JPH0160477B2 - - Google Patents
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- JPH0160477B2 JPH0160477B2 JP55022951A JP2295180A JPH0160477B2 JP H0160477 B2 JPH0160477 B2 JP H0160477B2 JP 55022951 A JP55022951 A JP 55022951A JP 2295180 A JP2295180 A JP 2295180A JP H0160477 B2 JPH0160477 B2 JP H0160477B2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/04—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Veterinary Medicine (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
本発明は新規な２―メチルセフアロスポリン誘
導体およびその製造法に関する。 詳しくは、本発明は (1) 一般式 〔式中、R1は水素、式 R4―CH2―CO― （式中、R4はフエニル基またはチエニル基
を意味する）で表わされる基、式 （式中、R6はフエニル基またはチエニル基
を、R7は水素、アミノ基の保護基またはＮ―
（炭素数１から３の低級アルキル基）―２，３
―ジオキソピペラジノカルボニル基を意味す
る）で表わされる基または式 （式中、R9は低級アルキル基を意味する）
で表わされる基、―COOR2はエステル化され
ていてもよいカルボキシル基、Ｚは低級アルキ
ル基もしくはカルボキシ低級アルキル基で置換
されたチアゾリルまたはテトラゾイル基、ｎは
０または１を意味する。〕で表わされるセフ―
２―または３―エム誘導体またはその塩。 (2) 一般式 〔式中、R1，COOR2は上記と同意義、Ｙは
―CH2OCOCH3，―CH2OCHO，―CH2OH，
―CHOを意味する。〕で表わされるセフ―２―
エム誘導体またはその塩。 (3) 一般式 〔式中、R1，COOR2は上記と同意義を意味
する。〕で表わされる２，３―ジエキソメチレ
ンセフアム誘導体またはその塩。 (4) 一般式 〔式中、R1，―COOR2，ｎは上記と同意義〕
で表わされるセフ―３―エム誘導体またはその
塩に亜鉛―ぎ酸を作用させることを特徴とする
一般式 〔式中、R1，―COOR2は上記と同意義〕で
表わされるセフ―２―エム誘導体またはその塩
の製造法。 (5) 一般式（ｂ）〔式中、R1，―COOR2は上記
と同意義〕で表わされるセフ―２―エム誘導体
またはその塩を酸性条件下加水分解することを
特徴とする一般式 〔式中、R1，―COOR2は上記と同意義〕で
表わされるセフ―２―エム誘導体またはその塩
の製造法。 (6) 一般式 〔式中、R1′は式 （式中、R4はフエニル基またはチエニル基
を意味する）で表わされる基、式 （式中、R6はフエニル基またはチエニル基
を、R7は水素、アミノ基の保護基またはＮ―
（炭素数１から３の低級アルキル基）―２，３
―ジオキソピペラジノカルボニル基を意味す
る）で表わされる基または式 （式中、R9は低級アルキル基を意味する）
で表わされる基、―COOR2は上記と同意義を
意味する。〕で表わされるセフ―２―エム誘導
体またはその塩に、ハロゲン化剤、ついで一般
式 Ｚ―SH［式中、Ｚは上記と同意義］で表わ
される複素環チオール化合物またはその塩を反
応させることを特徴とする一般式 〔式中、R1′，―COOR2，Ｚは上記と同意義
を意味する。〕で表わされるセフ―２―エム誘
導体またはその塩の製造法。 (7) 一般式（b′）〔式中、R1′，―COOR2，Ｚ
は上記と同意義〕で表わされるセフ―２―エム
誘導体またはその塩を酸化することを特徴とす
る一般式 〔式中、R1′，―COOR2，Ｚは上記と同意
義、ｎは０または１を意味する。〕で表わされ
るセフ―３―エム誘導体またはその塩の製造
法。 (8) 一般式（d′）〔式中、R1′，―COOR2は上
記と同意義〕で表わされるセフ―２―エム誘導
体またはその塩を酸化することを特徴とする一
般式 〔式中、R1′，―COOR2は上記と同意義〕で
表わされるセフ―２―エム誘導体またはその塩
の製造法。 (9) 一般式（e′）〔式中、R1′，―COOR2は上
記と同意義〕で表わされるセフ―２―エム誘導
体またはその塩を酸化することを特徴とする一
般式 〔式中、R1′、および―COOR2は上記と同意
義〕で表わされる2α―メチル―３―ホルミル
セフ―３―エム―１―オキシド誘導体およびそ
の塩の製造法。 (10) 一般式（）〔式中、R1は水素または有機カ
ルボン酸から誘導されるアシル基、―COOR2
は上記と同意義〕で表わされるセフ―３―エム
誘導体またはその塩に、水素化ほう素アルカリ
金属を反応させることを特徴とする一般式 〔式中、R1，―COOR2は上記と同意義〕で
表わされるセフ―２―エム誘導体またはその塩
の製造法。 (11) 一般式 〔式中、R1′は有機カルボン酸から誘導され
るアシル基、―COOR2は上記と同意義〕で表
わされるセフ―２―エム誘導体またはその塩を
酸化することを特徴とする一般式 〔式中、R1′，―COOR2は上記と同意義、ｎ
は０または１を意味する〕で表わされる2β―
メチル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム
誘導体またはその塩の製造法。 (12) 一般式 〔式中、R1，―COOR2は上記と同意義、R3
はハロゲン、カルバモイルオキシ、反応性アシ
ルオキシ基、ｎは０または１を意味する。〕で
表わされるセフ―３―エム誘導体またはその塩
を、一般式 Ｚ―SH［式中、Ｚは上記と同意
義］で表わされる複素環チオール化合物または
その塩と反応させることを特徴とする一般式 〔式中、R1，―COOR2，ｎは０または１を
意味する。〕で表わされるセフ―３―エム誘導
体またはその塩の製造法に関する。 ２―メチルセフ―３―エム誘導体については、
特開昭53―137988に３位にハロゲン、低級アルキ
ル基、アルコキシ基、アシルオキシ基を有する化
合物が、また、ジヤーナル・オブ・メデイシナ
ル・ケミストリー（Journal of Medicinal
Chemistry）14巻、420頁（1971年）、特開昭46―
2284には2α及び2β―３―ジメチルセフ―３―エ
ム誘導体が報告されている。 また、英国化学会刊行の“β―ラクタム抗生物
質の化学に於ける最近の進歩”（Recent
Advances in the Chemistry of β―Lactam
Antibiotics）214頁（1976年）、ジヤーナル・オ
ブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアテイ
（Journal of the American Chemical Society）
98巻、2342頁（1976年）等に３位に置換基をもた
ない２―メチルセフ―３―エム誘導体が報告され
ている。 しかし、一般式（）で表わされる２―メチル
―３―複素環チオメチルセフ―２―エム誘導体ま
たは2αおよび2β―メチル―３―複素環チオメチ
ルセフ―３―エム誘導体、および一般式（）で
表わされる２―メチル―３―アシルオキシメチ
ル、またはヒドロキシメチル、またはホルミルセ
フ―２―エム誘導体、および一般式（）で表わ
される２，３―ジエキソメチレンセフアム誘導体
は記載されていない新規な化合物である。 本発明者らは一般式（）で表わされる２―エ
キソメチレンセフ―３―エム誘導体から一般式
（）で表わされる新しいセフ―２―エム誘導体
および一般式（）で表わされる新しいセフアム
誘導体を合成しうること、さらに一般式（）で
表わされるセフ―２―エム誘導体は、ついで一般
式（）で表わされる２―メチルセフ―２―エム
誘導体、2α―メチルおよび2β―メチルセフ―３
―エム誘導体に任意に導きうること、およびこれ
らのセフアロスポリン誘導体はグラム陽性菌およ
び陰性菌に優れた抗菌力を示し、人や動物の感染
症の予防剤または治療剤として有用であることを
見い出しさらに検討の結果、前述のごとき本発明
を完成した。 上記各式においてたR1′は水素でないことを除
けばR1と同意義である。 上記の式中において、低級アルキル基の具体例
としては、メチル、トリフルオロメチル、エチ
ル、ｎ―プロピル、イソプロピル、ｎ―ブチル、
イソブチル、sec―ブチル、tert―ブチル、ペン
チル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシルな
どが挙げられる。 炭素数１〜３の低級アルキル基の具体例として
は、たとえば、メチル、トリフルオロメチル、エ
チル、ｎ―プロピル、イソプロピルなどが挙げら
れる。―COOR2はエステル化されていてもよい
カルボキシル基を示し、エステル化されていても
よいカルボキシル基としてはカルボキシル基又は
エステル化されたカルボキシル基を意味する。又
この場合カルボキシル基は塩を形成していてもよ
い。 エステル化されたカルボキシル基のエステル残
基としては、例えばtert―ブチル、２，２，２―
トリクロロエチル、ベンジル、ｐ―メトキシベン
ジル、ｐ―ニトロベンジル、トリチル、ベンズヒ
ドリル、ビス（ｐ―メトキシフエニル）メチル、
フエナシル、２―メチルチオエチル、トリメチル
シリル、ジメチルシリル等や、さらに例えばメト
キシメチル、エトキシメチル、イソプロポキシメ
チラ等のアルコキシメチル基、例えば１―メトキ
シエチル、１―エトキシエチル等の１―アルコキ
シエチル基、例えばメチルチオメチル、エチルチ
オメチル、iso―プロピルチオメチル等のアルキ
ルチオメチル基、例えばアセトキシメチル、ピバ
ロイルオキシメチル等のアシルオキシメチル基、
例えば１―ｎ―プロピオニルオキシエチル等の１
―アシルオキシエチル基、例えば１―エトキシカ
ルボニルオキシエチル等の１―アルコキシカルボ
ニルオキシエチル基、フタリジル基等で例示され
る例えば血中濃度を増加させ、有効時間を延長さ
せる効果のあるピバロイルオキシ等の生物学的に
活性なエステル誘導体を形成するエステル残基も
含まれる。更に、マコミー（McOmie）編の上記
の刊行物の第５章にイー・ハスラム（E.
Haslam）によつて記載されている上記以外の脱
離容易なカルボキシル基の保護基もエステル残基
として使用し得る。 一般式（）〜（）で示される本発明化合物
は塩の形態でもよい。塩は一般にセフアロスポリ
ンあるいはペニシリンの分野で薬理学的に許容し
うる塩として公知の種類のものがいずれも便宜に
採用される。すなわち、分子中にカルボキシル
基、スルホ基等の酸性基が存在する場合、たとえ
ば４位の―COOR2がカルボキシル基である場合
には、たとえばナトリウム、カリウム、リチウム
等のアルカリ金属、たとえばカルシウム、マグネ
シウム等のアルカリ土類金属等の無機塩基、たと
えばアルギニン、オルニチン、リジン、ヒスチジ
ン等の塩基性アミノ酸、たとえばジメチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、トリメチルアミ
ン、ジエタノールアミン、ジ―ｎ―ブチルアミン
等の有機塩基と塩を形成してもよい。 R3はハロゲン、カルバモイルオキシ、反応性
アシルオキシ基を表わす。ハロゲンとして、フツ
素、塩素、臭素、ヨウ素など又、反応性アシルオ
キシ基としてはたとえばアセチルオキシ、プロピ
オニルオキシなどの炭素数２〜４のアルキルカル
ボニルオキシ基たとえばマンデルオキシ、α―ス
ルホフエニルアセチルオキシ、グリシルオキシ、
フエニルアセチルオキシなどのα位が水酸基、ス
ルホ基、アミノ基などで置換されていてもよいフ
エニルアセチルオキシ基、たとえばスクシノイル
オキシなどのカルボキシ基で置換された炭素数２
〜４のアルキルカルボニルオキシ基、たとえば２
―カルボキシベンゾイルオキシ、２―（カルボエ
トキシカルバモイル）ベンゾイルオキシ、２―
（２―カルボエトキシスルフアモイル）ベンゾイ
ルオキシ、２―カルボキシ―３（または４または
６）―ニトロベンゾイルオキシまたは２，４―ジ
カルボキシベンゾイルオキシなどの一般式 （式中、R5，R8は水素原子、カルボキシ基、
カルボエトキシカルバモイル基、カルボエトキシ
スルフアモイル基またはニトロ基を示す。〕で表
わされる基を意味し、好ましくは炭素数２〜４の
アルキルカルボニルオキシ基、たとえばアセトオ
キシ基、プロピオニルオキシ基などがあり、なか
んずくアセトキシ基が好ましい。 一般式（），（ａ），（ｂ），（ｃ）等にお
けるＺは低級アルキル基もしくはカルボキシ低級
アルキル基で置換されたチアジアゾリルまたはテ
トラゾイル基を意味する。 ここに、チアジアゾリル基としては、たとえば
１，３，４―チアジアゾリル
導体およびその製造法に関する。 詳しくは、本発明は (1) 一般式 〔式中、R1は水素、式 R4―CH2―CO― （式中、R4はフエニル基またはチエニル基
を意味する）で表わされる基、式 （式中、R6はフエニル基またはチエニル基
を、R7は水素、アミノ基の保護基またはＮ―
（炭素数１から３の低級アルキル基）―２，３
―ジオキソピペラジノカルボニル基を意味す
る）で表わされる基または式 （式中、R9は低級アルキル基を意味する）
で表わされる基、―COOR2はエステル化され
ていてもよいカルボキシル基、Ｚは低級アルキ
ル基もしくはカルボキシ低級アルキル基で置換
されたチアゾリルまたはテトラゾイル基、ｎは
０または１を意味する。〕で表わされるセフ―
２―または３―エム誘導体またはその塩。 (2) 一般式 〔式中、R1，COOR2は上記と同意義、Ｙは
―CH2OCOCH3，―CH2OCHO，―CH2OH，
―CHOを意味する。〕で表わされるセフ―２―
エム誘導体またはその塩。 (3) 一般式 〔式中、R1，COOR2は上記と同意義を意味
する。〕で表わされる２，３―ジエキソメチレ
ンセフアム誘導体またはその塩。 (4) 一般式 〔式中、R1，―COOR2，ｎは上記と同意義〕
で表わされるセフ―３―エム誘導体またはその
塩に亜鉛―ぎ酸を作用させることを特徴とする
一般式 〔式中、R1，―COOR2は上記と同意義〕で
表わされるセフ―２―エム誘導体またはその塩
の製造法。 (5) 一般式（ｂ）〔式中、R1，―COOR2は上記
と同意義〕で表わされるセフ―２―エム誘導体
またはその塩を酸性条件下加水分解することを
特徴とする一般式 〔式中、R1，―COOR2は上記と同意義〕で
表わされるセフ―２―エム誘導体またはその塩
の製造法。 (6) 一般式 〔式中、R1′は式 （式中、R4はフエニル基またはチエニル基
を意味する）で表わされる基、式 （式中、R6はフエニル基またはチエニル基
を、R7は水素、アミノ基の保護基またはＮ―
（炭素数１から３の低級アルキル基）―２，３
―ジオキソピペラジノカルボニル基を意味す
る）で表わされる基または式 （式中、R9は低級アルキル基を意味する）
で表わされる基、―COOR2は上記と同意義を
意味する。〕で表わされるセフ―２―エム誘導
体またはその塩に、ハロゲン化剤、ついで一般
式 Ｚ―SH［式中、Ｚは上記と同意義］で表わ
される複素環チオール化合物またはその塩を反
応させることを特徴とする一般式 〔式中、R1′，―COOR2，Ｚは上記と同意義
を意味する。〕で表わされるセフ―２―エム誘
導体またはその塩の製造法。 (7) 一般式（b′）〔式中、R1′，―COOR2，Ｚ
は上記と同意義〕で表わされるセフ―２―エム
誘導体またはその塩を酸化することを特徴とす
る一般式 〔式中、R1′，―COOR2，Ｚは上記と同意
義、ｎは０または１を意味する。〕で表わされ
るセフ―３―エム誘導体またはその塩の製造
法。 (8) 一般式（d′）〔式中、R1′，―COOR2は上
記と同意義〕で表わされるセフ―２―エム誘導
体またはその塩を酸化することを特徴とする一
般式 〔式中、R1′，―COOR2は上記と同意義〕で
表わされるセフ―２―エム誘導体またはその塩
の製造法。 (9) 一般式（e′）〔式中、R1′，―COOR2は上
記と同意義〕で表わされるセフ―２―エム誘導
体またはその塩を酸化することを特徴とする一
般式 〔式中、R1′、および―COOR2は上記と同意
義〕で表わされる2α―メチル―３―ホルミル
セフ―３―エム―１―オキシド誘導体およびそ
の塩の製造法。 (10) 一般式（）〔式中、R1は水素または有機カ
ルボン酸から誘導されるアシル基、―COOR2
は上記と同意義〕で表わされるセフ―３―エム
誘導体またはその塩に、水素化ほう素アルカリ
金属を反応させることを特徴とする一般式 〔式中、R1，―COOR2は上記と同意義〕で
表わされるセフ―２―エム誘導体またはその塩
の製造法。 (11) 一般式 〔式中、R1′は有機カルボン酸から誘導され
るアシル基、―COOR2は上記と同意義〕で表
わされるセフ―２―エム誘導体またはその塩を
酸化することを特徴とする一般式 〔式中、R1′，―COOR2は上記と同意義、ｎ
は０または１を意味する〕で表わされる2β―
メチル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム
誘導体またはその塩の製造法。 (12) 一般式 〔式中、R1，―COOR2は上記と同意義、R3
はハロゲン、カルバモイルオキシ、反応性アシ
ルオキシ基、ｎは０または１を意味する。〕で
表わされるセフ―３―エム誘導体またはその塩
を、一般式 Ｚ―SH［式中、Ｚは上記と同意
義］で表わされる複素環チオール化合物または
その塩と反応させることを特徴とする一般式 〔式中、R1，―COOR2，ｎは０または１を
意味する。〕で表わされるセフ―３―エム誘導
体またはその塩の製造法に関する。 ２―メチルセフ―３―エム誘導体については、
特開昭53―137988に３位にハロゲン、低級アルキ
ル基、アルコキシ基、アシルオキシ基を有する化
合物が、また、ジヤーナル・オブ・メデイシナ
ル・ケミストリー（Journal of Medicinal
Chemistry）14巻、420頁（1971年）、特開昭46―
2284には2α及び2β―３―ジメチルセフ―３―エ
ム誘導体が報告されている。 また、英国化学会刊行の“β―ラクタム抗生物
質の化学に於ける最近の進歩”（Recent
Advances in the Chemistry of β―Lactam
Antibiotics）214頁（1976年）、ジヤーナル・オ
ブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアテイ
（Journal of the American Chemical Society）
98巻、2342頁（1976年）等に３位に置換基をもた
ない２―メチルセフ―３―エム誘導体が報告され
ている。 しかし、一般式（）で表わされる２―メチル
―３―複素環チオメチルセフ―２―エム誘導体ま
たは2αおよび2β―メチル―３―複素環チオメチ
ルセフ―３―エム誘導体、および一般式（）で
表わされる２―メチル―３―アシルオキシメチ
ル、またはヒドロキシメチル、またはホルミルセ
フ―２―エム誘導体、および一般式（）で表わ
される２，３―ジエキソメチレンセフアム誘導体
は記載されていない新規な化合物である。 本発明者らは一般式（）で表わされる２―エ
キソメチレンセフ―３―エム誘導体から一般式
（）で表わされる新しいセフ―２―エム誘導体
および一般式（）で表わされる新しいセフアム
誘導体を合成しうること、さらに一般式（）で
表わされるセフ―２―エム誘導体は、ついで一般
式（）で表わされる２―メチルセフ―２―エム
誘導体、2α―メチルおよび2β―メチルセフ―３
―エム誘導体に任意に導きうること、およびこれ
らのセフアロスポリン誘導体はグラム陽性菌およ
び陰性菌に優れた抗菌力を示し、人や動物の感染
症の予防剤または治療剤として有用であることを
見い出しさらに検討の結果、前述のごとき本発明
を完成した。 上記各式においてたR1′は水素でないことを除
けばR1と同意義である。 上記の式中において、低級アルキル基の具体例
としては、メチル、トリフルオロメチル、エチ
ル、ｎ―プロピル、イソプロピル、ｎ―ブチル、
イソブチル、sec―ブチル、tert―ブチル、ペン
チル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシルな
どが挙げられる。 炭素数１〜３の低級アルキル基の具体例として
は、たとえば、メチル、トリフルオロメチル、エ
チル、ｎ―プロピル、イソプロピルなどが挙げら
れる。―COOR2はエステル化されていてもよい
カルボキシル基を示し、エステル化されていても
よいカルボキシル基としてはカルボキシル基又は
エステル化されたカルボキシル基を意味する。又
この場合カルボキシル基は塩を形成していてもよ
い。 エステル化されたカルボキシル基のエステル残
基としては、例えばtert―ブチル、２，２，２―
トリクロロエチル、ベンジル、ｐ―メトキシベン
ジル、ｐ―ニトロベンジル、トリチル、ベンズヒ
ドリル、ビス（ｐ―メトキシフエニル）メチル、
フエナシル、２―メチルチオエチル、トリメチル
シリル、ジメチルシリル等や、さらに例えばメト
キシメチル、エトキシメチル、イソプロポキシメ
チラ等のアルコキシメチル基、例えば１―メトキ
シエチル、１―エトキシエチル等の１―アルコキ
シエチル基、例えばメチルチオメチル、エチルチ
オメチル、iso―プロピルチオメチル等のアルキ
ルチオメチル基、例えばアセトキシメチル、ピバ
ロイルオキシメチル等のアシルオキシメチル基、
例えば１―ｎ―プロピオニルオキシエチル等の１
―アシルオキシエチル基、例えば１―エトキシカ
ルボニルオキシエチル等の１―アルコキシカルボ
ニルオキシエチル基、フタリジル基等で例示され
る例えば血中濃度を増加させ、有効時間を延長さ
せる効果のあるピバロイルオキシ等の生物学的に
活性なエステル誘導体を形成するエステル残基も
含まれる。更に、マコミー（McOmie）編の上記
の刊行物の第５章にイー・ハスラム（E.
Haslam）によつて記載されている上記以外の脱
離容易なカルボキシル基の保護基もエステル残基
として使用し得る。 一般式（）〜（）で示される本発明化合物
は塩の形態でもよい。塩は一般にセフアロスポリ
ンあるいはペニシリンの分野で薬理学的に許容し
うる塩として公知の種類のものがいずれも便宜に
採用される。すなわち、分子中にカルボキシル
基、スルホ基等の酸性基が存在する場合、たとえ
ば４位の―COOR2がカルボキシル基である場合
には、たとえばナトリウム、カリウム、リチウム
等のアルカリ金属、たとえばカルシウム、マグネ
シウム等のアルカリ土類金属等の無機塩基、たと
えばアルギニン、オルニチン、リジン、ヒスチジ
ン等の塩基性アミノ酸、たとえばジメチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、トリメチルアミ
ン、ジエタノールアミン、ジ―ｎ―ブチルアミン
等の有機塩基と塩を形成してもよい。 R3はハロゲン、カルバモイルオキシ、反応性
アシルオキシ基を表わす。ハロゲンとして、フツ
素、塩素、臭素、ヨウ素など又、反応性アシルオ
キシ基としてはたとえばアセチルオキシ、プロピ
オニルオキシなどの炭素数２〜４のアルキルカル
ボニルオキシ基たとえばマンデルオキシ、α―ス
ルホフエニルアセチルオキシ、グリシルオキシ、
フエニルアセチルオキシなどのα位が水酸基、ス
ルホ基、アミノ基などで置換されていてもよいフ
エニルアセチルオキシ基、たとえばスクシノイル
オキシなどのカルボキシ基で置換された炭素数２
〜４のアルキルカルボニルオキシ基、たとえば２
―カルボキシベンゾイルオキシ、２―（カルボエ
トキシカルバモイル）ベンゾイルオキシ、２―
（２―カルボエトキシスルフアモイル）ベンゾイ
ルオキシ、２―カルボキシ―３（または４または
６）―ニトロベンゾイルオキシまたは２，４―ジ
カルボキシベンゾイルオキシなどの一般式 （式中、R5，R8は水素原子、カルボキシ基、
カルボエトキシカルバモイル基、カルボエトキシ
スルフアモイル基またはニトロ基を示す。〕で表
わされる基を意味し、好ましくは炭素数２〜４の
アルキルカルボニルオキシ基、たとえばアセトオ
キシ基、プロピオニルオキシ基などがあり、なか
んずくアセトキシ基が好ましい。 一般式（），（ａ），（ｂ），（ｃ）等にお
けるＺは低級アルキル基もしくはカルボキシ低級
アルキル基で置換されたチアジアゾリルまたはテ
トラゾイル基を意味する。 ここに、チアジアゾリル基としては、たとえば
１，３，４―チアジアゾリル
【式】
１，２，４―チアジアゾリル
【式】
等、テトラゾイル基としては１Ｈ―テトラゾール
―５―イル
―５―イル
【式】２Ｈ―テトラゾール
―５―イル
【式】等が挙げられる。
また、R1がアミノ基を含む基である場合は、
例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸、硝酸等の無機
酸、例えばマレイン酸、修酸、フマール酸、ｐ―
トルエンスルホン酸等の有機酸と塩を形成しても
よい。 更に、本発明化合物が不斉炭素原子を有する場
合（特にR1で示されるアシル化されたアミノ基
のアシル部分が不斉炭素原子を有する場合）、そ
の不斉炭素についてＤならびにＬ光学異性体が存
在する。例えばR1で示される基が式 で示される基である場合のように、本発明化合物
が不斉炭素を有する場合、本発明化合物はＤ異性
体、Ｌ異性体（Ｒ異性体、Ｓ異性体）ならびにこ
れら任意の混合物を包含する。更に、本発明化合
物には、幾何異性体（シン異性体、アンチ異性
体）が存在する場合がある。たとえばR1で示さ
れる基が式 で示される基である場合、本発明化合物は各々の
幾何異性体（シン異性体ならびにアンチ異性体）
のみならず、それらの任意の割合いの混合物を包
含する。又上記式は で示される互変異性を取りうることが知られてい
るが、いずれの互変異性体ならびにそれらの任意
の割合いの混合物が本発明の範囲に属する。 ２―メチルセフ―３―エム誘導体には2α―メ
チル異性体と2β―メチル異性体の２つの異性体
が存在するが、本特許の目的化合物の１つである
一般式（）で表わされる化合物の範囲に含まれ
る２―メチル―３―複素環チオメチルセフ―３―
エム誘導体にも2α―異性体と2β―異性体の２つ
の異性体が存在する。このため、前記一般式にお
いて2α―メチル異性体は……CH3で2β―メチル
異性体は〓CH3で示し、両異性体を含めるかいず
れでもよい場合には〜〜〜CH3を用いてある。ま
たセフアロスポリン骨格で六員環中の点線で示し
た部分は二重結合が２或いは３位のどちらかに存
在していることを示している。 なお2α―メチル異性体であるか2β―メチル異
性体であるかの判定はNMR（核磁気共鳴スペク
トル）においてセフエム環の２位のメチル基のプ
ロトンと６位のプロトンとの間で核オーバーハウ
ザー効果（NOE）が観察される方の異性体を2α
―メチル異性体として記載する。 本発明の目的化合物（），（），（）はたと
えば一般式（）で表わされる２―メチレンセフ
―３―エム誘導体から合成することができる。式
〜で示される化合物において、R1部分が上
記したアシル基である化合物よりR1部分が水素
である化合物へ変換する反応、およびR1部分が
水素である化合物よりR1部分が上記したアシル
基である化合物へ変換する反応は、２位に置換基
を有しないセフアロスポリン誘導体の場合につい
て公知の技術に従つて行うことができる。
例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸、硝酸等の無機
酸、例えばマレイン酸、修酸、フマール酸、ｐ―
トルエンスルホン酸等の有機酸と塩を形成しても
よい。 更に、本発明化合物が不斉炭素原子を有する場
合（特にR1で示されるアシル化されたアミノ基
のアシル部分が不斉炭素原子を有する場合）、そ
の不斉炭素についてＤならびにＬ光学異性体が存
在する。例えばR1で示される基が式 で示される基である場合のように、本発明化合物
が不斉炭素を有する場合、本発明化合物はＤ異性
体、Ｌ異性体（Ｒ異性体、Ｓ異性体）ならびにこ
れら任意の混合物を包含する。更に、本発明化合
物には、幾何異性体（シン異性体、アンチ異性
体）が存在する場合がある。たとえばR1で示さ
れる基が式 で示される基である場合、本発明化合物は各々の
幾何異性体（シン異性体ならびにアンチ異性体）
のみならず、それらの任意の割合いの混合物を包
含する。又上記式は で示される互変異性を取りうることが知られてい
るが、いずれの互変異性体ならびにそれらの任意
の割合いの混合物が本発明の範囲に属する。 ２―メチルセフ―３―エム誘導体には2α―メ
チル異性体と2β―メチル異性体の２つの異性体
が存在するが、本特許の目的化合物の１つである
一般式（）で表わされる化合物の範囲に含まれ
る２―メチル―３―複素環チオメチルセフ―３―
エム誘導体にも2α―異性体と2β―異性体の２つ
の異性体が存在する。このため、前記一般式にお
いて2α―メチル異性体は……CH3で2β―メチル
異性体は〓CH3で示し、両異性体を含めるかいず
れでもよい場合には〜〜〜CH3を用いてある。ま
たセフアロスポリン骨格で六員環中の点線で示し
た部分は二重結合が２或いは３位のどちらかに存
在していることを示している。 なお2α―メチル異性体であるか2β―メチル異
性体であるかの判定はNMR（核磁気共鳴スペク
トル）においてセフエム環の２位のメチル基のプ
ロトンと６位のプロトンとの間で核オーバーハウ
ザー効果（NOE）が観察される方の異性体を2α
―メチル異性体として記載する。 本発明の目的化合物（），（），（）はたと
えば一般式（）で表わされる２―メチレンセフ
―３―エム誘導体から合成することができる。式
〜で示される化合物において、R1部分が上
記したアシル基である化合物よりR1部分が水素
である化合物へ変換する反応、およびR1部分が
水素である化合物よりR1部分が上記したアシル
基である化合物へ変換する反応は、２位に置換基
を有しないセフアロスポリン誘導体の場合につい
て公知の技術に従つて行うことができる。
【表】
ここに最先の出発原料として用いられる２―メ
チレンセフ―３―エム誘導体（）はそれ自体公
知の方法を用いてセフアロスポラン酸―１―オキ
シド誘導体の２位にメチレン基を導入することに
よつて合成することができる。すなわち、たとえ
ばセフアロスポラン酸誘導体を適当な溶媒（たと
えばジクロロメタンとtert―ブタノールの混合溶
媒）中でホルムアルデヒドと第一級または第二級
アミンとの縮合物の塩類（たとえばH2C＝Ｎ＋
（CH3）2の塩類）、あるいはアミンと酸の塩類の存
在下にホルムアルデヒドもしくはその反応性誘導
体を反応させることによつて合成することができ
る。一般式（ｂ）で表わされる２―メチル―３
―ホルミルオキシメチルセフ―２―エム誘導体は
一般式（）で表わされる化合物に亜鉛―ぎ酸を
反応させることによつて製造することができる。
この場合、少なくとも当モル以上のぎ酸を加える
のがよい。 一般式（）で表わされる原料化合物は、スル
フイド（ｎ＝０）でも、スルホキシド（ｎ＝１）
でもよいが、スルホキシドの場合はスルホキシド
の還元も同時におこる。この反応でぎ酸は試薬
（ホルメートアニオン源）ならびに溶媒として使
用されうるが、必要に応じて、溶媒としてテトラ
ヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド等の
不活性溶媒を使用してもよい。特にジメチルホル
ムアミド、ヘキサメチルホスホルアミドは反応を
促進するので溶媒として好ましい。反応は一般に
は−30℃〜室温で行なわれ、ぎ酸濃度は70％以上
が好ましい。この場合、ぎ酸濃度が低下するにし
たがつて、一般式（）で表わされる２，３―ジ
エキソメチレンセフアム誘導体が副生するように
なり、２―メチル―３―ホルミルオキシメチルセ
フ―２―エム誘導体の収量が低下する。 本工程においてぎ酸のかわりに酢酸を用いると
（）のみが反応成績体として得られる。この
（）は、例えば２―メチレン―３―メチルセフ
―３―エム誘導体や２―オキソ―３―メトキシセ
フ―３―エム誘導体の合成中間体として有用な化
合物である。 ２―メチル―３―ホルミルオキシメチルセフ―
２―エム誘導体（ｂ）から一般式（ｄ）で表
わされる２―メチル―３―ヒドロキシメチルセフ
―２―エム誘導体への加垂分解は、２位にメチル
基を有しない３―ホルミルオキシメチルセフエム
誘導体のホルミル基の加水分解について公知の方
法を用いて行なうことができる。たとえば、（
ｂ）の加水分解を酸性条件下に行なう。この際た
とえば低級アルカノールなどのプロトン性溶媒、
特に好ましくはジメチルホルムアミド、ジクロロ
メタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ア
セトン、ジオキサン等の不活性溶媒での希釈下に
行なうのがよい。酸性の条件はPH４以下、有利に
はPH１〜３が望ましく、酸としては、塩酸、硫
酸、りん酸、過塩素酸、トリフルオロ酢酸、ｐ―
トルエンスルホン酸、臭化水素酸、硝酸などの無
機、有機酸を使用して行なわれる。 また有利には０〜50℃の範囲の温度、好ましく
は15〜40℃において加水分解することによつて
（ｄ）を製造することができる。 一般式（d′）で表わされる化合物より一般式
（b′）で表わされる２―メチル―３―複素環チ
オメチルセフ―２―エム誘導体に導くには、たと
えば（d′）を三ハロゲン化りん、ハロゲン化ホ
スホリルおよびハロゲン化チオニルから選ばれた
ハロゲン化試薬と反応させ、得られる３―ハロメ
チルセフ―２―エム誘導体に一般式HS―Ｚ（）
（Ｚは上記と同意義を意味する。）で表わされる複
素環チオール化合物を反応させる方法が用いられ
る。本工程の第一段階は３―ハロメチルセフ―２
―エム中間体の製造であり、３―ヒドロキシメチ
ル誘導体（d′）を三ハロゲン化りん、ハロゲン
化ホスホリルおよびハロゲン化チオニル、好まし
くは三塩化りん、塩化ホスホリル、塩化チオニル
から選んだハロゲン化剤を反応させる。この場合
（d′）１モルに対し少なくとも１モルのハロゲ
ン化剤を用いることが必要であるが、３―ハロメ
チルセフ―２―エム中間体を高収量で得るには、
さらに過剰のハロゲン化剤が必要であり、（d′）
１モルに対して理論値の1.2〜２倍量のハロゲン
化剤を用いることが好ましい。また使用するハロ
ゲン化剤と当モルの三級アミン、たとえばピリジ
ン、トリエチルアミン等の共存下に本反応を行な
うことは収量を向上させるのに有益である。反応
はアセトニトリル、塩化メチレン、テトラヒドロ
フラン、アセトン、酢酸エチル等の不活性溶媒中
で行なわれ、これらの溶媒は単独もしくは混合溶
媒として用いられる。反応温度は比較的低温がよ
く、一般に−30〜20℃で行なわれ、−10〜０℃で
行なうのが好ましい。反応は通常、速く進み、約
30分で完了する。代表的な反応時間は５〜30分で
ある。反応終了後は通常の方法で処理し、得られ
た３―ハロメチルセフ―２―エム誘導体はつぎの
第二工程で処理されるが、この場合３―ハロメチ
ルセフ―２―エム誘導体は純粋な状態で一旦単離
することは必ずしも必要でなく、部分的に精製さ
れた化合物を通常さらに精製することなくそのま
ま次の反応に用いることができる。すなわち、３
―ハロメチルセフ―２―エム誘導体を一般式
（）で表わされる複素環チオール化合物の少な
くとも当モル以上と反応させて（b′）を得ると
ができる。この反応はたとえばアセトニトリル、
塩化メチレン、テトラヒドロフラン、アセトン、
酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチルア
セトアミド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチ
ルホスホルアミド等の不活性有機溶媒の単独また
はこれらの混合溶媒中で行なわれる。反応は通常
室温で行なわれるのが反応速度が遅い場合は生成
物を破壊しない範囲内で加温してもよい。この反
応において複素環チオール化合物は（d′）１モ
ルに対して理論量の1.5倍以上を用いるのが好ま
しい。このようにして得られる（b′）は通常の
手段により精製単離することができる。一般式
（ｃ）で表わされる２―メチル―３―アセトキ
シメチルセフ―２―エム誘導体は２―エキソメチ
レン誘導体（）を水素化ほう素ナトリウム、水
素化ほう素カリウム、水素化ほう素リチウム、水
素化トリメトキシほう素ナトリウム等の水素化ほ
う素アルカリ金属で処理することにより製造する
ことができる。 この場合、（）はスルフイド（ｎ＝０）でも
スルホキシド（ｎ＝１）でもよいがスルホキシド
の場合はスルホキシドのスルフイドへの環元も同
時に起こる。反応はメタノール、エタノール、２
―プロパノール、塩化メチレン、テトラヒドロフ
ラン、ジメチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒の単独
もしくは混合溶媒中で行なうのがよく、反応温度
は−５〜５℃が好ましい。２―メチルセフ―２―
エム誘導体（b′）（c′）及び（e′）を２―メ
チルセフ―３―エム誘導体（c′），（a′）及び
（′）に異性化するには、２位にメチル基を有し
ないセフ―２―エム誘導体についてすでに知られ
ているセフ―３―エム―１―オキシド誘導体を経
由してセフ―３―エム誘導体に異性化させる方法
を用いて行なうことができる。２―メチルセフ―
３―エム―１―オキシド誘導体（c′），（a′）
及び（′）〔式中、ｎ＝１〕を得るために用いら
れる酸化剤としては有機および無機の過酸が用い
られる。これらの過酸としては具体的には、たと
えば過ぎ酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過マ
レイン酸、過安息香酸、ｍ―クロロ過安息香酸、
モノ過フタル酸、ｐ―トルエン過スルホン酸等の
過カルボン酸および過スルホン酸、過酸化水素
水、過ヨウ素酸、過硫酸等の無機の過酸類が用い
られる。またこれらの過酸類は単独で、また二種
以上の過酸の混合物として用いられる。酸化剤は
通常、少なくとも当量が用いられる。そして約10
〜20％の小過剰を用いるのが好ましい。しかしま
た酸化剤の10倍量またはそれ以上の大過剰を用い
ることも可能である。反応条件は例えば−50〜
100℃の温度で好ましくは−10〜40℃の比較的温
和な条件下で行なわれる。要すればイソプロパノ
ールなどの反応制御剤を共存させてもよい。この
酸化反応は通常、適当な溶媒の存在下で行なわれ
る。溶媒の選択は特に原料物質の溶解性と選択さ
れた酸化剤によつて異なるが、たとえばジクロロ
メタン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、
テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸、酢
酸エチル等が単独または混合溶媒として用いられ
る。 ２―メチルセフ―３―エム―１―オキシド誘導
体（ａ），（ｃ）及び（）〔式中ｎ＝１〕を
スルフイド（ａ），（ｃ）及び（）〔式中ｎ
＝０〕に還元するには２位にメチル基を有しない
セフ―３―エム―１―オキシド誘導体のスルフイ
ドへの還元について、すでに知られている方法で
還元剤と処理することによつて行なうことができ
る。還元剤としては、たとえば三塩化りん、三臭
化りん等のトリハロホスフイン類、トリクロロシ
ラン等のハロシラン類、クロロメチレンジメチル
イミニウムクロリド等の四級クロロメチレンイミ
ニウム塩等が有利に用いられる。また酸ハライド
類、具体的には塩化アセチルのような活性化試薬
の存在下にS2O4 2-，I-、フエロシアナイドイオン
のようなアニオン性還元剤、Sn2+，Fe2+，Cu+イ
オンのようなカチオン性還元剤、ホスフイン類、
ホスフアイト類のような３価のりん化合物等を用
いることによつて、またパラジウ、白金、ロジウ
ム等を含む遷移金属触媒を用いる接触還元によつ
てスルホキシドの還元を行なうことができる。こ
の還元反応は通常、適当な溶媒の存在下で行なわ
れる。溶媒の選択は特に原料物質の溶解性と選択
された還元剤によつて異なるが、たとえばジメチ
ルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジクロロ
メタン、クロロホルム、アセトニトリル、酢酸、
酢酸エチル等が単独または混合溶媒として用いら
れる。 一般式（ａ）で表わされる2β―メチル―３
―アセトキシメチルセフ―３―エム誘導体または
その塩に一般式（）で表わされる複素環チオー
ル化合物またはその塩を反応せしめて一般式 〔式中、R1，―COOR2，Ｚおよびｎは前記と
同意義。〕で表わされる2β―メチル―３―複素環
チオメチルセフ―３―エム誘導体を製造する方法
は、２位にメチル基を有しない３―アセトキシメ
チルセフ―３―エム誘導体を３―複素環チオメチ
ル誘導体に変換する技術としてすでに知られてい
る方法を用いて行なうことができる。すなわち
（ａ）をPH６〜８において水あるいは含水有機
溶媒に溶解し、一般式（）で表わされる複素環
チオール化合物またはその塩を加えて反応させ
る。反応温度は室温ないし100℃の範囲、好適に
は50〜70℃で行なう。反応時間は反応温度により
差異があるが、30分ないし10時間である。なお、
この場合、緩衝液の使用は好結果を与える。また
ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム―ヨウ化カル
シウム、ヨウ化バリウム、塩化ナトリウム、塩化
アンモニウム、塩化バリウム、塩化マグネシウム
等の第１族および第２族の金属ハロゲン化物また
は無機塩の存在下において、また三フツ化ホウ素
あるいはその錯化合物の存在下において一般式
（）で表わされる複素環チオール化合物または
その塩類を作用させてもよい。 ２―メチル―３―ヒドロキシメチルセフ―２―
エム誘導体（d′）を２―メチル―３―ホルミル
セフ―２―エム誘導体（e′）に酸化する方法と
しては、２位にメチル基を有しない３―ヒドロキ
シメチルセフ―２―エム誘導体を３―ホルミルセ
フ―２―エム誘導体に酸化する場合についてすで
に知られている方法を用いて行なうことができ
る。すなわち、対応する（d′）を二酸化マンガ
ンもしくは三酸化クロム、好ましくはジヨーンズ
試薬とよばれる硫酸―水中に三酸化クロムを加え
た試薬やコリンズ試薬とよばれる三酸化クロム・
ピリジン複合体を用いる方法、２，３―ジクロロ
―５，６―ジシアノ―１，４―ベンゾキノンで酸
化する方法、３―ハロメチル基に導いて後、銀化
合物の存在下で脂肪族スルホキシド類で酸化する
方法等が用いられる。 2α―メチル―３―ホルミルセフ―２―エム誘
導体（ｅ）および2α―メチル―３―ホルミル
セフ―３―エム誘導体（）は、たとえば2α―
メチル―３―メトキシイミノメチルセフエム誘導
体や2α―メチル―３―モルホリノエトキシイミ
ノメチルセフエム誘導体などの2α―メチル―３
―（Ｏ―置換―オキシイミノメチル）セフエム誘
導体（Y2＝―CH＝NOR；Y2は３位のホルミル
基より誘導される３位置換基を、Ｒは適当な置換
基を表わす。）を合成するための原料として用い
ることができる。更に、２―メチル―３―ホルミ
ルセフエム誘導体は２―メチル―３―（２―置換
―ビニル）セフエム誘導体（Y2＝―CH＝CH―
Ｒ）、２―メチル―３―（３―置換―ヒドラゾノ
メチル）セフエム誘導体
チレンセフ―３―エム誘導体（）はそれ自体公
知の方法を用いてセフアロスポラン酸―１―オキ
シド誘導体の２位にメチレン基を導入することに
よつて合成することができる。すなわち、たとえ
ばセフアロスポラン酸誘導体を適当な溶媒（たと
えばジクロロメタンとtert―ブタノールの混合溶
媒）中でホルムアルデヒドと第一級または第二級
アミンとの縮合物の塩類（たとえばH2C＝Ｎ＋
（CH3）2の塩類）、あるいはアミンと酸の塩類の存
在下にホルムアルデヒドもしくはその反応性誘導
体を反応させることによつて合成することができ
る。一般式（ｂ）で表わされる２―メチル―３
―ホルミルオキシメチルセフ―２―エム誘導体は
一般式（）で表わされる化合物に亜鉛―ぎ酸を
反応させることによつて製造することができる。
この場合、少なくとも当モル以上のぎ酸を加える
のがよい。 一般式（）で表わされる原料化合物は、スル
フイド（ｎ＝０）でも、スルホキシド（ｎ＝１）
でもよいが、スルホキシドの場合はスルホキシド
の還元も同時におこる。この反応でぎ酸は試薬
（ホルメートアニオン源）ならびに溶媒として使
用されうるが、必要に応じて、溶媒としてテトラ
ヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド等の
不活性溶媒を使用してもよい。特にジメチルホル
ムアミド、ヘキサメチルホスホルアミドは反応を
促進するので溶媒として好ましい。反応は一般に
は−30℃〜室温で行なわれ、ぎ酸濃度は70％以上
が好ましい。この場合、ぎ酸濃度が低下するにし
たがつて、一般式（）で表わされる２，３―ジ
エキソメチレンセフアム誘導体が副生するように
なり、２―メチル―３―ホルミルオキシメチルセ
フ―２―エム誘導体の収量が低下する。 本工程においてぎ酸のかわりに酢酸を用いると
（）のみが反応成績体として得られる。この
（）は、例えば２―メチレン―３―メチルセフ
―３―エム誘導体や２―オキソ―３―メトキシセ
フ―３―エム誘導体の合成中間体として有用な化
合物である。 ２―メチル―３―ホルミルオキシメチルセフ―
２―エム誘導体（ｂ）から一般式（ｄ）で表
わされる２―メチル―３―ヒドロキシメチルセフ
―２―エム誘導体への加垂分解は、２位にメチル
基を有しない３―ホルミルオキシメチルセフエム
誘導体のホルミル基の加水分解について公知の方
法を用いて行なうことができる。たとえば、（
ｂ）の加水分解を酸性条件下に行なう。この際た
とえば低級アルカノールなどのプロトン性溶媒、
特に好ましくはジメチルホルムアミド、ジクロロ
メタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ア
セトン、ジオキサン等の不活性溶媒での希釈下に
行なうのがよい。酸性の条件はPH４以下、有利に
はPH１〜３が望ましく、酸としては、塩酸、硫
酸、りん酸、過塩素酸、トリフルオロ酢酸、ｐ―
トルエンスルホン酸、臭化水素酸、硝酸などの無
機、有機酸を使用して行なわれる。 また有利には０〜50℃の範囲の温度、好ましく
は15〜40℃において加水分解することによつて
（ｄ）を製造することができる。 一般式（d′）で表わされる化合物より一般式
（b′）で表わされる２―メチル―３―複素環チ
オメチルセフ―２―エム誘導体に導くには、たと
えば（d′）を三ハロゲン化りん、ハロゲン化ホ
スホリルおよびハロゲン化チオニルから選ばれた
ハロゲン化試薬と反応させ、得られる３―ハロメ
チルセフ―２―エム誘導体に一般式HS―Ｚ（）
（Ｚは上記と同意義を意味する。）で表わされる複
素環チオール化合物を反応させる方法が用いられ
る。本工程の第一段階は３―ハロメチルセフ―２
―エム中間体の製造であり、３―ヒドロキシメチ
ル誘導体（d′）を三ハロゲン化りん、ハロゲン
化ホスホリルおよびハロゲン化チオニル、好まし
くは三塩化りん、塩化ホスホリル、塩化チオニル
から選んだハロゲン化剤を反応させる。この場合
（d′）１モルに対し少なくとも１モルのハロゲ
ン化剤を用いることが必要であるが、３―ハロメ
チルセフ―２―エム中間体を高収量で得るには、
さらに過剰のハロゲン化剤が必要であり、（d′）
１モルに対して理論値の1.2〜２倍量のハロゲン
化剤を用いることが好ましい。また使用するハロ
ゲン化剤と当モルの三級アミン、たとえばピリジ
ン、トリエチルアミン等の共存下に本反応を行な
うことは収量を向上させるのに有益である。反応
はアセトニトリル、塩化メチレン、テトラヒドロ
フラン、アセトン、酢酸エチル等の不活性溶媒中
で行なわれ、これらの溶媒は単独もしくは混合溶
媒として用いられる。反応温度は比較的低温がよ
く、一般に−30〜20℃で行なわれ、−10〜０℃で
行なうのが好ましい。反応は通常、速く進み、約
30分で完了する。代表的な反応時間は５〜30分で
ある。反応終了後は通常の方法で処理し、得られ
た３―ハロメチルセフ―２―エム誘導体はつぎの
第二工程で処理されるが、この場合３―ハロメチ
ルセフ―２―エム誘導体は純粋な状態で一旦単離
することは必ずしも必要でなく、部分的に精製さ
れた化合物を通常さらに精製することなくそのま
ま次の反応に用いることができる。すなわち、３
―ハロメチルセフ―２―エム誘導体を一般式
（）で表わされる複素環チオール化合物の少な
くとも当モル以上と反応させて（b′）を得ると
ができる。この反応はたとえばアセトニトリル、
塩化メチレン、テトラヒドロフラン、アセトン、
酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチルア
セトアミド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチ
ルホスホルアミド等の不活性有機溶媒の単独また
はこれらの混合溶媒中で行なわれる。反応は通常
室温で行なわれるのが反応速度が遅い場合は生成
物を破壊しない範囲内で加温してもよい。この反
応において複素環チオール化合物は（d′）１モ
ルに対して理論量の1.5倍以上を用いるのが好ま
しい。このようにして得られる（b′）は通常の
手段により精製単離することができる。一般式
（ｃ）で表わされる２―メチル―３―アセトキ
シメチルセフ―２―エム誘導体は２―エキソメチ
レン誘導体（）を水素化ほう素ナトリウム、水
素化ほう素カリウム、水素化ほう素リチウム、水
素化トリメトキシほう素ナトリウム等の水素化ほ
う素アルカリ金属で処理することにより製造する
ことができる。 この場合、（）はスルフイド（ｎ＝０）でも
スルホキシド（ｎ＝１）でもよいがスルホキシド
の場合はスルホキシドのスルフイドへの環元も同
時に起こる。反応はメタノール、エタノール、２
―プロパノール、塩化メチレン、テトラヒドロフ
ラン、ジメチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒の単独
もしくは混合溶媒中で行なうのがよく、反応温度
は−５〜５℃が好ましい。２―メチルセフ―２―
エム誘導体（b′）（c′）及び（e′）を２―メ
チルセフ―３―エム誘導体（c′），（a′）及び
（′）に異性化するには、２位にメチル基を有し
ないセフ―２―エム誘導体についてすでに知られ
ているセフ―３―エム―１―オキシド誘導体を経
由してセフ―３―エム誘導体に異性化させる方法
を用いて行なうことができる。２―メチルセフ―
３―エム―１―オキシド誘導体（c′），（a′）
及び（′）〔式中、ｎ＝１〕を得るために用いら
れる酸化剤としては有機および無機の過酸が用い
られる。これらの過酸としては具体的には、たと
えば過ぎ酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過マ
レイン酸、過安息香酸、ｍ―クロロ過安息香酸、
モノ過フタル酸、ｐ―トルエン過スルホン酸等の
過カルボン酸および過スルホン酸、過酸化水素
水、過ヨウ素酸、過硫酸等の無機の過酸類が用い
られる。またこれらの過酸類は単独で、また二種
以上の過酸の混合物として用いられる。酸化剤は
通常、少なくとも当量が用いられる。そして約10
〜20％の小過剰を用いるのが好ましい。しかしま
た酸化剤の10倍量またはそれ以上の大過剰を用い
ることも可能である。反応条件は例えば−50〜
100℃の温度で好ましくは−10〜40℃の比較的温
和な条件下で行なわれる。要すればイソプロパノ
ールなどの反応制御剤を共存させてもよい。この
酸化反応は通常、適当な溶媒の存在下で行なわれ
る。溶媒の選択は特に原料物質の溶解性と選択さ
れた酸化剤によつて異なるが、たとえばジクロロ
メタン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、
テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸、酢
酸エチル等が単独または混合溶媒として用いられ
る。 ２―メチルセフ―３―エム―１―オキシド誘導
体（ａ），（ｃ）及び（）〔式中ｎ＝１〕を
スルフイド（ａ），（ｃ）及び（）〔式中ｎ
＝０〕に還元するには２位にメチル基を有しない
セフ―３―エム―１―オキシド誘導体のスルフイ
ドへの還元について、すでに知られている方法で
還元剤と処理することによつて行なうことができ
る。還元剤としては、たとえば三塩化りん、三臭
化りん等のトリハロホスフイン類、トリクロロシ
ラン等のハロシラン類、クロロメチレンジメチル
イミニウムクロリド等の四級クロロメチレンイミ
ニウム塩等が有利に用いられる。また酸ハライド
類、具体的には塩化アセチルのような活性化試薬
の存在下にS2O4 2-，I-、フエロシアナイドイオン
のようなアニオン性還元剤、Sn2+，Fe2+，Cu+イ
オンのようなカチオン性還元剤、ホスフイン類、
ホスフアイト類のような３価のりん化合物等を用
いることによつて、またパラジウ、白金、ロジウ
ム等を含む遷移金属触媒を用いる接触還元によつ
てスルホキシドの還元を行なうことができる。こ
の還元反応は通常、適当な溶媒の存在下で行なわ
れる。溶媒の選択は特に原料物質の溶解性と選択
された還元剤によつて異なるが、たとえばジメチ
ルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジクロロ
メタン、クロロホルム、アセトニトリル、酢酸、
酢酸エチル等が単独または混合溶媒として用いら
れる。 一般式（ａ）で表わされる2β―メチル―３
―アセトキシメチルセフ―３―エム誘導体または
その塩に一般式（）で表わされる複素環チオー
ル化合物またはその塩を反応せしめて一般式 〔式中、R1，―COOR2，Ｚおよびｎは前記と
同意義。〕で表わされる2β―メチル―３―複素環
チオメチルセフ―３―エム誘導体を製造する方法
は、２位にメチル基を有しない３―アセトキシメ
チルセフ―３―エム誘導体を３―複素環チオメチ
ル誘導体に変換する技術としてすでに知られてい
る方法を用いて行なうことができる。すなわち
（ａ）をPH６〜８において水あるいは含水有機
溶媒に溶解し、一般式（）で表わされる複素環
チオール化合物またはその塩を加えて反応させ
る。反応温度は室温ないし100℃の範囲、好適に
は50〜70℃で行なう。反応時間は反応温度により
差異があるが、30分ないし10時間である。なお、
この場合、緩衝液の使用は好結果を与える。また
ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム―ヨウ化カル
シウム、ヨウ化バリウム、塩化ナトリウム、塩化
アンモニウム、塩化バリウム、塩化マグネシウム
等の第１族および第２族の金属ハロゲン化物また
は無機塩の存在下において、また三フツ化ホウ素
あるいはその錯化合物の存在下において一般式
（）で表わされる複素環チオール化合物または
その塩類を作用させてもよい。 ２―メチル―３―ヒドロキシメチルセフ―２―
エム誘導体（d′）を２―メチル―３―ホルミル
セフ―２―エム誘導体（e′）に酸化する方法と
しては、２位にメチル基を有しない３―ヒドロキ
シメチルセフ―２―エム誘導体を３―ホルミルセ
フ―２―エム誘導体に酸化する場合についてすで
に知られている方法を用いて行なうことができ
る。すなわち、対応する（d′）を二酸化マンガ
ンもしくは三酸化クロム、好ましくはジヨーンズ
試薬とよばれる硫酸―水中に三酸化クロムを加え
た試薬やコリンズ試薬とよばれる三酸化クロム・
ピリジン複合体を用いる方法、２，３―ジクロロ
―５，６―ジシアノ―１，４―ベンゾキノンで酸
化する方法、３―ハロメチル基に導いて後、銀化
合物の存在下で脂肪族スルホキシド類で酸化する
方法等が用いられる。 2α―メチル―３―ホルミルセフ―２―エム誘
導体（ｅ）および2α―メチル―３―ホルミル
セフ―３―エム誘導体（）は、たとえば2α―
メチル―３―メトキシイミノメチルセフエム誘導
体や2α―メチル―３―モルホリノエトキシイミ
ノメチルセフエム誘導体などの2α―メチル―３
―（Ｏ―置換―オキシイミノメチル）セフエム誘
導体（Y2＝―CH＝NOR；Y2は３位のホルミル
基より誘導される３位置換基を、Ｒは適当な置換
基を表わす。）を合成するための原料として用い
ることができる。更に、２―メチル―３―ホルミ
ルセフエム誘導体は２―メチル―３―（２―置換
―ビニル）セフエム誘導体（Y2＝―CH＝CH―
Ｒ）、２―メチル―３―（３―置換―ヒドラゾノ
メチル）セフエム誘導体
【式】２―メチル―３―
（４―置換―チオセミカルバゾノ）メチルセフエ
ム誘導体（ ）、２―メチル―３―（５―置換―アミノ―１，
３，４―チアジアゾール―２―イル）メチルセフ
エム誘導体
ム誘導体（ ）、２―メチル―３―（５―置換―アミノ―１，
３，４―チアジアゾール―２―イル）メチルセフ
エム誘導体
【式】２―メチル
―３―カルボキシセフエム誘導体（Y2＝―
COOH）、２―メチル―３―シアノセフエム誘導
体（Y2＝―CN）等の２―メチル―３―置換―セ
フエム誘導体を含成するための原料としても有用
な化合物である。本発明の特許請求の範囲に含ま
れる化合物のR1，R1′およびＺ部分のアミノ基
（アミノ基以外の塩基性を示す窒素含有基を含
む）、カルボキシル基等が本発明の目的化合物を
製造するための反応に関与して副反応を生ずる可
能性のある官能基を含む場合には、その製造にあ
たつてあらかじめこれらの官能基を適当な保護基
で保護しておくことが望ましい。 この場合のアミノ基の保護基としては、例えば
フタロイル、ベンゾイル、ｐ―ニトロベンゾイ
ル、ｐ―クロロベンゾイル、トルオイル、ｐ―
tert―ブチルベンゾイル、フエニルアセチル、フ
エノキシアセチル、ナフトイル、ベンゼンスルホ
ニル、ｐ―トルエンスルホニル、ｐ―tert―ブチ
ルベンゼンスルホニル等の芳香族アシル基、例え
ばアセチル、プロピオニル、バレリル、カプリリ
ル、ｎ―デカノイル、アクリロイル、ピバロイ
ル、モノクロロアセチル、トリフルオロアセチ
ル、メタンスルホニル、カンフアスルホニル等の
脂肪族アシル基、エトキシカルボニル、tert―ブ
トキシカルボニル、iso―ボルニルオキシカルボ
ニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、フエニ
ルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ―ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ―
メトキシベンジルオキシカルボニル等のエステル
化されたカルボキシル基、メチルカルバモイル、
フエニルカルバモイル、ナフチルカルバモイル等
のカルバモイル基もしくは同様なチオカルバモイ
ル基、トリメチルシリル、ジメチルシリル等のシ
リル基等が用いられる他、マコミー（McOmie）
編の上記の刊行物の第２章にジエイ・ダブリユ
ー・バートン（J.W.Barton）によつて記載され
ている上記以外のアミノ基の保護基も同様に用い
られる。 カルボキシル基の保護基としては、例えば、メ
チル、エチル、tert―ブチル、tert―アミル、フ
エニル、ｐ―ニトロフエニル、２，２，２―トリ
クロロエチル、ベンジル、ｐ―メトキシベンジ
ル、ｐ―ニトロベンジル、トリチル、ベンズヒド
リル、ビス（ｐ―メトキシフエニル）メチル、メ
トキシメチル、エトキシメチル、ベンジルオキシ
メチル、フエナシル、ピバロイルオキシメチル、
アセトキシメチル、フタリジル、２―メチルチオ
エチル、トリメチルシリル、ジメチルシリル等が
用いられる他、マコミー（McOmie）編の上記の
刊行物の第５章にイー・ハスラム（E.Haslam）
によつて記載されている上記以外のカルボキシル
基の保護基も同様に用いられる。 要するにこれらの保護基を用いて反応に関与す
る可能性のある官能基を反応前に保護しておき、
反応後、これらの保護基を含んだまま本発明の最
終目的物としてもよいし、反応後保護基を除去し
て最終目的物としてもよい。そもそも、保護基の
種類、それを導入する手段ならびにそれを除去す
る手段は、セフアロスポリン、ペニシリン、ペプ
チドの分野において周知であり十分に確立された
技術であるので、本発明においてもそれらに従つ
てよい。 本発明の一般式（ｃ），（ｄ）および（）
で表わされるセフアロスポリン誘導体ならびにそ
の薬理学的に許容しうる塩はグラム陽性菌〔例え
ばスタフイロコツカス・アウレウス
（Staphylococous aureus）、バチルス・ズブチリ
ス（Bacillus subtilis）等〕のみならずグラム陰
性菌〔たとえばエシエリヒア・コリ
（Escherichia coli）、プロテウス・ブルガリス
（Proteus vulgaris）、プロテウス・モルガニイー
（Proteus morganii）、クレブシエラ・ニユーモ
ニアエ（Klebsiella pneumoniae）等〕に優れた
抗菌力を有し、低毒性であるので、これら細菌に
起因する人又はネズミ（マウス・ラツト）等動物
の感染症の予防剤、又は治療剤、あるいはたとえ
ば手術用器具、病室等の消毒剤として安全に使用
される。たとえば乳糖、デンプン等の適宜の担体
ないし賦形剤と結合して粉末製剤として局所投与
してもよいし、生理的食塩水等の溶解液中に溶解
あるいは懸濁させて溶液又は懸濁液として使用し
てもよい。 本発明の目的化合物は公知のセフアロスポリン
抗生物質たとえばセフアロチンと同様に使用する
ことができる。本発明目的の化合物を消毒剤とし
て使用する場合は、本発明目的化合物の水溶液
（濃度は最少発育阻止濃度の約２倍程度）を使用
するのが好ましい。 以下に実施例を記載して、この発明の内容を詳
述する。 なお、これらの実施例等で用いる記号は、一般
に化学分野において、通常用いられていると同意
義を示す。下記については念のためその意義を明
らかにしておく。 DMF：ジメチルホルムアムド AcOEt：酢酸エチル MeOH：メタノール AcOH：酢酸 DMSO：ジメチルスルホキシド ｓ：シングレツト ｄ：ダブレツト ｔ：トリプレツト ｍ：マルチプレツト dd：ダブルダブレツト ABq：AB型のクアルテツト br.：broad 実施例 １ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ホルミルオキシメチ
ルセフ―２―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―エキソメチレン―３―アセトキシメ
チルセフ―３―エム―４―カルボキシラート―１
―オキシド0.7ｇの90％HCOOH30ml溶液に、亜
鉛末2.5ｇを加え、室温で1.5時間かき混ぜる。反
応液にAcOEtとH2Oを加え下溶物をろ別し、
AcOEt層を分取する。AcOEt層は飽和NaHCO3
水、飽和NaCl水で洗浄後、Na2SO4で乾燥する。
AcOEtを減圧留去後、残留物をシリカゲルカラ
ムに加え、ベンゼン・AcOEt（10：１）で溶出す
る画分を集め、溶媒を減圧留去するとジフエニル
メチル７―（２―チエニルアセトアミド）―２―
メチル―３―ホルミルオキシメチルセフ―２―エ
ム―４―カルボキシラート381mg（57％）を得る。 IR νKBr naxcm-1：1790，1735，1670，1190. NMR（DMSO―d6）δ：2.01（3H，br.s，２―
CH3），3.77（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），4.67およ
び4.90（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.OHz，―ＣＨ
２―Ｏ―），5.12（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），
5.25（1H，ｄ，Ｊ＝1.0Hz，４―Ｈ），5.46（1H，
dd，Ｊ＝4.5，8.5Hz，７―Ｈ），6.78〜7.00（3H，
ｍ，チオフエンプロトン３および４位，―ＣＨ
（C6H5）2），7.15〜7.55（11H，ｍ，チオフエンプ
ロトン５位，C6H 5×２），8.02（1H，ｓ，―ＣＨ
Ｏ），9.14（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C29H26N2O6S2 計算値：C61.90；H4.66；N4.98；S11.40 実験値：C61.79；H4.56；N4.87；S11.30 実施例 ２ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ヒドロキシメチルセ
フ―２―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ホルミルオキシメチル
セフ―２―エム―４―カルボキシラート30ｇの
DMF100ml溶液に、2N HCl22.8mlを加え室温で
20時間かき混ぜる。反応液にAcOEtとH2Oを加
え、AcOEt層を分取する。AcOEt層は５％
NaHCO3水、飽和NaCl水で洗浄、Na2SO4で乾
燥後、AcOEtを減圧留去する。残留物をシリカ
ゲルカラムに加え、CH2Cl2・AcOEt（10：１）で
洗浄後、アセトンで溶出する画分を集め、溶媒を
減圧留去するとジフエニルメチル７―（２―チエ
ニルアセトアミド）―２―メチル―３―ヒドロキ
シメチルセフ―２―エム―４―カルボキシラート
14.6ｇ（62％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1780，1745. NMR（DMSO―d6）δ：1.95（3H，ｓ，２―
CH3），3.10〜3.50（1H，br，―CH2―OH），3.79
（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.85および4.32（それ
ぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―OH），
5.06（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.25（1H，
ｓ，４―Ｈ），5.44（1H，dd，Ｊ＝4.5，8.5Hz，７
―Ｈ），6.70〜7.10（3H，ｍ，チオフエンプロトン
３および４位、―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60
（11H，ｍ，チオフエンプロトン５位、C6H 5×
２），9.10（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―NH―）． 元素分析：C28H26N2O5S2 計算値：C62.90；H4.90；N5.24；S11.99 実験値：C62.82；H4.76；N5.12；S11.93 実施例 ３ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―
２―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ヒドロキシメチルセフ
―２―エム―４―カルボキシラート840mgの
CH2Cl245ml溶液に、ピリジン0.14mlを加える。−
10℃でSOCl20.124mlを加え同温度で30分間かき
混ぜ、反応液にH2Oを加えCH2Cl2層を分取する。
CH2Cl2層はH2O、飽和NaCl水で洗浄、MgSO4
で乾燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物を
DMF10mlに溶解し、１―メチル―５―メルカプ
トテトラゾール180mgを加え、一夜かき混ぜる。
DMFを減圧留去し、残留物をシリカゲルカラム
に加え、CH2Cl2・AcOEt（20：１）で溶出する画
分を集め、溶媒を減圧留去するとジフエニルメチ
ル７―（２―チエニルアセトアミド）―２―メチ
ル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５
―イル）チオメチルセフ―２―エム―４―カルボ
キシラート546mg（55％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1780，1745. NMR（DMSO―d6）δ：1.98（3H，ｓ，２―
CH3），3.77（2H，ｓ，―ＣＨ 2―CO―），3.84
（3H，ｓ，テトラゾール，１―CH3 ），4.06およ
び4.47（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.OHz，―ＣＨ
２―Ｓ―），5.11（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz，６―Ｈ），
5.41（1H，ｓ，４―Ｈ），5.48（1H，dd，Ｊ＝4.0，
75Hz，７―Ｈ），6.80〜7.00（3H，ｍ，チオフエン
プロトン３および４位、―ＣＨ（C6H5）2），7.10
〜7.66（11H，ｍ，チオフエンプロトン５位，
C6H5×２），9.16（1H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz，―CO―
ＮＨ―） 元素分析：C30H28N6O4S3 計算値：C56.94；H4.46；N13.28；S15.20 実験値：C56.87；H4.42；N13.14；S14.38 実施例 ４ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―
３―エム―４―カルボキラート―１―オキシド ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―２―
エム―４―カルボキシラート662mgのCH2Cl230ml
溶液に、−10℃でｍ―クロル過安息香酸217mgを加
え、同温度で１時間かき混ぜる。反応液を10％
Na2S2O3溶液、飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾
燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシリカ
ゲルカラムに加え、CH2Cl2・AcOEt（５：１）で
溶出する画分を集め、溶媒を減圧留去するとジフ
エニルメチル７―（２―チエニルアセトアミド）
―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―テトラ
ゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―
４―カルボキシラート―１―オキシド321mg（47
％）を得る。 IRνKBr naxcm-1δ：1800，1745，1690，1050. NMR（DMSO―d6）δ：1.27（3H，ｄ，Ｊ＝
7.5Hz，2α―CH3 ），3.84（5H，ｓ，テトラゾール
１―CH3 および―CH2 ―CO―），4.01（1H，ｑ，
Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），4.25（2H，ｓ，―ＣＨ 2―Ｓ
―），4.96（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.96
（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.5Hz，７―Ｈ），6.80〜7.00
（3H，ｍ，チオフエンプロトン３および４位、―
ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.70（11H，ｍ，チオフエ
ンプロトン５位、C6H 5×２），8.37（1H，ｄ，Ｊ
＝8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C30H28N6O5S3 計算値：C55.54；H4.35；N12.96；S14.83 実験値：C55.59；H4.36；N12.98；S14.31 実施例 ５ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―
３―エム―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラート―１―オキシド326
mgのDMF5ml溶液に、−10℃でPCl30.38mlを加え、
同温度で15分間かき混ぜる。反応液にAcOEtと
５％NaHCO3水を加えAcOEt層を分取。AcOEt
層は飽和NaCl水で洗浄、Na2SO4で乾燥後、
AcOEtを減圧留去する。残留物をシリカゲルカ
ラムに加え、CH2Cl2・AcOEt（25：１）で溶出す
る画分を集め、溶媒を減圧留去してジフエニルメ
チル７―（２―チエニルアセトアミド）―2α―
メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート225mg（71％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1790，1735，1700. NMR（DMSO―d6）δ：1.53（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），3.74（2H，ｓ，―CH2 ―CO
―），3.84（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），
4.01（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.18（2H，
ｓ，―ＣＨ 2―Ｓ―），5.27（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，
６―Ｈ），5.85（1H，dd，Ｊ＝5.0および8.5Hz，７
―Ｈ），6.80〜7.00（3H，ｍ，チオフエンプロトン
３および４位、―ＣＨ（C6H5）2），7.15〜7.60
（11H，ｍ，チオフエンプロトン５位、C6H 5×
２），9.17（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． NOE：2α―CH3を照射する時、６位プロトン
の面積は20％増加する。 元素分析：C30H28N2O6S2 計算値：C62.48；H4.89；N4.86；S11.12 実験値：C62.73；H4.76；N4.68；S11.09 実施例 ６ ７―（２―チエニルアセトアミド）―2α―メ
チル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４―
カルボン酸ナトリウム塩 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラート105mg、アニソール
0.1ml、CF3COOH ５mlの溶液を、室温で20分間
かき混ぜる。CF3COOHを減圧留去後、残留物を
AcOEtに溶解し、５％NaHCO3水に転溶する。
水層は５％H3PO4を加えPH7.0に調整後、アンバ
ーライトXAD―（ロームアンドハース社製）
のカラムに加える。カラムを水洗後、10％
MeOH水で溶出する画分を集め、減圧濃縮した
のち凍結乾燥すると、７―（２―チエニルアセト
アミド―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―
エム―カルボン酸ナトリウム塩72mg（95％）を得
る。 TLC〔シリカゲル60F―254（メルク社製〕、展開
溶媒：AcOEt・AcOH（10：１）〕Rf0.30 IRνKBr naxcm-1：1770，1685. NMR（D2O）δ：1.52（3H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz，
2α―CH3 ），3.76（1H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），
3.86（2H，ｓ，―CH2 CO―），3.97（3H，ｓ，テ
トラゾール１―CH3 ），4.02および4.27（それぞれ
1H，ABq，Ｊ＝13.5Hz，―CH2 ―Ｓ―），5.17
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.68（1H，ｄ，
Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），6.90〜7.10（2H，ｍ，チオ
フエンプロトン３および４位），7.20〜4.40（1H，
ｍ，チオフエンプロトン５位）． 元素分析：C17H17N6O4S3Na・３／2H2O 計算値：C39.60；H3.91；N16.30；S18.66 実験値：C39.38；H3.72；N16.32；S18.54 実施例 ７ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２，３―ジ―エキソメチレンセフアム
―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチレン―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラート４ｇの
AcOH160ml溶液に、Zn末14ｇを加え室温で45分
間かき混ぜる。反応液にAcOEtとH2Oを加え、
不溶物をろ別し、AcOEt層を分取。AcOEt層は
飽和NaHCO3水、飽和NaCl水で洗浄後、
Na2SO4で乾燥する。AcOEtを減圧留去後、残留
物をシリカゲルカラムに加え、ベンゼン・
AcOEt（10：１）で溶出する画分を集め、溶媒を
減圧留去後、残留物にEt2Oを加えるとジフエニ
ルメチル７―（２―チエニルアセトアミド）―
２，３―ジ―メチレンセフアム―４―カルボキシ
ラートの結晶2.3ｇ（64％）を得る。 mp 126℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1770，1735，1660. NMR（DMSO―d6）δ：3.74（2H，ｓ，―ＣＨ
２―CO―），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝45Hz，６―Ｈ），
5.35（1H，ｓ，２―メチレン），5.40（1H，dd，Ｊ
＝4.5，8.5Hz，７―Ｈ），5.51（2H，ｓ，３―メチ
レン），5.59（1H，ｓ，２―メチレン），6.80〜
7.00（3H，ｍ，チオフエンプロトン３および４
位，―ＣＨ（C6H5）2），7.20〜7.60（11H，ｍ，チ
オフエンプロトン５位、C6H 5×２），9.11（1H，
ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． MS ｍ／ｅ：516（M+） 元素分析：C28H24N2O4S2 計算値：C65.09；H4.68；N5.42；S12.41 実験値：C65.02；H4.71；N5.30；S12.14 実施例 ８ 実施例１と同様にしてジフエニルメチル７―フ
エニルアセトアミド―２―メチレン―３―アセト
キシメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
トよりジフエニルメチル７―フエニルアセトアミ
ド―２―メチル―３―ホルミルオキシメチルセフ
―２―エム―４―カルボキシラートを得る。（収
率63％）． IRνKBr naxcm-1：1790，1740. NMR（DMSO―d6）δ：2.00（3H，br.s，２
CH3），3.53（2H，ｓ，C6H5―ＣＨ 2―），4.63お
よび4.88（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.OHz，―
CH2―Ｏ―），5.08（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz，６―
Ｈ），5.24（1H，br.s，４―Ｈ），5.43（1H，dd，
Ｊ＝4.0，7.5Hz，７―Ｈ），6.79（1H，ｓ，―ＣＨ
（C6H5）2），7.10〜7.55（15H，ｍ，C6H 5×３），
7.97（1H，ｓ，―ＣＨＯ），9.08（1H，ｄ，Ｊ＝
7.5Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C30H28N2O5S 計算値：C68.16；H5.34；N5.30；S6.07 実験値：C68.03；H5.12；N5.23；S6.01 実施例 ９ 実施例２と同様にして、ジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―２―メチル―３―ホルミ
ルオキシメチルセフ―２―エム―４―カルボキシ
ラートよりジフエニルメチル７―フエニルアセア
ミド―２メチル―３―ヒドロキシメチルセフ―２
―エム―４―カルボキシラートを得る。（収率64
％）． IRνKBr naxcm-1：1790，1740. NMR（DMSO―d6）δ：1.93（3H，ｓ，２―
CH3），3.25（1H，br.s，―ＯＨ），3.52（2H，ｓ，
―CH2 ―CO―），3.83および4.27（それぞれ1H，
ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.02（1H，
ｄ，Ｊ＝4.0Hz，６―Ｈ），5.23（1H，ｓ，４―
Ｈ），5.38（1H，dd，Ｊ＝4.0，8.0Hz，７―Ｈ），
6.78（1H，ｓ，ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.50（18H，
ｍ，C6 H5 ×３），9.08（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，―
CO―ＮＨ―）． 元素分析：C30H28N2O5S 計算値：C70.02；H5.48；N2.72；S6.23 実験値：C69.91；H5.23；N2.52；S6.40 実施例 10 実施例３と同様にして、ジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―２―メチル―３―ヒドロ
キシメチルセフ―２―エム―４―カルボキシラー
トよりジフエニルメチル７―フエニルアセトアミ
ド―２―メチル―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチルセフ―２―エム
―４―カルボキシラートを得る。（収率59％） IRνKBr naxcm-1：1790，1750. NMR（DMSO―d6）δ：1.97（3H，br.s，２―
CH3），3.53（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.83
（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），4.03および
4.45（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―ＣH2 ―
Ｓ―），5.07（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz，６―Ｈ），5.40
（1H，br.s，４―Ｈ），5.44（1H，dd，Ｊ＝4.0，
7.5Hz，７―Ｈ），6.83（1H，ｓ，―ＣＨ
（C6H5）2），7.10〜7.50（15H，ｍ，C6 H5 ×３），
9.11（1H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz，―CONＨ―）． 元素分析：C32H30N6O4S2 計算値：C61.32；H4.82；N13.41；S10.23 実験値：C61.05；H4.82；N13.64；S10.51 実施例 11 実施例４と同様にして、ジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―２―メチル―３―（１―
メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメ
チルセフ―２―エム―４―カルボキシラートより
ジフエニルメチル７―フエニルアセトアミド―
2α―メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾ
ール―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４
―カルボキシラートを得る。（収率50％）． IRνKBr naxcm-1：1800，1740. NMR（DMSO―d6）δ：1.27（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），3.62（2H，ｓ，―CH2 ―CO），
3.84（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），4.00
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.23（2H，br.s，
―CH2 ―Ｓ―），4.94（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），5.94（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.5Hz，７―Ｈ），
6.91（1H，ｓ，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60
（15H，ｍ，C6H 5×３），8.31（1H，ｄ，Ｊ＝8.5
Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C32H30N6O5S2 計算値：C59.79；H4.70；N13.08；S9.98 実験値：C59.81；H4.76；N13.07；S10.01 実施例 12 実施例５と同様にして、ジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―2α―メチル―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチルセフ―３―エム―４―カルボキシラート―
１―オキシドよりジフエニルメチル７―フエニル
アセトアミド―2α―メチル―３―（１―メチル
―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラートを得る。
（収率71％） IRνKBr naxcm-1：1790，1730. NMR（DMSO―d6）δ：1.52（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），3.50（2H，ｓ，―CH2 ―CO
―），3.83（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），
4.00（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.17（2H，
ｓ，―CH2 ―Ｓ―），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，
６―Ｈ），5.83（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.5Hz，７―
Ｈ），6.88（1H，ｓ，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜
7.60（15H，ｍ，C6H 5×３），9.12（1H，ｄ，Ｊ＝
8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C32H30N6O4S2 計算値：C61.32；H4.82；N13.41；S10.23 実験値：C61.15；H4.77；N13.13；S10.09 実施例 13 実施例６と同様にして、ジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―2α―メチル―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチルセフ―３―エム―４―カルボキシラートよ
り７―フエニルアセトアミド―2α―メチル―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナト
リウム塩を得る。（収率71％）． IRνKBr naxcm-1：1770，1680. NMR（D2O）δ：1.62（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
2α―CH3 ），3.77（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.87
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.08（3H，ｓ，
テトラゾール１―CH3 ），4.17および4.35（それぞ
れ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｓ―），5.28
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.78（1H，ｄ，
Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），7.45（5H，ｓ，C6H5 ―）． 元素分析：C19H19O4N6S2Na・2H2O 計算値：C44.00；H4.47；N16.21；S12.37 実験値：C44.07；H4.37；N15.95；S12.19 実施例 14 ジフエニルメチル７―アミノ―2α―メチル―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）チオメチルセフ―３―エム―４―カルボ
キシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラートのCH2Cl2100ml溶液
にピリジン3.7mlを加え、−12℃でPCl52.4ｇを加
え、同温度で45分間かき混ぜる。これにMeOH
を一度に加え、−10℃で30分間、さらに室温で１
時間かき混ぜる。反応液に0.5MK2HPO4溶液100
ml、さらに25％H3PO4を加えPH1.5に調整後、45
分間かき混ぜ、CH2Cl2層を分取、飽和NaCl水で
洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減圧留去す
る。残留物にEt2Oを加えるとジフエニルメチル
７―アミノ―2α―メチル―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ
―３―エム―４―カルボキシラートの結晶1.73ｇ
（72％）を得る。 mp 158℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1780，1735. NMR（DMSO―d6＋D2O）δ：1.56（3H，ｄ，
Ｊ＝7.OHz，2α―CH3 ），3.82（3H，ｓ，テトラゾ
ール１―CH3 ），3.93（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
Ｈ），4.16（2H，ｓ，―CH2 ―Ｓ―），4.90（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.11（1H，ｄ，Ｊ＝5.
OHHz，７―Ｈ），6.84（1H，ｓ，―ＣＨ
（C6H5）2），7.10〜7.60（10H，ｍ，C6H5 ×２）． 元素分析：C24H24N6O3S2 計算値：C56.67；H4.76；N16.53；S12.61 実験値：C56.61；H4.68；N16.46；S12.40 実施例 15 前記実施例と同様にしてジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―2α―メチル―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチルセフ―３―エム―４―カルボキシラートよ
りジフエニルメチル７―アミノ―2α―メチル―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イ
ル）チオメチルセフ―３―エム―４―カルボキシ
ラートを得る。（収率69％）。本品は前記実施例で
得られるものとmp，IR，NMRが完全に一致す
る。 実施例 16 ジフエニルメチル７―〔Ｄ（−）―α―（ｔ―
ブトキシカルボキサミド）―α―（２―チエニ
ル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
ト Ｄ（−）―ｔ―ブトキシカルボキサミド―α―
２―チエニル酢酸224mg、ジフエニルメチル７―
アミノ―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラート400mgのCH2Cl250ml
溶液に、−10℃でジシクロヘキシルカルボジイミ
ド180mgを加え同温度で１時間ついで室温で２時
間かき混ぜる。生成したジシクロヘキシル尿素を
ろ別し、ろ液を５％H3PO4、５％NaHCO3水、
飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2
を減圧留去する。残留物をシリカゲルカラムに加
え、CH2Cl2・AcOEt（10：１）で溶出する画分を
集め溶媒を減圧留去するとジフエニルメチル７―
〔Ｄ（−）―α―（ｔ―ブトキシカルボキサミド）
―α―（２―チエニル）アセトアミド〕―2α―
メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート560mg（95％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1800，1730，1705，1180。 NMR（DMSO―d6）δ：1.40（9H，ｓ，―Ｃ
（CH3）3 ），1.56（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2α―CH3 ），
3.83（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），3.96
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.16（2H，ｓ，
―CH2 ―Ｓ―），5.24（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），5.50（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，＞ＣＨ―CO―），
5.89（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.5Hz，７―Ｈ），6.80〜
7.10（3H，ｍ，チオフエンプロトン３および４
位，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60（12H，ｍ，チ
オフエンプロトン５位，C6H5 ×２，＞CH―ＮＨ
―CO―），9.25（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CONＨ
―）． 元素分析：C35H37N7O6S3 計算値：C56.21；H4.99；N13.11；S12.86 実験値：C56.34；H5.17；N13.01；S12.69 実施例 17 ７―〔Ｄ（−）―α―アミノ―α―（２―チエ
ニル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸 ジフエニルメチル７―〔Ｄ（−）―α―（ｔ―
ブトキシカルボキサミド）―α―（２―チエニ
ル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―（１―
メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメ
チルセフ―３―エム―４―カルボキシラート500
mg，アニソール0.55ml，CF3COOH20mlの溶液を
室温で20分間かき混ぜる。CF3COOHを減圧留去
後、残留物をAcOEtとH2Oに分配し、水層を分
取。水層は５％NaHCO3水を加えPH4.5に調整後、
アンバーライトXAD―（ロームアンドハース
社製）のカラムに加える。カラムを水洗後、30％
MeOH水で溶出する画分を集め、減圧濃縮した
のち、凍結乾燥すると７―〔Ｄ（−）―α―アミ
ノ―α―（２―チエニル）アセトアミド〕―2α
―メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４―
カルボン酸156mg（49％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1785，1700，1605. NMR（DMSO―d6＋D2O）δ：1.49（3H，ｄ，
Ｊ＝7.0Hz，2α―CH3 ），3.80（3H，ｓ，テトラゾ
ール１―CH3 ），3.88（2H，ｓ，―CH 2―Ｓ―），
4.20（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），5.08（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.22（1H，ｓ，＞ＣＨ―
CO―），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），
6.85〜7.30（2H，ｍ，チオフエンプロトン３およ
び４位），7.35〜7.60（1H，ｍ，オフエンプロトン
５位）． 元素分析：C17H19N7O4S3・３／2H2O 計算値：C40.14；H4.36；N19.28；S18.91 実験値：C40.10；H4.64；N19.28；S18.63 実施例 18 ７―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―
ジオキソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―
α―（２―チエニル）アセトアミド〕―2α―
メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４
―カルボン酸 ７―〔Ｄ（−）―α―アミノ―α―（２―チエ
ニル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチルセフ―３―エム―４―カルボン酸160mgを
H2O10ml、テトラヒドロフラン10ml溶液に５％
NaHCO3水を加え、PH8.0に調整する。０℃で４
―エチル―２，３―ジオキソ―１―ピペラジンカ
ルボニルクロリド68mgを加え同温度で30分間かき
混ぜ、反応液にAcOEtを加え水層を分取。水層
は５％H3PO4を加えPH2.0に調整し、AcOEtで抽
出する。AcOEt層をH2O、飽和NaCl水で洗浄、
Na2SO4で乾燥後、AcOEtを減圧留去すると７―
〔Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―ジオキソ
―１―ピペラジンカルボキサミド）―α―（２―
チエニル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸の結晶
102mg（47％）を得る。 mp 152℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1785，1710，1690。 NMR（DMSO―d6）δ：1.09（3H，ｔ，Ｊ＝
7.0Hz，―CH2―CH3 ），1.50（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz，2α―CH3 ），3.39（2H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，―
CH2―CH3），3.40〜4.00（5H，ｍ，ピペラジンメ
チレン５および６位，2β―Ｈ），3.90（3H，ｓ，
テトラゾール１―CH3 ），4.08および4.34（それぞ
れ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH5 ―Ｓ―），5.16
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.79（1H，dd，
Ｊ＝5.0，9.0Hz，７―Ｈ），5.85（1H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz，＞ＣＨ―NH―），6.80〜7.20（2H，ｍ，チオ
フエンプロトン３および４位），7.30〜7.55（1H，
ｍ，チオフエンプロトン５位），9.50（1H，ｄ，
Ｊ＝9.0Hz，―CO―ＮＨ―），9.75（1H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，＞CH―ＮＨ―）． 元素分析：C24H27N9O7S3 計算値：C44.36；H4.19；N19.40；S14.80 実験値：C44.21；H4.18；N19.23；S14.75 実施例 19 実施例16と同様にして、Ｄ（−）―α―ｔ―ブ
トキシカルボキサミド―α―フエニル酢酸とジフ
エニルメチル７―アミノ―2α―メチル―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラート
よりジフエニルメチル７―〔Ｄ（−）―α―（ｔ
―ブトキシカルボキサミド）―α―（フエニル）
アセトアミド〕―2α―メチル―３―（１―メチ
ル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
セフ―３―エム―４―カルボキシラートを得る。
（収率96％）。 IRνKBr naxcm-1：1800，1730，1700. NMR（DMSO―d6）δ：1.37（9H，ｓ，―Ｃ
（ＣH3 ）3），1.47（3H，ｄ，Ｊ＝7.0OHz，2α―
CH3），3.83（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），
3.92（11H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.15（2H，
ｓ，―CH2 ―Ｓ―），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，
６―Ｈ），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，＞ＣＨ―CO
―），5.88（1H，dd，Ｊ＝4.5，8.5Hz，７―Ｈ），
6.89（1H，ｓ，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60
（16H，ｍ，C6H 5×３，および―ＮＨCOOC
（CH3）3），9.18（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CONＨ
―）． 元素分析：C37H39N7O6S2 計算値：C59.90；H5.30；N13.22；S8.64 実験値：C60.09；H5.68；N13.08；S8.63 実施例 20 実施例17と同様にして、ジフエニルメチル７―
〔Ｄ（−）―α―（ｔ―ブトキシカルボキサミド）
―α―（フエニル）アセトアミド〕―2α―メチ
ル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール５―
イル）チオメチルセフ―３―エム―４―カルボキ
シラートより７―〔Ｄ（−）―α―アミノ―α―
（フエニル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸を得
る。（収率19％）． IRνKBr naxcm-1：1765；1695. NMR（CD3COOD）δ：1.56（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz，2α―CH3 ），3.88（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
Ｈ），3.92（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），
4.10および4.54（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，
―ＣＨ 2―Ｓ―），5.10（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），5.40（1H，ｓ，―CH―CO―），5.89（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），7.35〜7.65（5H，ｍ，
C6H5―）． 元素分析：C19H21N7O4S2・H2O 計算値：C46.23；H4.70；N19.87；S12.99 実験値：C46.17；H4.66；N19.60；S12.79 実施例 21 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―２―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチレン―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラート45ｇのテト
ラヒドロフラン150ml溶液に、０℃でNaBH44.4
ｇのEtOH250ml溶液を加え７分間かき混ぜ、
AcOH15mlを加える。溶媒を減圧留去し、残留物
にAcOEtとH2Oを加えAcOEt層を分取。AcOEt
層は５％NaHCO3水、飽和食塩水で洗浄、
Na2SO4で乾燥後、AcOEtを減圧留去する。残留
物をシリカゲルカラムに加えCH2Cl2・AcOEt
（10：１）で溶出する画分を集め、溶媒を減圧留
去するとジフエニルメチル ７―（２―チエニルアセトアミド）―２―メチ
ル―３―アセトキシメチルセフ―２―エム―４―
カルボキシラート18.7ｇ（41％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1770，1730，1650. NMR（DMSO―d6）δ：1.78（3H，ｓ，―CO
―CH3 ），1.96（3H，ｓ，２―CH3 ），3.72（2H，
ｓ，―CH2 ―CO―），4.57および4.73（それぞれ
1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.06
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.20（1H，ｓ，
４―Ｈ），5.42（1H，dd，Ｊ＝４，５，8.5Hz，７
―Ｈ），6.70〜6.95（3H，ｍ，チオフエンプロトン
３および４位，―ＣＨ（C6H5）2），7.15〜7.50
（11H，ｍ，チオフエンプロトン５位，C6H5 ×
２），9.12（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C30H28N2O6S2 計算値：C62.48；H4.89；N4.86；S11.12 実験値：C62.55；H4.89；N4.97；S11.03 実施例 22 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラート―１―オ
キシド ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―アセトキシメチルセフ
―２―エム―４―カルボキシラート37.3ｇの
CH2Cl2300ml溶液に、−20℃でｍ―クロル過安息
香酸13.7ｇのCH2Cl250ml溶液を加え、同温度で
30分間かき混ぜる。反応液を５％NaHCO3水、
飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2
を減圧留去する。残留物にAcOEt・Et2O（１：
３）を加えるとジフエニルメチル７―（２―チエ
ニルアセトアミド）―２―メチル―３―アセトキ
シメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラート
―１―オキシドの結晶32ｇ（84％）を得る。 元素分析：C30H28N2O7S2 計算値：C60.79；H4.76；N4.73；S10.82 実験値：C60.83；H4.86；N4.61；S10.63 実施例 23 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2β―メチル―３―アセトキシメチル
セフ―３―エム―４―カルボキシラートおよび
ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―アセトキシメチル
セフ―３―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―アセトキシメチルセフ
―３―エム―４―カルボキシラート―１―オキシ
ド32ｇのDMF200ml溶液に、−50℃でPCl341.5ml
を加え、−30℃で５分間かき混ぜ、氷水中に加え
AcOEtで抽出する。AcOEt層は５％NaHCO3水、
飽和食塩水で洗浄、Na2SO4で乾燥後、AcOEtを
減圧留去すると粗結晶を得る。AcOEt―Et2O
（１：３）から再結晶するとジフエニルメチル７
―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メチル
―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート17ｇ（55％）を得る。 mp 152℃（decomp.） TLC〔シリカゲル60F―254（メルク社製）、展開
溶媒；トルエン・AcOEt（５：１）〕Rf0.26 IRνKBr naxcm-1：1795，1740，1680，1230. NMR（DMSO―d6）δ：1.45（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2β―CH3 ），1.95（3H，ｓ，―CO―CH3 ），
3.79（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），4.04（1H，ｑ，
Ｊ＝7.0Hz，2α―Ｈ），4.57および4.99（それぞれ
1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.31
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.77（1H，dd，
Ｊ＝5.0，8.0Hz，７―Ｈ），6.90〜7.05（3H，ｍ，
チオフエンプロトン３および４位，―ＣＨ
（C6H5）2），7.20〜7.60（11H，ｍ，チオフエンプ
ロトン５位，C6H5 ×２），9.12（1H，ｄ，Ｊ＝8.0
Hz，―CO―ＮＨ―） NOE：2β―CH3を照射する時、６位プロトン
の面積は増加しない。 元素分析：C30H28N2O6S2 計算値：C62.48；H4.89；N4.86；S11.12 実験値：C62.35；H4.71；N4.80；S11.21 母液を濃縮後、残留物をシリカゲルカラムに加
え、トルエン・AcOEt（15：１）で溶出し、先に
溶出する画分を集め、溶媒を減圧留去するとジフ
エニルメチル７―（２―チエニルアセトアミド）
―2α―メチル―３―アセトキシメチルセフ―３
―エム―４―カルボキシラート0.3ｇ（１％）を
得る。 TLC〔シリカゲル60F―254（メルク社製）、展開
溶媒：トルエン・AcOEt（５：１）〕Rf0.30 IRνKBr naxcm-1：1795，1740，1700，1230. NMR（DMSO―d6）δ：1.47（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），1.91（3H，ｓ，―CO―CH3 ），
3.75（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.84（1H，ｑ，
Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.51および4.82（それぞれ
1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.24
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.82（1H，dd，
Ｊ＝5.0，8.0Hz，７―Ｈ），6.80〜7.00（3H，ｍ，
チオフエンプロトン３および４位，―ＣＨ
（C6H5）2），7.10〜7.50（11H，ｍ，チオフエンプ
ロトン５位，C6H5 ×２），9.13（1H，ｄ，Ｊ＝8.0
Hz，―CO―ＮＨ―）． NOE：2α―CH3を照射する時６位プロトンの
面積は32％増加する。 元素分析：C30H28N2O6S2 計算値：C62.48；H4.89；N4.86；S11.12 実験値：C62.73；H4.74；N4.68；S11.09 実施例 24 ７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メ
チル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―
４―カルボン酸ナトリウム塩 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2β―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラート1.4ｇ、ア
ニソール３ml、CF3COOH20mlの溶液を室温で15
分間かき混ぜる。CF3COOHを減圧留去後残留物
をAcOEtに溶解し、５％NaHCO3水に転溶する。
水層は５％H3PO4を加えPH2.0に調整したふたた
びAcOEtで抽出する。AcOEt層を飽和NaCl水で
洗浄、Na2SO4で乾燥後、AcOEtを減圧留去する
と７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メ
チル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４
―カルボン酸の粗結晶を得る。これを５％
NaHCO3水に溶解し、５％H3PO4を加えPH7.0に
調整後、アンバーライトXAD―（ロームアン
ドハース社製）のカラムに加える。H2Oで溶出
する画分を集め、減圧濃縮したのち凍結乾燥する
と７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メ
チル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４
―カルボン酸ナトリウム塩829mg（79％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1760，1735，1655，1600. NMR（D2O）δ：1.46（3H，ｄ，Ｊ＝０Hz，2β
―CH3 ），2.11（3H，ｓ，―CO―CH3 ），3.91
（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.98（1H，ｑ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―Ｈ），4.69および5.07（それぞれ1H，
ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.2（1H，ｄ，
Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.60（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，
７―Ｈ），6.95〜7.10（1H，ｍ，チオフエンプロト
ン３および４位），7.30〜7.55（1H，ｍ，チオフエ
ンプロトン５位）． 元素分析：C17H17N2O6S2Na・３／2H2O 計算値：C44.44；H4.39；N6.10；S13.96 実験値：C44.62；H4.11；N5.85；S13.75 実施例 25 前記実施例と同様にして、ジフエニルメチル７
―（２―チエニルアセトアミド）―2α―メチル
―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラートより７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩を得
る。（収率66％）． IRνKBr naxcm-1：1780，1680，1240. NMR（D2O）δ：1.63（3H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz，
2α―CH3 ），2.33（3H，ｓ，―CO―CH3 ），3.70
（1H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），4.00（2H，ｓ，
―CH2 ―CO―），4.78および5.00（それぞれ1H，
ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.30（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.82（1H，ｄ，Ｊ＝5.O
Hz，７―Ｈ），7.07〜7.23（2H，ｍ，チオフエンプ
ロトン３および４位），7.40〜7.58（1H，ｍ，チオ
フエンプロトン５位）． 元素分析：C17H17N2O6S2・３／2H2O 計算値：C44.44；H4.39；N6.10；S13.96 実験値：C44.81；H4.48；N6.04；S13.76 実施例 26 ７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メ
チル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４―
カルボン酸ナトリウム塩 ７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メ
チル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４
―カルボン酸410mgおよびNaHCO384mgを１／
15Mリン酸緩衝液（PH6.4）20mlに溶解し、１―
メチル―５―メルカプトテトラゾール139mgを加
える。反応液は５％NaHCO3水の注加によりPH
6.4に保ちながら50℃で６時間かき混ぜ、アンバ
ーライトXAD―（ロームアンドハース社製）
のカラムに加え、カラムを水洗後、０〜70％
MeOH水のグラジエント法で溶出する。溶出画
分を集め減圧濃縮したのち、凍結乾燥すると７―
（２―チエニルアセトアミド）―2β―メチル―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナト
リウム塩148mg（30％）を得る。 TLC〔シリカゲル60F―254（メルク社製）、展開
溶媒：AcOEt・AcOH（10：１）〕Rf0.23 IRνKBr naxcm-1：1760，1670，1600. NMR（D2O）δ：1.48（3H，ｄ，Ｊ＝０Hz，2β
―CH3 ），3.89（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.95
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2α―Ｈ），4.03（3H，ｓ，
テトラゾール１―CH3 ），4.43および4.87（それぞ
れ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｓ―），5.11
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.47（1H，ｄ，
Ｊ＝4.5Hz，７―Ｈ），6.90〜7.10（2H，ｍ，チオ
フエンプロトン３および４位），7.25〜7.45（1H，
ｍ，チオフエンプロトン５位）． 元素分析：C17H17N6O4S3NA・３／2H2O 計算値：C39.60；H3.91；N16.30；S18.66 実験値：C39.80；H3.84；N16.20；S18.53 実施例 27 前記実施例と同様にして、７―（２―チエニル
アセトアミド）―2β―メチル―３―アセトキシ
メチルセフ―３―エム―４―カルボン酸と５―メ
チル―２―メルカプト―１，３，４―チアジアゾ
ールより７―（２―チエニルアセトアミド）――
2β―メチル―３―（５―メチル―１，３，４―
チアジアゾール―２―イル）チオメチルセフ―３
―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩を得る。
（収率42％）． TLC〔シリカゲル60F―254（メルク社製）、展開
溶媒：AcOEt・AcOH（10：１）〕Rf0.33 IRνKBr naxcm-1：1760，1675，1605. NMR（D2O）δ：1.44（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―CH3 ），2.73（3H，ｓ，チアジアゾール５―
CH3），3.89（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），4.09
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2α―Ｈ），3.87および4.71
（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝14.0Hz，―CH2 ―Ｓ
―），5.10（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.50
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７―Ｈ），6.96〜7.10（2H，
ｍ，チオフエンプロトン３および４位），7.25〜
7.50（1H，ｍ，チオフエンプロトン５位）． 元素分析：C18H17N4O4S4Na・H2O 計算値：C41.29；H3.66；N10.70；S24.49 実験値：C41.27；H3.51；N10.98；S24.47 実施例 28 実施例26と同様にして、７―（２―チエニルア
セトアミド）―2β―メチル―３―アセトキシメ
チルセフ―３―エム―４―カルボン酸と１―カル
ボキシメチル―５―メルカプトテトラゾールより
７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メチ
ル―３―（１―カルボキシメチル―1H―テトラ
ゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―
４―カルボン酸二ナトリウム塩を得る。（収率20
％）． IRνKBr naxcm-1：1770，1670，1620. NMR（D2O）δ：1.48（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―CH3 ），3.92（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.97お
よび4.74（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―
CH2―Ｓ―），4.07（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2α―
Ｈ），5.03（2H，ｓ，テトラゾール１―CH2 ―CO
―），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.52
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７―Ｈ），7.00〜7.20（2H，
ｍ，チオフエンプロトン３および４位），7.30〜
7.50（1H，ｍ，チオフエンプロトン５位）． 元素分析：C18H16N6O6S3Na2・3H2O 計算値：C35.52；H3.64；N13.81；S15.80 実験値：C35.92；H3.62；N13.30；S15.88 実施例 29 ジフエニルメチル７―アミノ―2β―メチル―
３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2β―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラート４ｇの
CH2Cl2170ml溶液に、ピリジン6.8mlを加え、−12
℃でPCl54.35ｇを加え、同温度で45分間かき混ぜ
る。これにMeOH45mlを一度に加え、−10℃で30
分間、さらに室温で１時間かき産ぜる。反応液に
0.5MK2HPO4溶液100ml、さらに25％H3PO4を加
えてPH1.5に調整後、45分間かき混ぜ、CH2Cl2層
を分取する。飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥
後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシリカゲ
ルカラムに加えCH2Cl2・AcOEt（10：１）で溶出
する画分を集め、溶媒を減圧留去する。残留物に
石油エーテルを加えるとジフエニルメチル７―ア
ミノ―2β―メチル―３―アセトキシメチルセフ
―３―エム―４―カルボキシラートの結晶3.7ｇ
（87％）を得る。 mp101℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1760，1730，1220。 NMR（DMSO―d6＋D2O）δ：1.40（3H，ｄ，
Ｊ＝7.0Hz，2β―CH3 ），1.89（3H，ｓ，―CO―
CH3），3.94（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2α―Ｈ），4.48
および4.93（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―
CH2―Ｏ―），4.76（1H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，６―
Ｈ），5.12（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），6.85
（1H，ｓ，―ＣＨ（C6H5）2），7.33（10H，ｓ，
C6H5×２）． 元素分析：C24H24N2O5S 計算値：C63.70；H5.35；N6.19；S7.08 実験値：C63.62；H5.25；N6.11；S7.03 実施例 30 ジフエニルメチル７―〔２―（２―クロルアセ
チルアミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―
２―メトキシイミノアセトアミド〕―2β―メ
チル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―
４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―アミノ―2β―メチル―
３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―カル
ボキシラート1.6ｇのCH2Cl250ml溶液に、−40℃
でEt3N0.5ml，２―（２―クロルアセチルアミノ
チアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキシ
イミノアセチルクロリド1.13ｇを加え、−20℃〜
−15℃で45分間かき混ぜる。反応液をH2O，５
％NaHCO3水、飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾
燥後CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシリカゲ
ルカラムに加え、CH2Cl2・AcOEt（５：１）で溶
出する画分を集め、溶媒を減圧留去するとジフエ
ニルメチル７―〔２―（２―クロルアセチルアミ
ノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキ
シイミノアセトアミド〕―2β―メチル―３―ア
セトキシメチルセフ―３―エム―４―カルボキシ
ラート1.5ｇ（61％）を得る。 バイルシユタイン反応 陽性 IRνKBr naxcm-1：1790，1740，1685，1230. 実施例 31 ７―〔２―（２―アミノチアゾール―４―イ
ル）―（Ｚ）―２―メトキシイミノアセトアミ
ド〕―2β―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩 ジフエニルメチル７―〔２―（２―クロルアセ
チルアミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２
―メトキシイミノアセトアミド〕―2β―メチル
―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート1.45ｇ、アニソール２ml，
CF3COOH25mlの溶液を、室温で20分間かき混ぜ
る。CF3COOHを減圧留去後、残留物をAcOEtお
よび５％NaHCO3水に分配し、水層を分取する。
層は５％H3PO4を加えPH6.8に調整し、チオ尿素
0.36ｇを加え一夜撹拌後、アンバーライトXAD
―（ロームアンドハース社製）のカラムに加
え、カラムを水洗後、０〜70％MeOH水のグラ
ジエント法で溶出する。溶出画分を集め減圧濃縮
したのち、凍結乾燥すると７―〔２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキ
シイミノアセトアミド〕―2β―メチル―３―ア
セトキシメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸
ナトリウム塩295mg（30％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1770，1670，1610，1240。 NMR（D2O）δ：1.50（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―CH3 ），2.10（1H，ｓ，―CO―CH3 ），4.00
（3H，ｓ，―CH3 ），4.05（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，
2α―Ｈ），4.69および5.07（それぞれ1H，ABq，
Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.34（1H，ｄ，Ｊ＝
4.5Hz，６―Ｈ），5.78（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７―
Ｈ），7.03（1H，ｓ，チアゾール５―Ｈ）． 元素分析：C17H18N5O7S2Na・2H2O 計算値：C38.70；H4.20；N13.28；S12.16 実験値：C38.61；H4.32；N13.21；S12.06 実施例 32 実施例26と同様にして、７―〔２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキ
シイミノアセトアミド〕―2β―メチル―３―ア
セトキシメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸
ナトリウム塩と１―メチル―５―メルカプトテト
ラゾールより７―〔２―（２―アミノチアゾー
ル）―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキシイミノ
アセトアミド〕―2β―メチル―３―（１―メチ
ル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
セフ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩を
得る。（収率32％）． IRνKBr naxcm-1：1770，1680，1615. NMR（D2O）δ：1.53（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―CH3 ），4.00（3H，ｓ，テトラゾール１―
CH3），4.06（3H，ｓ，―Ｏ―CH3 ），4.17（1H，
ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2α―Ｈ），5.26（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，
６―Ｈ），5.68（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７―Ｈ），7.05
（1H，ｓ，チアゾール５―Ｈ）． 元素分析：C17H18N9O5S3Na・2H2O 計算値：C34.98；H3.80；N21.60；S16.48 実験値：C34.83；H3.75；N21.53；S16.32 実施例 32 (1) 原料化合物の製造 Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―ジオキ
ソー１―ピペラジンカルボキサミド）―α―２
―チエニル酢酸 Ｄ（−）―α―チエニルグリシン２ｇの
CH2Cl240ml懸濁液にトリメチルクロルシラン3.4
mlを加え、０〜５℃でEt3N3.6mlを滴下する。
徐々に昇温させ、室温で1.5時間かき混ぜ、４―
エチル―２，３―ジオキソ―１―ピペラジンカル
ボニルクロリド３ｇを加え、２時間かき混ぜる。
これにH2O45mlを加え45分間かき混ぜ、CH2Cl2
層を分取する。CH2Cl2層は飽和NaHCO3水で抽
出し、水層を分取。水層は25％H3PO4を加えPH
2.0に調整後ふたたびCH2Cl2で抽出する。CH2Cl2
層は飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、
CH2Cl2を減圧留去する。残留物にEt2Oを加える
とＤ（−）―α―（エチル―２，３―ジオキソ―
１―ピペラジンカルボキサミド）―２―チエニル
酢酸2.6ｇ（63％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1740，1730，1675. (2) ７―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３
―ジオキソ―１―ピペラジンカルボキサミド）
―α―（２―チエニル）アセトアミド〕―2β
―メチル―３―アセトキシメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボン酸ナトリウム塩 Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―ジオキ
ソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―２―チエ
ニル酢酸358mg，ジフエニルメチル７―アミノ―
2β―メチル―３―アセトキシメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラート500mgのCH2Cl250ml
溶液に、−10℃でジシクロヘキシルカルボジイミ
ド250mgを加え同温度で１時間、室温で一夜かき
混ぜる。生成したジシクロヘキシル尿素をろ別
し、ろ液を５％H3PO4，５％NaHCO3水，飽和
NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減
圧留去する。残留物をアニソール１ml，
CF3COOH20mlに溶解し室温で20分間かき混ぜ、
CF3COOHを減圧留去する。残留物をAcOEtに溶
解し、５％NaHCO3水に転溶する。水層は５％
H3PO4を加えPH7.0に調整後、アンバーライト
XAD―（ローム・アンド・ハース社製）のカ
ラムに加え、カラムを水洗後０〜70％NeOH水
のグラジエント法で溶出する。溶出画分を集め、
減圧濃縮したのち凍結乾燥すると７―〔Ｄ（−）
―α―（４―エチル―２，３―ジオキソ―１―ピ
ペラジンカルボキサミド）―α―（２―チエニ
ル）アセトアミド〕―2β―メチル―３―アセト
キシメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナト
リウム塩140mg（21％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1760，1705，1680，1600. NMR（D2O）δ：1.30（3H，ｔ，Ｊ＝7.0Hz，―
CH2―CH3 ），1.48（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
CH3），2.20（3H，ｓ，―CO―CH3 ），3.65〜4.30
（5H，ｍ，ピペラジンメチレン５位および６位、
セフエム2α―Ｈ），4.78および5.13（それぞれ1H，
ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.27（1H，
ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.75（1H，ｄ，Ｊ＝4.5
Hz，７―Ｈ），5.90（1H，ｓ，＞ＣＨ―CO―），
7.10〜7.45（2H，ｍ，チオフエンプロトン３およ
び４位），7.50〜7.70（1H，ｍ，チオフエンプロト
ン５位）． 元素分析：C24H26N5O9S2Na・H2O 計算値：C45.49；H4.45；N11.05；S10.12 実験値：C45.41；H4.49；N11.12；S10.01 実施例 34 ７―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―
ジオキソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―
α―（２―チエチル）アセトアミド〕―2β―
メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４
―カルボン酸 ７―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―
ジオキソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―α
―（２―チエニル）アセトアミド〕―2β―メチ
ル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―
カルボン酸ナトリウム塩306mg，１―メチル―５
―メルカプトテトラゾール70mgの１／15Mリン酸
緩衝液（PH6.4）20ml溶液を５％NaHCO3水の注
加によりPH6.4に保ちながら50℃で３時間かき混
ぜ、アンバーライトLAD―（ロームアンドハ
ース社製）のカラムに加え、カラムを水洗後、０
〜70％のMeOH水のグラジエント法で溶出する。
溶出画分を集め減圧濃縮後、５％H3〜PO4を加
えPH2.0に調整し、AcOEtで抽出する。AcOEt層
をH2O，飽和NaCl水で洗浄，Na2SO4で仮乾燥
後AcOEtを減圧留去すると７―〔Ｄ（−）―α―
（４―エチル―２，３―ジオキソ―１―ピペラジ
ンカルボキサミド）―α―（２―チエニル）アセ
トアミド〕―2β―メチル―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ
―３―エム―４―カルボン酸110mg（34％）を得
る。 IRνKBr naxcm-1：1775，1680. NMR（DMSO―d6）：1.09（3H，ｔ，Ｊ＝7.0
Hz，―CH2―CH3 ），1.42（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
2β―CH3 ），3.39（2H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，―CH2 ―
CH3），3.40〜3.90（5H，ｍ，ピペラジンメチレン
５および６位，2α―Ｈ），3.92（3H，ｓ，テトラ
ゾール１―CH3 ），4.08および4.75（それぞれ1H，
ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｓ―），5.10（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.63（1H，dd，Ｊ＝
5.0，9.0Hz，７―Ｈ），5.90（1H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
＞ＣＨ―NH―），6.80〜7.20（2H，ｍ，チオフエ
ンプロトン３および４位），7.30〜7.55（1H，ｍ，
チオフエンプロトン５位），9.43（1H，ｄ，Ｊ＝
9.0Hz，―CO―ＮＨ―），9.74（1H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz，＞CH―ＮＨ―）． 元素分析：C24H27N9O7S3 計算値：C44.36；H4.19；N19.40；S14.80 実験値：C44.32；H4.08；N19.35；S14.65 実施例 35 (1) 原料化合物の製造 Ｄ（−）―α―（２，３―ジオキソ―４―エチ
ル―１―ピペラジンカルボキサミド）―１，４
―シクロヘキサジエニル酢酸 Ｄ（−）―α―アミノ―１，４―シクロヘキサ
ジエニル酢酸1.2ｇのCH2Cl250ml懸濁液に、トリ
メチルクロルシラン2.04mlを加え、ついで０〜５
℃としEt3N2.16mlを滴下する。徐々に昇温させ、
室温で1.5時間かき混ぜ、２，３―ジオキソ―４
―エチル―１―ピペラジンカルボニルクロリド
1.8ｇを加え、２時間かき混ぜる。ついでH2O45
mlを加え45分間かき混ぜ、CH2Cl2層を分取する。
CH2Cl2層は飽和NaHCO3水で抽出し、水層を分
取。水層は25％H3PO4を加えPH2.0に調整後、ふ
たたびCH2Cl2で抽出する。CH2Cl2層は飽和
NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減
圧留去する。残留物に石油エーテルを加えるとＤ
（−）―α―（２，３―ジオキソ―４―エチル―
１―ピペラジンカルボキサミド）―１，４―シク
ロヘキサジエニル酢酸1.9ｇ（75％）を得る。 (2) ７―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル２，３―
ジオキソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―
α―（１，４―シクロヘキサジエニル）アセト
アミド〕―2β―メチル―３―アセトキシメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム
塩 Ｄ（−）―α―（４―エチル２，３―ジオキソ
―１―ピペラジンカルボキサミド）―１，４―シ
クロヘキサジエニル酢酸321mg，ジフエニルメチ
ル７―アミノ―2β―メチル―３―アセトキシメ
チルセフ―３―エム―４―カルボキシラート452
mgのCH2Cl250ml溶液に、−10℃でジシクロヘキシ
ルカルボジイミド226mgを加え同温度で１時間、
さらに室温で一夜かき混ぜる。生成したジシクロ
ヘキシル尿素をろ別し、ろ液を５％H3PO4，５
％NaHCO3水，飽和NaCl水で洗浄，MgSO4で乾
燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をアニソ
ール１ml，CF3COOH20mlに溶解し、室温で20分
間かき混ぜる。CF3COOHを減圧留去後、残留物
をAcOEtに溶解し、５％NaHCO3水に転溶する。
水層は５％H3PO4を加えPH7.0に調整後、アンバ
ーライトXAD―（ローム，アンド・ハース社
製）のカラムに加え、カラムを水洗後０〜70％
MeOH水のグラジエント法で溶出する。溶出画
分を集め、減圧濃縮したのち、凍結乾燥すると７
―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル２，３―ジオキ
ソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―α―
（１，４―シクロヘキサジエニル）アセトアミド〕
―2β―メチル―３―アセトキシメチルセフ―３
―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩235mg（40
％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1775，1715，1690，1620. NMR（D2O）δ：1.30（3H，ｔ，Ｊ＝7.0Hz，―
CH2―CH3 ），1.55（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
CH3），2.20（3H，ｓ，―CO―CH3 ），2.82（4H，
ｓ，シクロヘキサジエンメチレン３位および６
位），3.62（2H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，―CH2 ―CH3），
3.65〜4.30（5H，ｍ，ピペラジンメチレン５位お
よび６位，セフエム2α―Ｈ），4.08および5.13（そ
れぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，CH2 ―Ｏ―），
5.07（1H，ｓ，＞ＣＨ―CO―），5.33（1H，ｄ，Ｊ
＝4.5Hz，６―Ｈ），5.75（1H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz，７
―Ｈ），5.85（2H，ｓ，シクロヘキサジエンプロ
トン４位および５位），6.13（1H，br.s，シクロヘ
キサジエンプロトン２位） 元素分析：C26H30N5O9SNa・H2O 計算値：C49.60；H5.12；N11.12；S5.09 実験値：C49.47；H5.26；N11.21；S5.01 実施例 36 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ホルミルセフ―２―
エム―４―カルボキシラート ピリジン6.7mlを含むCH2Cl2250mlに20℃で
CrO34.2ｇを加え１時間かき混ぜ、ジフエニルメ
チル７（２―チエニルアセトアミド）―２―メチ
ル―３―ヒドロキシメチルセフ―２―エム―４―
カルボキシラート2.6ｇのCH2Cl2溶液30mlを加え
５分間はげしくかき混ぜる。反応液に1Mクエン
酸溶液100mlを加えかき混ぜ、CH2Cl2層を分取。
CH2Cl2層はH2O，飽和NaCl水で洗浄、MgSO4
で乾燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシ
リカゲルカラムに加え、CH2Cl2・AcOEt（20：
１）で溶出する画分を集め、溶媒を減圧留去する
とジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ホルミルセフ―２―エ
ム―４―カルボキシラート938mg（36.2％）を得
る。 IRνKBr naxcm-1：1790，1750. NMR（DMSO―d6）δ：2.50（3H，ｓ，２―
CH3），3.78（2H，ｓ，―ＣＨ 2―CO―），5.07
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.45（1H，ｓ，
４―Ｈ），5.47（1H，dd，Ｊ＝4.5Hz，8.0Hz，７―
Ｈ），6.70〜7.00（3H，ｍ，チオフエンプロトン３
および４位，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.50
（11H，ｍ，チオフエンプロトン５位，C6H5 ×
２），9.16（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，―CONＨ―），
9.99（1H，ｓ，―ＣＨＯ）． 元素分析：C28H29N2O5S2 計算値：C63.14；H4.54；N5.26；S12.04 実験値：C63.01；H4.29；N5.12；S11.98 実施例 37 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―ホルミルセフ―３
―エム―４―カルボキシラート―１―オキシド ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ホルミルセフ―２―エ
ム―４―カルボキシラート2.5ｇ，ｍ―クロロ過
安息香酸0.95ｇのCH2Cl250ml溶液を室温で１時
間かき混ぜる。反応液を５％NaH―CO3水、飽
和NaCl水で順次洗浄、MgSO4で乾燥後、
CH2Cl2を減圧留去すると粗結晶を得る。CH2Cl2
―AcOEtから再結晶するとジフエニルメチル７
―（２―チエニルアセトアミド）―2α―メチル
―３―ホルミルセフ―３―エム―４―カルボキシ
ラート―１―オキシドの結晶1.27ｇ（50％）を得
る。 mp168℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1805，1725，1665，1040. NMR（DMSO―d6）δ：1.11（3H，ｄ，Ｊ＝
7.5Hz，2α―CH3 ），3.89（2H，ｓ，CH2 ―CO―），
4.11（1H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），5.08（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），6.20（1H，dd，Ｊ＝
5.0，8.5Hz，７―Ｈ），6.84〜7.20（3H，ｍ，チオ
フエンプロトン３および４位，―ＣＨ―
（C6H5）2），7.20〜7.60（11H，ｍ，チオフエンプ
ロトン５位，C6H5 ×２），8.67（1H，ｄ，Ｊ＝8.5
Hz，―CONＨ），9.96（1H，ｓ，―ＣＨＯ）． 元素分析：C28H24N2O6S2 計算値：C61.30；H4.41；N5.11；S11.69 実験値：C61.19；H4.43；N5.14；S11.53 実施例 38 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメ
チルセフ―３―エム―４―カルボキシラート―
１―オキシド ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―メトキシイミノメチル
セフ―２―エム―４―カルボキシラート392mgの
CH2Cl230ml溶液に−20℃でｍ―クロル過安息香
酸133mgのCH2Cl215ml溶液を加え同温度で30分
間、さらに室温で30分間かき混ぜる。反応液を５
％NaHCO3水、飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾
燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシリカ
ゲルカラムに加えベンセン・AcOEt（10：１）で
溶出する画分を集め、溶媒を減圧留去後、残留物
にAcOEtを加えるとジフエニルメチル７―（２
―チエニルアセトアミド）―2α―メチル―３―
メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４―カル
ボキシラート―１―オキシドの結晶の252mg（62
％）を得る。 mp 203℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1800，1730，1670， NMR（CDCl3）δ：1.25（3H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz、
2α―CH3 ），3.84（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.88
（3H，ｓ，―COCH3 ），4.50（1H，ｑ，Ｊ＝7.5
Hz，2β―Ｈ），4.51（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），6.14（1H，dd，Ｊ＝5.0，9.0Hz，７―Ｈ），
6.80〜7.05（3H，ｍ，チオフエンプロトン３およ
び４位，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60（12H，
ｍ，チオフエンプロトン５位、C6 Ｈ 5×２，―
CONＨ―），8.41（1H，ｓ，―ＣＨＯ）． 元素分析：C29H27N3O6S2 計算値：C60.29；H4.71；N7.27；S11.10 実験値：C60.17；H4.70；N7.09；S10.91 実施例 39 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメ
トチルセフ―３―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボキシラート―１―
オキシド249mgのDMF8ml溶液に、−20℃で
PCl30.3mlを加え同温度で45分間かき混ぜる。反
応液にAcOEtとH2Oを加えAcOEt層を分取する。
AcOEt層は５％NaHCO3水、飽和NaCl水で洗
浄、Na2SO4で乾燥後、AcOEtを減圧留去する。
残留物をシリカゲルカラムに加え、ベンゼン・
AcOEt（15：１）で溶出する画分を集め溶媒を減
圧留去後、残留物にEt2Oを加えるとジフエニル
メチル７―（２―チエニルアセトアミド）―2α
―メチル―３―メトキシイミノメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラートの結晶219mg（90％）
を得る。 mp 160℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1790，1725，1665. NMR（DMSO―d6）δ：1.50（3H，ｄ，Ｊ＝
7.5Hz，2α―CH3），3.74（2H，ｓ，―CH2 ―CO
―），3.82（3H，ｓ，―ＯCH3 ），4.35（1H，ｑ，
Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），5.37（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，
６―Ｈ），5.88（1H，dd，Ｊ＝4.5，8.5Hz，７―
Ｈ），6.75〜7.05（3H，ｍ，チオフエンプロトン３
および４位，―ＣＨ（C6H5）2，7.10〜7.60（11H，
ｍ，チオフエンプロトン５位，C6H5 ×２），7.90
（1H，ｓ，―ＣＨ＝Ｎ―），9.18（1H，ｄ，Ｊ＝
8.5Hz，―CONＨ―）． NOE：2α―CH3を照射する時、６位プロトン
の面積は21％増加する。 元素分析：C29H27N3O5S2 計算値：C62.01；H4.75；N7.47；S11.42 実験値：C61.88；H4.75；N7.34；S11.37 実施例 40 ７―（２―チエニルアセトアミド）―2α―メ
チル―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボン酸ナトリウム塩 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボキシラート160mg，
アニソール0.2ml，CF3COOH6mlの溶液を、室温
で20分間かき混ぜる。CF3COOHを減圧留去後、
残留物をAcOEtに溶解し、５％NaHCO3水に転
溶する。水層は５％H3PO4を加えPH7.0に調整後、
アンバーライトXAD―（ロームアンドハース
社製）のカラムに加える。カラムを水洗後20％
MeOH水で溶出する区分を集め、減圧濃縮した
のち凍結乾燥すると７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩
54mg（45％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1775，1680. NMR（D2O）δ：1.56（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
2α―CH3 ），3.91（5H，ｓ，―ＯCH3 および―
CH2―CO―），4.22（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
Ｈ），5.35（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.78
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），6.95〜7.2（2H，
ｍ，チオフエンプロトン３および４位），7.25〜
7.50（1H，ｍ，チオフエンプロトン５位）． 元素分析：C16H16N3O5S2Na・３／2H2O 計算値：C43.24；H4.31；N9.46；S14.43 実験値：C43.22；H4.28；N9.38；S14.25 実施例 41 実施例36と同様にしてジフエニルメチル７―
（２―チエニルアセトアミド）―2α―メチル―３
―ホルミルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
ト―１―オキシドと塩酸モルホリノエトキシアミ
ンよりジフエニルメチル７―（２―チエニルアセ
トアミド）―2α―メチル―３―モルホリノエト
キシメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
ト―１―オキシドを得る。（収率52％）． mp 167℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1800；1730；1675；1040. NMR（DMSO―d6）δ：1.24（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），2.20〜2.60（4H，ｍ，モルホ
リンメチレン３および５位），2.56（2H，ｔ，Ｊ
＝5.5Hz，―CH2CＨ 2N＜），3.40〜3.70（4H，ｍ，
モルホリンメチレン２および６位），3.86（2H，
ｓ，―CH2 ―CO―），4.16（2H，ｔ，Ｊ＝5.5Hz，
―ＯCH2 CH2―），4.43（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―Ｈ），5.05（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），6.02
（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.5Hz，７―Ｈ），6.80〜7.00
（3H，ｍ，チオフエンプロトン３および４位，―
ＣＨ（C6H5）2），7.15〜7.60（11H，ｍ，チオフエ
ンプロトン５位，C6H5 ×２），8.14（1H，ｓ，―
ＣＨ＝Ｎ―），8.52（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―
ＮＨ―）． 元素分析：C34H36N4O7S2 計算値：C60.34；H5.36；N8.28；S9.47 実験値：C60.58；H5.31；N8.04；S9.51 実施例 42 実施例37と同様にして、ジフエニルメチル７―
（２―チエニルアセトアミド）―2α―メチル―３
―モルホリノエトキシイミノメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボキシラート―１―オキシドよりジ
フエニルメチル７―（２―チエニルアセトアミ
ド）―2α―メチル―３―モルホリノエトキシイ
ミノメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
トを得る。（収率86％）． IRνKBr naxcm-1：1800，1740，1705. NMR（DMSO―d6）δ：1.52（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―ＣH3 ），2.20〜2.60（4H，ｍ，モルホ
リンメチレン３および５位），2.56（2H，ｔ，Ｊ
＝5.5Hz，―CH2CH2 Ｎ＜），3.40〜3.68（4H，ｍ，
モルホリンメチレン２および６位），3.76（2H，
ｓ，―CH2 ―CO―），4.16（2H，ｔ，Ｊ＝5.5Hz，
―ＯCH2 CH2―），4.36（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―Ｈ），5.36（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），6.89
（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.0Hz，７―Ｈ），6.85〜7.00
（3H，ｍ，チオフエンプロトン３および４位，―
ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60（11H，ｍ，チオフエ
ンプロトン５位，C6H5 ×２），7.92（1H，ｓ，―
ＣＨ＝Ｎ―），9.19（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，―CO―
ＮＨ―）． 元素分析：C34H36N4O6S2 計算値：C61.80；H5.48；N8.48；S9.70 実験値：C61.72；H5.31；N8.37；S9.65 実施例 43 実施例40と同様にして、ジフエニルメチル７―
（２―チエニルアセトアミド）―2α―メチル―３
―モルホリノエトキシイミノメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボキシラートより７―（２―チエニ
ルアセトアミド）―2α―メチル―３―モルホリ
ノエトキシイミノメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボン酸ナトリウム塩を得る。（収率49％）． IRνKBr naxcm-1：1775，1680，1620. NMR（D2O）δ：1.65（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
2α―CH3 ），2.60〜3.00（6H，ｍ，―CH2 CH2 Ｎ
＜，モルホリンメチレン３および５位），3.70〜
3.96（4H，ｍ，モルホリンメチレン２および６
位），4.00（2H，ｓ，―CH2 ―CO），4.16〜4.60
（3H，ｍ，―ＯCH2 CH2―，2β―Ｈ），5.43（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.85（1H，ｄ，Ｊ＝5.0
Hz，７―Ｈ），7.10〜7.30（2H，ｍ，チオフエンプ
ロトン３および４位）、7.35〜7.55（1H，ｍ，チオ
フエンプロトン５位）． 元素分析：C21H25N4O6S2Na・2H2O 計算値：C45.64；H5.29；N0.14；S11.60 実験値：C45.83；H5.26；N9.98；S11.58 実施例 44 ジフエニルメチル７―アミノ―2α―メチル―
３―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４
―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボキシラート2.8ｇ
のCH2Cl260ml溶液にピリジン５mlを加え、窒素
気流中、−10℃でPCl53.05ｇを加え同温度で１時
間かき混ぜる。これにMeOH50mlを一度に加え、
−15°〜−10℃で30分間、さらに室温で２時間か
き混ぜる。反応液に0.5MK2HPO4溶液100ml、さ
らに25％H3PO4を加えPH2.0に調整後、30分間か
き混ぜ、CH2Cl2層を分取する。CH2Cl2層は飽和
NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減
圧留去する。残留物をシリカゲルカラムに加え、
CH2Cl2・AcOEt（35：１）で溶出する画分を集
め、溶媒を減圧留去するとジフエニルメチル ７―アミノ―2α―メチル―３―メトキシイミ
ノメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラート
1.44ｇ（66％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1785，1735. NMR（DMSO―d6＋D2O）δ：1.54（3H，ｄ，
Ｊ＝7.5Hz，2α―CH3 ），3.83（3H，ｓ，―Ｏ
CH3），4.31（1H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），4.98
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.26（1H，ｄ，
Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），6.94（1H，ｓ，―ＣＨ
（C6H5）2），7.38（10H，ｓ，C6H5 ×２），7.93（１
Ｈ，ｓ，―ＣＨ＝Ｎ―）． 元素分析：C23H23N3O4S 計算値：C63.14；H5.30；N9.61；S7.33 実験値：C63.34；H5.37；N9.32；S7.34 実施例 45 ジフエニルメチル７〔２―フエニル―（Ｚ）―
２―メトキシイミノアセトアミド〕―2α―メ
チル―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボキシラート Ｚ―２―メトキシイミノフエニル酢酸179mg、
ジフエニルメチル７―アミノ―2α―メチル―３
―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート437mgのCH2Cl230ml溶液に−10℃
でジシクロヘキシルカルボジイミド240mgを加え
同温度で１時間、ついで室温で一夜かき混ぜる。
生成したジシクロヘキシル尿素をろ別し、ろ液を
５％NaHCO3水、５％H3PO4、飽和NaCl水で洗
浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減圧留去する。
残留物をシリカゲルカラムに加え、CH2Cl2で溶
出する画分を集め、CH2Cl2を減圧留去するとジ
フエニルメチル７―〔２―フエニル―（Ｚ）―２
―メトキシイミノアセトアミド〕―2α―メチル
―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４
―カルボキシラート488mg（82％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1795，1725，1670. NMR（DMSO―d6）δ：1.56（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），3.82（3H，ｓ，―ＯCH3 ），
3.93（3H，ｓ，―ＯCH3 ），4.37（1H，ｑ，Ｊ＝7.0
Hz，2β―Ｈ），5.47（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），6.07（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.0Hz，７―Ｈ），
6.93（1H，ｓ，―ＣＨ（C6H5）2），7.15〜7.77
（15H，ｍ，C6H5 ×３），7.93（1H，ｓ，―ＣＨ＝
Ｎ―）． 元素分析：C32H30N4O6S 計算値：C64.20；H5.05；N9.36；S5.36 実験値：C64.35；H5.14；N9.12；S5.48 実施例 46 ７―〔２―フエニル―（Ｚ）―２―メトキシイ
ミノアセトアミド〕―2α―メチル―３―メト
キシイミノメチルセフ―３―エム―４―カルボ
ン酸 ジフエニルメチル７―〔２―フエニル―（Ｚ）
―２―メトキシイミノアセトアミド〕―2α―メ
チル―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エム
―４―カルボキシラート294mg，アニソール0.3
ml，CF3COOH10mlの溶液を、室温で20分間かき
混ぜる。CF3COOHを減圧留去後、残留物を
AcOEtに溶解し、５％NaHCO3水に転溶する。
水層は５％H3PO4を加えPH2.0に調整後ふたたび
AcOEtで抽出する。AcOEt層をH2O、飽和NaCl
水で洗浄、Na2SO4で乾燥後、AcOEtを減圧留去
する。残留物にEt2Oを加えると７―〔２―フエ
ニル―（Ｚ）―２―メトキシイミノアセトアミ
ド〕―2α―メチル―３―メトキシイミノメチル
セフ―３―エム―４―カルボン酸の結晶114mg
（54％）を得る。 mp 189℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1795，1730，1650. NMR（DMSO―d6）δ：1.56（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），3.86（3H，ｓ，―ＯCH3 ），
３・92（3H，ｓ，―ＯCH3 ），4.32（1H，ｑ，Ｊ＝
7.0Hz，2β―Ｈ），5.43（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），5.98（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.0Hz，７―Ｈ），
7.30〜7.70（5H，ｍ，C6H5 ），8.09（1H，ｓ，―Ｃ
Ｈ＝Ｎ―），9.81（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，―CO―Ｎ
Ｈ―）． 元素分析：C19H20N4O6S 計算値：C52.77；H4.66；N12.96；S7.41 実験値：C52.71；H4.63；N12.95；S7.30 実施例 47 ジフエニルメチル７―〔２―（２―クロルアセ
チルアミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―
２―メトキシイミノアセトアミド〕―2α―メ
チル―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―アミノ―2α―メチル―
３―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４―
カルボキシラート656mgのCH2Cl330ml溶液に、−
20℃でEt3NO.2ml，２―（２―クロルアセチルア
ミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メト
キシイミノアセチルクロリド407mgを加え、−20℃
〜−15℃で1.5時間かき混ぜる。反応液をH2O，
５％NaHCO3水、飽和NaCl水で洗浄，MgSO4で
乾燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシリ
カゲルカラムに加え、CH2Cl2：AcOEt（15：１）
で溶出する画分を集め、溶媒を減圧留去するとジ
フエニルメチル ７―〔２―（２―クロルアセチルアミノチアゾ
ール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキシイミノ
アセトアミド〕―2α―メチル―３―メトキシイ
ミノメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
ト783mg（75％）を得る。 バイルシユタイン反応陽性 IRνKBr naxcm-1：1795，1730，1690. 元素分析：C31H29N6O7S2Cl 計算値：C53.40；H4.19；N12.06；S9.20 実験値：C53.33；H4.01；N11.95；S9.13 実施例 48 ジフエニルメチル７―〔２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキシイ
ミノアセトアミド〕―2α―メチル―３―メト
キシイミノメチルセフ―３―エム―４―カルボ
キシラート ジフエニルメチル７―〔２―（２―クロルアセ
チルアミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２
―メトキシイミノアセトアミド〕―2α―メチル
―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４
―カルボキシラート713mgのテトラヒドロフラン
10ml溶液に、チオ尿素84mgのH2O1ml液を加え一
夜かき混ぜ、溶媒を減圧留去する。残渣を
CH2Cl2に溶解し、H2O、飽和NaCl水で順次洗
浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減圧留去する。
残留去をシリカゲルカラムに加えCH2Cl2・アセ
トン（９：１）で溶出する画分を集め、溶媒を減
圧留去するとジフエニルメチル７―〔２―（２―
アミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メ
トキシイミノアセトアミド〕―2α―メチル―３
―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート180mg（28％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1800，1740，1695. NMR（DMSO―d6＋D2O）δ：1.54（3H，ｄ，
Ｊ＝7.0Hz，2α―CH3 ），３・82（3H，ｓ，―Ｏ
CH3），3.85（3H，ｓ，―ＯCH3 ），4.36（1H，ｑ，
Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），5.41（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，
6.Ｈ），5.99（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），6.74
（1H，ｓ，チアゾール５―Ｈ），6.92（1H，ｓ，
―ＣＨ（C6H5）2），7.36（10H，ｓ，C6H5 ×２）． 元素分析：C29H28N6O6S2 計算値：C56.11；H4.55；N13.54；S10.33 実験値：C56.20；H4.79；N13.07；S9.95 実施例 49 ７―〔２―（２―アミノチアゾール―４―イ
ル）―（Ｚ）―２―メトキシイミノアセトアミ
ド〕―2α―メチル―３―メトキシイミノメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム
塩 ジフエニルメチル７―〔２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキシイミ
ノアセトアミド〕―2α―メチル―３―メトキシ
イミノメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラ
ート139mg、アニソール0.15ml，CF3COOH10ml
の溶液を、室温で20分間かき混ぜる。CF3COOH
を減圧留去後、残留物をFt2Oおよび５％
NaHCO3水に分配し、水層を分取する。水層は
５％H3PO4を加えPH7.0に調整後アンバーライト
XAD―（ロームアンドハース社製）のカラム
に加える。カラムを水洗後10％MeOH水で溶出
する画分を集め、減圧濃縮したのち凍結乾燥する
と７―〔２―（２―アミノチアール―４―イル）
―（Ｚ）―２―メトキシイミノアセトアミド〕―
2α―メチル―３―メトキシイミノメチルセフ―
３―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩84mg（73
％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1775，1675. NMR（D2O）δ：1.70（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
2α―CH3 ），4.00（3H，ｓ，―ＯCH3 ），4.10（3H，
ｓ，―ＯCH3 ），4.37（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
Ｈ），5.53（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），6.02
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７―Ｈ），7.10（1H，ｓ，
チアゾール５―Ｈ），8.15（1H，ｓ，―ＣＨ＝Ｎ
―）． 元素分析：C16H17N6O6S2Na・2H2O 計算値：C37.50；H4.13；N16.40；S12.51 実験値：C37.81；H4.14；N16.78；S12.22
COOH）、２―メチル―３―シアノセフエム誘導
体（Y2＝―CN）等の２―メチル―３―置換―セ
フエム誘導体を含成するための原料としても有用
な化合物である。本発明の特許請求の範囲に含ま
れる化合物のR1，R1′およびＺ部分のアミノ基
（アミノ基以外の塩基性を示す窒素含有基を含
む）、カルボキシル基等が本発明の目的化合物を
製造するための反応に関与して副反応を生ずる可
能性のある官能基を含む場合には、その製造にあ
たつてあらかじめこれらの官能基を適当な保護基
で保護しておくことが望ましい。 この場合のアミノ基の保護基としては、例えば
フタロイル、ベンゾイル、ｐ―ニトロベンゾイ
ル、ｐ―クロロベンゾイル、トルオイル、ｐ―
tert―ブチルベンゾイル、フエニルアセチル、フ
エノキシアセチル、ナフトイル、ベンゼンスルホ
ニル、ｐ―トルエンスルホニル、ｐ―tert―ブチ
ルベンゼンスルホニル等の芳香族アシル基、例え
ばアセチル、プロピオニル、バレリル、カプリリ
ル、ｎ―デカノイル、アクリロイル、ピバロイ
ル、モノクロロアセチル、トリフルオロアセチ
ル、メタンスルホニル、カンフアスルホニル等の
脂肪族アシル基、エトキシカルボニル、tert―ブ
トキシカルボニル、iso―ボルニルオキシカルボ
ニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、フエニ
ルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ―ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ―
メトキシベンジルオキシカルボニル等のエステル
化されたカルボキシル基、メチルカルバモイル、
フエニルカルバモイル、ナフチルカルバモイル等
のカルバモイル基もしくは同様なチオカルバモイ
ル基、トリメチルシリル、ジメチルシリル等のシ
リル基等が用いられる他、マコミー（McOmie）
編の上記の刊行物の第２章にジエイ・ダブリユ
ー・バートン（J.W.Barton）によつて記載され
ている上記以外のアミノ基の保護基も同様に用い
られる。 カルボキシル基の保護基としては、例えば、メ
チル、エチル、tert―ブチル、tert―アミル、フ
エニル、ｐ―ニトロフエニル、２，２，２―トリ
クロロエチル、ベンジル、ｐ―メトキシベンジ
ル、ｐ―ニトロベンジル、トリチル、ベンズヒド
リル、ビス（ｐ―メトキシフエニル）メチル、メ
トキシメチル、エトキシメチル、ベンジルオキシ
メチル、フエナシル、ピバロイルオキシメチル、
アセトキシメチル、フタリジル、２―メチルチオ
エチル、トリメチルシリル、ジメチルシリル等が
用いられる他、マコミー（McOmie）編の上記の
刊行物の第５章にイー・ハスラム（E.Haslam）
によつて記載されている上記以外のカルボキシル
基の保護基も同様に用いられる。 要するにこれらの保護基を用いて反応に関与す
る可能性のある官能基を反応前に保護しておき、
反応後、これらの保護基を含んだまま本発明の最
終目的物としてもよいし、反応後保護基を除去し
て最終目的物としてもよい。そもそも、保護基の
種類、それを導入する手段ならびにそれを除去す
る手段は、セフアロスポリン、ペニシリン、ペプ
チドの分野において周知であり十分に確立された
技術であるので、本発明においてもそれらに従つ
てよい。 本発明の一般式（ｃ），（ｄ）および（）
で表わされるセフアロスポリン誘導体ならびにそ
の薬理学的に許容しうる塩はグラム陽性菌〔例え
ばスタフイロコツカス・アウレウス
（Staphylococous aureus）、バチルス・ズブチリ
ス（Bacillus subtilis）等〕のみならずグラム陰
性菌〔たとえばエシエリヒア・コリ
（Escherichia coli）、プロテウス・ブルガリス
（Proteus vulgaris）、プロテウス・モルガニイー
（Proteus morganii）、クレブシエラ・ニユーモ
ニアエ（Klebsiella pneumoniae）等〕に優れた
抗菌力を有し、低毒性であるので、これら細菌に
起因する人又はネズミ（マウス・ラツト）等動物
の感染症の予防剤、又は治療剤、あるいはたとえ
ば手術用器具、病室等の消毒剤として安全に使用
される。たとえば乳糖、デンプン等の適宜の担体
ないし賦形剤と結合して粉末製剤として局所投与
してもよいし、生理的食塩水等の溶解液中に溶解
あるいは懸濁させて溶液又は懸濁液として使用し
てもよい。 本発明の目的化合物は公知のセフアロスポリン
抗生物質たとえばセフアロチンと同様に使用する
ことができる。本発明目的の化合物を消毒剤とし
て使用する場合は、本発明目的化合物の水溶液
（濃度は最少発育阻止濃度の約２倍程度）を使用
するのが好ましい。 以下に実施例を記載して、この発明の内容を詳
述する。 なお、これらの実施例等で用いる記号は、一般
に化学分野において、通常用いられていると同意
義を示す。下記については念のためその意義を明
らかにしておく。 DMF：ジメチルホルムアムド AcOEt：酢酸エチル MeOH：メタノール AcOH：酢酸 DMSO：ジメチルスルホキシド ｓ：シングレツト ｄ：ダブレツト ｔ：トリプレツト ｍ：マルチプレツト dd：ダブルダブレツト ABq：AB型のクアルテツト br.：broad 実施例 １ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ホルミルオキシメチ
ルセフ―２―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―エキソメチレン―３―アセトキシメ
チルセフ―３―エム―４―カルボキシラート―１
―オキシド0.7ｇの90％HCOOH30ml溶液に、亜
鉛末2.5ｇを加え、室温で1.5時間かき混ぜる。反
応液にAcOEtとH2Oを加え下溶物をろ別し、
AcOEt層を分取する。AcOEt層は飽和NaHCO3
水、飽和NaCl水で洗浄後、Na2SO4で乾燥する。
AcOEtを減圧留去後、残留物をシリカゲルカラ
ムに加え、ベンゼン・AcOEt（10：１）で溶出す
る画分を集め、溶媒を減圧留去するとジフエニル
メチル７―（２―チエニルアセトアミド）―２―
メチル―３―ホルミルオキシメチルセフ―２―エ
ム―４―カルボキシラート381mg（57％）を得る。 IR νKBr naxcm-1：1790，1735，1670，1190. NMR（DMSO―d6）δ：2.01（3H，br.s，２―
CH3），3.77（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），4.67およ
び4.90（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.OHz，―ＣＨ
２―Ｏ―），5.12（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），
5.25（1H，ｄ，Ｊ＝1.0Hz，４―Ｈ），5.46（1H，
dd，Ｊ＝4.5，8.5Hz，７―Ｈ），6.78〜7.00（3H，
ｍ，チオフエンプロトン３および４位，―ＣＨ
（C6H5）2），7.15〜7.55（11H，ｍ，チオフエンプ
ロトン５位，C6H 5×２），8.02（1H，ｓ，―ＣＨ
Ｏ），9.14（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C29H26N2O6S2 計算値：C61.90；H4.66；N4.98；S11.40 実験値：C61.79；H4.56；N4.87；S11.30 実施例 ２ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ヒドロキシメチルセ
フ―２―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ホルミルオキシメチル
セフ―２―エム―４―カルボキシラート30ｇの
DMF100ml溶液に、2N HCl22.8mlを加え室温で
20時間かき混ぜる。反応液にAcOEtとH2Oを加
え、AcOEt層を分取する。AcOEt層は５％
NaHCO3水、飽和NaCl水で洗浄、Na2SO4で乾
燥後、AcOEtを減圧留去する。残留物をシリカ
ゲルカラムに加え、CH2Cl2・AcOEt（10：１）で
洗浄後、アセトンで溶出する画分を集め、溶媒を
減圧留去するとジフエニルメチル７―（２―チエ
ニルアセトアミド）―２―メチル―３―ヒドロキ
シメチルセフ―２―エム―４―カルボキシラート
14.6ｇ（62％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1780，1745. NMR（DMSO―d6）δ：1.95（3H，ｓ，２―
CH3），3.10〜3.50（1H，br，―CH2―OH），3.79
（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.85および4.32（それ
ぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―OH），
5.06（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.25（1H，
ｓ，４―Ｈ），5.44（1H，dd，Ｊ＝4.5，8.5Hz，７
―Ｈ），6.70〜7.10（3H，ｍ，チオフエンプロトン
３および４位、―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60
（11H，ｍ，チオフエンプロトン５位、C6H 5×
２），9.10（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―NH―）． 元素分析：C28H26N2O5S2 計算値：C62.90；H4.90；N5.24；S11.99 実験値：C62.82；H4.76；N5.12；S11.93 実施例 ３ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―
２―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ヒドロキシメチルセフ
―２―エム―４―カルボキシラート840mgの
CH2Cl245ml溶液に、ピリジン0.14mlを加える。−
10℃でSOCl20.124mlを加え同温度で30分間かき
混ぜ、反応液にH2Oを加えCH2Cl2層を分取する。
CH2Cl2層はH2O、飽和NaCl水で洗浄、MgSO4
で乾燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物を
DMF10mlに溶解し、１―メチル―５―メルカプ
トテトラゾール180mgを加え、一夜かき混ぜる。
DMFを減圧留去し、残留物をシリカゲルカラム
に加え、CH2Cl2・AcOEt（20：１）で溶出する画
分を集め、溶媒を減圧留去するとジフエニルメチ
ル７―（２―チエニルアセトアミド）―２―メチ
ル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５
―イル）チオメチルセフ―２―エム―４―カルボ
キシラート546mg（55％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1780，1745. NMR（DMSO―d6）δ：1.98（3H，ｓ，２―
CH3），3.77（2H，ｓ，―ＣＨ 2―CO―），3.84
（3H，ｓ，テトラゾール，１―CH3 ），4.06およ
び4.47（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.OHz，―ＣＨ
２―Ｓ―），5.11（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz，６―Ｈ），
5.41（1H，ｓ，４―Ｈ），5.48（1H，dd，Ｊ＝4.0，
75Hz，７―Ｈ），6.80〜7.00（3H，ｍ，チオフエン
プロトン３および４位、―ＣＨ（C6H5）2），7.10
〜7.66（11H，ｍ，チオフエンプロトン５位，
C6H5×２），9.16（1H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz，―CO―
ＮＨ―） 元素分析：C30H28N6O4S3 計算値：C56.94；H4.46；N13.28；S15.20 実験値：C56.87；H4.42；N13.14；S14.38 実施例 ４ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―
３―エム―４―カルボキラート―１―オキシド ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―２―
エム―４―カルボキシラート662mgのCH2Cl230ml
溶液に、−10℃でｍ―クロル過安息香酸217mgを加
え、同温度で１時間かき混ぜる。反応液を10％
Na2S2O3溶液、飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾
燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシリカ
ゲルカラムに加え、CH2Cl2・AcOEt（５：１）で
溶出する画分を集め、溶媒を減圧留去するとジフ
エニルメチル７―（２―チエニルアセトアミド）
―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―テトラ
ゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―
４―カルボキシラート―１―オキシド321mg（47
％）を得る。 IRνKBr naxcm-1δ：1800，1745，1690，1050. NMR（DMSO―d6）δ：1.27（3H，ｄ，Ｊ＝
7.5Hz，2α―CH3 ），3.84（5H，ｓ，テトラゾール
１―CH3 および―CH2 ―CO―），4.01（1H，ｑ，
Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），4.25（2H，ｓ，―ＣＨ 2―Ｓ
―），4.96（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.96
（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.5Hz，７―Ｈ），6.80〜7.00
（3H，ｍ，チオフエンプロトン３および４位、―
ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.70（11H，ｍ，チオフエ
ンプロトン５位、C6H 5×２），8.37（1H，ｄ，Ｊ
＝8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C30H28N6O5S3 計算値：C55.54；H4.35；N12.96；S14.83 実験値：C55.59；H4.36；N12.98；S14.31 実施例 ５ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―
３―エム―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラート―１―オキシド326
mgのDMF5ml溶液に、−10℃でPCl30.38mlを加え、
同温度で15分間かき混ぜる。反応液にAcOEtと
５％NaHCO3水を加えAcOEt層を分取。AcOEt
層は飽和NaCl水で洗浄、Na2SO4で乾燥後、
AcOEtを減圧留去する。残留物をシリカゲルカ
ラムに加え、CH2Cl2・AcOEt（25：１）で溶出す
る画分を集め、溶媒を減圧留去してジフエニルメ
チル７―（２―チエニルアセトアミド）―2α―
メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート225mg（71％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1790，1735，1700. NMR（DMSO―d6）δ：1.53（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），3.74（2H，ｓ，―CH2 ―CO
―），3.84（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），
4.01（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.18（2H，
ｓ，―ＣＨ 2―Ｓ―），5.27（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，
６―Ｈ），5.85（1H，dd，Ｊ＝5.0および8.5Hz，７
―Ｈ），6.80〜7.00（3H，ｍ，チオフエンプロトン
３および４位、―ＣＨ（C6H5）2），7.15〜7.60
（11H，ｍ，チオフエンプロトン５位、C6H 5×
２），9.17（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． NOE：2α―CH3を照射する時、６位プロトン
の面積は20％増加する。 元素分析：C30H28N2O6S2 計算値：C62.48；H4.89；N4.86；S11.12 実験値：C62.73；H4.76；N4.68；S11.09 実施例 ６ ７―（２―チエニルアセトアミド）―2α―メ
チル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４―
カルボン酸ナトリウム塩 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラート105mg、アニソール
0.1ml、CF3COOH ５mlの溶液を、室温で20分間
かき混ぜる。CF3COOHを減圧留去後、残留物を
AcOEtに溶解し、５％NaHCO3水に転溶する。
水層は５％H3PO4を加えPH7.0に調整後、アンバ
ーライトXAD―（ロームアンドハース社製）
のカラムに加える。カラムを水洗後、10％
MeOH水で溶出する画分を集め、減圧濃縮した
のち凍結乾燥すると、７―（２―チエニルアセト
アミド―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―
エム―カルボン酸ナトリウム塩72mg（95％）を得
る。 TLC〔シリカゲル60F―254（メルク社製〕、展開
溶媒：AcOEt・AcOH（10：１）〕Rf0.30 IRνKBr naxcm-1：1770，1685. NMR（D2O）δ：1.52（3H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz，
2α―CH3 ），3.76（1H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），
3.86（2H，ｓ，―CH2 CO―），3.97（3H，ｓ，テ
トラゾール１―CH3 ），4.02および4.27（それぞれ
1H，ABq，Ｊ＝13.5Hz，―CH2 ―Ｓ―），5.17
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.68（1H，ｄ，
Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），6.90〜7.10（2H，ｍ，チオ
フエンプロトン３および４位），7.20〜4.40（1H，
ｍ，チオフエンプロトン５位）． 元素分析：C17H17N6O4S3Na・３／2H2O 計算値：C39.60；H3.91；N16.30；S18.66 実験値：C39.38；H3.72；N16.32；S18.54 実施例 ７ ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２，３―ジ―エキソメチレンセフアム
―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチレン―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラート４ｇの
AcOH160ml溶液に、Zn末14ｇを加え室温で45分
間かき混ぜる。反応液にAcOEtとH2Oを加え、
不溶物をろ別し、AcOEt層を分取。AcOEt層は
飽和NaHCO3水、飽和NaCl水で洗浄後、
Na2SO4で乾燥する。AcOEtを減圧留去後、残留
物をシリカゲルカラムに加え、ベンゼン・
AcOEt（10：１）で溶出する画分を集め、溶媒を
減圧留去後、残留物にEt2Oを加えるとジフエニ
ルメチル７―（２―チエニルアセトアミド）―
２，３―ジ―メチレンセフアム―４―カルボキシ
ラートの結晶2.3ｇ（64％）を得る。 mp 126℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1770，1735，1660. NMR（DMSO―d6）δ：3.74（2H，ｓ，―ＣＨ
２―CO―），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝45Hz，６―Ｈ），
5.35（1H，ｓ，２―メチレン），5.40（1H，dd，Ｊ
＝4.5，8.5Hz，７―Ｈ），5.51（2H，ｓ，３―メチ
レン），5.59（1H，ｓ，２―メチレン），6.80〜
7.00（3H，ｍ，チオフエンプロトン３および４
位，―ＣＨ（C6H5）2），7.20〜7.60（11H，ｍ，チ
オフエンプロトン５位、C6H 5×２），9.11（1H，
ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． MS ｍ／ｅ：516（M+） 元素分析：C28H24N2O4S2 計算値：C65.09；H4.68；N5.42；S12.41 実験値：C65.02；H4.71；N5.30；S12.14 実施例 ８ 実施例１と同様にしてジフエニルメチル７―フ
エニルアセトアミド―２―メチレン―３―アセト
キシメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
トよりジフエニルメチル７―フエニルアセトアミ
ド―２―メチル―３―ホルミルオキシメチルセフ
―２―エム―４―カルボキシラートを得る。（収
率63％）． IRνKBr naxcm-1：1790，1740. NMR（DMSO―d6）δ：2.00（3H，br.s，２
CH3），3.53（2H，ｓ，C6H5―ＣＨ 2―），4.63お
よび4.88（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.OHz，―
CH2―Ｏ―），5.08（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz，６―
Ｈ），5.24（1H，br.s，４―Ｈ），5.43（1H，dd，
Ｊ＝4.0，7.5Hz，７―Ｈ），6.79（1H，ｓ，―ＣＨ
（C6H5）2），7.10〜7.55（15H，ｍ，C6H 5×３），
7.97（1H，ｓ，―ＣＨＯ），9.08（1H，ｄ，Ｊ＝
7.5Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C30H28N2O5S 計算値：C68.16；H5.34；N5.30；S6.07 実験値：C68.03；H5.12；N5.23；S6.01 実施例 ９ 実施例２と同様にして、ジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―２―メチル―３―ホルミ
ルオキシメチルセフ―２―エム―４―カルボキシ
ラートよりジフエニルメチル７―フエニルアセア
ミド―２メチル―３―ヒドロキシメチルセフ―２
―エム―４―カルボキシラートを得る。（収率64
％）． IRνKBr naxcm-1：1790，1740. NMR（DMSO―d6）δ：1.93（3H，ｓ，２―
CH3），3.25（1H，br.s，―ＯＨ），3.52（2H，ｓ，
―CH2 ―CO―），3.83および4.27（それぞれ1H，
ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.02（1H，
ｄ，Ｊ＝4.0Hz，６―Ｈ），5.23（1H，ｓ，４―
Ｈ），5.38（1H，dd，Ｊ＝4.0，8.0Hz，７―Ｈ），
6.78（1H，ｓ，ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.50（18H，
ｍ，C6 H5 ×３），9.08（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，―
CO―ＮＨ―）． 元素分析：C30H28N2O5S 計算値：C70.02；H5.48；N2.72；S6.23 実験値：C69.91；H5.23；N2.52；S6.40 実施例 10 実施例３と同様にして、ジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―２―メチル―３―ヒドロ
キシメチルセフ―２―エム―４―カルボキシラー
トよりジフエニルメチル７―フエニルアセトアミ
ド―２―メチル―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチルセフ―２―エム
―４―カルボキシラートを得る。（収率59％） IRνKBr naxcm-1：1790，1750. NMR（DMSO―d6）δ：1.97（3H，br.s，２―
CH3），3.53（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.83
（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），4.03および
4.45（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―ＣH2 ―
Ｓ―），5.07（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz，６―Ｈ），5.40
（1H，br.s，４―Ｈ），5.44（1H，dd，Ｊ＝4.0，
7.5Hz，７―Ｈ），6.83（1H，ｓ，―ＣＨ
（C6H5）2），7.10〜7.50（15H，ｍ，C6 H5 ×３），
9.11（1H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz，―CONＨ―）． 元素分析：C32H30N6O4S2 計算値：C61.32；H4.82；N13.41；S10.23 実験値：C61.05；H4.82；N13.64；S10.51 実施例 11 実施例４と同様にして、ジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―２―メチル―３―（１―
メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメ
チルセフ―２―エム―４―カルボキシラートより
ジフエニルメチル７―フエニルアセトアミド―
2α―メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾ
ール―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４
―カルボキシラートを得る。（収率50％）． IRνKBr naxcm-1：1800，1740. NMR（DMSO―d6）δ：1.27（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），3.62（2H，ｓ，―CH2 ―CO），
3.84（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），4.00
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.23（2H，br.s，
―CH2 ―Ｓ―），4.94（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），5.94（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.5Hz，７―Ｈ），
6.91（1H，ｓ，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60
（15H，ｍ，C6H 5×３），8.31（1H，ｄ，Ｊ＝8.5
Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C32H30N6O5S2 計算値：C59.79；H4.70；N13.08；S9.98 実験値：C59.81；H4.76；N13.07；S10.01 実施例 12 実施例５と同様にして、ジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―2α―メチル―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチルセフ―３―エム―４―カルボキシラート―
１―オキシドよりジフエニルメチル７―フエニル
アセトアミド―2α―メチル―３―（１―メチル
―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラートを得る。
（収率71％） IRνKBr naxcm-1：1790，1730. NMR（DMSO―d6）δ：1.52（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），3.50（2H，ｓ，―CH2 ―CO
―），3.83（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），
4.00（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.17（2H，
ｓ，―CH2 ―Ｓ―），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，
６―Ｈ），5.83（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.5Hz，７―
Ｈ），6.88（1H，ｓ，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜
7.60（15H，ｍ，C6H 5×３），9.12（1H，ｄ，Ｊ＝
8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C32H30N6O4S2 計算値：C61.32；H4.82；N13.41；S10.23 実験値：C61.15；H4.77；N13.13；S10.09 実施例 13 実施例６と同様にして、ジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―2α―メチル―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチルセフ―３―エム―４―カルボキシラートよ
り７―フエニルアセトアミド―2α―メチル―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナト
リウム塩を得る。（収率71％）． IRνKBr naxcm-1：1770，1680. NMR（D2O）δ：1.62（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
2α―CH3 ），3.77（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.87
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.08（3H，ｓ，
テトラゾール１―CH3 ），4.17および4.35（それぞ
れ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｓ―），5.28
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.78（1H，ｄ，
Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），7.45（5H，ｓ，C6H5 ―）． 元素分析：C19H19O4N6S2Na・2H2O 計算値：C44.00；H4.47；N16.21；S12.37 実験値：C44.07；H4.37；N15.95；S12.19 実施例 14 ジフエニルメチル７―アミノ―2α―メチル―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）チオメチルセフ―３―エム―４―カルボ
キシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラートのCH2Cl2100ml溶液
にピリジン3.7mlを加え、−12℃でPCl52.4ｇを加
え、同温度で45分間かき混ぜる。これにMeOH
を一度に加え、−10℃で30分間、さらに室温で１
時間かき混ぜる。反応液に0.5MK2HPO4溶液100
ml、さらに25％H3PO4を加えPH1.5に調整後、45
分間かき混ぜ、CH2Cl2層を分取、飽和NaCl水で
洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減圧留去す
る。残留物にEt2Oを加えるとジフエニルメチル
７―アミノ―2α―メチル―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ
―３―エム―４―カルボキシラートの結晶1.73ｇ
（72％）を得る。 mp 158℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1780，1735. NMR（DMSO―d6＋D2O）δ：1.56（3H，ｄ，
Ｊ＝7.OHz，2α―CH3 ），3.82（3H，ｓ，テトラゾ
ール１―CH3 ），3.93（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
Ｈ），4.16（2H，ｓ，―CH2 ―Ｓ―），4.90（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.11（1H，ｄ，Ｊ＝5.
OHHz，７―Ｈ），6.84（1H，ｓ，―ＣＨ
（C6H5）2），7.10〜7.60（10H，ｍ，C6H5 ×２）． 元素分析：C24H24N6O3S2 計算値：C56.67；H4.76；N16.53；S12.61 実験値：C56.61；H4.68；N16.46；S12.40 実施例 15 前記実施例と同様にしてジフエニルメチル７―
フエニルアセトアミド―2α―メチル―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチルセフ―３―エム―４―カルボキシラートよ
りジフエニルメチル７―アミノ―2α―メチル―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イ
ル）チオメチルセフ―３―エム―４―カルボキシ
ラートを得る。（収率69％）。本品は前記実施例で
得られるものとmp，IR，NMRが完全に一致す
る。 実施例 16 ジフエニルメチル７―〔Ｄ（−）―α―（ｔ―
ブトキシカルボキサミド）―α―（２―チエニ
ル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
ト Ｄ（−）―ｔ―ブトキシカルボキサミド―α―
２―チエニル酢酸224mg、ジフエニルメチル７―
アミノ―2α―メチル―３―（１―メチル―1H―
テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラート400mgのCH2Cl250ml
溶液に、−10℃でジシクロヘキシルカルボジイミ
ド180mgを加え同温度で１時間ついで室温で２時
間かき混ぜる。生成したジシクロヘキシル尿素を
ろ別し、ろ液を５％H3PO4、５％NaHCO3水、
飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2
を減圧留去する。残留物をシリカゲルカラムに加
え、CH2Cl2・AcOEt（10：１）で溶出する画分を
集め溶媒を減圧留去するとジフエニルメチル７―
〔Ｄ（−）―α―（ｔ―ブトキシカルボキサミド）
―α―（２―チエニル）アセトアミド〕―2α―
メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート560mg（95％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1800，1730，1705，1180。 NMR（DMSO―d6）δ：1.40（9H，ｓ，―Ｃ
（CH3）3 ），1.56（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2α―CH3 ），
3.83（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），3.96
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.16（2H，ｓ，
―CH2 ―Ｓ―），5.24（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），5.50（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，＞ＣＨ―CO―），
5.89（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.5Hz，７―Ｈ），6.80〜
7.10（3H，ｍ，チオフエンプロトン３および４
位，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60（12H，ｍ，チ
オフエンプロトン５位，C6H5 ×２，＞CH―ＮＨ
―CO―），9.25（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CONＨ
―）． 元素分析：C35H37N7O6S3 計算値：C56.21；H4.99；N13.11；S12.86 実験値：C56.34；H5.17；N13.01；S12.69 実施例 17 ７―〔Ｄ（−）―α―アミノ―α―（２―チエ
ニル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸 ジフエニルメチル７―〔Ｄ（−）―α―（ｔ―
ブトキシカルボキサミド）―α―（２―チエニ
ル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―（１―
メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメ
チルセフ―３―エム―４―カルボキシラート500
mg，アニソール0.55ml，CF3COOH20mlの溶液を
室温で20分間かき混ぜる。CF3COOHを減圧留去
後、残留物をAcOEtとH2Oに分配し、水層を分
取。水層は５％NaHCO3水を加えPH4.5に調整後、
アンバーライトXAD―（ロームアンドハース
社製）のカラムに加える。カラムを水洗後、30％
MeOH水で溶出する画分を集め、減圧濃縮した
のち、凍結乾燥すると７―〔Ｄ（−）―α―アミ
ノ―α―（２―チエニル）アセトアミド〕―2α
―メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４―
カルボン酸156mg（49％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1785，1700，1605. NMR（DMSO―d6＋D2O）δ：1.49（3H，ｄ，
Ｊ＝7.0Hz，2α―CH3 ），3.80（3H，ｓ，テトラゾ
ール１―CH3 ），3.88（2H，ｓ，―CH 2―Ｓ―），
4.20（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），5.08（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.22（1H，ｓ，＞ＣＨ―
CO―），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），
6.85〜7.30（2H，ｍ，チオフエンプロトン３およ
び４位），7.35〜7.60（1H，ｍ，オフエンプロトン
５位）． 元素分析：C17H19N7O4S3・３／2H2O 計算値：C40.14；H4.36；N19.28；S18.91 実験値：C40.10；H4.64；N19.28；S18.63 実施例 18 ７―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―
ジオキソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―
α―（２―チエニル）アセトアミド〕―2α―
メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４
―カルボン酸 ７―〔Ｄ（−）―α―アミノ―α―（２―チエ
ニル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチルセフ―３―エム―４―カルボン酸160mgを
H2O10ml、テトラヒドロフラン10ml溶液に５％
NaHCO3水を加え、PH8.0に調整する。０℃で４
―エチル―２，３―ジオキソ―１―ピペラジンカ
ルボニルクロリド68mgを加え同温度で30分間かき
混ぜ、反応液にAcOEtを加え水層を分取。水層
は５％H3PO4を加えPH2.0に調整し、AcOEtで抽
出する。AcOEt層をH2O、飽和NaCl水で洗浄、
Na2SO4で乾燥後、AcOEtを減圧留去すると７―
〔Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―ジオキソ
―１―ピペラジンカルボキサミド）―α―（２―
チエニル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸の結晶
102mg（47％）を得る。 mp 152℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1785，1710，1690。 NMR（DMSO―d6）δ：1.09（3H，ｔ，Ｊ＝
7.0Hz，―CH2―CH3 ），1.50（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz，2α―CH3 ），3.39（2H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，―
CH2―CH3），3.40〜4.00（5H，ｍ，ピペラジンメ
チレン５および６位，2β―Ｈ），3.90（3H，ｓ，
テトラゾール１―CH3 ），4.08および4.34（それぞ
れ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH5 ―Ｓ―），5.16
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.79（1H，dd，
Ｊ＝5.0，9.0Hz，７―Ｈ），5.85（1H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz，＞ＣＨ―NH―），6.80〜7.20（2H，ｍ，チオ
フエンプロトン３および４位），7.30〜7.55（1H，
ｍ，チオフエンプロトン５位），9.50（1H，ｄ，
Ｊ＝9.0Hz，―CO―ＮＨ―），9.75（1H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，＞CH―ＮＨ―）． 元素分析：C24H27N9O7S3 計算値：C44.36；H4.19；N19.40；S14.80 実験値：C44.21；H4.18；N19.23；S14.75 実施例 19 実施例16と同様にして、Ｄ（−）―α―ｔ―ブ
トキシカルボキサミド―α―フエニル酢酸とジフ
エニルメチル７―アミノ―2α―メチル―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラート
よりジフエニルメチル７―〔Ｄ（−）―α―（ｔ
―ブトキシカルボキサミド）―α―（フエニル）
アセトアミド〕―2α―メチル―３―（１―メチ
ル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
セフ―３―エム―４―カルボキシラートを得る。
（収率96％）。 IRνKBr naxcm-1：1800，1730，1700. NMR（DMSO―d6）δ：1.37（9H，ｓ，―Ｃ
（ＣH3 ）3），1.47（3H，ｄ，Ｊ＝7.0OHz，2α―
CH3），3.83（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），
3.92（11H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.15（2H，
ｓ，―CH2 ―Ｓ―），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，
６―Ｈ），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，＞ＣＨ―CO
―），5.88（1H，dd，Ｊ＝4.5，8.5Hz，７―Ｈ），
6.89（1H，ｓ，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60
（16H，ｍ，C6H 5×３，および―ＮＨCOOC
（CH3）3），9.18（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CONＨ
―）． 元素分析：C37H39N7O6S2 計算値：C59.90；H5.30；N13.22；S8.64 実験値：C60.09；H5.68；N13.08；S8.63 実施例 20 実施例17と同様にして、ジフエニルメチル７―
〔Ｄ（−）―α―（ｔ―ブトキシカルボキサミド）
―α―（フエニル）アセトアミド〕―2α―メチ
ル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール５―
イル）チオメチルセフ―３―エム―４―カルボキ
シラートより７―〔Ｄ（−）―α―アミノ―α―
（フエニル）アセトアミド〕―2α―メチル―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸を得
る。（収率19％）． IRνKBr naxcm-1：1765；1695. NMR（CD3COOD）δ：1.56（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz，2α―CH3 ），3.88（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
Ｈ），3.92（3H，ｓ，テトラゾール１―CH3 ），
4.10および4.54（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，
―ＣＨ 2―Ｓ―），5.10（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），5.40（1H，ｓ，―CH―CO―），5.89（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），7.35〜7.65（5H，ｍ，
C6H5―）． 元素分析：C19H21N7O4S2・H2O 計算値：C46.23；H4.70；N19.87；S12.99 実験値：C46.17；H4.66；N19.60；S12.79 実施例 21 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―２―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチレン―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラート45ｇのテト
ラヒドロフラン150ml溶液に、０℃でNaBH44.4
ｇのEtOH250ml溶液を加え７分間かき混ぜ、
AcOH15mlを加える。溶媒を減圧留去し、残留物
にAcOEtとH2Oを加えAcOEt層を分取。AcOEt
層は５％NaHCO3水、飽和食塩水で洗浄、
Na2SO4で乾燥後、AcOEtを減圧留去する。残留
物をシリカゲルカラムに加えCH2Cl2・AcOEt
（10：１）で溶出する画分を集め、溶媒を減圧留
去するとジフエニルメチル ７―（２―チエニルアセトアミド）―２―メチ
ル―３―アセトキシメチルセフ―２―エム―４―
カルボキシラート18.7ｇ（41％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1770，1730，1650. NMR（DMSO―d6）δ：1.78（3H，ｓ，―CO
―CH3 ），1.96（3H，ｓ，２―CH3 ），3.72（2H，
ｓ，―CH2 ―CO―），4.57および4.73（それぞれ
1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.06
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.20（1H，ｓ，
４―Ｈ），5.42（1H，dd，Ｊ＝４，５，8.5Hz，７
―Ｈ），6.70〜6.95（3H，ｍ，チオフエンプロトン
３および４位，―ＣＨ（C6H5）2），7.15〜7.50
（11H，ｍ，チオフエンプロトン５位，C6H5 ×
２），9.12（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―ＮＨ―）． 元素分析：C30H28N2O6S2 計算値：C62.48；H4.89；N4.86；S11.12 実験値：C62.55；H4.89；N4.97；S11.03 実施例 22 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラート―１―オ
キシド ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―アセトキシメチルセフ
―２―エム―４―カルボキシラート37.3ｇの
CH2Cl2300ml溶液に、−20℃でｍ―クロル過安息
香酸13.7ｇのCH2Cl250ml溶液を加え、同温度で
30分間かき混ぜる。反応液を５％NaHCO3水、
飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2
を減圧留去する。残留物にAcOEt・Et2O（１：
３）を加えるとジフエニルメチル７―（２―チエ
ニルアセトアミド）―２―メチル―３―アセトキ
シメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラート
―１―オキシドの結晶32ｇ（84％）を得る。 元素分析：C30H28N2O7S2 計算値：C60.79；H4.76；N4.73；S10.82 実験値：C60.83；H4.86；N4.61；S10.63 実施例 23 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2β―メチル―３―アセトキシメチル
セフ―３―エム―４―カルボキシラートおよび
ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―アセトキシメチル
セフ―３―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―アセトキシメチルセフ
―３―エム―４―カルボキシラート―１―オキシ
ド32ｇのDMF200ml溶液に、−50℃でPCl341.5ml
を加え、−30℃で５分間かき混ぜ、氷水中に加え
AcOEtで抽出する。AcOEt層は５％NaHCO3水、
飽和食塩水で洗浄、Na2SO4で乾燥後、AcOEtを
減圧留去すると粗結晶を得る。AcOEt―Et2O
（１：３）から再結晶するとジフエニルメチル７
―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メチル
―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート17ｇ（55％）を得る。 mp 152℃（decomp.） TLC〔シリカゲル60F―254（メルク社製）、展開
溶媒；トルエン・AcOEt（５：１）〕Rf0.26 IRνKBr naxcm-1：1795，1740，1680，1230. NMR（DMSO―d6）δ：1.45（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2β―CH3 ），1.95（3H，ｓ，―CO―CH3 ），
3.79（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），4.04（1H，ｑ，
Ｊ＝7.0Hz，2α―Ｈ），4.57および4.99（それぞれ
1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.31
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.77（1H，dd，
Ｊ＝5.0，8.0Hz，７―Ｈ），6.90〜7.05（3H，ｍ，
チオフエンプロトン３および４位，―ＣＨ
（C6H5）2），7.20〜7.60（11H，ｍ，チオフエンプ
ロトン５位，C6H5 ×２），9.12（1H，ｄ，Ｊ＝8.0
Hz，―CO―ＮＨ―） NOE：2β―CH3を照射する時、６位プロトン
の面積は増加しない。 元素分析：C30H28N2O6S2 計算値：C62.48；H4.89；N4.86；S11.12 実験値：C62.35；H4.71；N4.80；S11.21 母液を濃縮後、残留物をシリカゲルカラムに加
え、トルエン・AcOEt（15：１）で溶出し、先に
溶出する画分を集め、溶媒を減圧留去するとジフ
エニルメチル７―（２―チエニルアセトアミド）
―2α―メチル―３―アセトキシメチルセフ―３
―エム―４―カルボキシラート0.3ｇ（１％）を
得る。 TLC〔シリカゲル60F―254（メルク社製）、展開
溶媒：トルエン・AcOEt（５：１）〕Rf0.30 IRνKBr naxcm-1：1795，1740，1700，1230. NMR（DMSO―d6）δ：1.47（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），1.91（3H，ｓ，―CO―CH3 ），
3.75（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.84（1H，ｑ，
Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），4.51および4.82（それぞれ
1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.24
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.82（1H，dd，
Ｊ＝5.0，8.0Hz，７―Ｈ），6.80〜7.00（3H，ｍ，
チオフエンプロトン３および４位，―ＣＨ
（C6H5）2），7.10〜7.50（11H，ｍ，チオフエンプ
ロトン５位，C6H5 ×２），9.13（1H，ｄ，Ｊ＝8.0
Hz，―CO―ＮＨ―）． NOE：2α―CH3を照射する時６位プロトンの
面積は32％増加する。 元素分析：C30H28N2O6S2 計算値：C62.48；H4.89；N4.86；S11.12 実験値：C62.73；H4.74；N4.68；S11.09 実施例 24 ７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メ
チル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―
４―カルボン酸ナトリウム塩 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2β―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラート1.4ｇ、ア
ニソール３ml、CF3COOH20mlの溶液を室温で15
分間かき混ぜる。CF3COOHを減圧留去後残留物
をAcOEtに溶解し、５％NaHCO3水に転溶する。
水層は５％H3PO4を加えPH2.0に調整したふたた
びAcOEtで抽出する。AcOEt層を飽和NaCl水で
洗浄、Na2SO4で乾燥後、AcOEtを減圧留去する
と７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メ
チル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４
―カルボン酸の粗結晶を得る。これを５％
NaHCO3水に溶解し、５％H3PO4を加えPH7.0に
調整後、アンバーライトXAD―（ロームアン
ドハース社製）のカラムに加える。H2Oで溶出
する画分を集め、減圧濃縮したのち凍結乾燥する
と７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メ
チル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４
―カルボン酸ナトリウム塩829mg（79％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1760，1735，1655，1600. NMR（D2O）δ：1.46（3H，ｄ，Ｊ＝０Hz，2β
―CH3 ），2.11（3H，ｓ，―CO―CH3 ），3.91
（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.98（1H，ｑ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―Ｈ），4.69および5.07（それぞれ1H，
ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.2（1H，ｄ，
Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.60（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，
７―Ｈ），6.95〜7.10（1H，ｍ，チオフエンプロト
ン３および４位），7.30〜7.55（1H，ｍ，チオフエ
ンプロトン５位）． 元素分析：C17H17N2O6S2Na・３／2H2O 計算値：C44.44；H4.39；N6.10；S13.96 実験値：C44.62；H4.11；N5.85；S13.75 実施例 25 前記実施例と同様にして、ジフエニルメチル７
―（２―チエニルアセトアミド）―2α―メチル
―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラートより７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩を得
る。（収率66％）． IRνKBr naxcm-1：1780，1680，1240. NMR（D2O）δ：1.63（3H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz，
2α―CH3 ），2.33（3H，ｓ，―CO―CH3 ），3.70
（1H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），4.00（2H，ｓ，
―CH2 ―CO―），4.78および5.00（それぞれ1H，
ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.30（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.82（1H，ｄ，Ｊ＝5.O
Hz，７―Ｈ），7.07〜7.23（2H，ｍ，チオフエンプ
ロトン３および４位），7.40〜7.58（1H，ｍ，チオ
フエンプロトン５位）． 元素分析：C17H17N2O6S2・３／2H2O 計算値：C44.44；H4.39；N6.10；S13.96 実験値：C44.81；H4.48；N6.04；S13.76 実施例 26 ７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メ
チル―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４―
カルボン酸ナトリウム塩 ７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メ
チル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４
―カルボン酸410mgおよびNaHCO384mgを１／
15Mリン酸緩衝液（PH6.4）20mlに溶解し、１―
メチル―５―メルカプトテトラゾール139mgを加
える。反応液は５％NaHCO3水の注加によりPH
6.4に保ちながら50℃で６時間かき混ぜ、アンバ
ーライトXAD―（ロームアンドハース社製）
のカラムに加え、カラムを水洗後、０〜70％
MeOH水のグラジエント法で溶出する。溶出画
分を集め減圧濃縮したのち、凍結乾燥すると７―
（２―チエニルアセトアミド）―2β―メチル―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナト
リウム塩148mg（30％）を得る。 TLC〔シリカゲル60F―254（メルク社製）、展開
溶媒：AcOEt・AcOH（10：１）〕Rf0.23 IRνKBr naxcm-1：1760，1670，1600. NMR（D2O）δ：1.48（3H，ｄ，Ｊ＝０Hz，2β
―CH3 ），3.89（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.95
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2α―Ｈ），4.03（3H，ｓ，
テトラゾール１―CH3 ），4.43および4.87（それぞ
れ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｓ―），5.11
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.47（1H，ｄ，
Ｊ＝4.5Hz，７―Ｈ），6.90〜7.10（2H，ｍ，チオ
フエンプロトン３および４位），7.25〜7.45（1H，
ｍ，チオフエンプロトン５位）． 元素分析：C17H17N6O4S3NA・３／2H2O 計算値：C39.60；H3.91；N16.30；S18.66 実験値：C39.80；H3.84；N16.20；S18.53 実施例 27 前記実施例と同様にして、７―（２―チエニル
アセトアミド）―2β―メチル―３―アセトキシ
メチルセフ―３―エム―４―カルボン酸と５―メ
チル―２―メルカプト―１，３，４―チアジアゾ
ールより７―（２―チエニルアセトアミド）――
2β―メチル―３―（５―メチル―１，３，４―
チアジアゾール―２―イル）チオメチルセフ―３
―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩を得る。
（収率42％）． TLC〔シリカゲル60F―254（メルク社製）、展開
溶媒：AcOEt・AcOH（10：１）〕Rf0.33 IRνKBr naxcm-1：1760，1675，1605. NMR（D2O）δ：1.44（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―CH3 ），2.73（3H，ｓ，チアジアゾール５―
CH3），3.89（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），4.09
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2α―Ｈ），3.87および4.71
（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝14.0Hz，―CH2 ―Ｓ
―），5.10（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.50
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７―Ｈ），6.96〜7.10（2H，
ｍ，チオフエンプロトン３および４位），7.25〜
7.50（1H，ｍ，チオフエンプロトン５位）． 元素分析：C18H17N4O4S4Na・H2O 計算値：C41.29；H3.66；N10.70；S24.49 実験値：C41.27；H3.51；N10.98；S24.47 実施例 28 実施例26と同様にして、７―（２―チエニルア
セトアミド）―2β―メチル―３―アセトキシメ
チルセフ―３―エム―４―カルボン酸と１―カル
ボキシメチル―５―メルカプトテトラゾールより
７―（２―チエニルアセトアミド）―2β―メチ
ル―３―（１―カルボキシメチル―1H―テトラ
ゾール―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―
４―カルボン酸二ナトリウム塩を得る。（収率20
％）． IRνKBr naxcm-1：1770，1670，1620. NMR（D2O）δ：1.48（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―CH3 ），3.92（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.97お
よび4.74（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―
CH2―Ｓ―），4.07（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2α―
Ｈ），5.03（2H，ｓ，テトラゾール１―CH2 ―CO
―），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.52
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７―Ｈ），7.00〜7.20（2H，
ｍ，チオフエンプロトン３および４位），7.30〜
7.50（1H，ｍ，チオフエンプロトン５位）． 元素分析：C18H16N6O6S3Na2・3H2O 計算値：C35.52；H3.64；N13.81；S15.80 実験値：C35.92；H3.62；N13.30；S15.88 実施例 29 ジフエニルメチル７―アミノ―2β―メチル―
３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2β―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボキシラート４ｇの
CH2Cl2170ml溶液に、ピリジン6.8mlを加え、−12
℃でPCl54.35ｇを加え、同温度で45分間かき混ぜ
る。これにMeOH45mlを一度に加え、−10℃で30
分間、さらに室温で１時間かき産ぜる。反応液に
0.5MK2HPO4溶液100ml、さらに25％H3PO4を加
えてPH1.5に調整後、45分間かき混ぜ、CH2Cl2層
を分取する。飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥
後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシリカゲ
ルカラムに加えCH2Cl2・AcOEt（10：１）で溶出
する画分を集め、溶媒を減圧留去する。残留物に
石油エーテルを加えるとジフエニルメチル７―ア
ミノ―2β―メチル―３―アセトキシメチルセフ
―３―エム―４―カルボキシラートの結晶3.7ｇ
（87％）を得る。 mp101℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1760，1730，1220。 NMR（DMSO―d6＋D2O）δ：1.40（3H，ｄ，
Ｊ＝7.0Hz，2β―CH3 ），1.89（3H，ｓ，―CO―
CH3），3.94（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2α―Ｈ），4.48
および4.93（それぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，―
CH2―Ｏ―），4.76（1H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，６―
Ｈ），5.12（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），6.85
（1H，ｓ，―ＣＨ（C6H5）2），7.33（10H，ｓ，
C6H5×２）． 元素分析：C24H24N2O5S 計算値：C63.70；H5.35；N6.19；S7.08 実験値：C63.62；H5.25；N6.11；S7.03 実施例 30 ジフエニルメチル７―〔２―（２―クロルアセ
チルアミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―
２―メトキシイミノアセトアミド〕―2β―メ
チル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―
４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―アミノ―2β―メチル―
３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―カル
ボキシラート1.6ｇのCH2Cl250ml溶液に、−40℃
でEt3N0.5ml，２―（２―クロルアセチルアミノ
チアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキシ
イミノアセチルクロリド1.13ｇを加え、−20℃〜
−15℃で45分間かき混ぜる。反応液をH2O，５
％NaHCO3水、飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾
燥後CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシリカゲ
ルカラムに加え、CH2Cl2・AcOEt（５：１）で溶
出する画分を集め、溶媒を減圧留去するとジフエ
ニルメチル７―〔２―（２―クロルアセチルアミ
ノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキ
シイミノアセトアミド〕―2β―メチル―３―ア
セトキシメチルセフ―３―エム―４―カルボキシ
ラート1.5ｇ（61％）を得る。 バイルシユタイン反応 陽性 IRνKBr naxcm-1：1790，1740，1685，1230. 実施例 31 ７―〔２―（２―アミノチアゾール―４―イ
ル）―（Ｚ）―２―メトキシイミノアセトアミ
ド〕―2β―メチル―３―アセトキシメチルセ
フ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩 ジフエニルメチル７―〔２―（２―クロルアセ
チルアミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２
―メトキシイミノアセトアミド〕―2β―メチル
―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート1.45ｇ、アニソール２ml，
CF3COOH25mlの溶液を、室温で20分間かき混ぜ
る。CF3COOHを減圧留去後、残留物をAcOEtお
よび５％NaHCO3水に分配し、水層を分取する。
層は５％H3PO4を加えPH6.8に調整し、チオ尿素
0.36ｇを加え一夜撹拌後、アンバーライトXAD
―（ロームアンドハース社製）のカラムに加
え、カラムを水洗後、０〜70％MeOH水のグラ
ジエント法で溶出する。溶出画分を集め減圧濃縮
したのち、凍結乾燥すると７―〔２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキ
シイミノアセトアミド〕―2β―メチル―３―ア
セトキシメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸
ナトリウム塩295mg（30％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1770，1670，1610，1240。 NMR（D2O）δ：1.50（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―CH3 ），2.10（1H，ｓ，―CO―CH3 ），4.00
（3H，ｓ，―CH3 ），4.05（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，
2α―Ｈ），4.69および5.07（それぞれ1H，ABq，
Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.34（1H，ｄ，Ｊ＝
4.5Hz，６―Ｈ），5.78（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７―
Ｈ），7.03（1H，ｓ，チアゾール５―Ｈ）． 元素分析：C17H18N5O7S2Na・2H2O 計算値：C38.70；H4.20；N13.28；S12.16 実験値：C38.61；H4.32；N13.21；S12.06 実施例 32 実施例26と同様にして、７―〔２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキ
シイミノアセトアミド〕―2β―メチル―３―ア
セトキシメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸
ナトリウム塩と１―メチル―５―メルカプトテト
ラゾールより７―〔２―（２―アミノチアゾー
ル）―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキシイミノ
アセトアミド〕―2β―メチル―３―（１―メチ
ル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
セフ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩を
得る。（収率32％）． IRνKBr naxcm-1：1770，1680，1615. NMR（D2O）δ：1.53（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―CH3 ），4.00（3H，ｓ，テトラゾール１―
CH3），4.06（3H，ｓ，―Ｏ―CH3 ），4.17（1H，
ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2α―Ｈ），5.26（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，
６―Ｈ），5.68（ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７―Ｈ），7.05
（1H，ｓ，チアゾール５―Ｈ）． 元素分析：C17H18N9O5S3Na・2H2O 計算値：C34.98；H3.80；N21.60；S16.48 実験値：C34.83；H3.75；N21.53；S16.32 実施例 32 (1) 原料化合物の製造 Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―ジオキ
ソー１―ピペラジンカルボキサミド）―α―２
―チエニル酢酸 Ｄ（−）―α―チエニルグリシン２ｇの
CH2Cl240ml懸濁液にトリメチルクロルシラン3.4
mlを加え、０〜５℃でEt3N3.6mlを滴下する。
徐々に昇温させ、室温で1.5時間かき混ぜ、４―
エチル―２，３―ジオキソ―１―ピペラジンカル
ボニルクロリド３ｇを加え、２時間かき混ぜる。
これにH2O45mlを加え45分間かき混ぜ、CH2Cl2
層を分取する。CH2Cl2層は飽和NaHCO3水で抽
出し、水層を分取。水層は25％H3PO4を加えPH
2.0に調整後ふたたびCH2Cl2で抽出する。CH2Cl2
層は飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、
CH2Cl2を減圧留去する。残留物にEt2Oを加える
とＤ（−）―α―（エチル―２，３―ジオキソ―
１―ピペラジンカルボキサミド）―２―チエニル
酢酸2.6ｇ（63％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1740，1730，1675. (2) ７―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３
―ジオキソ―１―ピペラジンカルボキサミド）
―α―（２―チエニル）アセトアミド〕―2β
―メチル―３―アセトキシメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボン酸ナトリウム塩 Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―ジオキ
ソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―２―チエ
ニル酢酸358mg，ジフエニルメチル７―アミノ―
2β―メチル―３―アセトキシメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラート500mgのCH2Cl250ml
溶液に、−10℃でジシクロヘキシルカルボジイミ
ド250mgを加え同温度で１時間、室温で一夜かき
混ぜる。生成したジシクロヘキシル尿素をろ別
し、ろ液を５％H3PO4，５％NaHCO3水，飽和
NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減
圧留去する。残留物をアニソール１ml，
CF3COOH20mlに溶解し室温で20分間かき混ぜ、
CF3COOHを減圧留去する。残留物をAcOEtに溶
解し、５％NaHCO3水に転溶する。水層は５％
H3PO4を加えPH7.0に調整後、アンバーライト
XAD―（ローム・アンド・ハース社製）のカ
ラムに加え、カラムを水洗後０〜70％NeOH水
のグラジエント法で溶出する。溶出画分を集め、
減圧濃縮したのち凍結乾燥すると７―〔Ｄ（−）
―α―（４―エチル―２，３―ジオキソ―１―ピ
ペラジンカルボキサミド）―α―（２―チエニ
ル）アセトアミド〕―2β―メチル―３―アセト
キシメチルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナト
リウム塩140mg（21％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1760，1705，1680，1600. NMR（D2O）δ：1.30（3H，ｔ，Ｊ＝7.0Hz，―
CH2―CH3 ），1.48（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
CH3），2.20（3H，ｓ，―CO―CH3 ），3.65〜4.30
（5H，ｍ，ピペラジンメチレン５位および６位、
セフエム2α―Ｈ），4.78および5.13（それぞれ1H，
ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｏ―），5.27（1H，
ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.75（1H，ｄ，Ｊ＝4.5
Hz，７―Ｈ），5.90（1H，ｓ，＞ＣＨ―CO―），
7.10〜7.45（2H，ｍ，チオフエンプロトン３およ
び４位），7.50〜7.70（1H，ｍ，チオフエンプロト
ン５位）． 元素分析：C24H26N5O9S2Na・H2O 計算値：C45.49；H4.45；N11.05；S10.12 実験値：C45.41；H4.49；N11.12；S10.01 実施例 34 ７―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―
ジオキソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―
α―（２―チエチル）アセトアミド〕―2β―
メチル―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチルセフ―３―エム―４
―カルボン酸 ７―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル―２，３―
ジオキソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―α
―（２―チエニル）アセトアミド〕―2β―メチ
ル―３―アセトキシメチルセフ―３―エム―４―
カルボン酸ナトリウム塩306mg，１―メチル―５
―メルカプトテトラゾール70mgの１／15Mリン酸
緩衝液（PH6.4）20ml溶液を５％NaHCO3水の注
加によりPH6.4に保ちながら50℃で３時間かき混
ぜ、アンバーライトLAD―（ロームアンドハ
ース社製）のカラムに加え、カラムを水洗後、０
〜70％のMeOH水のグラジエント法で溶出する。
溶出画分を集め減圧濃縮後、５％H3〜PO4を加
えPH2.0に調整し、AcOEtで抽出する。AcOEt層
をH2O，飽和NaCl水で洗浄，Na2SO4で仮乾燥
後AcOEtを減圧留去すると７―〔Ｄ（−）―α―
（４―エチル―２，３―ジオキソ―１―ピペラジ
ンカルボキサミド）―α―（２―チエニル）アセ
トアミド〕―2β―メチル―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチルセフ
―３―エム―４―カルボン酸110mg（34％）を得
る。 IRνKBr naxcm-1：1775，1680. NMR（DMSO―d6）：1.09（3H，ｔ，Ｊ＝7.0
Hz，―CH2―CH3 ），1.42（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
2β―CH3 ），3.39（2H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，―CH2 ―
CH3），3.40〜3.90（5H，ｍ，ピペラジンメチレン
５および６位，2α―Ｈ），3.92（3H，ｓ，テトラ
ゾール１―CH3 ），4.08および4.75（それぞれ1H，
ABq，Ｊ＝13.0Hz，―CH2 ―Ｓ―），5.10（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.63（1H，dd，Ｊ＝
5.0，9.0Hz，７―Ｈ），5.90（1H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
＞ＣＨ―NH―），6.80〜7.20（2H，ｍ，チオフエ
ンプロトン３および４位），7.30〜7.55（1H，ｍ，
チオフエンプロトン５位），9.43（1H，ｄ，Ｊ＝
9.0Hz，―CO―ＮＨ―），9.74（1H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz，＞CH―ＮＨ―）． 元素分析：C24H27N9O7S3 計算値：C44.36；H4.19；N19.40；S14.80 実験値：C44.32；H4.08；N19.35；S14.65 実施例 35 (1) 原料化合物の製造 Ｄ（−）―α―（２，３―ジオキソ―４―エチ
ル―１―ピペラジンカルボキサミド）―１，４
―シクロヘキサジエニル酢酸 Ｄ（−）―α―アミノ―１，４―シクロヘキサ
ジエニル酢酸1.2ｇのCH2Cl250ml懸濁液に、トリ
メチルクロルシラン2.04mlを加え、ついで０〜５
℃としEt3N2.16mlを滴下する。徐々に昇温させ、
室温で1.5時間かき混ぜ、２，３―ジオキソ―４
―エチル―１―ピペラジンカルボニルクロリド
1.8ｇを加え、２時間かき混ぜる。ついでH2O45
mlを加え45分間かき混ぜ、CH2Cl2層を分取する。
CH2Cl2層は飽和NaHCO3水で抽出し、水層を分
取。水層は25％H3PO4を加えPH2.0に調整後、ふ
たたびCH2Cl2で抽出する。CH2Cl2層は飽和
NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減
圧留去する。残留物に石油エーテルを加えるとＤ
（−）―α―（２，３―ジオキソ―４―エチル―
１―ピペラジンカルボキサミド）―１，４―シク
ロヘキサジエニル酢酸1.9ｇ（75％）を得る。 (2) ７―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル２，３―
ジオキソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―
α―（１，４―シクロヘキサジエニル）アセト
アミド〕―2β―メチル―３―アセトキシメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム
塩 Ｄ（−）―α―（４―エチル２，３―ジオキソ
―１―ピペラジンカルボキサミド）―１，４―シ
クロヘキサジエニル酢酸321mg，ジフエニルメチ
ル７―アミノ―2β―メチル―３―アセトキシメ
チルセフ―３―エム―４―カルボキシラート452
mgのCH2Cl250ml溶液に、−10℃でジシクロヘキシ
ルカルボジイミド226mgを加え同温度で１時間、
さらに室温で一夜かき混ぜる。生成したジシクロ
ヘキシル尿素をろ別し、ろ液を５％H3PO4，５
％NaHCO3水，飽和NaCl水で洗浄，MgSO4で乾
燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をアニソ
ール１ml，CF3COOH20mlに溶解し、室温で20分
間かき混ぜる。CF3COOHを減圧留去後、残留物
をAcOEtに溶解し、５％NaHCO3水に転溶する。
水層は５％H3PO4を加えPH7.0に調整後、アンバ
ーライトXAD―（ローム，アンド・ハース社
製）のカラムに加え、カラムを水洗後０〜70％
MeOH水のグラジエント法で溶出する。溶出画
分を集め、減圧濃縮したのち、凍結乾燥すると７
―〔Ｄ（−）―α―（４―エチル２，３―ジオキ
ソ―１―ピペラジンカルボキサミド）―α―
（１，４―シクロヘキサジエニル）アセトアミド〕
―2β―メチル―３―アセトキシメチルセフ―３
―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩235mg（40
％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1775，1715，1690，1620. NMR（D2O）δ：1.30（3H，ｔ，Ｊ＝7.0Hz，―
CH2―CH3 ），1.55（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
CH3），2.20（3H，ｓ，―CO―CH3 ），2.82（4H，
ｓ，シクロヘキサジエンメチレン３位および６
位），3.62（2H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，―CH2 ―CH3），
3.65〜4.30（5H，ｍ，ピペラジンメチレン５位お
よび６位，セフエム2α―Ｈ），4.08および5.13（そ
れぞれ1H，ABq，Ｊ＝13.0Hz，CH2 ―Ｏ―），
5.07（1H，ｓ，＞ＣＨ―CO―），5.33（1H，ｄ，Ｊ
＝4.5Hz，６―Ｈ），5.75（1H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz，７
―Ｈ），5.85（2H，ｓ，シクロヘキサジエンプロ
トン４位および５位），6.13（1H，br.s，シクロヘ
キサジエンプロトン２位） 元素分析：C26H30N5O9SNa・H2O 計算値：C49.60；H5.12；N11.12；S5.09 実験値：C49.47；H5.26；N11.21；S5.01 実施例 36 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ホルミルセフ―２―
エム―４―カルボキシラート ピリジン6.7mlを含むCH2Cl2250mlに20℃で
CrO34.2ｇを加え１時間かき混ぜ、ジフエニルメ
チル７（２―チエニルアセトアミド）―２―メチ
ル―３―ヒドロキシメチルセフ―２―エム―４―
カルボキシラート2.6ｇのCH2Cl2溶液30mlを加え
５分間はげしくかき混ぜる。反応液に1Mクエン
酸溶液100mlを加えかき混ぜ、CH2Cl2層を分取。
CH2Cl2層はH2O，飽和NaCl水で洗浄、MgSO4
で乾燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシ
リカゲルカラムに加え、CH2Cl2・AcOEt（20：
１）で溶出する画分を集め、溶媒を減圧留去する
とジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ホルミルセフ―２―エ
ム―４―カルボキシラート938mg（36.2％）を得
る。 IRνKBr naxcm-1：1790，1750. NMR（DMSO―d6）δ：2.50（3H，ｓ，２―
CH3），3.78（2H，ｓ，―ＣＨ 2―CO―），5.07
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），5.45（1H，ｓ，
４―Ｈ），5.47（1H，dd，Ｊ＝4.5Hz，8.0Hz，７―
Ｈ），6.70〜7.00（3H，ｍ，チオフエンプロトン３
および４位，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.50
（11H，ｍ，チオフエンプロトン５位，C6H5 ×
２），9.16（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，―CONＨ―），
9.99（1H，ｓ，―ＣＨＯ）． 元素分析：C28H29N2O5S2 計算値：C63.14；H4.54；N5.26；S12.04 実験値：C63.01；H4.29；N5.12；S11.98 実施例 37 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―ホルミルセフ―３
―エム―４―カルボキシラート―１―オキシド ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―ホルミルセフ―２―エ
ム―４―カルボキシラート2.5ｇ，ｍ―クロロ過
安息香酸0.95ｇのCH2Cl250ml溶液を室温で１時
間かき混ぜる。反応液を５％NaH―CO3水、飽
和NaCl水で順次洗浄、MgSO4で乾燥後、
CH2Cl2を減圧留去すると粗結晶を得る。CH2Cl2
―AcOEtから再結晶するとジフエニルメチル７
―（２―チエニルアセトアミド）―2α―メチル
―３―ホルミルセフ―３―エム―４―カルボキシ
ラート―１―オキシドの結晶1.27ｇ（50％）を得
る。 mp168℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1805，1725，1665，1040. NMR（DMSO―d6）δ：1.11（3H，ｄ，Ｊ＝
7.5Hz，2α―CH3 ），3.89（2H，ｓ，CH2 ―CO―），
4.11（1H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），5.08（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），6.20（1H，dd，Ｊ＝
5.0，8.5Hz，７―Ｈ），6.84〜7.20（3H，ｍ，チオ
フエンプロトン３および４位，―ＣＨ―
（C6H5）2），7.20〜7.60（11H，ｍ，チオフエンプ
ロトン５位，C6H5 ×２），8.67（1H，ｄ，Ｊ＝8.5
Hz，―CONＨ），9.96（1H，ｓ，―ＣＨＯ）． 元素分析：C28H24N2O6S2 計算値：C61.30；H4.41；N5.11；S11.69 実験値：C61.19；H4.43；N5.14；S11.53 実施例 38 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメ
チルセフ―３―エム―４―カルボキシラート―
１―オキシド ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―２―メチル―３―メトキシイミノメチル
セフ―２―エム―４―カルボキシラート392mgの
CH2Cl230ml溶液に−20℃でｍ―クロル過安息香
酸133mgのCH2Cl215ml溶液を加え同温度で30分
間、さらに室温で30分間かき混ぜる。反応液を５
％NaHCO3水、飽和NaCl水で洗浄、MgSO4で乾
燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシリカ
ゲルカラムに加えベンセン・AcOEt（10：１）で
溶出する画分を集め、溶媒を減圧留去後、残留物
にAcOEtを加えるとジフエニルメチル７―（２
―チエニルアセトアミド）―2α―メチル―３―
メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４―カル
ボキシラート―１―オキシドの結晶の252mg（62
％）を得る。 mp 203℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1800，1730，1670， NMR（CDCl3）δ：1.25（3H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz、
2α―CH3 ），3.84（2H，ｓ，―CH2 ―CO―），3.88
（3H，ｓ，―COCH3 ），4.50（1H，ｑ，Ｊ＝7.5
Hz，2β―Ｈ），4.51（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），6.14（1H，dd，Ｊ＝5.0，9.0Hz，７―Ｈ），
6.80〜7.05（3H，ｍ，チオフエンプロトン３およ
び４位，―ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60（12H，
ｍ，チオフエンプロトン５位、C6 Ｈ 5×２，―
CONＨ―），8.41（1H，ｓ，―ＣＨＯ）． 元素分析：C29H27N3O6S2 計算値：C60.29；H4.71；N7.27；S11.10 実験値：C60.17；H4.70；N7.09；S10.91 実施例 39 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメ
トチルセフ―３―エム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボキシラート―１―
オキシド249mgのDMF8ml溶液に、−20℃で
PCl30.3mlを加え同温度で45分間かき混ぜる。反
応液にAcOEtとH2Oを加えAcOEt層を分取する。
AcOEt層は５％NaHCO3水、飽和NaCl水で洗
浄、Na2SO4で乾燥後、AcOEtを減圧留去する。
残留物をシリカゲルカラムに加え、ベンゼン・
AcOEt（15：１）で溶出する画分を集め溶媒を減
圧留去後、残留物にEt2Oを加えるとジフエニル
メチル７―（２―チエニルアセトアミド）―2α
―メチル―３―メトキシイミノメチルセフ―３―
エム―４―カルボキシラートの結晶219mg（90％）
を得る。 mp 160℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1790，1725，1665. NMR（DMSO―d6）δ：1.50（3H，ｄ，Ｊ＝
7.5Hz，2α―CH3），3.74（2H，ｓ，―CH2 ―CO
―），3.82（3H，ｓ，―ＯCH3 ），4.35（1H，ｑ，
Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），5.37（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，
６―Ｈ），5.88（1H，dd，Ｊ＝4.5，8.5Hz，７―
Ｈ），6.75〜7.05（3H，ｍ，チオフエンプロトン３
および４位，―ＣＨ（C6H5）2，7.10〜7.60（11H，
ｍ，チオフエンプロトン５位，C6H5 ×２），7.90
（1H，ｓ，―ＣＨ＝Ｎ―），9.18（1H，ｄ，Ｊ＝
8.5Hz，―CONＨ―）． NOE：2α―CH3を照射する時、６位プロトン
の面積は21％増加する。 元素分析：C29H27N3O5S2 計算値：C62.01；H4.75；N7.47；S11.42 実験値：C61.88；H4.75；N7.34；S11.37 実施例 40 ７―（２―チエニルアセトアミド）―2α―メ
チル―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボン酸ナトリウム塩 ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボキシラート160mg，
アニソール0.2ml，CF3COOH6mlの溶液を、室温
で20分間かき混ぜる。CF3COOHを減圧留去後、
残留物をAcOEtに溶解し、５％NaHCO3水に転
溶する。水層は５％H3PO4を加えPH7.0に調整後、
アンバーライトXAD―（ロームアンドハース
社製）のカラムに加える。カラムを水洗後20％
MeOH水で溶出する区分を集め、減圧濃縮した
のち凍結乾燥すると７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩
54mg（45％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1775，1680. NMR（D2O）δ：1.56（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
2α―CH3 ），3.91（5H，ｓ，―ＯCH3 および―
CH2―CO―），4.22（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
Ｈ），5.35（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.78
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），6.95〜7.2（2H，
ｍ，チオフエンプロトン３および４位），7.25〜
7.50（1H，ｍ，チオフエンプロトン５位）． 元素分析：C16H16N3O5S2Na・３／2H2O 計算値：C43.24；H4.31；N9.46；S14.43 実験値：C43.22；H4.28；N9.38；S14.25 実施例 41 実施例36と同様にしてジフエニルメチル７―
（２―チエニルアセトアミド）―2α―メチル―３
―ホルミルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
ト―１―オキシドと塩酸モルホリノエトキシアミ
ンよりジフエニルメチル７―（２―チエニルアセ
トアミド）―2α―メチル―３―モルホリノエト
キシメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
ト―１―オキシドを得る。（収率52％）． mp 167℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1800；1730；1675；1040. NMR（DMSO―d6）δ：1.24（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），2.20〜2.60（4H，ｍ，モルホ
リンメチレン３および５位），2.56（2H，ｔ，Ｊ
＝5.5Hz，―CH2CＨ 2N＜），3.40〜3.70（4H，ｍ，
モルホリンメチレン２および６位），3.86（2H，
ｓ，―CH2 ―CO―），4.16（2H，ｔ，Ｊ＝5.5Hz，
―ＯCH2 CH2―），4.43（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―Ｈ），5.05（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），6.02
（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.5Hz，７―Ｈ），6.80〜7.00
（3H，ｍ，チオフエンプロトン３および４位，―
ＣＨ（C6H5）2），7.15〜7.60（11H，ｍ，チオフエ
ンプロトン５位，C6H5 ×２），8.14（1H，ｓ，―
ＣＨ＝Ｎ―），8.52（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，―CO―
ＮＨ―）． 元素分析：C34H36N4O7S2 計算値：C60.34；H5.36；N8.28；S9.47 実験値：C60.58；H5.31；N8.04；S9.51 実施例 42 実施例37と同様にして、ジフエニルメチル７―
（２―チエニルアセトアミド）―2α―メチル―３
―モルホリノエトキシイミノメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボキシラート―１―オキシドよりジ
フエニルメチル７―（２―チエニルアセトアミ
ド）―2α―メチル―３―モルホリノエトキシイ
ミノメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
トを得る。（収率86％）． IRνKBr naxcm-1：1800，1740，1705. NMR（DMSO―d6）δ：1.52（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―ＣH3 ），2.20〜2.60（4H，ｍ，モルホ
リンメチレン３および５位），2.56（2H，ｔ，Ｊ
＝5.5Hz，―CH2CH2 Ｎ＜），3.40〜3.68（4H，ｍ，
モルホリンメチレン２および６位），3.76（2H，
ｓ，―CH2 ―CO―），4.16（2H，ｔ，Ｊ＝5.5Hz，
―ＯCH2 CH2―），4.36（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β
―Ｈ），5.36（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），6.89
（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.0Hz，７―Ｈ），6.85〜7.00
（3H，ｍ，チオフエンプロトン３および４位，―
ＣＨ（C6H5）2），7.10〜7.60（11H，ｍ，チオフエ
ンプロトン５位，C6H5 ×２），7.92（1H，ｓ，―
ＣＨ＝Ｎ―），9.19（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，―CO―
ＮＨ―）． 元素分析：C34H36N4O6S2 計算値：C61.80；H5.48；N8.48；S9.70 実験値：C61.72；H5.31；N8.37；S9.65 実施例 43 実施例40と同様にして、ジフエニルメチル７―
（２―チエニルアセトアミド）―2α―メチル―３
―モルホリノエトキシイミノメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボキシラートより７―（２―チエニ
ルアセトアミド）―2α―メチル―３―モルホリ
ノエトキシイミノメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボン酸ナトリウム塩を得る。（収率49％）． IRνKBr naxcm-1：1775，1680，1620. NMR（D2O）δ：1.65（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
2α―CH3 ），2.60〜3.00（6H，ｍ，―CH2 CH2 Ｎ
＜，モルホリンメチレン３および５位），3.70〜
3.96（4H，ｍ，モルホリンメチレン２および６
位），4.00（2H，ｓ，―CH2 ―CO），4.16〜4.60
（3H，ｍ，―ＯCH2 CH2―，2β―Ｈ），5.43（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.85（1H，ｄ，Ｊ＝5.0
Hz，７―Ｈ），7.10〜7.30（2H，ｍ，チオフエンプ
ロトン３および４位）、7.35〜7.55（1H，ｍ，チオ
フエンプロトン５位）． 元素分析：C21H25N4O6S2Na・2H2O 計算値：C45.64；H5.29；N0.14；S11.60 実験値：C45.83；H5.26；N9.98；S11.58 実施例 44 ジフエニルメチル７―アミノ―2α―メチル―
３―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４
―カルボキシラート ジフエニルメチル７―（２―チエニルアセトア
ミド）―2α―メチル―３―メトキシイミノメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボキシラート2.8ｇ
のCH2Cl260ml溶液にピリジン５mlを加え、窒素
気流中、−10℃でPCl53.05ｇを加え同温度で１時
間かき混ぜる。これにMeOH50mlを一度に加え、
−15°〜−10℃で30分間、さらに室温で２時間か
き混ぜる。反応液に0.5MK2HPO4溶液100ml、さ
らに25％H3PO4を加えPH2.0に調整後、30分間か
き混ぜ、CH2Cl2層を分取する。CH2Cl2層は飽和
NaCl水で洗浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減
圧留去する。残留物をシリカゲルカラムに加え、
CH2Cl2・AcOEt（35：１）で溶出する画分を集
め、溶媒を減圧留去するとジフエニルメチル ７―アミノ―2α―メチル―３―メトキシイミ
ノメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラート
1.44ｇ（66％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1785，1735. NMR（DMSO―d6＋D2O）δ：1.54（3H，ｄ，
Ｊ＝7.5Hz，2α―CH3 ），3.83（3H，ｓ，―Ｏ
CH3），4.31（1H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，2β―Ｈ），4.98
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―Ｈ），5.26（1H，ｄ，
Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），6.94（1H，ｓ，―ＣＨ
（C6H5）2），7.38（10H，ｓ，C6H5 ×２），7.93（１
Ｈ，ｓ，―ＣＨ＝Ｎ―）． 元素分析：C23H23N3O4S 計算値：C63.14；H5.30；N9.61；S7.33 実験値：C63.34；H5.37；N9.32；S7.34 実施例 45 ジフエニルメチル７〔２―フエニル―（Ｚ）―
２―メトキシイミノアセトアミド〕―2α―メ
チル―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボキシラート Ｚ―２―メトキシイミノフエニル酢酸179mg、
ジフエニルメチル７―アミノ―2α―メチル―３
―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート437mgのCH2Cl230ml溶液に−10℃
でジシクロヘキシルカルボジイミド240mgを加え
同温度で１時間、ついで室温で一夜かき混ぜる。
生成したジシクロヘキシル尿素をろ別し、ろ液を
５％NaHCO3水、５％H3PO4、飽和NaCl水で洗
浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減圧留去する。
残留物をシリカゲルカラムに加え、CH2Cl2で溶
出する画分を集め、CH2Cl2を減圧留去するとジ
フエニルメチル７―〔２―フエニル―（Ｚ）―２
―メトキシイミノアセトアミド〕―2α―メチル
―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４
―カルボキシラート488mg（82％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1795，1725，1670. NMR（DMSO―d6）δ：1.56（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），3.82（3H，ｓ，―ＯCH3 ），
3.93（3H，ｓ，―ＯCH3 ），4.37（1H，ｑ，Ｊ＝7.0
Hz，2β―Ｈ），5.47（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），6.07（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.0Hz，７―Ｈ），
6.93（1H，ｓ，―ＣＨ（C6H5）2），7.15〜7.77
（15H，ｍ，C6H5 ×３），7.93（1H，ｓ，―ＣＨ＝
Ｎ―）． 元素分析：C32H30N4O6S 計算値：C64.20；H5.05；N9.36；S5.36 実験値：C64.35；H5.14；N9.12；S5.48 実施例 46 ７―〔２―フエニル―（Ｚ）―２―メトキシイ
ミノアセトアミド〕―2α―メチル―３―メト
キシイミノメチルセフ―３―エム―４―カルボ
ン酸 ジフエニルメチル７―〔２―フエニル―（Ｚ）
―２―メトキシイミノアセトアミド〕―2α―メ
チル―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エム
―４―カルボキシラート294mg，アニソール0.3
ml，CF3COOH10mlの溶液を、室温で20分間かき
混ぜる。CF3COOHを減圧留去後、残留物を
AcOEtに溶解し、５％NaHCO3水に転溶する。
水層は５％H3PO4を加えPH2.0に調整後ふたたび
AcOEtで抽出する。AcOEt層をH2O、飽和NaCl
水で洗浄、Na2SO4で乾燥後、AcOEtを減圧留去
する。残留物にEt2Oを加えると７―〔２―フエ
ニル―（Ｚ）―２―メトキシイミノアセトアミ
ド〕―2α―メチル―３―メトキシイミノメチル
セフ―３―エム―４―カルボン酸の結晶114mg
（54％）を得る。 mp 189℃（decomp.） IRνKBr naxcm-1：1795，1730，1650. NMR（DMSO―d6）δ：1.56（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz，2α―CH3 ），3.86（3H，ｓ，―ＯCH3 ），
３・92（3H，ｓ，―ＯCH3 ），4.32（1H，ｑ，Ｊ＝
7.0Hz，2β―Ｈ），5.43（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６―
Ｈ），5.98（1H，dd，Ｊ＝5.0，8.0Hz，７―Ｈ），
7.30〜7.70（5H，ｍ，C6H5 ），8.09（1H，ｓ，―Ｃ
Ｈ＝Ｎ―），9.81（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，―CO―Ｎ
Ｈ―）． 元素分析：C19H20N4O6S 計算値：C52.77；H4.66；N12.96；S7.41 実験値：C52.71；H4.63；N12.95；S7.30 実施例 47 ジフエニルメチル７―〔２―（２―クロルアセ
チルアミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―
２―メトキシイミノアセトアミド〕―2α―メ
チル―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エ
ム―４―カルボキシラート ジフエニルメチル７―アミノ―2α―メチル―
３―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４―
カルボキシラート656mgのCH2Cl330ml溶液に、−
20℃でEt3NO.2ml，２―（２―クロルアセチルア
ミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メト
キシイミノアセチルクロリド407mgを加え、−20℃
〜−15℃で1.5時間かき混ぜる。反応液をH2O，
５％NaHCO3水、飽和NaCl水で洗浄，MgSO4で
乾燥後、CH2Cl2を減圧留去する。残留物をシリ
カゲルカラムに加え、CH2Cl2：AcOEt（15：１）
で溶出する画分を集め、溶媒を減圧留去するとジ
フエニルメチル ７―〔２―（２―クロルアセチルアミノチアゾ
ール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキシイミノ
アセトアミド〕―2α―メチル―３―メトキシイ
ミノメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラー
ト783mg（75％）を得る。 バイルシユタイン反応陽性 IRνKBr naxcm-1：1795，1730，1690. 元素分析：C31H29N6O7S2Cl 計算値：C53.40；H4.19；N12.06；S9.20 実験値：C53.33；H4.01；N11.95；S9.13 実施例 48 ジフエニルメチル７―〔２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキシイ
ミノアセトアミド〕―2α―メチル―３―メト
キシイミノメチルセフ―３―エム―４―カルボ
キシラート ジフエニルメチル７―〔２―（２―クロルアセ
チルアミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２
―メトキシイミノアセトアミド〕―2α―メチル
―３―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４
―カルボキシラート713mgのテトラヒドロフラン
10ml溶液に、チオ尿素84mgのH2O1ml液を加え一
夜かき混ぜ、溶媒を減圧留去する。残渣を
CH2Cl2に溶解し、H2O、飽和NaCl水で順次洗
浄、MgSO4で乾燥後、CH2Cl2を減圧留去する。
残留去をシリカゲルカラムに加えCH2Cl2・アセ
トン（９：１）で溶出する画分を集め、溶媒を減
圧留去するとジフエニルメチル７―〔２―（２―
アミノチアゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メ
トキシイミノアセトアミド〕―2α―メチル―３
―メトキシイミノメチルセフ―３―エム―４―カ
ルボキシラート180mg（28％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1800，1740，1695. NMR（DMSO―d6＋D2O）δ：1.54（3H，ｄ，
Ｊ＝7.0Hz，2α―CH3 ），３・82（3H，ｓ，―Ｏ
CH3），3.85（3H，ｓ，―ＯCH3 ），4.36（1H，ｑ，
Ｊ＝7.0Hz，2β―Ｈ），5.41（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，
6.Ｈ），5.99（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７―Ｈ），6.74
（1H，ｓ，チアゾール５―Ｈ），6.92（1H，ｓ，
―ＣＨ（C6H5）2），7.36（10H，ｓ，C6H5 ×２）． 元素分析：C29H28N6O6S2 計算値：C56.11；H4.55；N13.54；S10.33 実験値：C56.20；H4.79；N13.07；S9.95 実施例 49 ７―〔２―（２―アミノチアゾール―４―イ
ル）―（Ｚ）―２―メトキシイミノアセトアミ
ド〕―2α―メチル―３―メトキシイミノメチ
ルセフ―３―エム―４―カルボン酸ナトリウム
塩 ジフエニルメチル７―〔２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）―（Ｚ）―２―メトキシイミ
ノアセトアミド〕―2α―メチル―３―メトキシ
イミノメチルセフ―３―エム―４―カルボキシラ
ート139mg、アニソール0.15ml，CF3COOH10ml
の溶液を、室温で20分間かき混ぜる。CF3COOH
を減圧留去後、残留物をFt2Oおよび５％
NaHCO3水に分配し、水層を分取する。水層は
５％H3PO4を加えPH7.0に調整後アンバーライト
XAD―（ロームアンドハース社製）のカラム
に加える。カラムを水洗後10％MeOH水で溶出
する画分を集め、減圧濃縮したのち凍結乾燥する
と７―〔２―（２―アミノチアール―４―イル）
―（Ｚ）―２―メトキシイミノアセトアミド〕―
2α―メチル―３―メトキシイミノメチルセフ―
３―エム―４―カルボン酸ナトリウム塩84mg（73
％）を得る。 IRνKBr naxcm-1：1775，1675. NMR（D2O）δ：1.70（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz，
2α―CH3 ），4.00（3H，ｓ，―ＯCH3 ），4.10（3H，
ｓ，―ＯCH3 ），4.37（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，2β―
Ｈ），5.53（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６―Ｈ），6.02
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７―Ｈ），7.10（1H，ｓ，
チアゾール５―Ｈ），8.15（1H，ｓ，―ＣＨ＝Ｎ
―）． 元素分析：C16H17N6O6S2Na・2H2O 計算値：C37.50；H4.13；N16.40；S12.51 実験値：C37.81；H4.14；N16.78；S12.22
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ［式中、R1は水素、式 R4―CH2―CO― （式中、R4はフエニル基またはチエニル基を
意味する）で表わされる基、式 （式中、R6はフエニル基またはチエニル基を、
R7は水素、アミノ基の保護基またはＮ―（炭素
数１から３の低級アルキル基）―２，３―ジオキ
ソピペラジノカルボニル基を意味する）で表わさ
れる基または式 （式中、R9は低級アルキル基を意味する）で
表わされる基、―COOR2はエステル化されてい
てもよいカルボキシル基、Ｚは低級アルキル基も
しくはカルボキシ低級アルキル基で置換されたチ
アジアゾリルまたはテトラゾイル基を意味する）
で表わされる基、ｎは０または１を意味する。］
で表わされるセフ―２―または３―エム誘導体ま
たはその塩。 ２ 一般式 ［式中、R1′は式 R4―CH2―CO― （式中、R4はフエニル基またはチエニル基を
意味する）で表わされる基、式 （式中、R6はフエニル基またはチエニル基を、
R7は水素、アミノ基の保護基またはＮ―（炭素
数１から３の低級アルキル基）―２，３―ジオキ
ソピペラジノカルボニル基を意味する）で表わさ
れる基または式 （式中、R9は低級アルキル基を意味する）で
表わされる基、―COOR2はエステル化されてい
てもよいカルボキシル基を意味する。］で表わさ
れるセフ―２―エム誘導体またはその塩にハロゲ
ン化剤、ついで一般式 Ｚ―SH ［式中、Ｚは低級アルキル基もしくはカルボキ
シ低級アルキル基で置換されたチアジアゾリルま
たはテトラゾイル基を意味する。］で表わされる
複素環チオール化合物またはその塩を反応させる
ことを特徴とする一般式 ［式中の記号は前記と同意義］で表わされるセ
フ―２―エム誘導体またはその塩の製造法。 ３ 一般式 ［式中、R1′は式 R4―CH2―CO― （式中、R4はフエニル基またはチエニル基を
意味する）で表わされる基、式 （式中、R6はフエニル基またはチエニル基を、
R7は水素、アミノ基の保護基またはＮ―（炭素
数１から３の低級アルキル基）―２，３―ジオキ
ソピペラジノカルボニル基を意味する）で表わさ
れる基または式 （式中、R9は低級アルキル基を意味する）で
表わされる基、―COOR2はエステル化されてい
てもよいカルボキシル基、Ｚは低級アルキル基も
しくはカルボキシ低級アルキル基で置換されたチ
アジアゾリルまたはテトラゾイル基を意味する）
で表わされる基を意味する。］で表わされるセフ
―２―エム誘導体またはその塩を酸化することを
特徴とする一般式 ［式中、R1′，―COOR2，Ｚは前記と同意義、
ｎは０または１を意味する。］で表わされるセフ
―３―エム誘導体またはその塩の製造法。 ４ 一般式 ［R1は水素、式R4―CH2―CO― （式中、R4はフエニル基またはチエニル基を
意味する）で表わされる基、 式 （式中、R6はフエニル基またはチエニル基を、
R7は水素、アミノ基の保護基またはＮ―（炭素
数１から３の低級アルキル基）―２，３―ジオキ
ソピペラジノカルボニル基を意味する）で表わさ
れる基または式 （式中、R9は低級アルキル基を意味する）で
表わされる基、―COOR2はエステル化されてい
てもよいカルボキシル基、R3はハロゲン、カル
バモイルオキシ基、反応性アシルオキシ基、ｎは
０または１を意味する。］で表わされるセフ―３
―エム誘導体またはその塩と一般式 Ｚ―SH ［式中、Ｚは低級アルキル基もしくはカルボキ
シ低級アルキル基で置換されたチアジアゾリルま
たはテトラゾイル基を意味する。］で表わされる
複素環チオール化合物またはその塩を反応させる
ことを特徴とする一般式 ［式中の記号は前記と同意義］で表わされるセ
フ―３―エム誘導体またはその塩の製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2295180A JPS56118085A (en) | 1980-02-25 | 1980-02-25 | 2-methylcephalosporin derivative and its preparation |
| US06/235,998 US4463172A (en) | 1980-02-25 | 1981-02-19 | Process for producing 2-methyl cephem-2-em and 2-methylcephem-3-em derivitaves |
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| EP81300765A EP0035357A1 (en) | 1980-02-25 | 1981-02-24 | 2-Methylcephalosporins and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2295180A JPS56118085A (en) | 1980-02-25 | 1980-02-25 | 2-methylcephalosporin derivative and its preparation |
Publications (2)
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| JPS56118085A JPS56118085A (en) | 1981-09-16 |
| JPH0160477B2 true JPH0160477B2 (ja) | 1989-12-22 |
Family
ID=12096914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2295180A Granted JPS56118085A (en) | 1980-02-25 | 1980-02-25 | 2-methylcephalosporin derivative and its preparation |
Country Status (4)
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- 1981-02-20 CA CA000371344A patent/CA1176628A/en not_active Expired
- 1981-02-24 EP EP81300765A patent/EP0035357A1/en not_active Ceased
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