JPH0180927U - - Google Patents

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JPH0180927U
JPH0180927U JP1987176633U JP17663387U JPH0180927U JP H0180927 U JPH0180927 U JP H0180927U JP 1987176633 U JP1987176633 U JP 1987176633U JP 17663387 U JP17663387 U JP 17663387U JP H0180927 U JPH0180927 U JP H0180927U
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heat treatment
retention means
peripheral surface
reaction tube
vertical semiconductor
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【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案に係る縦型半導体熱処理装
置の縦断面図、第2図、第3図は、縦型半導体熱
処理装置のヒートキヤツプの斜視図および縦断面
図、第4図は、別実施例における縦型半導体熱処
理装置のヒートキヤツプの縦断面図である。 10:縦型半導体熱処理装置、11:ヒートキ
ヤツプ、12:滞留手段、14:ヒートキヤツプ
の外周面、16:滞留溝付フランジ(滞留手段)
、18:滞留溝、19:環形溝(滞留手段)、2
0:反応管、32:ウエーハボート、34:ボー
トローダ、36:支持ロツド、40:排気リング
、42:排気孔。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 半導体基板を熱処理する際、反応管内で液
    化、析出して付着する液体や固体を滞留させて、
    落下を防止する滞留手段を有する縦型半導体熱処
    理装置。 (2) 滞留手段が、ウエーハボートとともに反応
    管内に搬入されて反応管の開口を閉塞するヒート
    キヤツプの外周面に設けられたことを特徴とする
    実用新案登録請求の範囲第1項記載の縦型半導体
    熱処理装置。 (3) 滞留手段が、ヒートキヤツプ外周面の下端
    部に形成された滞溜溝付外方フランジである実用
    新案登録請求の範囲第2項記載の縦型半導体熱処
    理装置。 (4) 滞留手段が、ヒートキヤツプ外周面の下端
    部に形成された環形溝である実用新案登録請求の
    範囲第2項記載の縦型半導体熱処理装置。 (5) 滞留手段が、反応管の内周面の上端部に設
    けられたことを特徴とする実用新案登録請求の範
    囲第1項記載の縦型半導体熱処理装置。
JP1987176633U 1987-11-19 1987-11-19 Pending JPH0180927U (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS614426B2 (ja) * 1977-08-26 1986-02-10 Nippon Zeon Co

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS614426B2 (ja) * 1977-08-26 1986-02-10 Nippon Zeon Co

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