JPH0196373A - イオン・プレーテイング装置 - Google Patents
イオン・プレーテイング装置Info
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- JPH0196373A JPH0196373A JP25546387A JP25546387A JPH0196373A JP H0196373 A JPH0196373 A JP H0196373A JP 25546387 A JP25546387 A JP 25546387A JP 25546387 A JP25546387 A JP 25546387A JP H0196373 A JPH0196373 A JP H0196373A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、真空中において被覆材料を蒸発させて被蒸
着物表面に蒸着させる装置にかかり、更に詳しく述べれ
ば、被覆材料蒸気をイオン化してから被蒸着物表面に蒸
着させ為装置に関する。
着物表面に蒸着させる装置にかかり、更に詳しく述べれ
ば、被覆材料蒸気をイオン化してから被蒸着物表面に蒸
着させ為装置に関する。
高真空中において被覆材料の蒸発源に対面して被蒸着物
を配置すると共に、上記蒸発源から上記被蒸着物へ向う
被覆材料蒸気の径路の近傍の上記蒸発源に接近した位置
に、上記蒸発源との間に上記被覆材料を通してアーク放
電を営むよう構成されたイオン化電極を配置してなるイ
オン・プレーティング装置は１例えば実公昭５９−４０
４５号公報に示されている。
を配置すると共に、上記蒸発源から上記被蒸着物へ向う
被覆材料蒸気の径路の近傍の上記蒸発源に接近した位置
に、上記蒸発源との間に上記被覆材料を通してアーク放
電を営むよう構成されたイオン化電極を配置してなるイ
オン・プレーティング装置は１例えば実公昭５９−４０
４５号公報に示されている。
また、上記蒸発源と上記イオン化装置との間にアーク放
電が起りにくい場合に、アーク放電を起し易くするため
に１両者の間に熱電子放射用フィラメントを配置するこ
とも、上記公報に示されている。
電が起りにくい場合に、アーク放電を起し易くするため
に１両者の間に熱電子放射用フィラメントを配置するこ
とも、上記公報に示されている。
上述のイオン化電極は、アーク放電の際の強い電子衝撃
によって著るしく加熱される。そのために、材料として
高融点で熱伝導率の良いモリブデンの厚肉のものを使用
したり、水冷したりして、放電スポットの著るしい昇温
を防いでいる。
によって著るしく加熱される。そのために、材料として
高融点で熱伝導率の良いモリブデンの厚肉のものを使用
したり、水冷したりして、放電スポットの著るしい昇温
を防いでいる。
上述の従来のイオン・プレーティング装置においては、
イオン化電極には、蒸発源に近い位置にあるために被覆
材料の蒸着、堆積が行われ易い。
イオン化電極には、蒸発源に近い位置にあるために被覆
材料の蒸着、堆積が行われ易い。
被覆材料が、例えばチタ／のような金属である場合には
、イオン化電極の表面に被覆材料が厚く堆積しても、ア
ーク放電は支障なく継続する。しかし、被覆材料が例え
ばアルミナのような絶縁体である場合には、イオン化電
極の表面が絶縁皮膜で覆われる結果、放電が数分間程度
で停止してしまい、長時間にわたる成膜作業は行い得な
かった。
、イオン化電極の表面に被覆材料が厚く堆積しても、ア
ーク放電は支障なく継続する。しかし、被覆材料が例え
ばアルミナのような絶縁体である場合には、イオン化電
極の表面が絶縁皮膜で覆われる結果、放電が数分間程度
で停止してしまい、長時間にわたる成膜作業は行い得な
かった。
この発明は、従来、イオン化電極におけるアーク放電の
スポットを可及的に低温にするよう努力していたのとは
反対に、イオン化電極の温度を被覆材料の蒸発温度以上
に維持する手段を設けたものであ、る。
スポットを可及的に低温にするよう努力していたのとは
反対に、イオン化電極の温度を被覆材料の蒸発温度以上
に維持する手段を設けたものであ、る。
イオン化電極を上述のように維持する手段としては、イ
オン化電極をフィラメント状に形成してこれに通電する
方法や、イオン化電極を左程熱伝導性が良好でないタン
グステン等で形成したり。
オン化電極をフィラメント状に形成してこれに通電する
方法や、イオン化電極を左程熱伝導性が良好でないタン
グステン等で形成したり。
熱伝導が十分性われない線状材料や薄板材料を用いて形
成して、電子衝撃により所定温度に昇温させる方法があ
る。
成して、電子衝撃により所定温度に昇温させる方法があ
る。
上述のように、イオン化電極が通電または電子衝撃によ
って被覆材料の蒸発温度以上に維持される結果、被覆材
料蒸気はイオン化電極面に凝結しない。その結果、イオ
ン化電極の表面は、常に新鮮な状態に保たれるので、ア
ーク放電は長時間にわたり安定゛して行われる。
って被覆材料の蒸発温度以上に維持される結果、被覆材
料蒸気はイオン化電極面に凝結しない。その結果、イオ
ン化電極の表面は、常に新鮮な状態に保たれるので、ア
ーク放電は長時間にわたり安定゛して行われる。
第１図において、真空槽１の下底部には排気口２が存在
し、これに連なる真空ポンプによって、槽１内は常に高
真空に排気されている。槽１内の下部には蒸発源３が位
置し、その電子銃部から発せられる電子ビーム４の衝撃
により、被覆材料５は蒸発する。槽１内の上部の、蒸発
源３の真上にあたる位置には、被蒸着物６が配置される
。蒸発源３に接近しその斜上方に、棒状材料で作られた
イオン化電極７が位置し、その両端は槽１外において加
熱電源８に接続されている。蒸発源３とイオン化電極７
との間には１例えばタフゲステン製の熱電子放射フィラ
メント９が位置し、その両端は槽１外で加熱電源１０に
接続されている。蒸発源３及びフィラメント９は共に接
地され、イオン化電極７と接地との間にはアーク放電用
の電源１１が介在する。被蒸着物６は、槽１外において
直流または高周波のバイアス電源１２に接続される。な
お。
し、これに連なる真空ポンプによって、槽１内は常に高
真空に排気されている。槽１内の下部には蒸発源３が位
置し、その電子銃部から発せられる電子ビーム４の衝撃
により、被覆材料５は蒸発する。槽１内の上部の、蒸発
源３の真上にあたる位置には、被蒸着物６が配置される
。蒸発源３に接近しその斜上方に、棒状材料で作られた
イオン化電極７が位置し、その両端は槽１外において加
熱電源８に接続されている。蒸発源３とイオン化電極７
との間には１例えばタフゲステン製の熱電子放射フィラ
メント９が位置し、その両端は槽１外で加熱電源１０に
接続されている。蒸発源３及びフィラメント９は共に接
地され、イオン化電極７と接地との間にはアーク放電用
の電源１１が介在する。被蒸着物６は、槽１外において
直流または高周波のバイアス電源１２に接続される。な
お。
１３は必要時に反応ガスを導入する導入口である。
上述の装置において、被覆材料として例えばアルミナの
ような絶縁物を用いる際は、イオン化電極７の材料とし
てはタングステン、或いはモリブデンのような高融点金
属を用い、２０００ｔｉ前後に通電加熱すればよい。
ような絶縁物を用いる際は、イオン化電極７の材料とし
てはタングステン、或いはモリブデンのような高融点金
属を用い、２０００ｔｉ前後に通電加熱すればよい。
第１図示の実施例は、イオン化電極７を流れる放電電流
が１例えばＩＯＡ以下の少い場合に適するが、この放電
電流が例えば２０〜１００ Ａというように大きな値に
なると、イオン化電極７を加熱電源８によって通電加熱
しなくても、その構造を適切に選ぶことにより、アーク
放電の衝撃を利用した自己加熱によシ、所定の温度に昇
温させることが可能になる。
が１例えばＩＯＡ以下の少い場合に適するが、この放電
電流が例えば２０〜１００ Ａというように大きな値に
なると、イオン化電極７を加熱電源８によって通電加熱
しなくても、その構造を適切に選ぶことにより、アーク
放電の衝撃を利用した自己加熱によシ、所定の温度に昇
温させることが可能になる。
第２図は、このような放電電流が大きい場合に適した実
施例を示しＳ１７はタングステン、モリブデンのような
高融点金属または黒鉛の薄板製のイオン化電極であり、
残余の構成は第１図と同一である。この実施例では、イ
オン化電極１７の放電部位に生じた昇温は、その熱が薄
肉のために伝導拡散しにくいこともあって、容易に２０
００℃前後の必要温度に到達するので、やはり被覆材料
蒸気の凝着を防ぐことができる。
施例を示しＳ１７はタングステン、モリブデンのような
高融点金属または黒鉛の薄板製のイオン化電極であり、
残余の構成は第１図と同一である。この実施例では、イ
オン化電極１７の放電部位に生じた昇温は、その熱が薄
肉のために伝導拡散しにくいこともあって、容易に２０
００℃前後の必要温度に到達するので、やはり被覆材料
蒸気の凝着を防ぐことができる。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によるときは、被覆材料として
絶縁性物質を用いる場合に、これらの蒸気がイオン化電
極の表面を覆い、安定な放電を防げるのを効果的に阻止
することができる。
絶縁性物質を用いる場合に、これらの蒸気がイオン化電
極の表面を覆い、安定な放電を防げるのを効果的に阻止
することができる。
従って、従来困難であった絶縁性物質による高品質のイ
オン・プレーティング皮膜の能率的な形成を可能にする
ことができる。
オン・プレーティング皮膜の能率的な形成を可能にする
ことができる。
第１図はこの発明の実施例の構成図、第２図はこの発明
の他の実施例の構成図である。 １・・・真空槽、３・・・蒸発源、６・・・被蒸着物、
７及び１７・・・イオン化電極、８・・・加熱電源、１
１・・・アーク放電用電源。
の他の実施例の構成図である。 １・・・真空槽、３・・・蒸発源、６・・・被蒸着物、
７及び１７・・・イオン化電極、８・・・加熱電源、１
１・・・アーク放電用電源。
Claims (1)
- （１）高真空中において被覆材料の蒸発源に対面して被
蒸着物を配置すると共に、上記蒸発源から上記被蒸着物
へ向う被覆材料蒸気の径路の近傍の上記蒸発源に接近し
た位置に、上記蒸発源との間に上記被覆材料蒸気を通し
てアーク放電を営むよう構成されたイオン化電極を配置
してなるイオン・プレーティング装置において、上記イ
オン化電極を上記被覆材料の蒸発温度以上に維持する手
段を設けたことを特徴とするイオン・プレーティング装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62255463A JP2592617B2 (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | イオン・プレーテイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62255463A JP2592617B2 (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | イオン・プレーテイング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0196373A true JPH0196373A (ja) | 1989-04-14 |
| JP2592617B2 JP2592617B2 (ja) | 1997-03-19 |
Family
ID=17279115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62255463A Expired - Lifetime JP2592617B2 (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | イオン・プレーテイング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2592617B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006037153A (ja) * | 2004-07-26 | 2006-02-09 | Shinko Seiki Co Ltd | 成膜装置および成膜方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS595732U (ja) * | 1982-07-01 | 1984-01-14 | 三菱重工業株式会社 | 燃料調整リンク装置 |
-
1987
- 1987-10-08 JP JP62255463A patent/JP2592617B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS595732U (ja) * | 1982-07-01 | 1984-01-14 | 三菱重工業株式会社 | 燃料調整リンク装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006037153A (ja) * | 2004-07-26 | 2006-02-09 | Shinko Seiki Co Ltd | 成膜装置および成膜方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2592617B2 (ja) | 1997-03-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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