JPH0186054U - - Google Patents
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- JPH0186054U JPH0186054U JP18065487U JP18065487U JPH0186054U JP H0186054 U JPH0186054 U JP H0186054U JP 18065487 U JP18065487 U JP 18065487U JP 18065487 U JP18065487 U JP 18065487U JP H0186054 U JPH0186054 U JP H0186054U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- cathode
- electron microscope
- vacuum
- evaporation device
- Prior art date
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- Pending
Links
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 238000004380 ashing Methods 0.000 claims 1
- 238000010000 carbonizing Methods 0.000 claims 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Description
第1図は、本考案の一実施例の電子顕微鏡用真
空蒸着装置を示すブロツク図である。 1……真空チヤンバー、2……蒸着用ターゲツ
ト(陰極に対応する。)、3……試料台(陽極に
対応する。)、4……試料、5,11……プラズ
マ発生用高周波電極、6……酸素供給ノズル、7
……蒸着制御部、8……プラズマ発生用高周波電
極制御部、9……酸素流量調整器、10……真空
排気系。
空蒸着装置を示すブロツク図である。 1……真空チヤンバー、2……蒸着用ターゲツ
ト(陰極に対応する。)、3……試料台(陽極に
対応する。)、4……試料、5,11……プラズ
マ発生用高周波電極、6……酸素供給ノズル、7
……蒸着制御部、8……プラズマ発生用高周波電
極制御部、9……酸素流量調整器、10……真空
排気系。
Claims (1)
- 真空チヤンバー内で陽極と陰極との間に電圧を
かけてイオンを前記陰極に衝突させ、飛散した金
属を前記陽極側の試料の表面に蒸着させる電子顕
微鏡用真空蒸着装置において、前記試料の表面に
付着した有機物を炭化処理して除去するプラズマ
アツシング装置が備えてあり、プラズマを発生さ
せる一対のプラズマ発生用高周波電極が前記真空
チヤンバー内で対向配置してあり、前記真空チヤ
ンバー内に酸素を供給する酸素供給ノズルが設け
てあることを特徴とする電子顕微鏡用真空蒸着装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18065487U JPH0186054U (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18065487U JPH0186054U (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0186054U true JPH0186054U (ja) | 1989-06-07 |
Family
ID=31472164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18065487U Pending JPH0186054U (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0186054U (ja) |
-
1987
- 1987-11-26 JP JP18065487U patent/JPH0186054U/ja active Pending
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