JPH0193155A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置

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Publication number
JPH0193155A
JPH0193155A JP24969887A JP24969887A JPH0193155A JP H0193155 A JPH0193155 A JP H0193155A JP 24969887 A JP24969887 A JP 24969887A JP 24969887 A JP24969887 A JP 24969887A JP H0193155 A JPH0193155 A JP H0193155A
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JP
Japan
Prior art keywords
resin
resin composition
semiconductor device
less
elastic modulus
Prior art date
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Pending
Application number
JP24969887A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoki Mogi
直樹 茂木
Koichi Tanaka
孝一 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication of JPH0193155A publication Critical patent/JPH0193155A/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、急激な温度変化(たとえば半田浸漬)を受け
た後の耐熱性及び耐クランク性に優れる樹脂封止型半導
体装置に関するものであり、その特徴は成形品での高温
時(175℃以上)において可撓性を有する低応力樹脂
組成物を使用した樹脂封止型半導体装置に関するもので
ある。
〔従  来  技  術〕
最近の電気製品における軽薄短小傾向から半導体装置の
実装密度を向上させるために、半導体セットメーカーで
は従来のスルーホール実装から表面実装への種間が進ん
でいる0表面実装での自動ツクが生じたり、リード樹脂
間の界面が劣化するなどして耐湿性が低下する問題があ
る。
これらの諸問題を解決するには、どのような特性をもっ
た樹脂組成物がよいかとの物性面でのアプローチが種々
なされているが、未だその決定的な解決がなされていな
い。
〔発明の目的〕
本発明は従来の低応力封止樹脂などの使用によって得る
ことの出来なかった急激な温度変化(たとえば半田浸漬
)を受けた後の耐湿性及び耐クラツク性に優れる樹脂封
止型半導体装置を得んとして研究した結果、高温時(1
75℃以上)における曲げ弾性率及び応力値が一定値以
下となる樹脂組成物を使用することにより該特性に優れ
る樹脂封止型半導体装置が得られることを見い出したも
のである。
〔発明の構成〕
本発明は、成形品における物性値として200℃から2
60℃で曲げ弾性率が5X10”N/rd以下であり、
かつ175℃から260℃までの下記(1)で示される
応力値が6X10’N/rrr・℃以下の低応力樹脂組
成物により封止されたことを特徴とする樹脂封止型半導
体装置である。
σ :応力値 K :定数−1 αt:樹脂成形物の熱膨張係数 Et:樹脂成形物の動的弾性率 T、:175℃ ’r、=260℃ 本発明において用いられる樹脂組成物とは、−般に半導
体封止用樹脂組成物であり、エポキシ樹脂をはじめとし
て、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂
等の熱硬化性樹脂や、PPSなどの熱可塑性樹脂の各組
成物であっても何らさしつかえがなく、該樹脂組成物の
成形品の物性値が200℃から260℃における曲げ弾
性率が5 X 10”N/n?以上であれば、急激な熱
衝撃(例えば半田浸漬等)のために成形物の表面に発生
したクラックや、リードフレームとの界面等の劣化によ
り耐湿性が急激に低下してしまう、このため200℃か
ら260℃における曲げ弾性率が5X10”N/n?以
下であることが必要である。更に好ましくは260℃で
の曲げ弾性率が3X10@N/d以下である。曲げ弾性
率と同時に、175℃から260℃における応力値(式
(1)で示される)が6X10’N/nf・℃以下であ
ることが必須条件である。175℃から260℃までの
応力値が6X10’N/i・℃以上であれば急激な熱衝
撃により、成形品の内部応力に起因するクランク発生の
ため外観不良となり、良好な樹脂封止型半導体装置が得
られない、応力値は更に好ましくは、4X10’N/r
rr・℃以下が望ましい、第1図及び第2図に物性値と
評価結果との関係を示す。
また本発明で用いられる樹脂封止型半導体装置のICに
ついてはバイポーラIC,、MO3ICリニアーIC等
のIC全般を指し、樹脂封止型半導体装置の形状につい
てはスタンダードDIPをはじめとして、SOP、ZI
P、PLCC,フラットパッケージ等のパンケージ形状
全般を指す。
〔発明の効果〕
このように本発明の特性値を有する樹脂組成物で封止さ
れた樹脂封止型半導体装置は、急激な温度変化を受けた
後の耐湿性及び耐クランク性に優れる。
従って、最近の表面実装における要求特性に十分耐えう
ろことから本発明の産業的意味役割は非常に大きく人類
の生活水準向上に効果をもたらす。
〔実  施  例〕
以下、樹脂封止型半導体装置での検討例で説明する。
実  施  例 実施例で用いた樹脂組成物とは、溶融シリカ70重量部
にシラン系カップリング剤0.5重量を加えヘンシェル
ミキサーで混合し、更にクレゾールノボラックエポキシ
樹脂20重量部、硬化剤としてジシクロペンタジェンフ
ェノリックポリマーを10重量部、トリフェニルホスフ
ィン0.2重量部、カーボンブラック0.5重量部、カ
ルナバワックス0.4重量部を混合した後、喝ニーグー
で混練し、冷却固化後粉砕し硬化させた状態において、
260℃における曲げ弾性率が2.7 X 10”/ 
n(であり、かつ175℃から260℃における応力値
が3.7X10”N/n?・℃の特性を示す樹脂組成物
を得た。
該樹脂組成物を用い、半導体素子をトランスファー成形
機でモールドすることにより樹脂封止型半導体装置を得
た。樹脂封止型半導体装置の特性を第1表に示す。
比  較  例  1 実施例に対して硬化剤をフェノールノボラック樹脂に変
更した以外は全て同一原料を用いた。これらの樹脂組成
物について実施例と同様な方法で樹脂封止型半導体装置
を得た。特性を第1表に示す。
比  較  例  2 更に比較のため従来技術による一般的なエポキシ樹脂組
成物にシリコーンゴム及びシリコーンオイルを添加した
一般の低応力樹脂組成物を用い、同様な方法で樹脂封止
型半導体装置を得た。
以上の実施例及び比較例についての樹脂組成物の物性値
と半導体装置における評価結果を第1表に示す。
第    1    表 曲げ弾性率:成形品テストピースを260 ’Cのオ−
プン中に放置した状態で万能試験 機にて測定、(JIS−に691)) 応 力 値:計算に用いた熱膨張係数は、熱機械分析装
置(セイコー電子工業製:T MA 10) 、動的弾性率は動的機械分析装W(東洋
精機製作所製:レオ グラフ・ソリッド)を用い測定した。
それらの値について175℃から260℃までの応力値
を計算式[1)に従い、計算した。
半田後耐湿性ニアルミ模擬素子を組み込んだモニターI
C(16pDIP)20個を85℃、85%RHの恒温
槽に72時間放置し、260℃の半田に10秒間浸漬し
た後、121℃・100%、1000時間放置した時の
回路異常発生個数を示す。
半田後耐りラフク性ニアルミ模擬素子を組み込んだモニ
ターIC(52pFP)を85℃、 85%RHの恒温槽に72時間放置した後、260℃の
半田に10秒間浸漬し、クランク発生個数で判定、(成
形品のク ランクは実体顕微鏡−で観察、1フレ ーム8個、n −10回の測定) 以上の結果により実施例は熱時(260℃)の曲げ弾性
率は3 X 10’ N / rd以下であり、応力値
は、0.4X10’N/rrr・℃以下であル、マタ、
半田a 耐湿性と耐クラツク性については比較例に比べ
非常に良好であることが分がる。
【図面の簡単な説明】
第1図は260℃における曲げ弾性率と半田浴浸漬後の
耐湿性による不良発生率を示す図であり、1000時間
処理後の不良発生率が20%以下であれば実用上問題が
ない。 第2図は175℃〜260℃における応力値とクランク
発生率を示す図である。 特許出願人 住友ベークライト株式会社7Fdl 半田慣Eクラッグ#vI(%)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  成形品の200℃から260℃における曲げ弾性率が
    5×10^2N/m^2以下であり、且つ下記式(1)
    で示される175℃から260℃までの応力値が6×1
    0^6N/m^2℃以下である樹脂組成物により封止さ
    れたことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。 ▲数式、化学式、表等があります▼……(1) K:定数=1 αt:樹脂組成物の成形物の熱膨張係数 Et: 〃 の動的弾性率 T_1:175℃ T_2:260℃
JP24969887A 1987-10-05 1987-10-05 樹脂封止型半導体装置 Pending JPH0193155A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03154368A (ja) * 1989-11-10 1991-07-02 Nitto Denko Corp 半導体装置
JPH07312401A (ja) * 1995-02-20 1995-11-28 Nitto Denko Corp 半導体装置
US6388339B1 (en) 1999-10-29 2002-05-14 Sharp Kabushiki Kaisha Sealed-by-resin type semiconductor device and liquid crystal display module including the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58174416A (ja) * 1982-04-07 1983-10-13 Toshiba Corp 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPS62192445A (ja) * 1986-02-18 1987-08-24 Matsushita Electric Works Ltd 封止用エポキシ樹脂成形材料

Patent Citations (2)

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