JPH0189955U - - Google Patents
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- JPH0189955U JPH0189955U JP18521887U JP18521887U JPH0189955U JP H0189955 U JPH0189955 U JP H0189955U JP 18521887 U JP18521887 U JP 18521887U JP 18521887 U JP18521887 U JP 18521887U JP H0189955 U JPH0189955 U JP H0189955U
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- JP
- Japan
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- electron beam
- evaporation
- crucible
- continuous vacuum
- electron
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- Pending
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図ａ，ｂ，ｃは本考案の一実施例としての
連続真空蒸着装置の構成図、第２図ａ，ｂ及び第
３図ａ，ｂは従来の連続真空蒸着装置の構成図で
ある。 １……蒸着基板、２……真空シール装置、３…
…蒸着室、４，５……デフレクタロール、６……
蒸発るつぼ、７……蒸着金属、８……電子銃、９
……電子ビーム、１０……電子ビーム鉛直偏向装
置（小型電磁コイル）、１１……磁場空間（装置
１０による）、１２……真空排気装置。
連続真空蒸着装置の構成図、第２図ａ，ｂ及び第
３図ａ，ｂは従来の連続真空蒸着装置の構成図で
ある。 １……蒸着基板、２……真空シール装置、３…
…蒸着室、４，５……デフレクタロール、６……
蒸発るつぼ、７……蒸着金属、８……電子銃、９
……電子ビーム、１０……電子ビーム鉛直偏向装
置（小型電磁コイル）、１１……磁場空間（装置
１０による）、１２……真空排気装置。
Claims (1)
- 鋼帯等の蒸着基板に連続的に金属皮膜を蒸着メ
ツキする連続真空蒸着装置において、蒸発用加熱
源である電子銃、及び該電子銃と蒸発るつぼとの
間に電子ビーム偏向装置を複数個備え、電子ビー
ムを鉛直偏向させる際に電子ビーム進行方向に細
長いるつぼの全面に電子ビームを照射されるよう
に、鉛直偏向用コイルを複数個備えたことを特徴
とする連続真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18521887U JPH0189955U (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18521887U JPH0189955U (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0189955U true JPH0189955U (ja) | 1989-06-13 |
Family
ID=31476544
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18521887U Pending JPH0189955U (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0189955U (ja) |
-
1987
- 1987-12-04 JP JP18521887U patent/JPH0189955U/ja active Pending
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