ
り充分短かくてよく、この間に間隙の洗浄、アー
ク遮断等の制御が行なわれ、次にまたスイツチＢ
オンして加工間隙に直流電圧を加えて放電を行な
う。又、スイツチＢオフのときスイツチＡがオン
することにより、加工間隙が橋絡されて加工間隙
の電荷が瞬時に放出され加工間隙の浄化による絶
縁度の回復が迅速に行なわれるため、スイツチＢ
がオンしたときに良好な高周波微細放電が生起し
て安定した加工が行なわれる。
加工間隙における放電状態は検出回路８による
高周波検出により常に監視されている。即ち正常
状態にある間は発生する高周波（HF）は盛んで
検出回路８の検出電圧も増大しているが、放電が
短絡・アークすると検出電圧が低減する。判別回
路９は検出回路８の検出信号を判別して設定した
判別レベル以上では出力信号“０”であるから遮
断制御回路１１のスイツチT3はオフしている。
したがつてスイツチＡはスイツチＢと交互にオ
ン・オフスイツチングを繰返している。スイツチ
ＡがスイツチＢのオフ時にオン導通して加工間隙
を橋絡することによつて浮遊静電容量によるチヤ
ージを放出させ加工間隙の清浄化の促進等に効果
が期待できる。しかしながら判別回路９は検出信
号電圧が判別レベル以下になる（第２図）と信号
“１”を出力しフリツプフロツプ１０を反転しス
イツチT3をオンして論理和ダイオードS2を通し
てスイツチＡに制御パルスを加えスイツチＢのオ
ン導通放電中にオンせしめる。したがつて加工間
隙で短絡等により高周波（HF）が減少すれば判
別回路９の判別によりスイツチＡをオン導通させ
加工間隙を橋絡して放電遮断を行なわせ第２図の
ように放電休止時間を長くする。
高周波検出により常に監視されている。即ち正常
状態にある間は発生する高周波（HF）は盛んで
検出回路８の検出電圧も増大しているが、放電が
短絡・アークすると検出電圧が低減する。判別回
路９は検出回路８の検出信号を判別して設定した
判別レベル以上では出力信号“０”であるから遮
断制御回路１１のスイツチT3はオフしている。
したがつてスイツチＡはスイツチＢと交互にオ
ン・オフスイツチングを繰返している。スイツチ
ＡがスイツチＢのオフ時にオン導通して加工間隙
を橋絡することによつて浮遊静電容量によるチヤ
ージを放出させ加工間隙の清浄化の促進等に効果
が期待できる。しかしながら判別回路９は検出信
号電圧が判別レベル以下になる（第２図）と信号
“１”を出力しフリツプフロツプ１０を反転しス
イツチT3をオンして論理和ダイオードS2を通し
てスイツチＡに制御パルスを加えスイツチＢのオ
ン導通放電中にオンせしめる。したがつて加工間
隙で短絡等により高周波（HF）が減少すれば判
別回路９の判別によりスイツチＡをオン導通させ
加工間隙を橋絡して放電遮断を行なわせ第２図の
ように放電休止時間を長くする。
これにより異常放電による加工面の悪化を防ぎ
正常復帰をはかる。マルチバイブレータ７の発振
制御によつてスイツチＢに次の制御信号を供給し
てオン導通させるときは同時に信号がフリツプフ
ロツプ１０に加わりリセツトしてスイツチT3オ
フさせる。したがつてスイツチＡはオフした状態
でスイツチＢオンにより加工間隙に電源３から直
流電圧が加えられ、放電が発生し高周波の繰返し
によりスイツチＢがオン導通する間加工が続けら
れる。
正常復帰をはかる。マルチバイブレータ７の発振
制御によつてスイツチＢに次の制御信号を供給し
てオン導通させるときは同時に信号がフリツプフ
ロツプ１０に加わりリセツトしてスイツチT3オ
フさせる。したがつてスイツチＡはオフした状態
でスイツチＢオンにより加工間隙に電源３から直
流電圧が加えられ、放電が発生し高周波の繰返し
によりスイツチＢがオン導通する間加工が続けら
れる。
このようにして、マルチバイブレータ７の時間
制御によりスイツチＢのオフ、スイツチＡのオン
により中断を行ない、所定時間後にスイツチＡの
オフ、スイツチＢのオンにより加工を行なう如
く、これを繰返して放電加工を行なう。
制御によりスイツチＢのオフ、スイツチＡのオン
により中断を行ない、所定時間後にスイツチＡの
オフ、スイツチＢのオンにより加工を行なう如
く、これを繰返して放電加工を行なう。
以上のように本発明は加工間隙に連続する直流
電圧を加え、微小の高周波の放電を繰返す加工方
式であるから加工面粗さ1μRmax以下の極めて高
精度な精密な放電加工を行なうことができる。
又、高周波微細放電による加工を継続していると
加工間隙に生成する加工屑等が増大して放電状態
が不安定になるが、直流電源の接続回路にスイツ
チＢを直列に接続し、このスイツチＢを加工間隙
に於ける放電繰返し周波数よりも充分に低い周波
数でオン・オフ制御することにより、スイツチＢ
のオフによる放電休止時間中に加工屑等を排除し
て加工間隙の洗浄浄化が行なわれるため、高周波
微細放電による精密放電加工を安定した状態で行
なうことができる。又、加工間隙にスイツチＡを
並列に接続し、このスイツチＡをスイツチＢの動
作とは逆にスイツチＢがオフのときにオンとなる
ようにオン・オフ制御することにより、スイツチ
Ｂのオフと同時に加工間隙が橋絡されて加工間隙
の電荷が瞬時に放出され加工間隙の浄化による絶
縁度の回復が迅速に行なわれるため、スイツチＢ
のオフによる放電休止時間を短くしても安定した
加工を続けることができ、高周波微細放電による
精密放電加工を高速度に能率良く安定した状態で
行なうことができる。
電圧を加え、微小の高周波の放電を繰返す加工方
式であるから加工面粗さ1μRmax以下の極めて高
精度な精密な放電加工を行なうことができる。
又、高周波微細放電による加工を継続していると
加工間隙に生成する加工屑等が増大して放電状態
が不安定になるが、直流電源の接続回路にスイツ
チＢを直列に接続し、このスイツチＢを加工間隙
に於ける放電繰返し周波数よりも充分に低い周波
数でオン・オフ制御することにより、スイツチＢ
のオフによる放電休止時間中に加工屑等を排除し
て加工間隙の洗浄浄化が行なわれるため、高周波
微細放電による精密放電加工を安定した状態で行
なうことができる。又、加工間隙にスイツチＡを
並列に接続し、このスイツチＡをスイツチＢの動
作とは逆にスイツチＢがオフのときにオンとなる
ようにオン・オフ制御することにより、スイツチ
Ｂのオフと同時に加工間隙が橋絡されて加工間隙
の電荷が瞬時に放出され加工間隙の浄化による絶
縁度の回復が迅速に行なわれるため、スイツチＢ
のオフによる放電休止時間を短くしても安定した
加工を続けることができ、高周波微細放電による
精密放電加工を高速度に能率良く安定した状態で
行なうことができる。
又更に、加工間隙に発生する高周波を検出し判
別することにより放電状態を監視し、放電状態が
悪化したときはスイツチＢがオン中であつてもス
イツチＡをオン導通させて放電遮断を行なわせる
ことにより、異常放電による加工面の悪化を確実
に防止して精度に良い精密放電加工を安定して行
なうことができる。
別することにより放電状態を監視し、放電状態が
悪化したときはスイツチＢがオン中であつてもス
イツチＡをオン導通させて放電遮断を行なわせる
ことにより、異常放電による加工面の悪化を確実
に防止して精度に良い精密放電加工を安定して行
なうことができる。
なおスイツチＡ、Ｂをオン・オフ制御する中断
制御回路、高周波の検出判別によりスイツチＡを
オン導通させる遮断制御回路等は図示する実施例
のものに限らず同効の機能を奏する他の素子、回
路装置を利用することができる。
制御回路、高周波の検出判別によりスイツチＡを
オン導通させる遮断制御回路等は図示する実施例
のものに限らず同効の機能を奏する他の素子、回
路装置を利用することができる。
第１図は本発明の一実施例回路構成図、第２図
は各部作動のタイムチヤートを示す。 １は電極、２は被加工体、３は直流電源、５は
スイツチＡ、６はスイツチＢ、７は中断制御回
路、８は高周波検出回路、９は判別回路、１１は
遮断制御回路。
は各部作動のタイムチヤートを示す。 １は電極、２は被加工体、３は直流電源、５は
スイツチＡ、６はスイツチＢ、７は中断制御回
路、８は高周波検出回路、９は判別回路、１１は
遮断制御回路。
Claims (1)
- １ 電極と被加工体を対向した加工間隙に加工電
力を供給する直流電源を接続し放電回路の浮遊静
電容量による高周波微細放電を利用して加工する
放電加工方法に於て、前記直流電源の接続回路に
直列にスイツチＢを接続すると共に前記加工間隙
に並列にスイツチＡを接続し、前記加工間隙に於
ける放電繰返し周波数より充分に低い周波数で前
記スイツチＢとスイツチＡを一方がオンのとき他
方がオフとなるように交互にオン・オフ制御しな
がら加工を行なうと共に、前記加工間隙に発生す
る高周波を検出し判別して検出信号レベルが所定
レベル以下に低下したときに前記スイツチＡをオ
ン導通せしめることを特徴とする放電加工方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56040768A JPS57156128A (en) | 1981-03-20 | 1981-03-20 | Electric discharge machining device |
| US06/358,875 US4450337A (en) | 1981-03-20 | 1982-03-16 | EDM Method and apparatus with a continuous DC supply using stray gap capacitance to trigger discharge |
| GB8208125A GB2095153B (en) | 1981-03-20 | 1982-03-19 | Electrical discharge machining method and apparatus |
| DE19823209998 DE3209998A1 (de) | 1981-03-20 | 1982-03-19 | Verfahren und vorrichtung zum bearbeiten eines werkstueckes |
| IT48039/82A IT1148525B (it) | 1981-03-20 | 1982-03-19 | Metodo e dispositivo di lavorazione a scarica elettrica con alimentazione di corrente continua |
| FR8204779A FR2502040B1 (fr) | 1981-03-20 | 1982-03-19 | Procede et dispositif d'usinage par decharges electriques avec une alimentation en courant continu |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56040768A JPS57156128A (en) | 1981-03-20 | 1981-03-20 | Electric discharge machining device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57156128A JPS57156128A (en) | 1982-09-27 |
| JPH0160376B2 true JPH0160376B2 (ja) | 1989-12-22 |
Family
ID=12589800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56040768A Granted JPS57156128A (en) | 1981-03-20 | 1981-03-20 | Electric discharge machining device |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4450337A (ja) |
| JP (1) | JPS57156128A (ja) |
| DE (1) | DE3209998A1 (ja) |
| FR (1) | FR2502040B1 (ja) |
| GB (1) | GB2095153B (ja) |
| IT (1) | IT1148525B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0447292U (ja) * | 1990-08-28 | 1992-04-22 |
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| JP2817396B2 (ja) * | 1990-11-29 | 1998-10-30 | 三菱電機株式会社 | 放電加工装置 |
| US5618449A (en) * | 1995-03-29 | 1997-04-08 | A. Clifford Losee | Compact portable hand-held EDM tool |
| GB2305626A (en) * | 1995-09-18 | 1997-04-16 | Univ Loughborough | Electrical discharge machining |
| CN1109591C (zh) * | 1998-01-12 | 2003-05-28 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 电化学机械加工工件的方法和设备 |
| DE112012007077B4 (de) * | 2012-10-31 | 2021-12-09 | Mitsubishi Electric Corporation | Elektrische Entladungs-Bearbeitungsvorrichtung |
| WO2017072976A1 (ja) * | 2015-10-30 | 2017-05-04 | 三菱電機株式会社 | ワイヤ放電加工機、ワイヤ放電加工機の制御装置の制御方法及び位置決め方法 |
| US10933480B2 (en) * | 2017-02-10 | 2021-03-02 | General Electric Company | System and methods of multiple electrode electric discharge machining |
| US11483002B2 (en) | 2017-02-23 | 2022-10-25 | General Electric Company | System and methods for electric discharge machining |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS6026646B2 (ja) * | 1974-07-25 | 1985-06-25 | 株式会社ソディック | 放電加工方法及び装置 |
| CH621964A5 (ja) * | 1977-06-03 | 1981-03-13 | Elmapa Nv | |
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